JP2786935B2 - 転写シート - Google Patents
転写シートInfo
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- JP2786935B2 JP2786935B2 JP26282890A JP26282890A JP2786935B2 JP 2786935 B2 JP2786935 B2 JP 2786935B2 JP 26282890 A JP26282890 A JP 26282890A JP 26282890 A JP26282890 A JP 26282890A JP 2786935 B2 JP2786935 B2 JP 2786935B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は，プラスチックス，ガラス，金属等の表面に
保護あるいは装飾を施す転写シートに関するものであ
る。
保護あるいは装飾を施す転写シートに関するものであ
る。
（従来の技術） 剥離性を有する基材に室温では，固体または半固体状
の未硬化の放射線硬化性層を設けた転写シート等は既に
知られている。
の未硬化の放射線硬化性層を設けた転写シート等は既に
知られている。
しかし，これらの転写シートは巻き状態で保存される
場合，放射線硬化性層が未硬化状態である為に，保存中
の温度変化，巻きテンション等の要因で基材の背面と放
射線硬化性層とが所謂ブロッキングを起こし，使用時に
シートが巻き戻せなかったり，放射線硬化性層が凝集破
壊したり，基材の背面に移行するという問題があった。
この問題を防止する為に，基材の背面にシリコン処理を
したりまた放射線硬化性層側に接着性のない保護シート
をラミネートする事等が行われてきた。
場合，放射線硬化性層が未硬化状態である為に，保存中
の温度変化，巻きテンション等の要因で基材の背面と放
射線硬化性層とが所謂ブロッキングを起こし，使用時に
シートが巻き戻せなかったり，放射線硬化性層が凝集破
壊したり，基材の背面に移行するという問題があった。
この問題を防止する為に，基材の背面にシリコン処理を
したりまた放射線硬化性層側に接着性のない保護シート
をラミネートする事等が行われてきた。
しかし，最終的に不必要となる基材に剥離処理をした
り，余分な保護シートを用いることは，経済上不利であ
ることはいうまでもない。
り，余分な保護シートを用いることは，経済上不利であ
ることはいうまでもない。
転写シートに用いられる基材としては，熱安定性の良
い２軸延伸ポリエステルフィルムが上げられるがブロッ
キングが起こりやすく，ブロッキングの起こしにくいポ
リエチレンは、溶剤・熱安定性が悪くシート作製が困難
であり,2軸延伸ポリプロピレンは放射線照射後に剥離す
る場合には，放射線硬化層と基材が接着して剥離出来な
くなる等の問題があり，転写シート作製から被転写体に
転写し最終工程まで問題なく使用できる安価な単独基材
からなる転写シートは，見当たらないのが現状である。
い２軸延伸ポリエステルフィルムが上げられるがブロッ
キングが起こりやすく，ブロッキングの起こしにくいポ
リエチレンは、溶剤・熱安定性が悪くシート作製が困難
であり,2軸延伸ポリプロピレンは放射線照射後に剥離す
る場合には，放射線硬化層と基材が接着して剥離出来な
くなる等の問題があり，転写シート作製から被転写体に
転写し最終工程まで問題なく使用できる安価な単独基材
からなる転写シートは，見当たらないのが現状である。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は，上記種々の欠点を改良しシート作製が容易
で，巻き状態でブロッキングを起こすことがなく，転写
が良好な転写シートを提供するものである。
で，巻き状態でブロッキングを起こすことがなく，転写
が良好な転写シートを提供するものである。
（課題を解決するための手段） 本発明は，剥離性を有する基材上に,1層以上の転写層
を設けた転写シートにおいて，少なくとも最外層に室温
では半固体状の未硬化の放射線硬化性層を有し，基材と
して２軸延伸ポリエチレンを用いたことを特徴とする転
写シートである。
を設けた転写シートにおいて，少なくとも最外層に室温
では半固体状の未硬化の放射線硬化性層を有し，基材と
して２軸延伸ポリエチレンを用いたことを特徴とする転
写シートである。
以下，本発明を図によって説明する。
第１図は基材１上に未硬化の放射線硬化性層２を設け
たまだ巻き状態になっていない転写シートの断面図であ
る。基材に放射線硬化性層を設けていない面を基材背面
と呼ぶことにすれば，第２図は巻き状態になった転写シ
ートの断面一部の拡大図であり，放射線硬化性層と基材
背面が接している様子を表している。
たまだ巻き状態になっていない転写シートの断面図であ
る。基材に放射線硬化性層を設けていない面を基材背面
と呼ぶことにすれば，第２図は巻き状態になった転写シ
ートの断面一部の拡大図であり，放射線硬化性層と基材
背面が接している様子を表している。
基材１は，本発明の転写シートの最も重要な材料あ
り,2軸延伸ポリエチレンが使用される。ポリエチレンと
しては，低密度，中密度，高密度の分類がされている
が，シート作製時すなわち基材上に室温で固体または半
固体状の放射線硬化性層を設ける際，放射線硬化性組成
物は溶剤に溶解した状態で塗布されることが一般的であ
り，この時の溶剤安定性，さらに溶剤を蒸発させる時の
耐熱性の点から高密度ポリエチレンが好ましい。
り,2軸延伸ポリエチレンが使用される。ポリエチレンと
しては，低密度，中密度，高密度の分類がされている
が，シート作製時すなわち基材上に室温で固体または半
固体状の放射線硬化性層を設ける際，放射線硬化性組成
物は溶剤に溶解した状態で塗布されることが一般的であ
り，この時の溶剤安定性，さらに溶剤を蒸発させる時の
耐熱性の点から高密度ポリエチレンが好ましい。
本発明の転写シートにおいて，基材背面と放射線硬化
性層がブロッキングしない理由は，明確ではないが，本
来ポリエチレンは濡れの指標となる表面自由エネルギー
が小さく非常に接着しにくい材料として知られており，
第２図の構成の転写シートの例では，放射線硬化性層の
塗布面，非塗布面の接着力の差を生じさせ，放射線硬化
性層と基材背面で剥離を可能とし，これが経時により変
化しないものと考えられる。逆に，他の基材を使用した
場合には上記接着力の差が減少しブロッキングを起こす
と考えられる。
性層がブロッキングしない理由は，明確ではないが，本
来ポリエチレンは濡れの指標となる表面自由エネルギー
が小さく非常に接着しにくい材料として知られており，
第２図の構成の転写シートの例では，放射線硬化性層の
塗布面，非塗布面の接着力の差を生じさせ，放射線硬化
性層と基材背面で剥離を可能とし，これが経時により変
化しないものと考えられる。逆に，他の基材を使用した
場合には上記接着力の差が減少しブロッキングを起こす
と考えられる。
本発明の室温では固体または半固体状の放射線硬化性
層とは，転写シートとした状態で保存できる層の性状を
指し，特に半固体状とは，粘着性があるものの流動性の
ないものを指す。これらの例としては，エチレン性不飽
和二重結合を分子内に１個以上有する化合物の単体また
は混合物，カチオン重合性基を分子内に１個以上有する
化合物の単位または混合物，あるいはこれらを複合した
混合物および必要に応じて，エチレン性不飽和二重結合
およびカチオン重合性基を分子内に有しない化合物を混
合することによって得られる。エチレン性不飽和二重結
合を分子内に１個以上有する化合物としては，不飽和ポ
リエステル類，ポリエステルポリ（メタ）アクリレー
ト，エポキシポリ（メタ）アクリレート，ポリウレタン
ポリ（メタ）アクリレート，ポリエーテルポリ（メタ）
アクリレート，ポリオールポリ（メタ）アクリレート，
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するアクリル系樹
脂，ジアリルフタレート類，エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート，プロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート，ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート，ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト，トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト，ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート，
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート，
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート，ス
チレン，α−メチルスチレン，（メタ）アクリル酸，
（メタ）アクリル酸メチル，（メタ）アクリル酸エチ
ル，（メタ）アクリル酸ブチル，（メタ）アクリル酸２
−エチルヘキシル，（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチ
ル，（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル，（メタ）
アクリル酸アミド，（メタ）アクリロニトリル，（メ
タ）アクリル酸グリシジル，（メタ）アクリル酸フェノ
キシエチル，トリメチロールプロパントリチオグリコレ
ート，トリメチロールプロパントリチオプロピオネート
などがある。カチオン重合性基を分子内に１個以上有す
る化合物としては，ビスフェノールＡジグリシジルエー
テル，ビスフェノールＡジ−β−メチルグリシジルエー
テル，ビスフェノールＦジグリシジルエーテル，ブロム
化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル，ノボラック
グリシジルエーテル，レゾルシノールジグリシジルエー
テル，ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテ
ル，水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル，脂
環式多価アルコールポリグリシジルエーテル，シクロヘ
キセンオキサイド，シクロペンテンオキサイド含有化合
物などのエポキシ化合物，環状エーテル，環状ホルマー
ル，アセタール，ビニルアルキルエーテル，チイラン基
を有するモノマー，および（または）オリゴマー，ジエ
チレングリコールジビニルエーテルなどの多官能性ビニ
ルエーテルなどがある。エチレン性不飽和二重結合およ
びカチオン重合性基を分子内に有しない化合物として
は，飽和ポリエステル樹脂，ポリアミド樹脂，ポリウレ
タン樹脂，アミノ樹脂，ジアリルフタレート樹脂，ケト
ン樹脂，セルロース樹脂，（メタ）アクリル樹脂，ポリ
スチレン樹脂，スチレン−マレイン酸共重合樹脂，ポリ
塩化ビニル樹脂，エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂，ポ
リビニルアルコール樹脂，ポリ酢酸ビニル樹脂，ブチラ
ール樹脂，塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂，ポリブ
タジエン樹脂などの合成ゴムなど，あるいはこれらの混
合物がある。
層とは，転写シートとした状態で保存できる層の性状を
指し，特に半固体状とは，粘着性があるものの流動性の
ないものを指す。これらの例としては，エチレン性不飽
和二重結合を分子内に１個以上有する化合物の単体また
は混合物，カチオン重合性基を分子内に１個以上有する
化合物の単位または混合物，あるいはこれらを複合した
混合物および必要に応じて，エチレン性不飽和二重結合
およびカチオン重合性基を分子内に有しない化合物を混
合することによって得られる。エチレン性不飽和二重結
合を分子内に１個以上有する化合物としては，不飽和ポ
リエステル類，ポリエステルポリ（メタ）アクリレー
ト，エポキシポリ（メタ）アクリレート，ポリウレタン
ポリ（メタ）アクリレート，ポリエーテルポリ（メタ）
アクリレート，ポリオールポリ（メタ）アクリレート，
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するアクリル系樹
脂，ジアリルフタレート類，エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート，プロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート，ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート，ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト，トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト，ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート，
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート，
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート，ス
チレン，α−メチルスチレン，（メタ）アクリル酸，
（メタ）アクリル酸メチル，（メタ）アクリル酸エチ
ル，（メタ）アクリル酸ブチル，（メタ）アクリル酸２
−エチルヘキシル，（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチ
ル，（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル，（メタ）
アクリル酸アミド，（メタ）アクリロニトリル，（メ
タ）アクリル酸グリシジル，（メタ）アクリル酸フェノ
キシエチル，トリメチロールプロパントリチオグリコレ
ート，トリメチロールプロパントリチオプロピオネート
などがある。カチオン重合性基を分子内に１個以上有す
る化合物としては，ビスフェノールＡジグリシジルエー
テル，ビスフェノールＡジ−β−メチルグリシジルエー
テル，ビスフェノールＦジグリシジルエーテル，ブロム
化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル，ノボラック
グリシジルエーテル，レゾルシノールジグリシジルエー
テル，ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテ
ル，水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル，脂
環式多価アルコールポリグリシジルエーテル，シクロヘ
キセンオキサイド，シクロペンテンオキサイド含有化合
物などのエポキシ化合物，環状エーテル，環状ホルマー
ル，アセタール，ビニルアルキルエーテル，チイラン基
を有するモノマー，および（または）オリゴマー，ジエ
チレングリコールジビニルエーテルなどの多官能性ビニ
ルエーテルなどがある。エチレン性不飽和二重結合およ
びカチオン重合性基を分子内に有しない化合物として
は，飽和ポリエステル樹脂，ポリアミド樹脂，ポリウレ
タン樹脂，アミノ樹脂，ジアリルフタレート樹脂，ケト
ン樹脂，セルロース樹脂，（メタ）アクリル樹脂，ポリ
スチレン樹脂，スチレン−マレイン酸共重合樹脂，ポリ
塩化ビニル樹脂，エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂，ポ
リビニルアルコール樹脂，ポリ酢酸ビニル樹脂，ブチラ
ール樹脂，塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂，ポリブ
タジエン樹脂などの合成ゴムなど，あるいはこれらの混
合物がある。
放射線源としては，工業的に紫外線あるいは電子線が
好んで用いられ，紫外線を用いる場合にはエチレン性不
飽和二重結合の重合を促進させるために光ラジカル重合
開始剤および必要に応じて促進剤を，カチオン重合性基
の重合を促進させるために光カチオン重合開始剤を適当
量添加した方が好ましい。
好んで用いられ，紫外線を用いる場合にはエチレン性不
飽和二重結合の重合を促進させるために光ラジカル重合
開始剤および必要に応じて促進剤を，カチオン重合性基
の重合を促進させるために光カチオン重合開始剤を適当
量添加した方が好ましい。
電子線を用いる場合には光ラジカル重合開始剤は特に
必要としないが，カチオン重合性基が含まれる場合重合
を促進させるために光カチオン重合開始剤を適当量添加
した方が好ましい。光ラジカル重合開始剤の例として
は，ベンゾフェノン，メチルベンゾフェノン，クロルベ
ンゾフェノン,o−ベンゾイル安息香酸メチル，チオキサ
ントン，ジプロピルチオキサントン，ベンゾインエチル
エーテル，α−ヒドロキシイソブチルフェノン,p−tert
−ブチルジクロロアセトフェノン,2,2−ジエトキシアセ
トフェノン,2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン，ヒドロキシシクロフェニルケトン,1,1−ジクロロ
アセトフェノン，ヒドロキシベンゾフェノンスルフォネ
ートエステルなどがあり，単独又は混合物で使用でき
る。
必要としないが，カチオン重合性基が含まれる場合重合
を促進させるために光カチオン重合開始剤を適当量添加
した方が好ましい。光ラジカル重合開始剤の例として
は，ベンゾフェノン，メチルベンゾフェノン，クロルベ
ンゾフェノン,o−ベンゾイル安息香酸メチル，チオキサ
ントン，ジプロピルチオキサントン，ベンゾインエチル
エーテル，α−ヒドロキシイソブチルフェノン,p−tert
−ブチルジクロロアセトフェノン,2,2−ジエトキシアセ
トフェノン,2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン，ヒドロキシシクロフェニルケトン,1,1−ジクロロ
アセトフェノン，ヒドロキシベンゾフェノンスルフォネ
ートエステルなどがあり，単独又は混合物で使用でき
る。
光ラジカル重合促進剤としては,4,4−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン,N−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル，ジメチルエタノールアミン，グリシンなどがあ
る。光カチオン重合開始剤の例としては,p−メトキシベ
ンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート,p−ク
ロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェー
ト,p−ニトロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホス
フェート,2,4−ジメトキシベンゼンジアゾニウムテトラ
フルオロボレート,2,4−ジクロロベンゼンジアゾニウム
テトラフルオロボレートなどのイザゾニウム塩，ジフェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート，ジフェ
ニルヨードニウムテトラフルオロボレート，などのヨー
ドニウム塩，トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート，トリフェニルスルホニウムテトラフルオ
ロボレートなどのスルホニウム塩,2−メチル−4,6−ジ
フェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェートな
どのチオピリリウム塩，ヒドロキシベンゾフェノンメタ
ンスルホネートエステルなどのスルホネートエステル
類，アルミニウム化合物と光りによりシラノール基を生
じるけい素化合物との混合系などである。
アミノ）ベンゾフェノン,N−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル，ジメチルエタノールアミン，グリシンなどがあ
る。光カチオン重合開始剤の例としては,p−メトキシベ
ンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート,p−ク
ロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェー
ト,p−ニトロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホス
フェート,2,4−ジメトキシベンゼンジアゾニウムテトラ
フルオロボレート,2,4−ジクロロベンゼンジアゾニウム
テトラフルオロボレートなどのイザゾニウム塩，ジフェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート，ジフェ
ニルヨードニウムテトラフルオロボレート，などのヨー
ドニウム塩，トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート，トリフェニルスルホニウムテトラフルオ
ロボレートなどのスルホニウム塩,2−メチル−4,6−ジ
フェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェートな
どのチオピリリウム塩，ヒドロキシベンゾフェノンメタ
ンスルホネートエステルなどのスルホネートエステル
類，アルミニウム化合物と光りによりシラノール基を生
じるけい素化合物との混合系などである。
本発明の放射線硬化性層には，暗反応を抑制し，保存
時の安定性を増大させるために，ハイドロキノン，ハイ
ドロキノンモノメチルエーテル，ベンゾキノンなどの重
合禁止剤を添加することもできる。さらに顔料，充填
材，顔料分散材，沈降防止剤等その他添加剤を添加して
も良い。
時の安定性を増大させるために，ハイドロキノン，ハイ
ドロキノンモノメチルエーテル，ベンゾキノンなどの重
合禁止剤を添加することもできる。さらに顔料，充填
材，顔料分散材，沈降防止剤等その他添加剤を添加して
も良い。
本発明の転写シートは，転写層として複数層であって
も特に問題とならないが，最外層の放射線硬化性層と基
剤背面との接着力f1,転写層の凝集力f2,転写層の最内面
と基材との接着力f3の関係は,f1＜f2＜f3またはf1＜f3
＜f2である必要がある。ただし,f2＝f3でも特に問題は
ない。この条件を満たす転写シートであれば，基材にエ
ンボスロール，印刷等により設けた凹凸，サンドブラス
ト，ケミカルエッチング，マット印刷等によるマット処
理等が施されていても良く，転写層の一部に印刷層およ
びまたは金属蒸着層があっても良い。
も特に問題とならないが，最外層の放射線硬化性層と基
剤背面との接着力f1,転写層の凝集力f2,転写層の最内面
と基材との接着力f3の関係は,f1＜f2＜f3またはf1＜f3
＜f2である必要がある。ただし,f2＝f3でも特に問題は
ない。この条件を満たす転写シートであれば，基材にエ
ンボスロール，印刷等により設けた凹凸，サンドブラス
ト，ケミカルエッチング，マット印刷等によるマット処
理等が施されていても良く，転写層の一部に印刷層およ
びまたは金属蒸着層があっても良い。
本発明の転写シートの使用方法は，被転写体の種類あ
るいは放射線硬化性層の組成によって異なり，種々考え
られるが，以下実施例を用いて説明する。しかし，これ
らの範囲に限定されるものではない。
るいは放射線硬化性層の組成によって異なり，種々考え
られるが，以下実施例を用いて説明する。しかし，これ
らの範囲に限定されるものではない。
（実施例） 例中，部とは重量部を表す。
実施例１ 基材として２軸延伸高密度ポリエチレン（商品名:LUP
IC−HM20 東燃石油化学（株）製）を用い，次に示す放
射線硬化性層液を図３の様な装置で塗布・乾燥して，乾
燥後の放射線硬化性層の膜厚が20μのロール状の転写シ
ートを得た。
IC−HM20 東燃石油化学（株）製）を用い，次に示す放
射線硬化性層液を図３の様な装置で塗布・乾燥して，乾
燥後の放射線硬化性層の膜厚が20μのロール状の転写シ
ートを得た。
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するアクリル系
樹脂 142部 メチルメタクリレート／ブチルアクリレート／アクリル
酸＝50/45/5部の共重合体にグリシジルメタクリレート
を５部反応した樹脂 固形分30％ 分子量 30万 トリメチロールプロパントリアクリレート 7.5部 酸化チタン 50部 上記得られた転写シートは,50℃１週間保存しても背
面に放射線硬化性層が転移することがなく転写シート作
製時と同じ状態で簡単に巻き戻すことができ，次の方法
にて鋼板上に白の転写層を得ることができた。
樹脂 142部 メチルメタクリレート／ブチルアクリレート／アクリル
酸＝50/45/5部の共重合体にグリシジルメタクリレート
を５部反応した樹脂 固形分30％ 分子量 30万 トリメチロールプロパントリアクリレート 7.5部 酸化チタン 50部 上記得られた転写シートは,50℃１週間保存しても背
面に放射線硬化性層が転移することがなく転写シート作
製時と同じ状態で簡単に巻き戻すことができ，次の方法
にて鋼板上に白の転写層を得ることができた。
オリゴエステルアクリレート アロニックスＭ−6200 （商品名 東亜合成化学工業（株）製） 20部 テトラヒドロフルフリルアクリレート 30部 アロニックスＭ−5600 （商品名 東亜合成化学工業（株）製） 50部 タイペークCR−90 （商品名 石原産業（株）製） 36部 ストロンチウムクロメート顔料 ８部 を三本ロールにて均一に分散して，電気メッキ亜鉛鋼板
に5g/m2となるように塗布し，次に上記転写シートの放
射線硬化性層とが接するように室温にてラミネートし
た。
に5g/m2となるように塗布し，次に上記転写シートの放
射線硬化性層とが接するように室温にてラミネートし
た。
放射線としては，電子線を用い基材の上から100kGy照
射して２軸延伸高密度ポリエチレンを剥離したところ簡
単に剥がれた。
射して２軸延伸高密度ポリエチレンを剥離したところ簡
単に剥がれた。
実施例２ 実施例１において使用したLUPIC−HM20の代わりに２
軸延伸高密度ポリエチレン（商品名 LUPIC−TM20 東
燃石油化学（株）製）を用いた以外は，実施例１と同様
に転写シートを作製，保存したところ，実施例１と同様
の結果であり，以下実施例１と同様の方法で鋼板上に白
の転写層を得ることができた。電子線照射後の基材の剥
離についても問題はなかった。
軸延伸高密度ポリエチレン（商品名 LUPIC−TM20 東
燃石油化学（株）製）を用いた以外は，実施例１と同様
に転写シートを作製，保存したところ，実施例１と同様
の結果であり，以下実施例１と同様の方法で鋼板上に白
の転写層を得ることができた。電子線照射後の基材の剥
離についても問題はなかった。
比較例１ 実施例１において使用した２軸延伸高密度ポリエチレ
ンの代わりに,2軸延伸ポリエチレンテレフタレートを使
用して実施例１の放射線硬化性液を実施例１と同様にし
てロール状の転写シートを得た。１時間後に実施例１と
同様に転写を行おうとしたが，放射線硬化性層が２軸延
伸ポリエチレンテレフタレートの背面に付着した部分と
しない部分が発生したために，転写シートとしては使用
不能であった。
ンの代わりに,2軸延伸ポリエチレンテレフタレートを使
用して実施例１の放射線硬化性液を実施例１と同様にし
てロール状の転写シートを得た。１時間後に実施例１と
同様に転写を行おうとしたが，放射線硬化性層が２軸延
伸ポリエチレンテレフタレートの背面に付着した部分と
しない部分が発生したために，転写シートとしては使用
不能であった。
比較例２ 実施例１において使用した２軸延伸高密度ポリエチレ
ンの代わりに，未延伸高密度ポリエチレン（厚さ20μ
ｍ）を使用して実施例１の放射線硬化性層液を塗布した
ところ，基材が膨潤して基材が伸びたり，塗布むらがで
きたり，転写シートとしては使用出来ないものであっ
た。
ンの代わりに，未延伸高密度ポリエチレン（厚さ20μ
ｍ）を使用して実施例１の放射線硬化性層液を塗布した
ところ，基材が膨潤して基材が伸びたり，塗布むらがで
きたり，転写シートとしては使用出来ないものであっ
た。
本考案により保護シートを必要とせず，あるいは基材
の背面に剥離処理を必要としない経済性に優れた巻き状
態の転写シートが得られるようになり，被転写体たとえ
ば金属であればコイル状鋼板にも適用できる安価な転写
シートが得られるようになった。
の背面に剥離処理を必要としない経済性に優れた巻き状
態の転写シートが得られるようになり，被転写体たとえ
ば金属であればコイル状鋼板にも適用できる安価な転写
シートが得られるようになった。
第１図は転写シートの断面図，第２図は巻き状態の転写
シートの断面一部の拡大図である。 第３図は転写シートを製造するための装置の概念図であ
る。 １……基材,2……放射線硬化性層,3……基材,4……転写
シート,5……ナイフコーター,6……乾燥機
シートの断面一部の拡大図である。 第３図は転写シートを製造するための装置の概念図であ
る。 １……基材,2……放射線硬化性層,3……基材,4……転写
シート,5……ナイフコーター,6……乾燥機
Claims (2)
- 【請求項１】剥離性を有する基材上に,1層以上の転写層
を設けた転写シートにおいて，少なくとも最外層に室温
では，固体または半固体状の未硬化の放射線硬化性層を
有し，基材として２軸延伸ポリエチレンを用いたことを
特徴とする転写シート。 - 【請求項２】２軸延伸ポリエチレンが２軸延伸高密度ポ
リエチレンであることを特徴とする請求項１記載の転写
シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26282890A JP2786935B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 転写シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26282890A JP2786935B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 転写シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04138300A JPH04138300A (ja) | 1992-05-12 |
| JP2786935B2 true JP2786935B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=17381182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26282890A Expired - Fee Related JP2786935B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 転写シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2786935B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11260250A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネル作製用の転写シート |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP26282890A patent/JP2786935B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04138300A (ja) | 1992-05-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |