DE19615201A1 - Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen - Google Patents
Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren MetalloberflächenInfo
- Publication number
- DE19615201A1 DE19615201A1 DE1996115201 DE19615201A DE19615201A1 DE 19615201 A1 DE19615201 A1 DE 19615201A1 DE 1996115201 DE1996115201 DE 1996115201 DE 19615201 A DE19615201 A DE 19615201A DE 19615201 A1 DE19615201 A1 DE 19615201A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- intermediate layer
- base metal
- metal surface
- layer
- monomers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1803—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
- C23C18/1824—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
- C23C18/1837—Multistep pretreatment
- C23C18/1844—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Metallisierung von
chemisch nicht oder nur schwer plattierbaren Metalloberflächen,
wie zum Beispiel Aluminium und seinen Legierungen.
Anwendungsfälle sind die Ankontaktierung von Schaltungen an
starren und flexiblen Trägern in Elektrotechnik und Elektronik,
die Herstellung elektrisch leitender Bestandteile in
Schaltungen sowie der Korrosionsschutz und Beschichtungen für
dekorative Zwecke.
Bei der Plattierung von unedlen Metallen wie Aluminium und
seinen Legierungen treten aufgrund der Schnelligkeit, mit der an
der Oberfläche eine Oxidschicht ausgebildet wird, wenn diese der
Luft ausgesetzt sind, Probleme auf. Folglich müssen
Spezialbehandlungen durchgeführt werden. Diese Verfahren
umfassen chemische Ätzbehandlungen mit Säuren, die Eisen- oder
Nickelsalze enthalten oder Behandlungen mit alkalischen
Verdrängungslösungen. Ein anderes Verfahren ist die Anodisierung
mit Säuren, wie Phosphor-, Schwefel- oder Chromsäure und die
Elektroplattierung mit Zink bei niedrigen Stromdichten für
einige Sekunden. Von diesen Behandlungen ist die Verwendung von
alkalischen Lösungen kommerziell gesehen die erfolgreichste. Es
können viele Metalle, beispielsweise Zink durch Verdrängung auf
Aluminium abgeschieden werden. Ein solches Verfahren ist als
Zinkatprozeß bekannt. Eine Reihe von Verbesserungen in bezug auf
den Zinkatprozeß mit dem Ziel der Beschleunigung der Filmbildung
und der Verbesserung der Haftfestigkeit sowie der
Gleichmäßigkeit des Zinküberzuges wurden in den letzten Jahren
durchgeführt. Derartige Zinkatprozesse sind in den Patenten DE
40 32 232 A1 und DE 42 02 409 A1 beschrieben. Die
Aluminiumoberfläche wird dabei durch alkalisches Reinigen und
unter Umständen durch einen zusätzlichen Anätzprozeß
vorbereitet. Der Zinküberzug wird nach einer intensiven
Wasserspülung erhalten, indem die Aluminiumoberfläche in eine
alkalische Lösung getaucht wird, die Zinkionen erhält. Die Menge
des abgeschiedenen Zinks ist von der Vorbehandlung, der Zeit und
Zusammensetzung des Tauchbades und dessen Temperatur abhängig.
Das Grundverfahren, das von der Industrie bevorzugt durchgeführt
wird, besteht in einer Zinkat-Doppelbehandlung. Der erste
Zinkfilm wird dabei durch Verwendung von Salpetersäure wieder
abgelöst und anschließend erfolgt eine zweite
Zink-Tauchabscheidung.
Trotz der Akzeptanz und der Wirksamkeit des Zinkatprozesses
besteht vor allem ein Bedarf an Verfahren, die einerseits nicht
an Aluminium als Substrat gebunden sind und damit universell für
eine Vielzahl von unedlen Metall und Metallegierungen einsetzbar
sind und andererseits an einer Technologie folge mit der nicht
nur das unedle Metall haftest sondern gleichzeitig auch andere
organische Substrate beschichtet werden können.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
anzugeben, mit dem universell unedle Metalle plattiert werden
können unter Berücksichtigung dessen, daß dieses Verfahren
grundsätzlich auch zur gleichzeitigen Beschichtung von Polymeren
und Polymerverbunden eingesetzt werden kann.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit den Verfahrensmerkmalen des
Anspruchs 1 gelöst.
Das Verfahren beruht darauf, daß auf einer organischen
elektrisch leitfähigen Schicht, die auf der unedlen
Metalloberfläche chemisch abgeschieden wird, die galvanische
oder chemisch außenstromlose Beschichtung erfolgt. Zur Erzeugung
dieser Schicht wird die unter Umständen vorbehandelte
Metalloberfläche in ein oxidierend wirkendes Bad getaucht,
danach gespült und mit einer organischen Monomerlösung behandelt
und anschließend in ein saures Medium getaucht. Die
Metallisierung beispielsweise mit Kupfer, Nickel oder Gold
erfolgt dann durch übliche Metallisierungsverfahren.
Dabei wurde überraschend gefunden, daß auf einer unedlen
Metalloberfläche wie Aluminium eine haftfeste Schicht durch
Reduktion beispielsweise von Kaliumpermanganat Manganoxid
erzeugt werden kann.
Die durch Reduktion erhaltene Schicht besitzt oxidierende
Wirkung. Diese Wirkung kann ausgenutzt werden, um durch
Polymerisation im sauren Medium von heterocyclischen
Monomerlösungen, bestehend beispielsweise aus Thiophen, Pyrrol,
Furan und deren Derivaten, Schichten von elektrisch leitfähigen
Polymeren zu erzeugen.
Es wurde weiterhin festgestellt, daß eine galvanische
Abscheidung auf den so erhaltenen Schichten vorgenommen werden
kann. Somit ergibt sich die Möglichkeit, gleichzeitig unedle
Metalle und Polymere bzw. Polymerverbunde nach der beschriebenen
Vorbehandlung galvanisch oder chemisch außenstromlos zu
metallisieren.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens ergeben sich aus den
Unteransprüchen 2 bis 11.
Der besondere Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht
darin, daß durch die Art der Vorbehandlung die galvanische oder
chemisch außenstromlose Beschichtung gleichzeitig auf einer
unedlen Metalloberfläche und einer Polymerschicht erfolgen kann.
Daraus ergeben sich vorteilhafte Anwendungen bei der
Ankontaktierung von Schaltungen, bei der Herstellung elektrisch
leitender Bestandteile in Schaltungen sowie im Korrosionsschutz
und in der Beschichtungstechnik.
Das Verfahren wird nachfolgend an mehreren Ausführungsbeispielen
näher erläutert.
Aluminiumoberflächen wurden nach folgenden Prozeßschritten
galvanisch mit Kupfer beschichtet (nach jedem Schritt erfolgte
eine Spülung mit kaltem Wasser mit Ausnahme nach den
Prozeßschritten 5 und 7):
- 1. 20 Sekunden tauchen der Metalloberfläche in Aceton bei Raumtemperatur zur Entfernung von organischen Verunreinigungen;
- 2. 20 Sekunden tauchen in Ammoniumpersulfatlösung bei Raumtemperatur zur Reinigung der Metalloberfläche;
- 3. 20 Sekunden tauchen in 10%ige Natriumhydroxidlösung bei Raumtemperatur zum Anätzen der Metalloberfläche;
- 4. 5 Minuten tauchen in eine wäßrige Kaliumpermanganatlösung (63,12 g/l) mit einen pH-Wert von 12,19 und einer Temperatur von 25°C bis 10 Minuten zur Abscheidung der oxidierend wirkenden Zwischenschicht (Braunstein);
- 5. 2 Minuten tauchen in eine wäßrig/organische Pyrrollösung (11,0 Vol%) mit einen organischen Lösungsmittelanteil (31,4 Vol%) zur Benetzung der Oberfläche mit dem Monomer,
- 6. 2 Minuten tauchen in Schwefelsäure (100 g/l) zur oxidativen Polymerisation und damit zur Erzeugung der leitfähigen Schicht;
- 7. Trocknen mit Heißluft;
- 8. 10 Minuten galvanische Kupferbeschichtung bei einem Potential von -250 mV gegen SCE aus einem zusatzfreien Sulfatelektrolyten;
- 9. Trocknen mit Heißluft.
Die Prozeßschritte 1 bis 4 aus Beispiel 1 wurden beibehalten.
- 5. 2 Minuten tauchen in eine organische 3,4-Ethylen dioxithiophenlösung (1,0 Vol%) zur Benetzung der Oberfläche mit dem Monomer,
- 6. 2 Minuten tauchen in eine organische Polysäure (2,5 Vol%) zur oxidativen Polymerisation und damit zur Erzeugung der leitfähigen Schicht;
- 7. Trocknen mit Heißluft;
- 8. 10 Minuten galvanische Kupferbeschichtung bei einem Potential von -250 mV gegen SCE aus einem zusatzfreien Sulfatelektrolyten
- 9. Trocknen mit Heißluft.
Die Prozeßschritte 1 bis 9 des Beispiels 1 mit Ausnahme von 3
mit und ohne Spülung zwischen den Prozeßschritten 2 und 4 wurden
wiederholt.
Die Prozeßschritte 1 bis 9 des Beispiels 2 mit Ausnahme von 3
mit und ohne Spülung zwischen den Prozeßschritten 2 und 4 wurden
wiederholt.
Die Prozeßschritte 1 bis 9 des Beispiels 1 bei gleichzeitiger
Anwesenheit von Polyimid- und Epoxidharzkleberschichten.
Die Prozeßschritte 1 bis 9 des Beispiels 2 bei gleichzeitiger
Anwesenheit von Polyimid- und Epoxidharzkleberschichten.
Claims (11)
1. Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer
plattierbaren Metalloberflächen unter Zuhilfenahme von
galvanischen oder chemisch außenstromlosen
Metallisierungsverfahren,
dadurch gekennzeichnet, daß auf einer unedlen Metalloberfläche
eine Zwischenschicht durch Behandlung mit einem höherwertigen
Oxidationsmittel erzeugt und anschließend diese Schicht mit
organischen Monomeren umgesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
gleichzeitig auf einer unedlen Metalloberfläche und einer
Oberfläche aus organischen Materialien, wie Polymeren und
Polymerverbunden, eine Zwischenschicht durch Behandlung mit
einem höherwertigen Oxidationsmittel erzeugt und anschließend
die Zwischenschicht mit organischen Monomeren umgesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die unedlen Metalloberflächen Schichten aus Aluminium, Zink,
Titan oder ähnlichen Metallen sind.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Abscheidung selektiv auf der unedlen Metalloberfläche
bei Anwesenheit von edlen Metallen wie Kupfer und Gold erfolgt.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Metalloberfläche mit Natron-, Kalilauge oder anderen
Basen im Konzentrationsbereich von 0 bis 50% alkalisch oder mit
Säuren vorbehandelt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Zwischenschicht durch Reduktion einer
Kaliumpermanganatlösung der Konzentrationen von 5 bis 90 g/l bei
Reaktionstemperaturen zwischen 10 und 100°C und Reaktionszeiten
von 5 Sekunden bis 60 Minuten erzeugt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Zwischenschicht durch Behandlung mit weiteren
Oxidationsmitteln erzeugt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß eine elektrisch leitfähige Polymerschicht, der allgemeinen
Formel
- a) worin Z Sauerstoff, eine Stickstoff/Wasserstoff-Bindung oder Schwefel ist oder eine Gruppe von Atomen zur Vervollständigung der heterocyclischen Verbindung mit einem 5-gliedrigem Ring,
- b) R1 und/oder R2 unbesetzt, eine Alkyl-, Alkoxy, Carbonsäure- oder Estergruppe oder
- c) eine Ether oder Dietherbrücke zwischen R1 und R2 ist, erzeugt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
elektrisch leitfähige Polymerschicht einen elektrischen Kontakt
zum unedlen Metall herstellt.
10. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die durch Umsetzung der Zwischenschicht polymerisierten
Monomere durch eine galvanische Abscheidung metallisiert werden.
11. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die durch Umsetzung der Zwischenschicht polymerisierten
Monomere durch eine chemische außenstromlose Beschichtung
metallisiert werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996115201 DE19615201A1 (de) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996115201 DE19615201A1 (de) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19615201A1 true DE19615201A1 (de) | 1997-10-23 |
Family
ID=7791555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1996115201 Withdrawn DE19615201A1 (de) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19615201A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19815220A1 (de) * | 1998-03-27 | 1999-09-30 | Univ Dresden Tech | Verfahren zur haftfesten und dichten Metallisierung von chemisch oder galvanisch nicht oder nur schwer plattierbaren Oberflächen sowie Haftvermittler zur Durchführung des Verfahrens |
DE102012208334B4 (de) * | 2011-05-23 | 2015-03-05 | GM Global Technology Operations LLC (n. d. Gesetzen des Staates Delaware) | Verfahren zum verbinden eines metalls mit einem substrat |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0206133A1 (de) * | 1985-06-12 | 1986-12-30 | BASF Aktiengesellschaft | Verwendung von Polypyrrol zur Abscheidung von metallischem Kupfer auf elektrisch nichtleitende Materialen |
DE3931003A1 (de) * | 1989-09-14 | 1991-03-28 | Schering Ag | Verfahren zur direkten metallisierung von leiterplatten |
DE4032232A1 (de) * | 1989-10-12 | 1991-04-18 | Enthone | Verfahren zur herstellung von aluminium-plattenspeichern mit glatten, metallplattierten oberflaechen |
DE4202409A1 (de) * | 1991-02-04 | 1992-08-06 | Enthone Omi Inc | Verbesserte zinkatloesungen zur behandlung von aluminium und aluminiumlegierungen |
DE4227836A1 (de) * | 1992-08-20 | 1994-05-05 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur Metallisierung von Nichtleitern und die Verwendung einer sauren Lösung |
-
1996
- 1996-04-18 DE DE1996115201 patent/DE19615201A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0206133A1 (de) * | 1985-06-12 | 1986-12-30 | BASF Aktiengesellschaft | Verwendung von Polypyrrol zur Abscheidung von metallischem Kupfer auf elektrisch nichtleitende Materialen |
DE3931003A1 (de) * | 1989-09-14 | 1991-03-28 | Schering Ag | Verfahren zur direkten metallisierung von leiterplatten |
DE4032232A1 (de) * | 1989-10-12 | 1991-04-18 | Enthone | Verfahren zur herstellung von aluminium-plattenspeichern mit glatten, metallplattierten oberflaechen |
DE4202409A1 (de) * | 1991-02-04 | 1992-08-06 | Enthone Omi Inc | Verbesserte zinkatloesungen zur behandlung von aluminium und aluminiumlegierungen |
DE4227836A1 (de) * | 1992-08-20 | 1994-05-05 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur Metallisierung von Nichtleitern und die Verwendung einer sauren Lösung |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19815220A1 (de) * | 1998-03-27 | 1999-09-30 | Univ Dresden Tech | Verfahren zur haftfesten und dichten Metallisierung von chemisch oder galvanisch nicht oder nur schwer plattierbaren Oberflächen sowie Haftvermittler zur Durchführung des Verfahrens |
DE19815220C2 (de) * | 1998-03-27 | 2003-12-18 | Univ Dresden Tech | Verfahren zur haftfesten und dichten chemischen oder galvanischen Metallisierung von Substraten sowie Haftvermittler zur Durchführung des Verfahrens |
DE102012208334B4 (de) * | 2011-05-23 | 2015-03-05 | GM Global Technology Operations LLC (n. d. Gesetzen des Staates Delaware) | Verfahren zum verbinden eines metalls mit einem substrat |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2610470C3 (de) | Verfahren zur stromlosen Abscheidung von Kupferschichten | |
DE3016132C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gegen Hitzeschockeinwirkung widerstandsfähigen gedruckten Schaltungen | |
DE3110415C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Leiterplatten | |
DE3116743A1 (de) | "verfahren zum vorbehandeln eines nicht leitfaehigen substrats fuer nachfolgendes galvanisieren" | |
EP0656025B1 (de) | Lösung zur beschichtung von nichtleitern mit leitfähigen polymeren und verfahren zu deren metallisierung | |
WO1991003920A2 (de) | Durchkontaktierte leiterplatte mit resist sowie verfahren zur herstellung derselben | |
EP1870491B1 (de) | Verbessertes Verfahren zur Direktmetallisierung von elektrisch nicht leitfähigen Substratoberflächen, insbesondere Polyimidoberflächen | |
DE102005051632A1 (de) | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen | |
DE3741459C1 (de) | Verfahren zur Herstellung durchkontaktierter Leiterplatten | |
EP0213542B1 (de) | Konditionierungsmittel für die Behandlung von Basismaterialien | |
DD283580A5 (de) | Verfahren zur herstellung von durchkontaktierten ein- oder mehrlagigen leiterplatten und durchkontaktieren ein-oder mehrlagige leiterplatte | |
EP0283771A1 (de) | Verfahren zur haftfesten Metallisierung von Kunststoffen | |
DE19815220C2 (de) | Verfahren zur haftfesten und dichten chemischen oder galvanischen Metallisierung von Substraten sowie Haftvermittler zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0324189A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Leiterplatten | |
EP0502023A1 (de) | Metallisierung von nichtleitern | |
DE19615201A1 (de) | Verfahren zur Metallisierung von chemisch nicht oder schwer plattierbaren Metalloberflächen | |
DE1690224B1 (de) | Bad fuer die stromlose verkupferung von kunststoffplatten | |
EP0183925B1 (de) | Verfahren zum An- und Abätzen von Kunststoffschichten in Bohrungen von Basismaterial für Leiterplatten | |
DE2512339A1 (de) | Verfahren zur erzeugung einer haftenden metallschicht auf einem gegenstand aus aluminium, magnesium oder einer legierung auf aluminium- und/oder magnesiumbasis | |
DE19502988B4 (de) | Verfahren zur galvanischen Beschichtung von Polymeroberflächen | |
DE3347194C2 (de) | Verfahren zur mehrstufigen, stromlosen Verkupferung von Leiterplatten | |
EP0581823B1 (de) | Mittel zur selektiven ausbildung einer dünnen oxidierenden schicht | |
DE3345353A1 (de) | Verfahren und metallisierung einer keramikoberflaeche | |
WO1992019091A1 (de) | Verfahren zur metallisierung von nichtleitern, insbesondere leiterplatten, und die verwendung von stickstoffhaltigen quartärsalzen in dem verfahren | |
DE2351672A1 (de) | Verfahren zum verbinden einer metallschicht mit einer kunststoffunterlage und dadurch hergestellte schichtstoffe |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8130 | Withdrawal |