JPH06128757A - アルミニウムおよびアルミニウム合金の処理の為の改良された亜鉛酸塩溶液およびその処理方法 - Google Patents
アルミニウムおよびアルミニウム合金の処理の為の改良された亜鉛酸塩溶液およびその処理方法Info
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- JPH06128757A JPH06128757A JP4047692A JP4769292A JPH06128757A JP H06128757 A JPH06128757 A JP H06128757A JP 4047692 A JP4047692 A JP 4047692A JP 4769292 A JP4769292 A JP 4769292A JP H06128757 A JPH06128757 A JP H06128757A
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- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/42—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1651—Two or more layers only obtained by electroless plating
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 アルミニウムの金属メッキの改良された単一
および2重亜鉛酸処理涙点改良された処理が向上した接
着性の金属メッキ堆積およびその平滑性を可能にする亜
鉛酸被覆を提供する。 【構成】 極めて平滑な金属メッキされたアルミニウム
基質、例えば記憶ディスク等を、次式の浴可溶性カチオ
ン性縮合ポリマーを含む有効量の添加剤を含んでなる特
別な亜鉛酸浴を用いその後金属メッキすることによっ
て、亜鉛酸被覆処理されたアルミニウム基質の高平滑性
金属メッキの製造が出来る。 (Zは少なくとも2つの窒素原子を含む5あるいは6員
環を有するヘテロ環状化合物を完成するのに必要な原子
団を示す。Rは無しあるいはアルキル化試薬のアルキル
基を示す。XはCl,BrあるいはIを示し、n=1で
ある。)
および2重亜鉛酸処理涙点改良された処理が向上した接
着性の金属メッキ堆積およびその平滑性を可能にする亜
鉛酸被覆を提供する。 【構成】 極めて平滑な金属メッキされたアルミニウム
基質、例えば記憶ディスク等を、次式の浴可溶性カチオ
ン性縮合ポリマーを含む有効量の添加剤を含んでなる特
別な亜鉛酸浴を用いその後金属メッキすることによっ
て、亜鉛酸被覆処理されたアルミニウム基質の高平滑性
金属メッキの製造が出来る。 (Zは少なくとも2つの窒素原子を含む5あるいは6員
環を有するヘテロ環状化合物を完成するのに必要な原子
団を示す。Rは無しあるいはアルキル化試薬のアルキル
基を示す。XはCl,BrあるいはIを示し、n=1で
ある。)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は亜鉛酸被覆アルミニウム
の金属メッキに関し、更に詳しくはアルミニウムを処理
するための改良された亜鉛酸塩溶液を活用することによ
って、接着性を高め平滑にメッキをすることが出来る処
理液に関する。
の金属メッキに関し、更に詳しくはアルミニウムを処理
するための改良された亜鉛酸塩溶液を活用することによ
って、接着性を高め平滑にメッキをすることが出来る処
理液に関する。
【0002】
【従来の技術】アルミニウムの金属メッキは商業的に興
味が持たれ、その一つの適用例として、コンピュータあ
るいはデータ処理システムの様な電器製品の多用化に使
用されるメモリーディスクの製造に使用される。他にも
適した金属が有るが、そのようなディスクに対しては、
アルミニウムは好ましい基質である。一般的に非磁性無
電解ニッケルの比較的薄い層が、コバルトの様な磁性物
質の薄い層に続くアルミニウム上に適用される。信号は
後に選ばれたモーメントにおける信号を再生するための
コバルトの層を磁化することによってディスク上に記憶
される。
味が持たれ、その一つの適用例として、コンピュータあ
るいはデータ処理システムの様な電器製品の多用化に使
用されるメモリーディスクの製造に使用される。他にも
適した金属が有るが、そのようなディスクに対しては、
アルミニウムは好ましい基質である。一般的に非磁性無
電解ニッケルの比較的薄い層が、コバルトの様な磁性物
質の薄い層に続くアルミニウム上に適用される。信号は
後に選ばれたモーメントにおける信号を再生するための
コバルトの層を磁化することによってディスク上に記憶
される。
【0003】記憶ディスクに使用される典型的な合金は
アルミニウム協会番号5086と5586である。これらのディ
スクはマグネシウムを4重量%含有する。一般的にアル
ミニウムディスクとは約1.25から5mm の厚さで、マグネ
シウムを4から4.90重量%、銅0.01から0.40重量%、亜
鉛、クロム、ニッケル、鉄、シリコンを0.01から0.40重
量%で、残りがアルミニウムと除去不可能な不純物で構
成されている。
アルミニウム協会番号5086と5586である。これらのディ
スクはマグネシウムを4重量%含有する。一般的にアル
ミニウムディスクとは約1.25から5mm の厚さで、マグネ
シウムを4から4.90重量%、銅0.01から0.40重量%、亜
鉛、クロム、ニッケル、鉄、シリコンを0.01から0.40重
量%で、残りがアルミニウムと除去不可能な不純物で構
成されている。
【0004】完成された金属メッキディスク板は、ディ
スク表面に対し極めて近接して浮遊する(一般的に5 〜
8マイクロインチ)装置の磁化ヘッドに対し、衝突することが無
いように極めて平滑で均一でなくてはならない。出発物
質のアルミニウム基質も、米国特許第4,825,680 号に記
載のように、それ自身が極めて平滑で平坦でなければな
らず、さらにディスクの金属メッキは、これらの形式の
製品に要求される正確な加工が最終ディスク製品に為さ
れるよう、一様に平滑で均一でなくてはならない。
スク表面に対し極めて近接して浮遊する(一般的に5 〜
8マイクロインチ)装置の磁化ヘッドに対し、衝突することが無
いように極めて平滑で均一でなくてはならない。出発物
質のアルミニウム基質も、米国特許第4,825,680 号に記
載のように、それ自身が極めて平滑で平坦でなければな
らず、さらにディスクの金属メッキは、これらの形式の
製品に要求される正確な加工が最終ディスク製品に為さ
れるよう、一様に平滑で均一でなくてはならない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし残念なことに、
基質の金属メッキは、無電解金属メッキでさえ必要とさ
れる平滑な被覆を製造していない。メッキの空隙、混在
物、ブリッジング等は、多くの応用には適さない粗い表
面を作り出すという、メッキの問題点の内のほんのいく
つかである。
基質の金属メッキは、無電解金属メッキでさえ必要とさ
れる平滑な被覆を製造していない。メッキの空隙、混在
物、ブリッジング等は、多くの応用には適さない粗い表
面を作り出すという、メッキの問題点の内のほんのいく
つかである。
【0006】アルミニウムおよびその合金は、空気に触
れると酸化物を速やかに形成するために、更に追加のメ
ッキの問題点を提示することになる。その結果、アルミ
ニウムにメッキをするには特別な処理を採用しなければ
ならない。これらの処理は以下の物を含む、機械的な処
理;化学的なエッチング、特に鉄・ニッケル・マグネシ
ウム塩を含む酸によるエッチング;アルカリ性置換溶
液、特にこれらの亜鉛・黄銅・銅のメッキ;陽極処理、
特にリン酸、硫酸、塩酸中でのもの;2、3秒で低電流
密度の亜鉛電気メッキ。これらの処理の中で、アルカリ
性置換溶液は一般的に最も商業的に成功しやすいもので
ある。
れると酸化物を速やかに形成するために、更に追加のメ
ッキの問題点を提示することになる。その結果、アルミ
ニウムにメッキをするには特別な処理を採用しなければ
ならない。これらの処理は以下の物を含む、機械的な処
理;化学的なエッチング、特に鉄・ニッケル・マグネシ
ウム塩を含む酸によるエッチング;アルカリ性置換溶
液、特にこれらの亜鉛・黄銅・銅のメッキ;陽極処理、
特にリン酸、硫酸、塩酸中でのもの;2、3秒で低電流
密度の亜鉛電気メッキ。これらの処理の中で、アルカリ
性置換溶液は一般的に最も商業的に成功しやすいもので
ある。
【0007】多くの金属、例えば錫等は置換でアルミ上
に堆積し、亜鉛が最も一般的である。この場合、その処
理は亜鉛酸処理として知られており、以下の記述がこの
処理についての内容を示唆する。
に堆積し、亜鉛が最も一般的である。この場合、その処
理は亜鉛酸処理として知られており、以下の記述がこの
処理についての内容を示唆する。
【0008】長年、従来の亜鉛酸被覆形成および亜鉛酸
処理に対し、その被膜形成速度の促進、亜鉛被覆形成の
接着性および均一性の度合いの促進について数々の改良
が為されている。詳細な亜鉛酸処理の概要は、米国特許
第4,346,128 号、同第3,216,835 号に記載されており、
参考文献としてここに含まれる。
処理に対し、その被膜形成速度の促進、亜鉛被覆形成の
接着性および均一性の度合いの促進について数々の改良
が為されている。詳細な亜鉛酸処理の概要は、米国特許
第4,346,128 号、同第3,216,835 号に記載されており、
参考文献としてここに含まれる。
【0009】従来の亜鉛酸処理に於いては、アルミニウ
ムはオイルあるいはグリースのような有機あるいは無機
の表面汚れを取り除くためにアルカリ洗浄され、その後
冷水リンスがなされる。洗浄されたアルミニウムはそれ
から、次いでなされる堆積のブリッジングの結果、空隙
を生み出す可能性のある固形不純物および合金成分を除
くための充分なエッチングがなされる。水洗後、アルミ
ニウムは表面に残っている金属残渣や酸化アルミニウム
を除去するためにさらに汚れ落としがなされる。完全な
リンスが必要とされ、それから洗浄された表面の再酸化
を防ぐための浸漬亜鉛浴が使用され亜鉛酸被覆が適用さ
れる。この工程は一般的に単一亜鉛酸処理として知られ
ている。
ムはオイルあるいはグリースのような有機あるいは無機
の表面汚れを取り除くためにアルカリ洗浄され、その後
冷水リンスがなされる。洗浄されたアルミニウムはそれ
から、次いでなされる堆積のブリッジングの結果、空隙
を生み出す可能性のある固形不純物および合金成分を除
くための充分なエッチングがなされる。水洗後、アルミ
ニウムは表面に残っている金属残渣や酸化アルミニウム
を除去するためにさらに汚れ落としがなされる。完全な
リンスが必要とされ、それから洗浄された表面の再酸化
を防ぐための浸漬亜鉛浴が使用され亜鉛酸被覆が適用さ
れる。この工程は一般的に単一亜鉛酸処理として知られ
ている。
【0010】亜鉛被覆は亜鉛酸イオンを含むアルカリ性
溶液中にアルミパーツを浸すことによって得られる。堆
積された亜鉛の量は実際は非常に小さく、時間と使用さ
れる浸漬浴のタイプ、アルミニウム合金、溶液の温度、
および前処理工程等に依存する。亜鉛被覆浴はまたエッ
チング溶液としても機能し、移送操作中に再形成される
どんな酸化物もアルミ上に亜鉛を堆積させている間にア
ルカリ性亜鉛酸によって溶解される。
溶液中にアルミパーツを浸すことによって得られる。堆
積された亜鉛の量は実際は非常に小さく、時間と使用さ
れる浸漬浴のタイプ、アルミニウム合金、溶液の温度、
および前処理工程等に依存する。亜鉛被覆浴はまたエッ
チング溶液としても機能し、移送操作中に再形成される
どんな酸化物もアルミ上に亜鉛を堆積させている間にア
ルカリ性亜鉛酸によって溶解される。
【0011】現在工業的になされている一般的な工程は
2重亜鉛酸処理で、第1の亜鉛被覆が第2の浸漬亜鉛堆
積の適用に従い硝酸を用い除去される。2重亜鉛酸処理
はアルミニウムメッキに対して好ましい方法で、特に最
終金属層堆積のより良い接着性を確保するためにメッキ
をすることが困難なアルミニウム合金において有用であ
る。
2重亜鉛酸処理で、第1の亜鉛被覆が第2の浸漬亜鉛堆
積の適用に従い硝酸を用い除去される。2重亜鉛酸処理
はアルミニウムメッキに対して好ましい方法で、特に最
終金属層堆積のより良い接着性を確保するためにメッキ
をすることが困難なアルミニウム合金において有用であ
る。
【0012】亜鉛酸処理の好評性およびその効果にもか
かわらず、未だ亜鉛酸処理されたアルミニウム基質上へ
の金属メッキの向上した接着性と平滑性の両方を提供す
る改良された処理に対する要求が存在する。理論に制約
されずに、金属板の特性は、一般的により平滑でより接
着性の金属メッキを提供するより薄い被覆と共に、直接
的に亜鉛被覆の厚さ、均一性および連続性に関連すると
信じられている。
かわらず、未だ亜鉛酸処理されたアルミニウム基質上へ
の金属メッキの向上した接着性と平滑性の両方を提供す
る改良された処理に対する要求が存在する。理論に制約
されずに、金属板の特性は、一般的により平滑でより接
着性の金属メッキを提供するより薄い被覆と共に、直接
的に亜鉛被覆の厚さ、均一性および連続性に関連すると
信じられている。
【0013】本発明の目的は、極めて平滑な金属メッキ
被覆を有するアルミニウム基質製品を製造する方法を提
供することにある。
被覆を有するアルミニウム基質製品を製造する方法を提
供することにある。
【0014】更に、本発明の目的は、アルミニウムの金
属メッキの改良された単一および2重亜鉛酸処理を提供
することに有り、それは改良された処理が向上した接着
性の金属メッキ堆積およびその平滑性を可能にする亜鉛
酸被覆を提供するものである。
属メッキの改良された単一および2重亜鉛酸処理を提供
することに有り、それは改良された処理が向上した接着
性の金属メッキ堆積およびその平滑性を可能にする亜鉛
酸被覆を提供するものである。
【0015】さらなる目的としては、アルミニウム基質
を処理するのに用いられる改良された亜鉛酸浴を提供す
ることにある。
を処理するのに用いられる改良された亜鉛酸浴を提供す
ることにある。
【0016】他の目的およびその利点は以下の詳細な記
述によって明らかになるであろう。
述によって明らかになるであろう。
【0017】
【課題を解決するための手段】極めて平滑な金属メッキ
されたアルミニウム基質、例えば記憶ディスク等を、一
般式化3によって示される浴可溶性カチオン性縮合ポリ
マーを含む有効量の添加剤を含んでなる特別な亜鉛酸浴
を用いる亜鉛酸処理を用いることによって作ることが出
来ることを発見した。
されたアルミニウム基質、例えば記憶ディスク等を、一
般式化3によって示される浴可溶性カチオン性縮合ポリ
マーを含む有効量の添加剤を含んでなる特別な亜鉛酸浴
を用いる亜鉛酸処理を用いることによって作ることが出
来ることを発見した。
【0018】
【化3】
【0019】このポリマーは少なくとも2つの窒素原子
を有する5あるいは6員環のヘテロ環状化合物のモル当
たり約0.5から1.0モルのエピハロヒドリン化合物
を反応することによって得られる。好ましくはこのポリ
マーはそれから該ヘテロ環状化合物のモル当たり約0.
1から0.5モルの適当なアルキル化試薬でのアルキル
化が為される。好ましいアルキル化試薬は以下の式で示
される。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- (式においてR1 はエチル基あるいは2−ヒドロキシプ
ロピル基、R2 は1〜4炭素のアルキル基、XはCl、
Br、あるいはIを示す。)
を有する5あるいは6員環のヘテロ環状化合物のモル当
たり約0.5から1.0モルのエピハロヒドリン化合物
を反応することによって得られる。好ましくはこのポリ
マーはそれから該ヘテロ環状化合物のモル当たり約0.
1から0.5モルの適当なアルキル化試薬でのアルキル
化が為される。好ましいアルキル化試薬は以下の式で示
される。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- (式においてR1 はエチル基あるいは2−ヒドロキシプ
ロピル基、R2 は1〜4炭素のアルキル基、XはCl、
Br、あるいはIを示す。)
【0020】上記の添加剤と亜鉛メッキ溶液に於ける光
沢剤としての添加剤を調整し使用する方法は一般的に米
国特許第4,169,771 号に記載されており、該特許は本明
細書に参考文献として含まれる。
沢剤としての添加剤を調整し使用する方法は一般的に米
国特許第4,169,771 号に記載されており、該特許は本明
細書に参考文献として含まれる。
【0021】金属メッキの為のアルミニウムおよびアル
ミニウム合金の調整の為の2重亜鉛酸処理において、特
別の亜鉛酸浴がどちらかの亜鉛酸処理工程において使用
され、好ましくはその両方の工程で使用される。従来の
方法につづいて、第1の亜鉛酸被覆は硝酸を使用して剥
がされ、それからそのアルミニウムは水洗され、そして
第2の亜鉛酸被覆で被覆される。金属はこの第2の亜鉛
酸被覆上にメッキされる。大まかにいえば、亜鉛酸浴は
添加剤を有効量、例えば約体積で0.1から5%含んで
いる。
ミニウム合金の調整の為の2重亜鉛酸処理において、特
別の亜鉛酸浴がどちらかの亜鉛酸処理工程において使用
され、好ましくはその両方の工程で使用される。従来の
方法につづいて、第1の亜鉛酸被覆は硝酸を使用して剥
がされ、それからそのアルミニウムは水洗され、そして
第2の亜鉛酸被覆で被覆される。金属はこの第2の亜鉛
酸被覆上にメッキされる。大まかにいえば、亜鉛酸浴は
添加剤を有効量、例えば約体積で0.1から5%含んで
いる。
【0022】亜鉛酸処理工程につづいて、亜鉛酸処理さ
れたアルミニウムは従来の方法でメッキされる。
れたアルミニウムは従来の方法でメッキされる。
【0023】[本発明の詳細な記載]アルミニウムを調
整するための亜鉛酸処理方法、たとえば金属メッキの為
の単一・2重・3重の方法は前記したように従来技術と
してよく知られており、都合上、以下の記載では2重亜
鉛酸処理を示唆する。
整するための亜鉛酸処理方法、たとえば金属メッキの為
の単一・2重・3重の方法は前記したように従来技術と
してよく知られており、都合上、以下の記載では2重亜
鉛酸処理を示唆する。
【0024】一般的に、どんなアルミニウムあるいはア
ルミニウム合金も本発明の方法を用いて処理出来、例え
ば合金は5086,5586,2024, およびCZ-46 である。アルミ
ニウムは精練されているか鋳造されていてもよい。
ルミニウム合金も本発明の方法を用いて処理出来、例え
ば合金は5086,5586,2024, およびCZ-46 である。アルミ
ニウムは精練されているか鋳造されていてもよい。
【0025】この使用されている特別な2重亜鉛酸処理
方法は処理される合金と主張される結果によって変化す
るので、工業的に使用される典型的な工程は以下の様に
なっており、そして水洗リンスが各々の処理工程の後に
適用されることは理解されるで有ろう。
方法は処理される合金と主張される結果によって変化す
るので、工業的に使用される典型的な工程は以下の様に
なっており、そして水洗リンスが各々の処理工程の後に
適用されることは理解されるで有ろう。
【0026】第1の工程は通常グリースやオイルのアル
ミニウム表面を清浄することでアルカリ性非エッチング
性清浄剤、例えばエントン・オーエムアイ社製のENBOND
(商標)NS-35 が適当に使用される。ENBOND NS-35は珪
酸塩非含有のマイルドなアルカリ性洗浄剤で、約49から
66℃で1〜5分間使用される。
ミニウム表面を清浄することでアルカリ性非エッチング
性清浄剤、例えばエントン・オーエムアイ社製のENBOND
(商標)NS-35 が適当に使用される。ENBOND NS-35は珪
酸塩非含有のマイルドなアルカリ性洗浄剤で、約49から
66℃で1〜5分間使用される。
【0027】清浄後のアルミニウムのエッチングはそれ
からエッチング剤、例えばエントン・オーエムアイ社製
のACTANE(商標)E-10,ENBOND E-14, あるいはENBOND E
-24等が使用され行われる。これらの物質は、アルカリ
性あるいは酸性である。酸性エッチング剤は、表面寸
法、許容誤差、完全さ(無傷)が重要である時に一般的
に特別に好ましい。エッチング剤は一般的に昇温された
約49〜66℃で1から3分間使用される。
からエッチング剤、例えばエントン・オーエムアイ社製
のACTANE(商標)E-10,ENBOND E-14, あるいはENBOND E
-24等が使用され行われる。これらの物質は、アルカリ
性あるいは酸性である。酸性エッチング剤は、表面寸
法、許容誤差、完全さ(無傷)が重要である時に一般的
に特別に好ましい。エッチング剤は一般的に昇温された
約49〜66℃で1から3分間使用される。
【0028】合金の汚れ落としは硝酸溶液(例えば体積
の50%)、あるいは硝酸と硫酸の混合物単独あるいは
エントン・オーエムアイ社製のACTANE 70 との組合わせ
を使用して為される。ACTANE 70 は酸性のフッ化物塩で
アンモニウムビフルオリドを含んでいる。典型的な汚れ
落とし溶液は、体積で、硫酸25%、硝酸50%、ACTA
NE 70 を1重量ポンド/ガロンで含む水溶液である。
の50%)、あるいは硝酸と硫酸の混合物単独あるいは
エントン・オーエムアイ社製のACTANE 70 との組合わせ
を使用して為される。ACTANE 70 は酸性のフッ化物塩で
アンモニウムビフルオリドを含んでいる。典型的な汚れ
落とし溶液は、体積で、硫酸25%、硝酸50%、ACTA
NE 70 を1重量ポンド/ガロンで含む水溶液である。
【0029】亜鉛酸被覆は以前米国特許第3,216,835 号
に記載されているような亜鉛酸浴に浸漬することによっ
てアルミニウムに適用されることがこの点である。その
示された効果にしたがって、添加剤を使用する為の好ま
しい浴はエントン・オーエムアイ社製のALUMON(商標)
ENである。ALUMON EN や一般的な亜鉛酸浴は、アルカリ
金属水酸化物、亜鉛塩のような亜鉛イオン源(酸化亜
鉛、硫酸亜鉛等)、キレート化剤、任意にアニオン性湿
潤剤および金属性添加剤が含まれる。他の商業的になっ
ている亜鉛酸浴もまた適当に使用することが出来る。
に記載されているような亜鉛酸浴に浸漬することによっ
てアルミニウムに適用されることがこの点である。その
示された効果にしたがって、添加剤を使用する為の好ま
しい浴はエントン・オーエムアイ社製のALUMON(商標)
ENである。ALUMON EN や一般的な亜鉛酸浴は、アルカリ
金属水酸化物、亜鉛塩のような亜鉛イオン源(酸化亜
鉛、硫酸亜鉛等)、キレート化剤、任意にアニオン性湿
潤剤および金属性添加剤が含まれる。他の商業的になっ
ている亜鉛酸浴もまた適当に使用することが出来る。
【0030】一般的に、2重亜鉛酸処理は、完全な冷水
によるリンスの後、アルミニウム基質をALUMON EN の様
な希釈亜鉛酸浴に20〜50秒浸漬し、硝酸中での亜鉛
剥離操作をし、更に冷水でリンスをし、そして第2の亜
鉛酸浴浸漬とそれに続くリンスの工程を含んでなるもの
である。単一の亜鉛酸処理においては基質は第1の亜鉛
酸処理とリンスの工程と残りは同様に準備され、3重の
亜鉛酸処理においては2重に亜鉛酸処理された表面は硝
酸で処理され、そして再度完全な冷水リンスの後亜鉛酸
処理される。
によるリンスの後、アルミニウム基質をALUMON EN の様
な希釈亜鉛酸浴に20〜50秒浸漬し、硝酸中での亜鉛
剥離操作をし、更に冷水でリンスをし、そして第2の亜
鉛酸浴浸漬とそれに続くリンスの工程を含んでなるもの
である。単一の亜鉛酸処理においては基質は第1の亜鉛
酸処理とリンスの工程と残りは同様に準備され、3重の
亜鉛酸処理においては2重に亜鉛酸処理された表面は硝
酸で処理され、そして再度完全な冷水リンスの後亜鉛酸
処理される。
【0031】本発明の好ましい添加剤としては、クロロ
メチルオキシランと1H−イミダゾールのポリマーで、
特に好ましい添加剤としては(3−クロロ−2−ヒドロ
キシプロピル)トリメチルアンモニウムクロリドでアル
キル化された上記オキシランである(通称IEA)。I
EAは0.9 モルのイミダゾールと0.91モルのエピクロル
ヒドリンを含む水溶液を15時間95℃で加熱して形成
することによって調整される。その後、(3−クロロ−
2−ヒドロキシプロピル)トリメチルアンモニウムクロ
リドが添加され、反応混合物の加熱がアルキル化反応を
競争するために更に1時間続けられる。
メチルオキシランと1H−イミダゾールのポリマーで、
特に好ましい添加剤としては(3−クロロ−2−ヒドロ
キシプロピル)トリメチルアンモニウムクロリドでアル
キル化された上記オキシランである(通称IEA)。I
EAは0.9 モルのイミダゾールと0.91モルのエピクロル
ヒドリンを含む水溶液を15時間95℃で加熱して形成
することによって調整される。その後、(3−クロロ−
2−ヒドロキシプロピル)トリメチルアンモニウムクロ
リドが添加され、反応混合物の加熱がアルキル化反応を
競争するために更に1時間続けられる。
【0032】添加剤は様々な量が使用され体積で約0.1
から5%あるいはそれ以上である。好ましいレベルは約
0.3 から3%、更に好ましい濃度は1から2.5 %であ
る。約2%あるいはそれ以上のレベルでは、添加剤が浴
の通常寿命の間に再生する必要が無いので、特に効果が
見出される。
から5%あるいはそれ以上である。好ましいレベルは約
0.3 から3%、更に好ましい濃度は1から2.5 %であ
る。約2%あるいはそれ以上のレベルでは、添加剤が浴
の通常寿命の間に再生する必要が無いので、特に効果が
見出される。
【0033】好ましいアルキル化試薬は以下の式を有す
る。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- しかし、どの適当なアルキル化試薬も使用することが出
来る。4級アルキル化試薬の例としては、クロルヒドリ
ン、ハロゲン化アルキルやハロゲン化ヘテロ環状アルキ
ルがある。特異的な例としては、(3−クロル−2−ヒ
ドロキシプロピル)メチルモルホリニウムクロリド;
(2−ブロモエチル)トリメチルアンモニウムブロミド
や(2−ブロモエチル)ピリジニウムブロミドがある。
他のX- のアニオンはメトスルフェートやp−トルエン
スルフォネートを含む。
る。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- しかし、どの適当なアルキル化試薬も使用することが出
来る。4級アルキル化試薬の例としては、クロルヒドリ
ン、ハロゲン化アルキルやハロゲン化ヘテロ環状アルキ
ルがある。特異的な例としては、(3−クロル−2−ヒ
ドロキシプロピル)メチルモルホリニウムクロリド;
(2−ブロモエチル)トリメチルアンモニウムブロミド
や(2−ブロモエチル)ピリジニウムブロミドがある。
他のX- のアニオンはメトスルフェートやp−トルエン
スルフォネートを含む。
【0034】亜鉛酸処理を剥離するために使用される硝
酸溶液は、一般的に約350 から600g/l、好ましくは約45
0 から550g/lの濃度の範囲の、体積で50%溶液であ
る。
酸溶液は、一般的に約350 から600g/l、好ましくは約45
0 から550g/lの濃度の範囲の、体積で50%溶液であ
る。
【0035】硝酸溶液はどんな温度でも使用されるが、
通常約20から25℃あるいはそれ以上で、好ましくは
21から23℃である。浸漬時間は約30から90秒で
あり、好ましくは40から60秒である。
通常約20から25℃あるいはそれ以上で、好ましくは
21から23℃である。浸漬時間は約30から90秒で
あり、好ましくは40から60秒である。
【0036】亜鉛酸処理された表面を剥離するための好
ましい工程は、米国特許出願第07/420,805号に開示され
ている鉄(III )イオンを含む硝酸溶液を使用する。な
お、これは参考文献としてここに含まれる。
ましい工程は、米国特許出願第07/420,805号に開示され
ている鉄(III )イオンを含む硝酸溶液を使用する。な
お、これは参考文献としてここに含まれる。
【0037】硝酸による剥離の後、アルミニウムは再
度、メッキの為の基質を調整するために亜鉛酸浴で処理
される。添加化合物は、アルミニウムを処理するための
亜鉛酸浴のいずれか、あるいは好ましくは全てに使用さ
れる。
度、メッキの為の基質を調整するために亜鉛酸浴で処理
される。添加化合物は、アルミニウムを処理するための
亜鉛酸浴のいずれか、あるいは好ましくは全てに使用さ
れる。
【0038】濃度、溶液温度および浸漬時間は相互に関
係しており、また一般的に所望の表面をなすのにはより
高い温度と濃度、より短い浸漬時間が効果が有り、その
後の金属メッキの向上した接着性と平滑性を提供する亜
鉛酸浴に於ける上記添加剤の使用にある本発明において
もそうであることは当業者は容易に理解することが出来
る。
係しており、また一般的に所望の表面をなすのにはより
高い温度と濃度、より短い浸漬時間が効果が有り、その
後の金属メッキの向上した接着性と平滑性を提供する亜
鉛酸浴に於ける上記添加剤の使用にある本発明において
もそうであることは当業者は容易に理解することが出来
る。
【0039】他の金属を無電解で、電解で、あるいはそ
の組合わせで、特別に調整された亜鉛被覆のアルミニウ
ム上にメッキすることも出来、その商業的な重要性の為
に以下の記述では特に無電解ニッケルについて示唆す
る。
の組合わせで、特別に調整された亜鉛被覆のアルミニウ
ム上にメッキすることも出来、その商業的な重要性の為
に以下の記述では特に無電解ニッケルについて示唆す
る。
【0040】ニッケル被覆に適用される無電解ニッケル
メッキ組成物は従来よく知られており、メッキ処理およ
び組成物は数多くの公報に記載されている。例えば、無
電解ニッケルメッキの組成物としては米国特許第2,690,
401 号、同第2,690,402 号、同第2,762,723 号、同第2,
935,425 号、同第2,929,742 号、および同第3,338,726
号等に記載されている。ニッケルとその合金の堆積の為
の他の有用な組成物は「メタル・フィニッシュ・ガイド
ブック1967、35周年記念版(メタル・アンド・プ
ラスチックス・パブリケイション・インコーポレイテッ
ド、ウェストウッド、ニュージャージー州、ページ483-
486 )」に開示されている。これらは参考文献として含
まれる。
メッキ組成物は従来よく知られており、メッキ処理およ
び組成物は数多くの公報に記載されている。例えば、無
電解ニッケルメッキの組成物としては米国特許第2,690,
401 号、同第2,690,402 号、同第2,762,723 号、同第2,
935,425 号、同第2,929,742 号、および同第3,338,726
号等に記載されている。ニッケルとその合金の堆積の為
の他の有用な組成物は「メタル・フィニッシュ・ガイド
ブック1967、35周年記念版(メタル・アンド・プ
ラスチックス・パブリケイション・インコーポレイテッ
ド、ウェストウッド、ニュージャージー州、ページ483-
486 )」に開示されている。これらは参考文献として含
まれる。
【0041】一般的に無電解ニッケルメッキ溶液は、典
型的には水である溶液中に溶解されている少なくとも4
種類の要素を含んでいる。それらは(1)ニッケルイオ
ン源、(2)次亜リン酸塩あるいはアミンボランのよう
な還元剤、(3)必要とするpHを提供する為の酸ある
いは水酸化物pH調整剤、および(4)溶液中でのそれ
らの沈殿を起こすのに充分な金属イオン用錯化剤であ
る。無電解ニッケル溶液の為の適切な錯化剤の多くは前
記の公報に記載されている。ニッケルあるいは他の適用
される金属は通常、浴中で他の物質の存在下合金の形態
であることが好ましい。それゆえ、もし次亜リン酸塩が
還元剤として使用されたならば、堆積はニッケルとりん
を含むことになる。同様に、アミンボランが用いられる
なら、堆積はニッケルとボロンを含むことになる。それ
ゆえ、ニッケルを使用するということは、それと共に堆
積される他の要素を含んでいる。
型的には水である溶液中に溶解されている少なくとも4
種類の要素を含んでいる。それらは(1)ニッケルイオ
ン源、(2)次亜リン酸塩あるいはアミンボランのよう
な還元剤、(3)必要とするpHを提供する為の酸ある
いは水酸化物pH調整剤、および(4)溶液中でのそれ
らの沈殿を起こすのに充分な金属イオン用錯化剤であ
る。無電解ニッケル溶液の為の適切な錯化剤の多くは前
記の公報に記載されている。ニッケルあるいは他の適用
される金属は通常、浴中で他の物質の存在下合金の形態
であることが好ましい。それゆえ、もし次亜リン酸塩が
還元剤として使用されたならば、堆積はニッケルとりん
を含むことになる。同様に、アミンボランが用いられる
なら、堆積はニッケルとボロンを含むことになる。それ
ゆえ、ニッケルを使用するということは、それと共に堆
積される他の要素を含んでいる。
【0042】亜鉛被覆されたアルミニウムパーツは必要
とされる厚みに無電解ニッケル浴でメッキされあるいは
複数の浴が従来技術で知られているように用いられる。
とされる厚みに無電解ニッケル浴でメッキされあるいは
複数の浴が従来技術で知られているように用いられる。
【0043】メッキ速度は多くの因子によって影響を受
けることは当業者にとっては自明なことであり、それら
は(1)メッキ溶液のpH、(2)還元剤の濃度、
(3)メッキ浴の温度、(4)可溶性ニッケルの濃度、
(5)メッキ領域に対する浴の容積比、(6)可溶性フ
ッ化物塩(促進剤)の存在および、(7)湿潤剤および
/あるいは攪拌の有無等で、また上記のパラメータは単
に本発明を実行するための一般的なガイダンスを与える
ために提供されるもので、本発明は前述のように亜鉛酸
処理されたアルミニウム基質上に向上された平滑性を有
する金属メッキを提供する為の特別な亜鉛酸浴の利用に
帰するものである。
けることは当業者にとっては自明なことであり、それら
は(1)メッキ溶液のpH、(2)還元剤の濃度、
(3)メッキ浴の温度、(4)可溶性ニッケルの濃度、
(5)メッキ領域に対する浴の容積比、(6)可溶性フ
ッ化物塩(促進剤)の存在および、(7)湿潤剤および
/あるいは攪拌の有無等で、また上記のパラメータは単
に本発明を実行するための一般的なガイダンスを与える
ために提供されるもので、本発明は前述のように亜鉛酸
処理されたアルミニウム基質上に向上された平滑性を有
する金属メッキを提供する為の特別な亜鉛酸浴の利用に
帰するものである。
【0044】本発明の組成物および処理は以下の特異的
な実施例によって完全に説明されるがそれに制限される
ものではない。なお、部およびパーセントは全て特に記
載の無い場合重量をもとにしており、また温度は摂氏で
ある。
な実施例によって完全に説明されるがそれに制限される
ものではない。なお、部およびパーセントは全て特に記
載の無い場合重量をもとにしており、また温度は摂氏で
ある。
【0045】
・例1 アルミニウム合金5586ディスクが、以下の工程にしたが
って2重亜鉛酸処理と無電解ニッケルメッキされた。
(各々の工程の後には冷水リンスが為された) (1)ENBOND NS-35(50重量%)に60℃で3分間浸
漬; (2)ACTANE E-10 (10重量%)に60℃で1分間浸
漬(微細エッチング); (3)50重量%硝酸に室温で1分間浸漬(汚れ落と
し); (4)ALUMON EN (25重量%)に室温で35秒間浸
漬; (5)50重量%硝酸に室温で1分間浸漬; (6)ALUMON EN (25重量%)に室温で16秒間浸
漬; (7)ENPLATE ADP-300 に84〜87℃で1時間浸漬
(pH4.5±0.1)
って2重亜鉛酸処理と無電解ニッケルメッキされた。
(各々の工程の後には冷水リンスが為された) (1)ENBOND NS-35(50重量%)に60℃で3分間浸
漬; (2)ACTANE E-10 (10重量%)に60℃で1分間浸
漬(微細エッチング); (3)50重量%硝酸に室温で1分間浸漬(汚れ落と
し); (4)ALUMON EN (25重量%)に室温で35秒間浸
漬; (5)50重量%硝酸に室温で1分間浸漬; (6)ALUMON EN (25重量%)に室温で16秒間浸
漬; (7)ENPLATE ADP-300 に84〜87℃で1時間浸漬
(pH4.5±0.1)
【0046】ENPLATE ADP-300 は酸性ベースの(pH
4.6)無電解ニッケルメッキ浴で以下のものを含む
(g/l で示されている);硫酸ニッケル・6水和物(2
6)、次亜リン酸ナトリウム(20)、乳酸ナトリウム
(60%)(71)、りんご酸(11.8)、水酸化ナトリ
ウム(4.6 )、ヨウ化カリウム(0.015 )、硝酸鉛(0.
0003)、およびアニオン性活性剤(0.02)。
4.6)無電解ニッケルメッキ浴で以下のものを含む
(g/l で示されている);硫酸ニッケル・6水和物(2
6)、次亜リン酸ナトリウム(20)、乳酸ナトリウム
(60%)(71)、りんご酸(11.8)、水酸化ナトリ
ウム(4.6 )、ヨウ化カリウム(0.015 )、硝酸鉛(0.
0003)、およびアニオン性活性剤(0.02)。
【0047】図1は従来の2重亜鉛酸処理工程によるニ
ッケル表面を示す。
ッケル表面を示す。
【0048】続く金属メッキに記載された変更点ととも
に同様の工程が使用された。
に同様の工程が使用された。
【0049】図2はステップ(4)の亜鉛酸溶液に添加
剤としてIEAを1重量%使用したものである。
剤としてIEAを1重量%使用したものである。
【0050】図3はステップ(6)の亜鉛酸溶液に添加
剤としてIEAを1重量%使用したものである。
剤としてIEAを1重量%使用したものである。
【0051】図4はステップ(4)および(6)の両方
の亜鉛酸溶液に添加剤としてIEAを1重量%使用した
ものである。
の亜鉛酸溶液に添加剤としてIEAを1重量%使用した
ものである。
【0052】図5はステップ(5)の硝酸溶液に0.5g/l
の鉄(III) イオンを用いた以外は図4で使用されたもの
と同様の工程のものである。
の鉄(III) イオンを用いた以外は図4で使用されたもの
と同様の工程のものである。
【0053】図から明らかなように、亜鉛酸処理溶液に
本発明の添加剤を使用することによって従来の処理と比
べ、ニッケルメッキの平滑性および光沢が改良されてお
り、好ましい処理は硝酸溶液に鉄(III) イオンを用い各
々の亜鉛酸溶液に添加剤を加えた両方の使用が好まし
い。
本発明の添加剤を使用することによって従来の処理と比
べ、ニッケルメッキの平滑性および光沢が改良されてお
り、好ましい処理は硝酸溶液に鉄(III) イオンを用い各
々の亜鉛酸溶液に添加剤を加えた両方の使用が好まし
い。
【0054】・例2 例1のステップ1,2,3および4は繰り返され、
(1)従来のALUMON EN浴;(2)ステップ(4)のALU
MON EN 浴に添加剤(得られたポリマーがアルキル化さ
れていない即ちR2 が無い以外はIEAの工程と同様に
調整された)を0.5重量%;および(3)ステップ
(4)のALUMON EN 浴にIEA0.5 重量%。亜鉛酸処理
された板はそれから25℃の50重量%硝酸に5分間浸
漬され亜鉛を完全に剥離した。添加剤を加えた浴
(2)、(3)では各々0.34、0.29mg/inch2の亜鉛層が
被覆されたのに比べて、従来の亜鉛酸処理(添加剤無し
で)では0.40mg/inch2の亜鉛被覆量であった。これらの
結果は添加剤の使用は、メッキ時により平滑でより光沢
のある亜鉛酸処理された表面を提供すると仮定される、
より薄い亜鉛被覆を生じさせることを示している。
(1)従来のALUMON EN浴;(2)ステップ(4)のALU
MON EN 浴に添加剤(得られたポリマーがアルキル化さ
れていない即ちR2 が無い以外はIEAの工程と同様に
調整された)を0.5重量%;および(3)ステップ
(4)のALUMON EN 浴にIEA0.5 重量%。亜鉛酸処理
された板はそれから25℃の50重量%硝酸に5分間浸
漬され亜鉛を完全に剥離した。添加剤を加えた浴
(2)、(3)では各々0.34、0.29mg/inch2の亜鉛層が
被覆されたのに比べて、従来の亜鉛酸処理(添加剤無し
で)では0.40mg/inch2の亜鉛被覆量であった。これらの
結果は添加剤の使用は、メッキ時により平滑でより光沢
のある亜鉛酸処理された表面を提供すると仮定される、
より薄い亜鉛被覆を生じさせることを示している。
【0055】・例3 アルミニウム合金2024ディスクが、以下の工程にしたが
って亜鉛酸処理された。 (1)ENBOND NS-35(50重量%)に60℃で3分間浸
漬; (2)冷水リンス; (3)ACTANE E-10 (10重量%)に60℃で1分間浸
漬; (4)冷水リンス; (5)ALUMON EN (25重量%)に室温で36秒間浸
漬; (6)冷水リンス; (7)温風乾燥
って亜鉛酸処理された。 (1)ENBOND NS-35(50重量%)に60℃で3分間浸
漬; (2)冷水リンス; (3)ACTANE E-10 (10重量%)に60℃で1分間浸
漬; (4)冷水リンス; (5)ALUMON EN (25重量%)に室温で36秒間浸
漬; (6)冷水リンス; (7)温風乾燥
【0056】図6は上記従来の亜鉛酸処理工程を使用し
た結果の亜鉛酸処理表面を示す。
た結果の亜鉛酸処理表面を示す。
【0057】図7はステップ(5)の亜鉛酸溶液にIE
A1重量%添加した以外は図6で使用されたものと同様
の工程のものである。図に於ける亜鉛酸被覆の差は、亜
鉛酸溶液に本発明の添加剤を使用した時に亜鉛酸処理さ
れた表面が平滑性において有益な効果を示していること
を明確に表わしている。
A1重量%添加した以外は図6で使用されたものと同様
の工程のものである。図に於ける亜鉛酸被覆の差は、亜
鉛酸溶液に本発明の添加剤を使用した時に亜鉛酸処理さ
れた表面が平滑性において有益な効果を示していること
を明確に表わしている。
【0058】ここに記載されているいくつかの特徴の様
々な変更や修飾は本発明の精神や観点を逸脱しない限り
為されてもかまわないものであり、従って、本発明は本
明細書記載の内容には制限されないものである
々な変更や修飾は本発明の精神や観点を逸脱しない限り
為されてもかまわないものであり、従って、本発明は本
明細書記載の内容には制限されないものである
【図1】異なった2重亜鉛酸処理工程を使用したメッキ
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
【図2】異なった2重亜鉛酸処理工程を使用したメッキ
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
【図3】異なった2重亜鉛酸処理工程を使用したメッキ
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
【図4】異なった2重亜鉛酸処理工程を使用したメッキ
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
【図5】異なった2重亜鉛酸処理工程を使用したメッキ
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
によって調整された無電解ニッケルメッキアルミニウム
基質の1000倍の顕微鏡写真である。
【図6】従来の亜鉛酸浴を使用し調整した亜鉛酸処理さ
れたアルミニウムの表面の写真である。
れたアルミニウムの表面の写真である。
【図7】本発明の亜鉛酸浴を使用し調整した亜鉛酸処理
されたアルミニウムの表面の写真である。
されたアルミニウムの表面の写真である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年6月1日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 上記式において、Zは少なくとも2つの窒素原子を含む
5あるいは6員環を有するヘテロ環状化合物を完成する
のに必要な原子団を示す。Rは無しあるいはアルキル化
試薬のアルキル基を示す。XはCl、BrあるいはIを
示し、 n>1である。 (b)亜鉛酸処理されたアルミニウム基質を無電解ある
いは電解金属メッキ浴を使用してメッキする、ことを特
徴とする方法。
5あるいは6員環を有するヘテロ環状化合物を完成する
のに必要な原子団を示す。Rは無しあるいはアルキル化
試薬のアルキル基を示す。XはCl、BrあるいはIを
示し、 n>1である。 (b)亜鉛酸処理されたアルミニウム基質を無電解ある
いは電解金属メッキ浴を使用してメッキする、ことを特
徴とする方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ビンセント・パネッカシオ・ジュニア アメリカ合衆国06443 コネチカット州、 マジソン、ビルチ・ロード 14 (72)発明者 パトリシア・エー・カッシアトーレ アメリカ合衆国06779 モンタナ州、オー クビル、メイソン・アベニュー 39
Claims (15)
- 【請求項1】 アルミニウム基質上への平滑な金属被覆
をメッキするための方法で、 (a)有効な量の化1で示される添加剤を含む亜鉛酸浴
を使用してアルミニウム上に亜鉛酸被覆を適用し、 【化1】 (b)亜鉛酸処理されたアルミニウム基質を無電解ある
いは電解金属メッキ浴を使用してメッキする、ことを特
徴とする方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の方法であって、Zがイ
ミダゾール環を形成する原子団であることを特徴とする
方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載の方法であって、R2 が
無いことを特徴とする方法。 - 【請求項4】 請求項1に記載の方法であって、ヘテロ
環状化合物が、少なくとも2つの窒素原子を含む5ある
いは6員環のヘテロ環状化合物のモル当たり約0.5か
ら1.0モルのエピハロヒドリン化合物の反応によって
得られ、その後該ヘテロ環状化合物のモル当たり約0.
1から0.5モルの下記のようなアルキル化試薬でのア
ルキル化がなされるポリマーのアルキル化によって得ら
れる、浴可溶性カチオン性アルキル化縮合ポリマーで有
ることを特徴とする方法。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- (式においてR1 はエチル基あるいは2−ヒドロキシプ
ロピル基、R2 は1〜4炭素のアルキル基、XはCl、
Br、あるいはIを示す。) - 【請求項5】 請求項4に記載の方法であって、該添加
剤がイミダゾールとエピクロロヒドリンのポリマー反応
生成物であることを特徴とする方法。 - 【請求項6】 請求項5に記載の方法であって、該添加
剤が約0.1から5重量%の量であることを特徴とする
方法。 - 【請求項7】 請求項4に記載の方法であって、該添加
剤が3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルトリメチルア
ンモニウムクロリドでアルキル化されたエピクロロヒド
リンとイミダゾールのポリマー反応生成物で有ることを
特徴とする方法。 - 【請求項8】 請求項7に記載の方法であって、該添加
剤が約0.1から5重量%の量であることを特徴とする
方法。 - 【請求項9】 金属メッキの為のアルミニウムおよびア
ルミニウム合金を調整するための2重亜鉛酸処理工程
で、前処理の後のアルミニウムが亜鉛酸処理浴に浸漬さ
れ亜鉛酸処理され、それから亜鉛酸処理されたアルミニ
ウムが少なくとも亜鉛酸被覆の一部を剥離するために硝
酸浴に浸漬され、その後アルミニウムを亜鉛酸処理する
ために亜鉛酸浴に浸漬され、そして亜鉛酸被覆されたア
ルミニウムの金属メッキがなされる亜鉛酸処理工程にお
いて、いずれかのあるいは両方の亜鉛酸浴に、少なくと
も2つの窒素原子を含む5あるいは6員環のヘテロ環状
化合物のモル当たり約0.5から1.0モルのエピハロ
ヒドリン化合物の反応によって得られ、該ポリマーがそ
れから該ヘテロ環状化合物のモル当たり約0.1から
0.5モルの下記のようなアルキル化試薬でのアルキル
化がなされ得られる、浴可溶性カチオン性アルキル化縮
合ポリマーを含んでなる有効量の添加剤を含むことを特
徴とする方法。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- (式においてR1 はエチル基あるいは2−ヒドロキシプ
ロピル基、R2 は1〜4炭素のアルキル基、XはCl、
Br、あるいはIを示す。) - 【請求項10】 請求項9に記載の方法であって、該添
加剤がイミダゾールとエピクロロヒドリンのポリマー反
応生成物であることを特徴とする方法。 - 【請求項11】 請求項10に記載の方法であって、該
添加剤が3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルトリメチ
ルアンモニウムクロリドでアルキル化されたポリマー反
応生成物で有ることを特徴とする方法。 - 【請求項12】 請求項10に記載の方法であって、該
添加剤が約0.1から5重量%の量であることを特徴と
する方法。 - 【請求項13】 請求項11に記載の方法であって、該
添加剤が約0.1から5重量%の量であることを特徴と
する方法。 - 【請求項14】 アルカリ金属水酸化物、亜鉛イオン
源、およびの化2で示される添加剤を含んでなる亜鉛酸
処理浴。 【化2】 - 【請求項15】 請求項14に記載の方法であって、該
ヘテロ環状化合物が、少なくとも2つの窒素原子を含む
5あるいは6員環のヘテロ環状化合物のモル当たり約
0.5から1.0モルのエピハロヒドリン化合物の反応
によって得られ、その後該ヘテロ環状化合物のモル当た
り約0.1から0.5モルの下記のようなアルキル化試
薬でのアルキル化がなされるポリマーのアルキル化によ
って得られる、浴可溶性カチオン性アルキル化縮合ポリ
マーで有ることを特徴とする方法。 [X−R1 −N(R2 )3 ]+ ・X- (式においてR1 はエチル基あるいは2−ヒドロキシプ
ロピル基、R2 は1〜4炭素のアルキル基、XはCl、
Br、あるいはIを示す。)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100389258B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2003-06-25 | 학교법인 한양학원 | 초음파 교반을 수반한 실리콘 웨이퍼의 알루미늄 패드에 대한 징케이트 처리방법 |
JP2007521390A (ja) * | 2003-06-26 | 2007-08-02 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 水性で酸性の浸漬めっき溶液、およびアルミニウムまたはアルミニウム合金へのめっき方法 |
WO2018124116A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材及びその製造方法、並びにこの表面処理材を用いて作製した部品 |
WO2018124114A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
WO2018124115A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5435898A (en) * | 1994-10-25 | 1995-07-25 | Enthone-Omi Inc. | Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes |
US5578187A (en) * | 1995-10-19 | 1996-11-26 | Enthone-Omi, Inc. | Plating process for electroless nickel on zinc die castings |
DE19615201A1 (de) * | 1996-04-18 | 1997-10-23 | Univ Dresden Tech | Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen |
US6162343A (en) * | 1996-06-11 | 2000-12-19 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Method of preparing hard disc including treatment with amine-containing zincate solution |
DE19815220C2 (de) * | 1998-03-27 | 2003-12-18 | Univ Dresden Tech | Verfahren zur haftfesten und dichten chemischen oder galvanischen Metallisierung von Substraten sowie Haftvermittler zur Durchführung des Verfahrens |
US6143160A (en) * | 1998-09-18 | 2000-11-07 | Pavco, Inc. | Method for improving the macro throwing power for chloride zinc electroplating baths |
US6083834A (en) * | 1999-01-19 | 2000-07-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Zincate catalysis electroless metal deposition for via metal interconnection |
DE19914338A1 (de) * | 1999-03-30 | 2000-10-05 | Pac Tech Gmbh | Kontakthöcker mit Trägermetallisierung sowie Verfahren zur Herstellung der Trägermetallisierung |
DE10000972A1 (de) * | 2000-01-06 | 2001-07-26 | Siemens Ag | Gedruckte Leiterplatte mit einer wärmeableitenden Aluminiumplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US6689413B2 (en) | 2000-09-15 | 2004-02-10 | Seagate Technology Llc | Using plated surface for recording media without polishing |
US6790265B2 (en) * | 2002-10-07 | 2004-09-14 | Atotech Deutschland Gmbh | Aqueous alkaline zincate solutions and methods |
US20040149689A1 (en) * | 2002-12-03 | 2004-08-05 | Xiao-Shan Ning | Method for producing metal/ceramic bonding substrate |
US7704936B2 (en) * | 2005-07-15 | 2010-04-27 | Kobe Steel Ltd. | Methods and removers for removing anodized films |
US8691346B2 (en) * | 2008-05-09 | 2014-04-08 | Birchwood Laboratories, Inc. | Methods and compositions for coating aluminum substrates |
JP4605409B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2011-01-05 | 上村工業株式会社 | アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法 |
WO2010107822A2 (en) * | 2009-03-16 | 2010-09-23 | University Of Massachusetts | Methods for the fabrication of nanostructures |
US8859479B2 (en) | 2011-08-26 | 2014-10-14 | United Technologies Corporation | Chemical stripping composition and method |
JP5590008B2 (ja) * | 2011-11-14 | 2014-09-17 | 日本軽金属株式会社 | 燃料電池用集電板及びその製造方法 |
CN102732922B (zh) * | 2012-06-13 | 2015-07-08 | 广州鸿葳科技股份有限公司 | 无氰浸锌溶液及使用该溶液的滤波器铝合金无氰电镀方法 |
US10125425B2 (en) | 2013-07-01 | 2018-11-13 | General Electric Company | Method for smut removal during stripping of coating |
US20160108254A1 (en) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | Meltex Inc. | Zinc immersion coating solutions, double-zincate method, method of forming a metal plating film, and semiconductor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6025514A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-08 | Eruma Kogaku Kk | 脱気装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3216835A (en) * | 1960-10-06 | 1965-11-09 | Enthone | Synergistic chelate combinations in dilute immersion zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys |
US3738818A (en) * | 1971-06-03 | 1973-06-12 | Control Data Corp | High recording density magnetic media with square b-h loop |
US3954575A (en) * | 1972-11-10 | 1976-05-04 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc electroplating |
JPS5332771B2 (ja) * | 1973-12-10 | 1978-09-09 | ||
US3972789A (en) * | 1975-02-10 | 1976-08-03 | The Richardson Company | Alkaline bright zinc plating and additive composition therefore |
US4150172A (en) * | 1977-05-26 | 1979-04-17 | Kolk Jr Anthony J | Method for producing a square loop magnetic media for very high density recording |
DE2740592C2 (de) * | 1977-09-09 | 1981-11-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Galvanisches Zinkbad |
US4169771A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-02 | Oxy Metal Industries Corporation | Ductile bright zinc electroplating bath and process and additive therefor |
US4166778A (en) * | 1978-05-17 | 1979-09-04 | Simeon Acimovic | Cyanide-free alkaline zinc baths |
US4169772A (en) * | 1978-11-06 | 1979-10-02 | R. O. Hull & Company, Inc. | Acid zinc plating baths, compositions useful therein, and methods for electrodepositing bright zinc deposits |
US4346128A (en) * | 1980-03-31 | 1982-08-24 | The Boeing Company | Tank process for plating aluminum substrates including porous aluminum castings |
US4397717A (en) * | 1981-02-10 | 1983-08-09 | Elektro-Brite Gmbh & Co. Kg. | Alkaline zinc electroplating bath with or without cyanide content |
US4366036A (en) * | 1981-09-08 | 1982-12-28 | Occidental Chemical Corporation | Additive and alkaline zinc electroplating bath and process using same |
ZA833074B (en) * | 1983-05-06 | 1984-01-31 | Alcan Int Ltd | Zincating aluminium |
US4536261A (en) * | 1984-08-07 | 1985-08-20 | Francine Popescu | Alkaline bath for the electrodeposition of bright zinc |
US4792383A (en) * | 1987-10-27 | 1988-12-20 | Mcgean-Rohco, Inc. | Polymer compositions and alkaline zinc electroplating baths and processes |
JPH02141596A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Yuken Kogyo Kk | ジンケート型亜鉛合金メッキ浴 |
ES2027496A6 (es) * | 1989-10-12 | 1992-06-01 | Enthone | Metodo para precipitar una capa metalica no electrica lisa sobre un substrato de aluminio. |
-
1991
- 1991-02-04 US US07/650,149 patent/US5182006A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-01-28 CA CA002060121A patent/CA2060121A1/en not_active Abandoned
- 1992-01-29 IT ITTO920063A patent/IT1256790B/it active IP Right Grant
- 1992-01-29 DE DE4202409A patent/DE4202409C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-30 FR FR9201033A patent/FR2672306B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-03 GB GB9202269A patent/GB2252334B/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-04 JP JP4047692A patent/JPH06128757A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6025514A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-08 | Eruma Kogaku Kk | 脱気装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100389258B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2003-06-25 | 학교법인 한양학원 | 초음파 교반을 수반한 실리콘 웨이퍼의 알루미늄 패드에 대한 징케이트 처리방법 |
JP2007521390A (ja) * | 2003-06-26 | 2007-08-02 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 水性で酸性の浸漬めっき溶液、およびアルミニウムまたはアルミニウム合金へのめっき方法 |
JP4714684B2 (ja) * | 2003-06-26 | 2011-06-29 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 水性で酸性の浸漬めっき溶液、およびアルミニウムまたはアルミニウム合金へのめっき方法 |
WO2018124116A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材及びその製造方法、並びにこの表面処理材を用いて作製した部品 |
WO2018124114A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
WO2018124115A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
JPWO2018124114A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-12-27 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
JPWO2018124116A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-12-27 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材及びその製造方法、並びにこの表面処理材を用いて作製した部品 |
JPWO2018124115A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2019-01-10 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 |
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Publication number | Publication date |
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GB2252334B (en) | 1995-05-03 |
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FR2672306A1 (fr) | 1992-08-07 |
CA2060121A1 (en) | 1992-08-05 |
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