JPH06157076A - 低反射ガラスおよびその製法 - Google Patents

低反射ガラスおよびその製法

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JPH06157076A JP4303711A JP30371192A JPH06157076A JP H06157076 A JPH06157076 A JP H06157076A JP 4303711 A JP4303711 A JP 4303711A JP 30371192 A JP30371192 A JP 30371192A JP H06157076 A JPH06157076 A JP H06157076A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】ガラス基板の表面上に、該薄膜がSiアルコキシ
ド系化合物或いはSiアセチルアセトネート系化合物の中
から少なくとも１種以上の化合物を二つ以上選択し、し
かも該選択した二つ以上の化合物における平均分子量が
異なるものであって、該二つ以上の化合物を溶剤と共に
混合してコーティング溶液とし、該溶液の選択する二つ
以上の化合物の混合割合の調整又は／及び該溶液を湿度
環境を制御する中で被膜し、加熱成膜して成る、マイク
ロピット状表層又は凹凸状表層であるゾルゲル膜におい
て、該層の膜厚が60〜160nm 、該状径が50〜200nm で、
しかも屈折率が1.21〜1.40である低反射ガラス。並びに
その製法。 【効果】手軽に容易な膜形成手段でもって薄膜を安価に
効率よく得られ、該薄膜で特異な形状を有する頑固な表
層となり、単層膜で低反射特性を有して充分その性能を
発揮し、光学特性を損わず、密着性や耐候性等に優れ、
建築用窓材をはじめ各種ガラス物品や種々の被覆膜に広
く採用できる有用なものとなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロピット状表層
または凹凸状表層を有し、しかも大きさをコントロール
することができるゾルゲル膜である低反射ガラスならび
にその製法に関し、該低反射ガラスは、刺激純度、反射
の低下率等の光学特性が高性能であって、しかも単純か
つ安全な工程でもって製造できるので安価であり、また
大面積化も可能で均一な成膜となり、頑固な密着力で耐
摩耗性あるいは耐久性等が優れたものとなり、ことに建
築用窓材をはじめ、ことに屋内用の各種膜付きガラス物
品において有用となる低反射ガラスおよびその製法を提
供するものである。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】従来、大面積のガラスの反
射率を低下させる方法として代表的なものとしては例え
ば、ガラス表面に、厚さ約１００ｎｍ程度で屈折率がガ
ラスより低い層を形成する方法、あるいは２層以上に積
層した薄膜の多重干渉を利用して予め計算により設計さ
れた高屈折率膜・低屈折率膜を交互に積層した多層膜を
形成する方法等がある。
【０００３】先ず、前者の例としては、特公昭４１ー６
６６号公報あるいは特公平２ー１４３００号公報等に開
示されているように、弗化水素等により、ガラス表面を
エッチングする方法および珪弗化水素酸のシリカ過飽和
水溶液によりシリカのポーラスな被膜を形成する方法が
ある。
【０００４】これらの方法は、製造工程が簡単とは必ず
しも言えず製造時間がかかる方法であり、低反射特性は
よいとしても大面積化した際に製品面内あるいは製品間
の光学特性のバラツキが多いといった問題点があり、比
較的高価格な低反射ガラスとなるものである。さらに原
料として弗酸を用いるため、人体に対して危険であり、
取扱いが厄介である。
【０００５】また、その他の方法としては、加熱処理に
より、燃焼や分解する有機高分子を金属アルコキシド溶
液中に添加する方法があり、一度形成されたマイクロピ
ット状が例えば４００℃程度以上の加熱処理により緻密
化を起こすため、熱処理条件をきびしく制御する必要が
あって、均一で頑固なマイクロピット状の被膜を得るこ
とが非常に困難である。
【０００６】さらに、前記した高屈折率膜・低屈折率膜
を交互に積層し、薄膜の多重干渉を利用した反射の低い
ガラスを製造する方法は、実際に建築用あるいは産業用
または車両用等に広く採用されているものの、複雑な作
業工程を伴い、必ずしも高効率で経済性が良いとは言え
ないものであり、また多重干渉を利用した低反射ガラス
は斜入射での反射率が高く、しかも刺激純度が高いた
め、ギラツキ感があるといった問題点もあるものであ
る。さらにまた、例えば特公平３ー23493号公報には防
汚性を有する低反射率ガラスが記載されているが、該膜
の最終加熱温度は400℃以下、例えば160〜200℃程度に
することとなり、最上膜の硬度や強度が低いものしか得
ることができないという問題点がある。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】本発明は、従来のかか
る問題点に鑑みてなしたものであって、特定のＳｉアル
コキシド系化合物あるいはＳｉアセチルアセトネート系
化合物を選び、該化合物の平均分子量が異なるものから
組み合わせ、混合割合を変化させたコーティング溶液と
するようにし、被膜の際の相対湿度を制御する特定の湿
度環境下での塗布条件で塗布し、焼成することにより、
充分焼成をしても、独立してしっかりした特定の膜厚な
らびに特定の径を有する特異な種々の表面表層、ことに
マイクロピット状細孔様または凹凸状様あるいはこれら
が適宜共存様の表面表層を有するゾルゲル膜をなし、高
密着性であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持ち、単層で
薄膜の見かけの屈折率を低下させることができ、反射防
止特性に優れてギラツキ感もなく、高安全で厄介な作業
工程がなく、安価に効率よく得られることとなる等、種
々の分野に採用できる利用価値の高い低反射ガラスおよ
びその製法を提供するものである。
【０００８】すなわち、本発明は、ガラス基板の表面上
に形成した薄膜において、該薄膜がＳｉアルコキシド系
化合物あるいはＳｉアセチルアセトネート系化合物のな
かから少なくとも１種以上の化合物を二つ以上選択し、
しかも該選択した二つ以上の化合物における平均分子量
が異なるものであって、該二つ以上の化合物を溶剤とと
もに混合してコーティング溶液とし、該溶液の選択する
二つ以上の化合物の混合割合の調整または／および該溶
液を相対湿度のコントロールのもとに被膜し、加熱成膜
して成る、マイクロピット状表層または凹凸状表層であ
るゾルゲル膜において、該マイクロピット状表層または
凹凸状表層の膜厚が６０〜１６０ｎｍで、かつ、該マイ
クロピット状または凹凸状の径が５０〜２００ｎｍであ
り、しかもその屈折率が１．２１〜１．４０であること
を特徴とする低反射ガラス。
【０００９】ならびに、前記選択した二つ以上の化合物
における異なる平均分子量としては、一つの低平均分子
量の化合物が数千であって、他の一つ以上の高平均分子
量の化合物が数万乃至数十万であることを特徴とする上
述した低反射ガラス。
【００１０】さらに、前記選択する二つ以上の化合物の
混合割合の調整が、高平均分子量の化合物１ｍｏｌに対
して、低平均分子量の化合物を酸化物換算で０．１〜３
０ｍｏｌであることを特徴とする上述した低反射ガラ
ス。
【００１１】また、ガラス基板の表面上に形成した薄膜
において、該薄膜がＳｉアルコキシド系化合物あるいは
Ｓｉアセチルアセトネート系化合物のなかから少なくと
も１種以上の化合物を二つ以上選択し、しかも該選択し
た二つ以上の化合物における平均分子量が異なるもので
あって、該二つ以上の化合物を溶剤とともに混合してコ
ーティング溶液とし、該溶液の選択する二つ以上の化合
物の混合割合の調整または／および該溶液を相対湿度の
コントロールのもとに被膜し、１００°Ｃ以上の温度で
加熱成膜して成る、マイクロピット状表層または凹凸状
表層であるゾルゲル膜において、該マイクロピット状表
層または凹凸状表層の膜厚を６０〜１６０ｎｍで、かつ
該マイクロピット状または凹凸状の径が５０〜２００ｎ
ｍになるようにするとともに、その屈折率を１．２１〜
１．４０にすることを特徴とする低反射ガラスの製法。
【００１２】ならびに、前記コーティング溶液を、１〜
１０ｃＰに粘度調製することを特徴とする上述した低反
射ガラスの製法。さらに、前記コーティング溶液の酸化
物換算固形分濃度が０．０１〜１０ｗｔ％であることを
特徴とする上述した低反射ガラスの製法。
【００１３】さらにまた、前記コーティング溶液を塗布
するに際し、コントロールする前記相対湿度が、４０〜
９０％であることを特徴とする上述した低反射ガラスの
製法をそれぞれ提供するものである。
【００１４】ここで、前記したように、Ｓｉアルコキシ
ド系化合物あるいはＳｉアセチルアセトネート系化合物
のなかから少なくとも１種以上の化合物を二つ以上選択
したのは、該両化合物は安定性があって、溶液調製の
際、例えば平均分子量の制御が容易であり、成膜した前
記マイクロピット状表層、凹凸状表層の種々の表面形状
を有する酸化物薄膜の透明性や硬度が高く、耐久性にも
優れたものとなり、比較的安価で入手し易いものである
ので該両化合物を用いることとした。
【００１５】また、Ｓｉアルコキシド系化合物として
は、Ｓｉにすべてアルコキシ基のみが結合した場合、す
なわちメトキシド、エトキシド、イソプロポキシド等の
みならず、その一部がメチル基、エチル基等に置換した
もの、例えばモノメチルアルコキシド、モノエチルアル
コキシド等を含むものである。さらにまた、Ｓｉアセチ
ルアセトネート系化合物としては、Ｓｉにすべてアセチ
ルアセトン基のみが結合した場合のみならず、その一部
がメチルアルコキシ基、エチルアルコキシ基等に置換し
たものを含むものである。
【００１６】さらに、具体的なものとしては、例えばテ
トラメトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＭｅ）4 Ｍｅ：Ｃ
Ｈ3 〕、テトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＥｔ）4 Ｅ
ｔ：Ｃ2Ｈ5 〕、メチルトリエトキシシラン〔ＭｅＳｉ
（ＯＥｔ）3 〕、メチルトリメトキシシラン〔ＭｅＳｉ
（ＯＭｅ）3 〕等が好適であり、他には例えばジメチル
ジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等があ
る。
【００１７】さらにまた、前記選択した二つ以上の化合
物における平均分子量が異なるものとしたのは、被膜し
た薄膜の表層をマイクロピット状、凹凸状とするためで
あり、混合する２種以上の化合物の平均分子量は数千
（具体的には８００〜５，０００程度、好ましくは２，
０００〜３，０００程度）と数万から数十万（具体的に
は５０，０００〜４００，０００程度）の組み合わせが
よいものである。
【００１８】一方、平均分子量の制御は、溶液を調製す
る際において、触媒の種類（例えば塩酸、硝酸、酢酸
等）、その添加量すなわちＰＨ値（例えばＰＨ＝１〜
６、好ましくは２〜４）および反応温度（例えば２０〜
８０°Ｃ、好ましくは２５〜７０°Ｃ）等によって、加
水分解反応過程あるいは縮重合過程をコントロールする
ことにより行うものである。ただし、化合物によっては
それぞれ反応時間等も異なり、必ずしもすべてに共通し
ない場合もあり得るものである。
【００１９】また、マイクロピット状表層、凹凸状表層
の形状の制御は、混合する２種以上の化合物の平均分子
量が数千と数万から数十万である化合物の混合割合が、
その溶質モル比（酸化物換算）で０．１〜３０程度であ
り、０．１未満あるいは３０を超えると平坦な平面形状
となるものである。なかでも１〜２０程度が好ましく、
より好ましくはマイクロピット状表層では２〜５．５程
度、凹凸状表層では５．５〜７程度である。また、前記
表層におけるそれぞれの大きさは被膜する際の相対湿度
により制御することがてき、約４０％程度の場合約５０
ｎｍ程度となり、約９０％程度の場合約２００ｎｍ程度
となる。
【００２０】また、前記Ｓｉアルコキシド系化合物ある
いはＳｉアセチルアセトネート系化合物のアルコール溶
液中の濃度については、０．１ｗｔ％程度以上が好まし
く、これ未満であれば均一な前記３種類の表面形状表層
を有する被膜を次第に形成し難くなり、他方、１０ｗｔ
％程度を超えると、溶液が粘稠となり、前記３種類の表
層形状はあるものの、クラックの発現等があり、加えて
膜付け自体が困難となるものである。さらに本アルコー
ル溶液におけるアルコール溶媒としては、イソプロピル
アルコールあるいは１ーブタノール等が採用できるもの
である。
【００２１】さらにまた、ガラス基板への膜付け法とし
ては、ディッピング法、スプレー法、フローコート法あ
るいはスピンコート法等既知の塗布手段が適宜採用し得
るものである。また前記コーティング溶液を被膜後、１
層の薄膜を形成する毎に、約１００°Ｃ程度の雰囲気温
度下で約３０分間以内程度の乾燥を行い、前記２種類の
表層形状を有したゲル膜を形成することが好ましいもの
である。
【００２２】またさらに、本発明の２種類の表面形状表
層については、縮重合度の違いによる形成であって、膜
を強固にするための焼成（例えば約５００°Ｃ以上）に
よっても消失することもなく、しかも独立したピットあ
るいは凹凸状物が表面および基板との界面付近まで形成
されており、走査電子顕微鏡による５千倍で明確に観察
が可能である等、膜強度に優れるしっかりした前記２種
類の表面形状表層とできるものである。
【００２３】またさらに、該マイクロピット状表層また
は凹凸状表層の膜厚を６０〜１６０ｎｍで、かつ該マイ
クロピット状または凹凸状の径が５０〜２００ｎｍにな
るようにするとともに、その屈折率を１．２１〜１．４
０にするようにしたのは、先ず膜厚が６０〜１６０ｎｍ
の範囲外では充分な膜強度を有しつつバランスがある所
期の低反射率とならないからであり、またマイクロピッ
ト状または凹凸状の径が５０〜２００ｎｍの範囲内にな
るようにするのは、５０ｎｍ未満では膜強度は強いもの
の低反射効果があまり出現せず、２００ｎｍを超えると
膜強度が顕著な低下を示すとともに屈折率が下がりすぎ
低反射効果が逆に悪化することとなるからであって、１
００〜１５０ｎｍ程度が好ましいものであり、さらに屈
折率が１．２１〜１．４０の範囲内とするのは、低反射
効果に最適な屈折率は１．２１程度であるが該数値未満
では膜強度が充分満足を得るものとならず、１．４０を
超えると所期の低反射効果を得ることができ難くなるか
らであり、１．３〜１．４または１．３９程度が好まし
いものである。いずれにしてもこれら膜厚、マイクロピ
ット状または凹凸状の径ならびに屈折率が前記範囲内で
適宜巧みに組み合わさることによって、所期の低反射ガ
ラスを得ることができ、より好ましいものである。
【００２４】また例えばＨＦ等によるエッチングでは、
その構造上エッチングされ易い部分とされ難い部分とが
あって、エッチングされ易い部分がピット状のものとな
るので、どちらかと言えば連続的であり、膜厚もピット
制御も困難であり、前記倍率でのピット観察では観察が
困難である。また例えばゾルゲル膜での有機高分子物、
溶媒、水分の焼成等による多孔質化では、通常２５０〜
３００°Ｃ付近の焼成で膜全体が一度多孔質化するが、
５００°Ｃ以上で焼成した場合、膜の緻密、硬化が起こ
り、無孔化も同時に起こり、ピット状のものは膜表面お
よび内部でなくなり、走査電子顕微鏡では３〜５万倍で
観察しても、表面形状は平坦である等、従来法のものと
本発明のマイクロピット状表層あるいは凹凸状表層とで
は明らかに異なるものであった。
【００２５】さらにまた、前記ガラス基板としては、無
機質の透明板ガラスであって、無色または着色、ならび
にその種類あるいは色調、形状等に特に限定されるもの
ではなく、さらに曲げ板ガラスとしてはもちろん、各種
強化ガラスや強度アップガラス、平板や単板で使用でき
るとともに、複層ガラスあるいは合せガラスとしても使
用できることは言うまでもない。なお、ことに合せガラ
スに使用する際には空気側となる片面のみ成膜すること
が好ましい。
【００２６】
【作用】前述したとおり、本発明のマイクロピット状表
層あるいは凹凸状表層を有するゾルゲル膜、ならびにそ
の形成法により、上述した特定系の二つの化合物を選
び、該化合物の平均分子量を異なるものを少なくとも組
み合わせることで、高温焼成しても、緻密化することな
く、従来より独立性があって深見のある、明確でしっか
りしたマイクロピット状あるいは凹凸状表層となり、し
かも該２種類の表面表層の形状とその径を制御でき、付
着性も向上し頑固な薄膜とすることでき、ガラス基板と
の界面は密着性を格段に向上せしめ、優れた耐久性を有
するものとなり、透明で硬度が高く、しかも反射防止特
性に優れており、光学特性等も充分に満足できるものと
でき、高安全で厄介な作業工程がなく、安価に効率よく
得られることとなるものである。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
【００２８】実施例１ 大きさ約１００ｍｍｘ１００ｍｍ、厚さ約３ｍｍのクリ
ア・フロートガラス基板を中性洗剤、水すすぎ等で順次
洗浄し、乾燥した後、被膜用のガラス基板とした。
【００２９】平均分子量が約３，０００で固形分濃度が
約３０ｗｔ％のメチルトリエトキシシラン溶液約２０．
０ｇと、平均分子量が約１００，０００で固形分濃度が
約６ｗｔ％のシリコンエトキシド溶液約２８．６ｇをビ
ーカーに入れ、低平均分子量の固形分／高平均分子量の
固形分を約３．５のｍｏｌ比とし、次いで１ーブタノー
ル約１５０ｇで希釈し、約８時間攪拌後、約２週間熟成
してコーティング溶液を得た。
【００３０】つぎに、成膜ブースで囲まれた温度約２３
℃、相対湿度約６０％の環境下で、前記ガラス基板を該
溶液中に浸漬し引き上げ速度が約２．３ｍｍ／ｓのスピ
ードで引き上げるディッピング法により、該溶液を前記
ガラス基板の両表面に被膜し、約３分間程度静かに乾燥
させた後、約２７０°Ｃで約１０分間加熱してゲル膜を
形成した。さらにこれを約５５０℃程度で約１０分程度
加熱し成膜した。
【００３１】得られた薄膜は、走査電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）により、約２万倍の倍率で表面形状状態を観察した
ところ、図１に示すように、その径が約１００〜１５０
ｎｍ程度のマイクロピット状で細孔様の表層となってお
り、非常にポーラスな薄膜であった。またエリプソメー
タ等による測定から、屈折率が約１．３３程度であっ
て、膜厚が約１０５ｎｍのＳｉＯ2 薄膜を成膜した。
【００３２】該両面薄膜付ガラス基板の反射率は、ＪＩ
Ｓ Ｚ８７２２から図４に示すように、約５５０ｎｍで
約１．１％、可視光線反射率（Ｄ６５光線ーＹ値）は約
１．２％であり、非常に高性能な低反射ガラスとなっ
た。
【００３３】さらに該薄膜の膜強度は、比較的に強く、
払拭等では膜にキズを発現するようなものではなかっ
た。実施例２ 実施例１と同様なガラス基板とコーティング溶液を用
い、他は実施例１と同様にし、引き上げ速度を約３ｍｍ
／ｓでディッピング成膜し、約３分間静かに乾燥させた
後、約２７０℃で約１０分加熱してゲル膜を形成した。
これを約６００℃で約１０分間加熱処理して成膜した。
【００３４】得られた薄膜は、実施例１と比べて緻密化
が少々進んでいるものの、実施例１と同一条件で表面形
状状態を観察したところ、図２に示すように、その径が
約１００ｎｍ前後程度のマイクロピット状で細孔様の表
層となっており、ポーラスな薄膜であった。また実施例
１と同様の測定から、屈折率が約１．３９５程度であっ
て眼鏡等に広く使われている弗化マグネシウムに近い屈
折率であり、膜厚が約１００ｎｍのＳｉＯ2 薄膜を成膜
した。
【００３５】該両面薄膜付ガラス基板の反射率は、図４
に示すように、約５５０ｎｍで約３％、可視光線反射率
（Ｄ６５光線ーＹ値）は約３．１％であって実施例１に
比べると低反射特性はやや低いものの、所期の低反射ガ
ラスとなった。
【００３６】さらに、テーバー摩耗特性は、摩耗輪がＣ
Ｓー１０Ｆで荷重が５００ｇｆの条件により、１００回
の回転でヘーズ（△Ｈ）値が約０．８％であって、耐摩
耗性に優れた高硬度な低反射ガラスであった。
【００３７】比較例１ 実施例１と同様なガラス基板に、実施例１の平均分子量
が約１００，０００で溶質濃度が約０．４ｍｏｌ％のシ
リコンエトキシドのブタノール溶液を、実施例１と同様
の環境下で、引き上げ速度を約３．５ｍｍ／ｓのスピー
ドでガラス基板の両面にディッピング法被膜し、実施例
１と同様な条件で熱処理し成膜した。
【００３８】得られた薄膜は、実施例１と同様な測定と
評価により、図３に示すように、非常に平坦な表面表層
であって、その屈折率が約１．４５と高く、膜厚が約９
５ｎｍの両面膜付ガラスとなって、その反射率は、図４
に示すように、約５５０ｎｍで最低となり、可視光線反
射率（Ｄ６５光線ーＹ値）は約５．２％であり、必ずし
も高性能な低反射ガラスとは言い難いものであった。
【００３９】比較例２ 実施例２と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約０．５ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例２
と同条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．４０で
膜厚が約５０ｎｍであって、実施例２に近い表面表層を
有する両面膜付ガラスとなって、その反射率は４００ｎ
ｍ以下の波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光
線ーＹ値）は約５．７％であり、低反射ガラスとは言い
難いものであった。
【００４０】比較例３ 実施例２と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約６ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例２と同
条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３９で膜厚
が約１７０ｎｍであって、実施例２に近い表面表層を有
する両面膜付ガラスとなって、その反射率は７８０ｎｍ
以上の波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線
ーＹ値）は約７．１％であり、低反射ガラスとは言い難
いものであった。
【００４１】比較例４ 実施例１と同様な方法において、１ーブタノールを約５
０ｇ再添加した溶液を使用し、ディッピングの引き上げ
スピードを約１ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例１と同条
件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３３で膜厚が
約５０ｎｍであって、実施例１に近い表面表層を有する
両面膜付ガラスとなって、その反射率は４００ｎｍ以下
の波長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線ーＹ
値）は約５％であり、低反射ガラスとは言い難いもので
あった。
【００４２】比較例５ 実施例１と同様な方法において、ディッピングの引き上
げスピードを約８ｍｍ／ｓにして被膜し、実施例１と同
条件で加熱成膜したところ、屈折率が約１．３３で膜厚
が約１８０ｎｍの実施例１に近い表面表層を有する両面
膜付ガラスとなって、その反射率は７８０ｎｍ以上の波
長で最低となり、可視光線反射率（Ｄ６５光線ーＹ値）
は約６．９％であり、低反射ガラスとは言い難いもので
あった。
【００４３】
【発明の効果】以上前述したように、本発明によれば、
手軽に容易な膜形成手段でもって薄膜を安価に効率よく
得られ、該薄膜において特異な形状を有する頑固なマイ
クロピット状表層あるいは凹凸状表層が得られ、しかも
その径を制御することができるようになり、単層膜で反
射防止特性に優れており、格段にその性能を発揮して、
光学特性を損なうことなく、密着性、耐候性等に優れる
ものとなる等、建築用窓材等をはじめ、各種ガラス物品
など、種々の被覆膜に広く採用できる利用価値の高い、
有用なマイクロピット状表層あるいは凹凸状表層を有す
る低反射ガラスならびにその製法を提供するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の低反射ガラスにおける、本発明のマ
イクロピット状表層を有するゾルゲル膜の表層面を、走
査電子顕微鏡で観察処理した写真であって、マイクロピ
ット状表層の状態を詳細に示す図である。
【図２】実施例２の低反射ガラスにおける、本発明のマ
イクロピット状表層を有するゾルゲル膜の表層面を、走
査電子顕微鏡で観察処理した写真であって、マイクロピ
ット状表層の状態を詳細に示す図である。
【図３】比較例１における、平坦表面を有するゾルゲル
膜の表層面を、走査電子顕微鏡で観察処理した写真であ
り、平坦な表面状態を詳細に示す図である。
【図４】実施例１ならびに実施例２の低反射ガラス、比
較例１のガラス、さらに通常のガラスにおける、各波長
に対する反射率（％）を示す分光反射特性図である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガラス基板の表面上に形成した薄膜にお
    いて、該薄膜がＳｉアルコキシド系化合物あるいはＳｉ
    アセチルアセトネート系化合物のなかから少なくとも１
    種以上の化合物を二つ以上選択し、しかも該選択した二
    つ以上の化合物における平均分子量が異なるものであっ
    て、該二つ以上の化合物を溶剤とともに混合してコーテ
    ィング溶液とし、該溶液の選択する二つ以上の化合物の
    混合割合の調整または／および該溶液を相対湿度のコン
    トロールのもとに被膜し、加熱成膜して成る、マイクロ
    ピット状表層または凹凸状表層であるゾルゲル膜におい
    て、該マイクロピット状表層または凹凸状表層の膜厚が
    ６０〜１６０ｎｍで、かつ、該マイクロピット状または
    凹凸状の径が５０〜２００ｎｍであり、しかもその屈折
    率が１．２１〜１．４０であることを特徴とする低反射
    ガラス。
  2. 【請求項２】 前記選択した二つ以上の化合物における
    異なる平均分子量としては、一つの低平均分子量の化合
    物が数千であって、他の一つ以上の高平均分子量の化合
    物が数万乃至数十万であることを特徴とする請求項１記
    載の低反射ガラス。
  3. 【請求項３】 前記選択する二つ以上の化合物の混合割
    合の調整が、高平均分子量の化合物１ｍｏｌに対して、
    低平均分子量の化合物を酸化物換算で０．１〜３０ｍｏ
    ｌであることを特徴とする請求項１および２記載の低反
    射ガラス。
  4. 【請求項４】 ガラス基板の表面上に形成した薄膜にお
    いて、該薄膜がＳｉアルコキシド系化合物あるいはＳｉ
    アセチルアセトネート系化合物のなかから少なくとも１
    種以上の化合物を二つ以上選択し、しかも該選択した二
    つ以上の化合物における平均分子量が異なるものであっ
    て、該二つ以上の化合物を溶剤とともに混合してコーテ
    ィング溶液とし、該溶液の選択する二つ以上の化合物の
    混合割合の調整または／および該溶液を相対湿度のコン
    トロールのもとに被膜し、１００°Ｃ以上の温度で加熱
    成膜して成る、マイクロピット状表層または凹凸状表層
    であるゾルゲル膜において、該マイクロピット状表層ま
    たは凹凸状表層の膜厚を６０〜１６０ｎｍで、かつ該マ
    イクロピット状または凹凸状の径が５０〜２００ｎｍに
    なるようにするとともに、その屈折率を１．２１〜１．
    ４０にすることを特徴とする低反射ガラスの製法。
  5. 【請求項５】 前記コーティング溶液を、１〜１０ｃＰ
    に粘度調製することを特徴とする請求項４記載の低反射
    ガラスの製法。
  6. 【請求項６】 前記コーティング溶液の酸化物換算固形
    分濃度が０．０１〜１０ｗｔ％であることを特徴とする
    請求項４ならびに５記載の低反射ガラスの製法。
  7. 【請求項７】 前記コーティング溶液を塗布するに際
    し、コントロールする前記相対湿度が、４０〜９０％で
    あることを特徴とする請求項４乃至６記載の低反射ガラ
    スの製法。
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