JP4394194B2 - 表面保護フィルム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板用原稿、印刷物などに用いる表面保護フィルムに関し、特にプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられる表面保護フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに露光用原稿（フォトマスク）を密着露光して作製される。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原稿表面に転写され、汚れを生じてしまう。このような事情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護フィルムを設けるようにしている。このようなフォトマスク用表面保護フィルムとしては、透明支持体の片面に粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられている。
【０００３】
ここで、このようなフォトマスク用表面保護フィルムの製造方法としては、透明支持体の一方の表面にレジスト付着防止層を、他方の面に粘着層を設け、当該粘着層を用いてセパレーターを貼り合わせる、又は予め粘着層を用いてセパレーターと貼り合わせた透明支持体の表面にレジスト付着防止層を設ける等した後に、これらをロール状に巻取ることにより行われている。
【０００４】
そして、このようなレジスト付着防止層は、離型性付与剤（以下、「離型剤」という）を含有する組成物から構成されており、この離型剤としては低分子量のシリコーン系添加剤、シリコーン系樹脂が一般に用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような離型剤を含有する組成物からなるレジスト付着防止層は、一般にその表面エネルギーが低くなることにより離型性が得られると共に摩擦抵抗も低くなるため、表面保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じ易くなり、レジスト付着防止層表面に傷が入ってしまったり、表面保護フィルムに巻皺が入ってしまう等の問題が起こり、その生産スピードの向上が図れないという生産性の難点を有していた。
【０００６】
また、一般に製造時に巻き取った表面保護フィルムは更に小巻ロールに巻き直して取り扱うことが多く、そのような際にも巻きズレを生じてレジスト付着防止層表面に傷が生じてしまうことがある。このようにして傷が生じた表面保護フィルムを用いてフォトレジストを密着露光すると、傷部分の光散乱によって露光障害を引き起こすという問題点を有していた。
【０００７】
そこで本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する表面保護フィルムを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の表面保護フィルムとしては、透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなることを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１及び図２を用いて詳述する。
【００１０】
表面保護フィルム１の透明支持体２としては、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いもので有れば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン等の透明なプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱性、寸法安定性に優れているために好適に使用される。透明支持体２の厚みは、解像度に影響するため薄い方が好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好ましくは２〜２５μｍ、さらに好ましくは４〜１２μｍ程度である。
【００１１】
透明支持体２上の一方の面に設けられるレジスト付着防止層３は、その表面エネルギーが低いためにレジストの付着が防止される、若しくは、仮に付着した場合においても容易に離型されるような性質を有するものであれば特に限定されず、従来公知の、離型性を有する樹脂や、バインダー樹脂に離型剤を混合したものが使用できる。
【００１２】
離型性を有する樹脂としては、シロキサン結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有する樹脂が用いられる。
【００１３】
このようなシロキサン結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有する樹脂としては、シリコーンモノマー若しくはパーフルオロアルキルモノマー等とアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系モノマー等とを共重合により合成した樹脂が好適に用いられる。
【００１４】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の従来公知の樹脂が使用できる。
【００１５】
熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００１６】
熱硬化型樹脂としては、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、フェノール系等の架橋性樹脂が挙げられる。
【００１７】
電離放射線硬化型樹脂としては、電離放射線（紫外線若しくは電子線）の照射によって架橋硬化することができるエポキシ系アクリレート、ポリエステル系アクリレート、ポリウレタン系アクリレート、多価アルコール系アクリレート等のアクリル基を有する樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等の光重合性プレポリマーを用いることができる。これらは単独でも使用可能であるが、光重合性モノマーを加えることもできるほか、光重合性開始剤や紫外線増感剤等も添加可能である。
【００１８】
離型剤としては、ジメチルシロキサン等の比較的低重合度のシリコーン系添加剤等が用いられる他、上記離型性を有する樹脂等も使用可能である。
【００１９】
また、レジスト付着防止層３には真空プリンターでレジスト付着防止層３をフォトレジストに密着させ露光する際の密着性を良好にするため、透明性及び光を乱反射させない範囲で顔料などを添加しても良い。
【００２０】
レジスト付着防止層３の厚みとしては、透明性（解像度）を維持しつつ、必要とされる離型性を得るため、０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍの範囲が採用される。
【００２１】
透明支持体２のレジスト付着防止層３が設けられる反対面に設けられる粘着層４は、一般に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使用される。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良い。粘着層４の厚みとしては、透明性（解像度）を阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは２〜４μｍの範囲が採用される。
【００２２】
本発明におけるセパレーター５としては、本発明の表面保護フィルム１がプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられるために、異物などの混入する恐れの少ないクリーンな環境を維持する必要がある観点から、紙基材を用いたタイプのものよりは例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラスチックフィルムが好適に使用される。
【００２３】
そもそもセパレーター５は粘着層４の粘着性によって作業性を低下させないためのものであり、粘着層４と接する面には離型性を向上させるために前記離型剤等により離型処理が施されていることが好ましい。また、セパレーター５の粘着層４と接する面は平滑性を有していることが望ましい。セパレーター５の粘着層４と接する面の平滑性が高いことにより、離型性が向上すると共に、粘着層４のセパレーター５との接触面も平滑になり、粘着層４の透明性の維持が図られる。この効果は、粘着層４が１０μｍ以下、特に４μｍ以下の膜厚の時に有用である。
【００２４】
しかし、一般にこのような表面の平滑性が高いプラスチックフィルムのセパレーター５は、粘着層４と接する側の表面のみが平滑になるわけではなく、もう一方の表面も平滑となっている。このため、その表面が滑り易くなり、表面保護フィルム１を製造してロール状に巻取る際に、そのセパレーター５の表面とレジスト付着防止層３の表面で滑りが生じてしまい、巻きズレが生じ易くなるという問題点を発生させてしまう。
【００２５】
そこで本発明におけるセパレーター５には、粘着層４と接する面とは反対の面に防滑処理６を施すことが有効である。
【００２６】
このように防滑処理６を施したセパレーター５を用いることで、フォトマスク用の表面保護フィルム１の生産性を改善し、かつ、表面保護フィルム１の巻きズレにより起こるレジスト付着防止層３の傷発生を防止することができるようになる。
【００２７】
この防滑処理６を施す方法としては、セパレーター表面自体にエンボス処理やサンドブラスト処理等の表面形状に凹凸を設けるような処理を施す方法（図１）が採用できるほか、コーティング等により防滑層６１を設ける方法（図２）が採用できる。
【００２８】
このような防滑層６１としては、上記同様に表面形状に凹凸を設けて投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層や、弾性変形が復元しようとする圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング層等が挙げられる。
【００２９】
このような投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層としては、前記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に体質顔料及び／又は合成樹脂粒子を混合して形成する微細な凹凸マットを有する樹脂膜等が挙げられる。
【００３０】
体質顔料としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリンクレー、タルク等が挙げられる。合成樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等が挙げられる。これらの体質顔料及び／又は合成樹脂粒子の粒径としては、０．１〜１０μｍのものが使用できる。
【００３１】
弾性変形が復元しようとする圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング層としては、前記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に発泡性マイクロカプセルを混合して形成する樹脂膜等が挙げられる。
【００３２】
このような発泡性マイクロカプセルとしては、例えば、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ペンタン、ネオペンタンのような低沸点の炭化水素を内包し、カプセルの壁膜剤として塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートのような（メタ）アクリル酸エステル、スチレンのような芳香族ビニル化合物等を主成分とする熱可塑性樹脂を使用したマイクロカプセル等が挙げられる。
【００３３】
以上のようなレジスト付着防止層３、粘着層４、防滑層６１を透明支持体２やセパレーター５に設ける際には、適宜必要に応じて希釈溶媒、分散剤、レベリング剤、帯電防止剤等を添加した後に、従来公知のコーティング方法により設けることができるほか、各層と透明支持体２やセパレーター５との間には接着性を向上させるためにコロナ放電、下引き層等の易接着処理を施すことも有効である。
【００３４】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。なお、本実施例の「％」、「部」とあるのは特に断りのない限り重量基準である。
【００３５】
［実施例１］
厚み６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム２（ルミラー：東レ社）の片面に下記粘着層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約２μｍの粘着層４を形成し、片面が離型処理された厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートセパレーター５（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）の離型処理面に貼り合わせた。
【００３６】
次いで、上記貼り合わせ基材のセパレーター５側の面にサンドブラスト処理６を施した後、ポリエチレンテレフタレートフィルム２側の面に下記レジスト付着防止層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍのレジスト付着防止層３を形成して、図１の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００３７】
〈粘着層用塗布液〉
・アクリル酸エステル共重合体（固形分４０％）
（アロンタック SCL-200：東亞合成化学社） １０部
・トルエン １０部
・酢酸エチル １０部
【００３８】
【００３９】
［実施例２］
実施例１のサンドブラスト処理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ａを塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００４０】
【００４１】
［実施例３］
実施例１のサンドブラスト処理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ｂを塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００４２】
【００４３】
［比較例１］
実施例１のサンドブラスト処理６を行わなかった以外は、実施例１と同様にして表面保護フィルムを作製した。
【００４４】
比較例１で得られた表面保護フィルムは、セパレーター５に防滑処理６を施さなかったため、表面保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じ易くなり、生産スピードの向上が図れなかった。
【００４５】
また、露光用原稿上に表面保護フィルムを設ける前に、表面保護フィルムが巻ズレを起こしてレジスト付着防止層に傷を生じてしまった。
【００４６】
一方、実施例１乃至３で得られた表面保護フィルム１は、セパレーター５に防滑処理６（防滑層６１）を施したことにより、表面保護フィルム１を製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じなくなり、巻き取りスピードを防滑処理６を設ける前の倍以上に向上させられるようになった結果、生産スピードを倍以上にすることができた。また、巻ズレを生じないためレジスト付着防止層３に傷が入ることがなかった。
【００４７】
【発明の効果】
本発明の表面保護フィルムは、透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなることにより、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する表面保護フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の表面保護フィルムの一実施例を示す断面図。
【図２】 本発明の表面保護フィルムの他の実施例を示す断面図。
【符号の説明】
１・・・・表面保護フィルム
２・・・・透明支持体
３・・・・レジスト付着防止層
４・・・・粘着層
５・・・・セパレーター
６・・・・防滑処理
６１・・・防滑層
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板用原稿、印刷物などに用いる表面保護フィルムに関し、特にプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられる表面保護フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに露光用原稿（フォトマスク）を密着露光して作製される。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原稿表面に転写され、汚れを生じてしまう。このような事情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護フィルムを設けるようにしている。このようなフォトマスク用表面保護フィルムとしては、透明支持体の片面に粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられている。
【０００３】
ここで、このようなフォトマスク用表面保護フィルムの製造方法としては、透明支持体の一方の表面にレジスト付着防止層を、他方の面に粘着層を設け、当該粘着層を用いてセパレーターを貼り合わせる、又は予め粘着層を用いてセパレーターと貼り合わせた透明支持体の表面にレジスト付着防止層を設ける等した後に、これらをロール状に巻取ることにより行われている。
【０００４】
そして、このようなレジスト付着防止層は、離型性付与剤（以下、「離型剤」という）を含有する組成物から構成されており、この離型剤としては低分子量のシリコーン系添加剤、シリコーン系樹脂が一般に用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような離型剤を含有する組成物からなるレジスト付着防止層は、一般にその表面エネルギーが低くなることにより離型性が得られると共に摩擦抵抗も低くなるため、表面保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じ易くなり、レジスト付着防止層表面に傷が入ってしまったり、表面保護フィルムに巻皺が入ってしまう等の問題が起こり、その生産スピードの向上が図れないという生産性の難点を有していた。
【０００６】
また、一般に製造時に巻き取った表面保護フィルムは更に小巻ロールに巻き直して取り扱うことが多く、そのような際にも巻きズレを生じてレジスト付着防止層表面に傷が生じてしまうことがある。このようにして傷が生じた表面保護フィルムを用いてフォトレジストを密着露光すると、傷部分の光散乱によって露光障害を引き起こすという問題点を有していた。
【０００７】
そこで本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する表面保護フィルムを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の表面保護フィルムとしては、透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなることを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１及び図２を用いて詳述する。
【００１０】
表面保護フィルム１の透明支持体２としては、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いもので有れば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン等の透明なプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱性、寸法安定性に優れているために好適に使用される。透明支持体２の厚みは、解像度に影響するため薄い方が好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好ましくは２〜２５μｍ、さらに好ましくは４〜１２μｍ程度である。
【００１１】
透明支持体２上の一方の面に設けられるレジスト付着防止層３は、その表面エネルギーが低いためにレジストの付着が防止される、若しくは、仮に付着した場合においても容易に離型されるような性質を有するものであれば特に限定されず、従来公知の、離型性を有する樹脂や、バインダー樹脂に離型剤を混合したものが使用できる。
【００１２】
離型性を有する樹脂としては、シロキサン結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有する樹脂が用いられる。
【００１３】
このようなシロキサン結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有する樹脂としては、シリコーンモノマー若しくはパーフルオロアルキルモノマー等とアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系モノマー等とを共重合により合成した樹脂が好適に用いられる。
【００１４】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の従来公知の樹脂が使用できる。
【００１５】
熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００１６】
熱硬化型樹脂としては、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、フェノール系等の架橋性樹脂が挙げられる。
【００１７】
電離放射線硬化型樹脂としては、電離放射線（紫外線若しくは電子線）の照射によって架橋硬化することができるエポキシ系アクリレート、ポリエステル系アクリレート、ポリウレタン系アクリレート、多価アルコール系アクリレート等のアクリル基を有する樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等の光重合性プレポリマーを用いることができる。これらは単独でも使用可能であるが、光重合性モノマーを加えることもできるほか、光重合性開始剤や紫外線増感剤等も添加可能である。
【００１８】
離型剤としては、ジメチルシロキサン等の比較的低重合度のシリコーン系添加剤等が用いられる他、上記離型性を有する樹脂等も使用可能である。
【００１９】
また、レジスト付着防止層３には真空プリンターでレジスト付着防止層３をフォトレジストに密着させ露光する際の密着性を良好にするため、透明性及び光を乱反射させない範囲で顔料などを添加しても良い。
【００２０】
レジスト付着防止層３の厚みとしては、透明性（解像度）を維持しつつ、必要とされる離型性を得るため、０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍの範囲が採用される。
【００２１】
透明支持体２のレジスト付着防止層３が設けられる反対面に設けられる粘着層４は、一般に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使用される。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良い。粘着層４の厚みとしては、透明性（解像度）を阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは２〜４μｍの範囲が採用される。
【００２２】
本発明におけるセパレーター５としては、本発明の表面保護フィルム１がプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられるために、異物などの混入する恐れの少ないクリーンな環境を維持する必要がある観点から、紙基材を用いたタイプのものよりは例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラスチックフィルムが好適に使用される。
【００２３】
そもそもセパレーター５は粘着層４の粘着性によって作業性を低下させないためのものであり、粘着層４と接する面には離型性を向上させるために前記離型剤等により離型処理が施されていることが好ましい。また、セパレーター５の粘着層４と接する面は平滑性を有していることが望ましい。セパレーター５の粘着層４と接する面の平滑性が高いことにより、離型性が向上すると共に、粘着層４のセパレーター５との接触面も平滑になり、粘着層４の透明性の維持が図られる。この効果は、粘着層４が１０μｍ以下、特に４μｍ以下の膜厚の時に有用である。
【００２４】
しかし、一般にこのような表面の平滑性が高いプラスチックフィルムのセパレーター５は、粘着層４と接する側の表面のみが平滑になるわけではなく、もう一方の表面も平滑となっている。このため、その表面が滑り易くなり、表面保護フィルム１を製造してロール状に巻取る際に、そのセパレーター５の表面とレジスト付着防止層３の表面で滑りが生じてしまい、巻きズレが生じ易くなるという問題点を発生させてしまう。
【００２５】
そこで本発明におけるセパレーター５には、粘着層４と接する面とは反対の面に防滑処理６を施すことが有効である。
【００２６】
このように防滑処理６を施したセパレーター５を用いることで、フォトマスク用の表面保護フィルム１の生産性を改善し、かつ、表面保護フィルム１の巻きズレにより起こるレジスト付着防止層３の傷発生を防止することができるようになる。
【００２７】
この防滑処理６を施す方法としては、セパレーター表面自体にエンボス処理やサンドブラスト処理等の表面形状に凹凸を設けるような処理を施す方法（図１）が採用できるほか、コーティング等により防滑層６１を設ける方法（図２）が採用できる。
【００２８】
このような防滑層６１としては、上記同様に表面形状に凹凸を設けて投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層や、弾性変形が復元しようとする圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング層等が挙げられる。
【００２９】
このような投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層としては、前記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に体質顔料及び／又は合成樹脂粒子を混合して形成する微細な凹凸マットを有する樹脂膜等が挙げられる。
【００３０】
体質顔料としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリンクレー、タルク等が挙げられる。合成樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等が挙げられる。これらの体質顔料及び／又は合成樹脂粒子の粒径としては、０．１〜１０μｍのものが使用できる。
【００３１】
弾性変形が復元しようとする圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング層としては、前記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に発泡性マイクロカプセルを混合して形成する樹脂膜等が挙げられる。
【００３２】
このような発泡性マイクロカプセルとしては、例えば、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ペンタン、ネオペンタンのような低沸点の炭化水素を内包し、カプセルの壁膜剤として塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートのような（メタ）アクリル酸エステル、スチレンのような芳香族ビニル化合物等を主成分とする熱可塑性樹脂を使用したマイクロカプセル等が挙げられる。
【００３３】
以上のようなレジスト付着防止層３、粘着層４、防滑層６１を透明支持体２やセパレーター５に設ける際には、適宜必要に応じて希釈溶媒、分散剤、レベリング剤、帯電防止剤等を添加した後に、従来公知のコーティング方法により設けることができるほか、各層と透明支持体２やセパレーター５との間には接着性を向上させるためにコロナ放電、下引き層等の易接着処理を施すことも有効である。
【００３４】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。なお、本実施例の「％」、「部」とあるのは特に断りのない限り重量基準である。
【００３５】
［実施例１］
厚み６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム２（ルミラー：東レ社）の片面に下記粘着層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約２μｍの粘着層４を形成し、片面が離型処理された厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートセパレーター５（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）の離型処理面に貼り合わせた。
【００３６】
次いで、上記貼り合わせ基材のセパレーター５側の面にサンドブラスト処理６を施した後、ポリエチレンテレフタレートフィルム２側の面に下記レジスト付着防止層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍのレジスト付着防止層３を形成して、図１の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００３７】
〈粘着層用塗布液〉
・アクリル酸エステル共重合体（固形分４０％）
（アロンタック SCL-200：東亞合成化学社） １０部
・トルエン １０部
・酢酸エチル １０部
【００３８】
［実施例２］
実施例１のサンドブラスト処理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ａを塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００４０】
［実施例３］
実施例１のサンドブラスト処理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ｂを塗布し、乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００４２】
［比較例１］
実施例１のサンドブラスト処理６を行わなかった以外は、実施例１と同様にして表面保護フィルムを作製した。
【００４４】
比較例１で得られた表面保護フィルムは、セパレーター５に防滑処理６を施さなかったため、表面保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じ易くなり、生産スピードの向上が図れなかった。
【００４５】
また、露光用原稿上に表面保護フィルムを設ける前に、表面保護フィルムが巻ズレを起こしてレジスト付着防止層に傷を生じてしまった。
【００４６】
一方、実施例１乃至３で得られた表面保護フィルム１は、セパレーター５に防滑処理６（防滑層６１）を施したことにより、表面保護フィルム１を製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生じなくなり、巻き取りスピードを防滑処理６を設ける前の倍以上に向上させられるようになった結果、生産スピードを倍以上にすることができた。また、巻ズレを生じないためレジスト付着防止層３に傷が入ることがなかった。
【００４７】
【発明の効果】
本発明の表面保護フィルムは、透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなることにより、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する表面保護フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の表面保護フィルムの一実施例を示す断面図。
【図２】 本発明の表面保護フィルムの他の実施例を示す断面図。
【符号の説明】
１・・・・表面保護フィルム
２・・・・透明支持体
３・・・・レジスト付着防止層
４・・・・粘着層
５・・・・セパレーター
６・・・・防滑処理
６１・・・防滑層
Claims (4)
- 透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に、投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層が設けられてなることを特徴とする表面保護フィルム。
- 透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に、弾性コーティング層が設けられてなることを特徴とする表面保護フィルム。
- 前記透明支持体の厚みが２〜２５μｍであり、前記レジスト付着防止層の厚みが０．０５〜５μｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の表面保護フィルム。
- 透明支持体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に、投錨効果による防滑性を付与する凹凸コーティング層、又は弾性コーティング層が設けられてなる表面保護フィルムを、ロール状に巻取ることを特徴とするロール状表面保護フィルムの製造方法。
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