JPH0612413B2 - 感光性転写材料 - Google Patents
感光性転写材料Info
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- JPH0612413B2 JPH0612413B2 JP58168533A JP16853383A JPH0612413B2 JP H0612413 B2 JPH0612413 B2 JP H0612413B2 JP 58168533 A JP58168533 A JP 58168533A JP 16853383 A JP16853383 A JP 16853383A JP H0612413 B2 JPH0612413 B2 JP H0612413B2
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- JP
- Japan
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- layer
- temporary support
- support film
- photosensitive layer
- photosensitive
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/115—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
- G03F7/346—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away using photosensitive materials other than non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、可撓性の一時的支持フィルムと熱可塑性感光
層よりなる感光性転写材料に関する。
層よりなる感光性転写材料に関する。
前記した種類の転写法及び転写材料は、例えば西ドイツ
国特許第1522515号明細書又は米国特許第4193797号明細
書中に記載されている。これらの特許明細書の記載によ
れば、ネガ型又はポジ型の熱可塑性感光層は、乾燥状態
で圧力下又は加熱下で不変の支持体に転写されかつフォ
トレジストステンシルに処理され、次に不変の支持体
は、ステンシルによって被覆されてない部分が変性、例
えば腐蝕又は電気メッキされている。
国特許第1522515号明細書又は米国特許第4193797号明細
書中に記載されている。これらの特許明細書の記載によ
れば、ネガ型又はポジ型の熱可塑性感光層は、乾燥状態
で圧力下又は加熱下で不変の支持体に転写されかつフォ
トレジストステンシルに処理され、次に不変の支持体
は、ステンシルによって被覆されてない部分が変性、例
えば腐蝕又は電気メッキされている。
英国特許第1323792号明細書及び米国特許第3884693号明
細書中には、相当する材料が記載されており、この場合
には、非熱可塑性中間層が感光層と一時的支持体との間
に塗布されている。この非熱可塑性中間層は、感光層を
処理するために使用される現像液に溶解することがで
き、一時的支持体に対するよりも感光層に対して大きい
密着性を有する。該材料は、感光層を不変の支持体に積
層し、次に一時的支持体を中間層から剥離することによ
って処理される。この処理の後にのみ、材料はオリジナ
ルの下で接触露光され、次いで現像される。好ましい中
間層は、水溶性であるので、それは、大気湿度に応じて
空気中で膨潤する傾向にあり、正確な露光を著しく困難
にするか又はむしろ不可能にする不規則な構造を有する
表面を形成する。
細書中には、相当する材料が記載されており、この場合
には、非熱可塑性中間層が感光層と一時的支持体との間
に塗布されている。この非熱可塑性中間層は、感光層を
処理するために使用される現像液に溶解することがで
き、一時的支持体に対するよりも感光層に対して大きい
密着性を有する。該材料は、感光層を不変の支持体に積
層し、次に一時的支持体を中間層から剥離することによ
って処理される。この処理の後にのみ、材料はオリジナ
ルの下で接触露光され、次いで現像される。好ましい中
間層は、水溶性であるので、それは、大気湿度に応じて
空気中で膨潤する傾向にあり、正確な露光を著しく困難
にするか又はむしろ不可能にする不規則な構造を有する
表面を形成する。
米国特許第4278752号明細書には、ドライレジスト法に
よるはんだんレジストマスクの製造が開示されている。
この明細書中で前記の使用の場合にも一時的支持フィル
ムを剥離した後に残るレジスト層の高光沢面は、幾つか
の場合に不利であることが判明した。特別なはんだメッ
キ条件下で、はんだメッキ合金の糸又はペレットは、ウ
エーブ−はんだメッキ後にはんだレジストマスクの表面
に密着することが起こり、場合によっては短絡を導きう
る。付加的に、光沢面は、特に成分を手により装入する
場合に支障のある反射を生起させる。
よるはんだんレジストマスクの製造が開示されている。
この明細書中で前記の使用の場合にも一時的支持フィル
ムを剥離した後に残るレジスト層の高光沢面は、幾つか
の場合に不利であることが判明した。特別なはんだメッ
キ条件下で、はんだメッキ合金の糸又はペレットは、ウ
エーブ−はんだメッキ後にはんだレジストマスクの表面
に密着することが起こり、場合によっては短絡を導きう
る。付加的に、光沢面は、特に成分を手により装入する
場合に支障のある反射を生起させる。
ドライレジストの場合、銅面に比して著しく減少した反
射を有する無光沢のレジスト表面は、現像した印刷回路
板を光学装置によって検査することを可能にする。
射を有する無光沢のレジスト表面は、現像した印刷回路
板を光学装置によって検査することを可能にする。
米国特許第3891443号明細書には、光重合可能なレリー
フ印刷板が記載されており、この場合この光重合可能な
層の表面は、真空型枠中でのオリジナルと光重合可能な
層との接触を改善しかつ促進するため及びフレキソ印刷
においてインキ受理性を改善するために艶消しされてい
る。表面の艶消仕上は、例えば表面は艶消面又は粒状
面、例えば粗面化されたアルミニウムシート又は粗面化
されたポリエステルフィルムと接触させることによって
行なうことができ；この方法の場合、艶消仕上面は、そ
の後に必要とされる層からの除去を可能にするためにシ
リコーンで被覆されている。感光性印刷板の処理は、ド
ライレジスト材料の処理とは著しく異なり、感光性印刷
板の処理の場合に感光層の表面を艶消仕上することによ
って達成される目的は、前記のようにはんだレジストマ
スク又はレジストステンシルへのドライレジストの処理
に包含される問題とは区別される。
フ印刷板が記載されており、この場合この光重合可能な
層の表面は、真空型枠中でのオリジナルと光重合可能な
層との接触を改善しかつ促進するため及びフレキソ印刷
においてインキ受理性を改善するために艶消しされてい
る。表面の艶消仕上は、例えば表面は艶消面又は粒状
面、例えば粗面化されたアルミニウムシート又は粗面化
されたポリエステルフィルムと接触させることによって
行なうことができ；この方法の場合、艶消仕上面は、そ
の後に必要とされる層からの除去を可能にするためにシ
リコーンで被覆されている。感光性印刷板の処理は、ド
ライレジスト材料の処理とは著しく異なり、感光性印刷
板の処理の場合に感光層の表面を艶消仕上することによ
って達成される目的は、前記のようにはんだレジストマ
スク又はレジストステンシルへのドライレジストの処理
に包含される問題とは区別される。
本発明の目的は、湿潤空気中で水溶性又は膨潤可能であ
る中間層を使用する場合に露光下で問題を起こさずかつ
一時的支持フィルムを剥離した後に高光沢の層表面を示
さない転写材料を得ることである。
る中間層を使用する場合に露光下で問題を起こさずかつ
一時的支持フィルムを剥離した後に高光沢の層表面を示
さない転写材料を得ることである。
本発明によれば、前記種類の感光性転写材料が得られ
る。
る。
本発明による材料の場合、一時的支持フィルムは、感光
層に面する粗面を有する。
層に面する粗面を有する。
フォトレジストステンシルを製造する場合には、可撓性
の一時的支持フィルムに塗布された可塑性感光層をその
自由表面により不変の支持体に積層し、次に感光層を画
像に応じて露光し、可撓性の一時的支持フィルムを剥離
した後にレリーフ画像に現像する。
の一時的支持フィルムに塗布された可塑性感光層をその
自由表面により不変の支持体に積層し、次に感光層を画
像に応じて露光し、可撓性の一時的支持フィルムを剥離
した後にレリーフ画像に現像する。
本発明によれば、この方法の場合には、透明な一時的支
持フィルムが使用され、この場合感光層を有する表面
は、荒く、この感光層は、一時的支持フィルムを剥離す
る前に一時的支持フィルムを通して露光される。更に、
一時的支持フィルム、約１５０℃までの温度に加熱する
際に粘着性にならない薄い中間層及び該中間層の上面に
塗布された熱可塑性感光層から構成された転写材料（こ
の場合、該中間層は、一時的支持フィルムに対するより
も感光層に対して堅固に密着しかつ感光層に使用される
現像液に可溶である）は、感光層の自由表面により不変
の支持体に積層され、一時的支持フィルムは、剥離さ
れ、感光層は、画像に応じて露光され、かつレリーフ画
像に現像される。
持フィルムが使用され、この場合感光層を有する表面
は、荒く、この感光層は、一時的支持フィルムを剥離す
る前に一時的支持フィルムを通して露光される。更に、
一時的支持フィルム、約１５０℃までの温度に加熱する
際に粘着性にならない薄い中間層及び該中間層の上面に
塗布された熱可塑性感光層から構成された転写材料（こ
の場合、該中間層は、一時的支持フィルムに対するより
も感光層に対して堅固に密着しかつ感光層に使用される
現像液に可溶である）は、感光層の自由表面により不変
の支持体に積層され、一時的支持フィルムは、剥離さ
れ、感光層は、画像に応じて露光され、かつレリーフ画
像に現像される。
この方法の場合には、中間層及び感光層が存在する粗面
を有する一時的支持フィルムが使用される。
を有する一時的支持フィルムが使用される。
一時的支持フィルムから背反する、本発明による転写材
料の表面は、一時的支持フィルムに対する密着性よりも
少ない感光層に対する密着性を有する被膜を有するのが
好ましい。
料の表面は、一時的支持フィルムに対する密着性よりも
少ない感光層に対する密着性を有する被膜を有するのが
好ましい。
一時的支持フィルムの粗面は、機械的に粗面化するこ
と、例えばサンドブラストをかけること又は微細粒子を
埋封することによって得ることができる。好ましいフィ
ルムは、その質量中に均一に分配された、例えば二酸化
珪素、タルク、酸化マグネシウム、窒化硼素、酸化アル
ミニウム又は高融点の不溶性有機物質の粒子を有する。
粒子の量は、フィルムの重量に対して約0.５〜６重量％
の範囲にあるのが好ましい。一時的支持フィルムの荒さ
は、一般に0.３〜１０μの範囲内、有利に0.５〜５μの
範囲内になければならない。この所定の範囲の上部範囲
の荒さは、厚い感光層に対して選択され、その下部範囲
の荒さは、殊に比較的に薄い中間層が存在する場合に薄
い感光層に対して選択される。
と、例えばサンドブラストをかけること又は微細粒子を
埋封することによって得ることができる。好ましいフィ
ルムは、その質量中に均一に分配された、例えば二酸化
珪素、タルク、酸化マグネシウム、窒化硼素、酸化アル
ミニウム又は高融点の不溶性有機物質の粒子を有する。
粒子の量は、フィルムの重量に対して約0.５〜６重量％
の範囲にあるのが好ましい。一時的支持フィルムの荒さ
は、一般に0.３〜１０μの範囲内、有利に0.５〜５μの
範囲内になければならない。この所定の範囲の上部範囲
の荒さは、厚い感光層に対して選択され、その下部範囲
の荒さは、殊に比較的に薄い中間層が存在する場合に薄
い感光層に対して選択される。
フィルム表面の荒さを粒子をフィルム中に埋封すること
によって得る場合には、粒径は、平均で所望の荒さより
も僅かに大きい寸法であり；粒径は、例えば所望の荒さ
の1.５〜2.５倍に達することができる。
によって得る場合には、粒径は、平均で所望の荒さより
も僅かに大きい寸法であり；粒径は、例えば所望の荒さ
の1.５〜2.５倍に達することができる。
一時的支持フィルムは、中間層を使用しないような場合
に透明でなければならない。更に、透明度が実質的に影
響を受けないような場合には、埋封した粒子の量及び屈
折率を選択する必要がある。この目的のために、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムと二酸化珪素粒子との組
合せは、特に好ましいことが証明された。一般に、フィ
ルムは、米国特許第3884693号明細書に記載の材料より
なることができる。
に透明でなければならない。更に、透明度が実質的に影
響を受けないような場合には、埋封した粒子の量及び屈
折率を選択する必要がある。この目的のために、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムと二酸化珪素粒子との組
合せは、特に好ましいことが証明された。一般に、フィ
ルムは、米国特許第3884693号明細書に記載の材料より
なることができる。
米国特許第3884693号明細書中にも、中間層を製造する
のに適当な材料が記載されている。好ましい物質は、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及び
アクリルアミド重合体である。中間層は、約0.０５〜８
μ、有利に１〜５μの範囲の厚さを有する。
のに適当な材料が記載されている。好ましい物質は、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及び
アクリルアミド重合体である。中間層は、約0.０５〜８
μ、有利に１〜５μの範囲の厚さを有する。
感光層の少量の少なくとも１つの成分を中間層に添加す
ることは、特に有利であることができる。このような添
加は、感光層に対する密着性及び一時的支持フィルムか
らの分離に関して好ましい効果を有する。この実施態様
は、感光層は光重合可能な層よりなる場合及び中間層に
添加した層成分が第１に重合可能な化合物である場合に
特に有用であることが証明された。
ることは、特に有利であることができる。このような添
加は、感光層に対する密着性及び一時的支持フィルムか
らの分離に関して好ましい効果を有する。この実施態様
は、感光層は光重合可能な層よりなる場合及び中間層に
添加した層成分が第１に重合可能な化合物である場合に
特に有用であることが証明された。
感光層は、ポジ型又はネガ型の層よりなることができ
る。すなわちそれは、可溶化されているか又は露光によ
って硬化されている。通常、一般に重合可能な化合物、
特に少なくとも２個のアクリル酸エステル基又はメタク
リル酸エステル基を有する化合物、フリーラジカルによ
り開始される鎖重合に対する光重合開始剤、高分子量結
合剤及び他の常用の添加剤から構成された、光重合可能
な層は、好ましいものである。
る。すなわちそれは、可溶化されているか又は露光によ
って硬化されている。通常、一般に重合可能な化合物、
特に少なくとも２個のアクリル酸エステル基又はメタク
リル酸エステル基を有する化合物、フリーラジカルによ
り開始される鎖重合に対する光重合開始剤、高分子量結
合剤及び他の常用の添加剤から構成された、光重合可能
な層は、好ましいものである。
この種の層及び他のネガ型の層は、例えば西ドイツ国特
許第1522515号明細書、米国特許第3884693号明細書、米
国特許第4278752号明細書及び西ドイツ国特許公開公報
第3036694号中に記載されている。
許第1522515号明細書、米国特許第3884693号明細書、米
国特許第4278752号明細書及び西ドイツ国特許公開公報
第3036694号中に記載されている。
適当なポジ型層は、殊に１，２−キノンジアジド又は酸
分解可能な化合物をベースにしたものである。この種の
層は、米国特許第4193797号明細書、同第4101323号明細
書及び同第4247611号明細書中に記載されている。
分解可能な化合物をベースにしたものである。この種の
層は、米国特許第4193797号明細書、同第4101323号明細
書及び同第4247611号明細書中に記載されている。
感光層の自由な側は、一時的支持フィルムに対するより
も感光層に対して少ない密着性を有する被膜、例えばポ
リエチレンフィルムで被覆するのが好ましい。
も感光層に対して少ない密着性を有する被膜、例えばポ
リエチレンフィルムで被覆するのが好ましい。
本発明による材料は、存在する表面被膜を除去し、熱可
塑性感光層の被覆されてない表面又は自由な表面を、有
利に圧力下及び加熱下で、不変の支持体、有利に回路板
又は銅被覆基材にそれぞれ積層するような方法で処理さ
れる。一時的支持フィルムと感光層との間に中間層が存
在する場合には、露光は、その後に一時的支持フィルム
を通して行なわれ、一時的支持フィルムは、剥離され、
かつ露光した感光層は、現像される。はんだレジストマ
スクの場合には、現像に続いて熱処理が行なわれる。レ
ジストステンシルの表面は、その無光沢の外観により、
被覆されてない銅表面とは容易に目で見て区別され、し
たがってコピーの評価は簡易化される。その後のはんだ
メッキ処理の場合、はんだレジストマスクの艶消面は、
意外なことに、はんだ、例えば鉛−錫合金から形成され
た糸又はペレットを有しないままである。
塑性感光層の被覆されてない表面又は自由な表面を、有
利に圧力下及び加熱下で、不変の支持体、有利に回路板
又は銅被覆基材にそれぞれ積層するような方法で処理さ
れる。一時的支持フィルムと感光層との間に中間層が存
在する場合には、露光は、その後に一時的支持フィルム
を通して行なわれ、一時的支持フィルムは、剥離され、
かつ露光した感光層は、現像される。はんだレジストマ
スクの場合には、現像に続いて熱処理が行なわれる。レ
ジストステンシルの表面は、その無光沢の外観により、
被覆されてない銅表面とは容易に目で見て区別され、し
たがってコピーの評価は簡易化される。その後のはんだ
メッキ処理の場合、はんだレジストマスクの艶消面は、
意外なことに、はんだ、例えば鉛−錫合金から形成され
た糸又はペレットを有しないままである。
常用のフォトレジストステンシルの場合には、現像に続
いて被覆されてないベースの金属を腐蝕するか又はその
ベースの金属上に普通に電気メッキ法で金属を蒸着す
る。
いて被覆されてないベースの金属を腐蝕するか又はその
ベースの金属上に普通に電気メッキ法で金属を蒸着す
る。
中間層を一時的支持フィルムと感光層との間に有する材
料を処理する場合、一時的支持フィルムは、積層処理後
に剥離され、次にオリジナルは、一時的支持フィルムの
粗面によって刻印された中間層の上に置かれる。刻印効
果の結果として梨地構造を有するか又は艶消されている
中間層は、それが湿潤空気中で長時間保持される場合で
あっても不規則な膨潤又は歪み現象の傾向を全く示さ
ず、したがって完全な接触印刷が可能である。
料を処理する場合、一時的支持フィルムは、積層処理後
に剥離され、次にオリジナルは、一時的支持フィルムの
粗面によって刻印された中間層の上に置かれる。刻印効
果の結果として梨地構造を有するか又は艶消されている
中間層は、それが湿潤空気中で長時間保持される場合で
あっても不規則な膨潤又は歪み現象の傾向を全く示さ
ず、したがって完全な接触印刷が可能である。
感光層が光重合可能な混合物よりなり、それ故に大気酸
素に対して敏感である場合、塗布された中間層は一時的
支持フィルムの表面荒さよりも薄くないことを配慮しな
ければならない。さもなければ、同時に酸素遮断層とし
て役立つこの層は、場所により中断され、その保護機能
を失なうという危険が存在する。一般に、層厚がフィル
ムの最大荒さよりも僅かだけ、ほぼ十分の数μだけ大き
い場合に連続的なポリビニルアルコール層を得ることが
なお可能である。
素に対して敏感である場合、塗布された中間層は一時的
支持フィルムの表面荒さよりも薄くないことを配慮しな
ければならない。さもなければ、同時に酸素遮断層とし
て役立つこの層は、場所により中断され、その保護機能
を失なうという危険が存在する。一般に、層厚がフィル
ムの最大荒さよりも僅かだけ、ほぼ十分の数μだけ大き
い場合に連続的なポリビニルアルコール層を得ることが
なお可能である。
本発明による材料は、工業界で知られているように常用
の印刷用電燈によって供給される短波長の可視光線又は
紫外線を使用して透明なオリジナルの下で接触露光され
る。レーザーの照射によって層に像を形成することもで
きる。本発明により光線の必要量の減少、すなわち有効
な感光性の増大をも生じることは、特に好ましい。
の印刷用電燈によって供給される短波長の可視光線又は
紫外線を使用して透明なオリジナルの下で接触露光され
る。レーザーの照射によって層に像を形成することもで
きる。本発明により光線の必要量の減少、すなわち有効
な感光性の増大をも生じることは、特に好ましい。
次に、本発明の好ましい実施態様を実施例につき記載す
る。百分率及び量比は、別記しない限り重量単位に関連
するものである。重量部（p.b.w.）と容量部（p.b.v.）
との比は、ｇ対cm3である。
る。百分率及び量比は、別記しない限り重量単位に関連
するものである。重量部（p.b.w.）と容量部（p.b.v.）
との比は、ｇ対cm3である。
例１ 塗布溶液を、 平均分子量約35000及び酸価１９５を有する、ｎ−ヘキ
シルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（６
０：３０：１０）から形成された三元共重合体 １
３重量部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
4.４重量部、 グリシジルメタクリレート、アジピン酸及びトリレンジ
イソシアネートとポリブタン−１，４−ジオールとの反
応によって得られたオリゴマーのジイソシアネートから
なるエラストマーの反応生成物（西ドイツ国特許公開公
報第3036694号、参照） 1.６重量部、 ヘキサメトキシメチルメラミン １重量部、 ９−フエニルアクリジン 0.２重量部、 ２，４−ジニトロ−６−クロルベンゼンジアゾニウム塩
を２−メトキシ−５−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリンとカップリングすることによって得られた青
色アゾ染料 0.０１重量部、 ならびに ブタノン ３０重量部及び エタノール 5.０重量部中の １，４−ビス−（４−第三ブトキシ−ブエニルアミノ）
−５，８−ジヒドロキシアントラキノン 0.０３重
量部 から得た。
シルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（６
０：３０：１０）から形成された三元共重合体 １
３重量部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
4.４重量部、 グリシジルメタクリレート、アジピン酸及びトリレンジ
イソシアネートとポリブタン−１，４−ジオールとの反
応によって得られたオリゴマーのジイソシアネートから
なるエラストマーの反応生成物（西ドイツ国特許公開公
報第3036694号、参照） 1.６重量部、 ヘキサメトキシメチルメラミン １重量部、 ９−フエニルアクリジン 0.２重量部、 ２，４−ジニトロ−６−クロルベンゼンジアゾニウム塩
を２−メトキシ−５−アセチルアミノ−Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアニリンとカップリングすることによって得られた青
色アゾ染料 0.０１重量部、 ならびに ブタノン ３０重量部及び エタノール 5.０重量部中の １，４−ビス−（４−第三ブトキシ−ブエニルアミノ）
−５，８−ジヒドロキシアントラキノン 0.０３重
量部 から得た。
厚さ２３μのポリエチレンテレフタレートフィルムの幅
１１０cmのウエブ（この場合、１つのフィルムは平滑で
あり、他のものは平均粒径１μを有する多孔質の二酸化
珪素が埋封されている）をスロットダイを用いてこの溶
液で連続的に塗布した。レジスト層は、乾燥部を通過し
た後にそのつど厚さ１００μを有し、次に厚さ２５μの
ポリプロピレンフィルムで被覆された。こうして得られ
たドライレジストフィルムをスリッターを使用して切断
し、幅４５cm及びウエブ長さ５０ｍを有する扱い易いレ
ジストロールに巻取った。
１１０cmのウエブ（この場合、１つのフィルムは平滑で
あり、他のものは平均粒径１μを有する多孔質の二酸化
珪素が埋封されている）をスロットダイを用いてこの溶
液で連続的に塗布した。レジスト層は、乾燥部を通過し
た後にそのつど厚さ１００μを有し、次に厚さ２５μの
ポリプロピレンフィルムで被覆された。こうして得られ
たドライレジストフィルムをスリッターを使用して切断
し、幅４５cm及びウエブ長さ５０ｍを有する扱い易いレ
ジストロールに巻取った。
積層試験を、錫メッキ表面及びメッキスルーホールを有
する銅の厚さ約６５μの導電路を装備したエポキシ−ガ
ラス繊維積層品の試験板を使用して実施した。導電路の
幅及び距離は、２００〜１０００μの範囲内にあり、メ
ッキスルーホールは、0.６〜４mmの範囲の直径を有し
た。
する銅の厚さ約６５μの導電路を装備したエポキシ−ガ
ラス繊維積層品の試験板を使用して実施した。導電路の
幅及び距離は、２００〜１０００μの範囲内にあり、メ
ッキスルーホールは、0.６〜４mmの範囲の直径を有し
た。
表面被膜のポリプロピレンフィルムを剥離した厚さ１０
０μのレジスト層を有するドライレジストフィルムを市
販の貼合せ機を使用して１２０℃でこの板に積層した。
０μのレジスト層を有するドライレジストフィルムを市
販の貼合せ機を使用して１２０℃でこの板に積層した。
次に、この板を5KWの金属ハロゲン化物灯を有する市販
の露光装置中ではんだメッキすべきパッド及びホールを
覆うオリジナルを通して25秒間露光し、支持フィルムを
剥離し、次にこの板を市販の噴霧処理装置中で１５０秒
間濃度0.８％強のソーダ溶液で現像し、吹付乾燥した。
こうして得られた印刷回路板をその後に乾燥炉中で１５
０℃で６０分間ベーキングした。冷却後、この板を融
剤、アルファ・グリロ（Alpha Grillo）社のTL３３−１
６、で湿らせ、次にそれを市販の鉛−錫ウエーブ−はん
だメッキ浴に２５０℃で運搬速度1.０ｍ／minで通過さ
せた。
の露光装置中ではんだメッキすべきパッド及びホールを
覆うオリジナルを通して25秒間露光し、支持フィルムを
剥離し、次にこの板を市販の噴霧処理装置中で１５０秒
間濃度0.８％強のソーダ溶液で現像し、吹付乾燥した。
こうして得られた印刷回路板をその後に乾燥炉中で１５
０℃で６０分間ベーキングした。冷却後、この板を融
剤、アルファ・グリロ（Alpha Grillo）社のTL３３−１
６、で湿らせ、次にそれを市販の鉛−錫ウエーブ−はん
だメッキ浴に２５０℃で運搬速度1.０ｍ／minで通過さ
せた。
前記の艶消仕上はんだレジストマスクで被覆した印刷回
路板をはんだメッキ後及び清浄化後に完全に清浄にし
た。
路板をはんだメッキ後及び清浄化後に完全に清浄にし
た。
平滑なポリエステルフィルムから転移されたはんだレジ
スト層の場合には、特別のはんだメッキ条件下（例え
ば、溶剤の膜が十分に乾燥した場合）ではんだレジスト
マスクに密着するペレット状または糸状の不要なはんだ
によって惹起された欠陥を生じ、清浄化処理した場合で
あっても除去することができなかった。このような欠陥
は、短絡をまねき、印刷回路板は、使用不可能になる。
はんだメッキの鉛−錫粒子が光沢面、すなわち平らな面
に対するよりも艶消仕上レジスト表面、すなわち粗面化
レジスト表面に対しては僅かしか付着しないことは明白
である。
スト層の場合には、特別のはんだメッキ条件下（例え
ば、溶剤の膜が十分に乾燥した場合）ではんだレジスト
マスクに密着するペレット状または糸状の不要なはんだ
によって惹起された欠陥を生じ、清浄化処理した場合で
あっても除去することができなかった。このような欠陥
は、短絡をまねき、印刷回路板は、使用不可能になる。
はんだメッキの鉛−錫粒子が光沢面、すなわち平らな面
に対するよりも艶消仕上レジスト表面、すなわち粗面化
レジスト表面に対しては僅かしか付着しないことは明白
である。
例２ 塗布溶液を例１の記載と同様に得、この場合には、ポリ
エチレングリコール−４００−ジメタクリレートを次の
単量体に代えた。
エチレングリコール−４００−ジメタクリレートを次の
単量体に代えた。
a)２，２，４−トリメチル−ヘキサメチレン−ジイソシ
アネート及びヒドロキシエチルメタクリレートの反応生
成物、 b)トリエチレンググリコール，２，２，４−トリメチル
−ヘキサメチレン−ジイソシアネート及びヒドロキシエ
チルメタクリレートの反応生成物、 c)２，２−ビス−〔４−（２−アクリロイルオキシ−プ
ロポキシ）フエニル〕−プロパン。
アネート及びヒドロキシエチルメタクリレートの反応生
成物、 b)トリエチレンググリコール，２，２，４−トリメチル
−ヘキサメチレン−ジイソシアネート及びヒドロキシエ
チルメタクリレートの反応生成物、 c)２，２−ビス−〔４−（２−アクリロイルオキシ−プ
ロポキシ）フエニル〕−プロパン。
例１の記載と同様に、溶液を平滑なポリエステルフィル
ム及びシリカゲルを埋封したポリエステルフィルムに塗
布し、乾燥後にポリプロピレンフィルムをこの層に積層
した。ドライレジストフィルムを例１の記載と同様に処
理した。
ム及びシリカゲルを埋封したポリエステルフィルムに塗
布し、乾燥後にポリプロピレンフィルムをこの層に積層
した。ドライレジストフィルムを例１の記載と同様に処
理した。
本例の場合、鉛−錫残分は、はんだメッキ後にはレジス
トマスクの艶消面に全く付着せず、むしろ光沢面で不利
な条件下で残分を付着することが起こることが再び判明
した。
トマスクの艶消面に全く付着せず、むしろ光沢面で不利
な条件下で残分を付着することが起こることが再び判明
した。
例３ A.感光層を製造するための溶液は、次の組成を有した： 平均分子量約35000及び酸価１９５を有する、ｎ−ヘキ
シルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（６
０：３０：１０）から形成された三元共重合体 6.
５重量部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
3.２重量部、 例１の記載のエラストマー 0.８重量部、 ９−フエニルアクリジン 0.１重量部、 ２，４−ジニトロ−６−クロルベンゼンジアゾニウム塩
を２−メトキシ−５−アセチルアミノ−Ｎ−シアノエチ
ル−Ｎ−ヒドロキシエチル−アニリンとカップリングす
ることによって得られたアゾ染料 0.０３５重量
部、 メチルエチルケトン １０重量部及び エタノール １重量部。
シルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（６
０：３０：１０）から形成された三元共重合体 6.
５重量部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
3.２重量部、 例１の記載のエラストマー 0.８重量部、 ９−フエニルアクリジン 0.１重量部、 ２，４−ジニトロ−６−クロルベンゼンジアゾニウム塩
を２−メトキシ−５−アセチルアミノ−Ｎ−シアノエチ
ル−Ｎ−ヒドロキシエチル−アニリンとカップリングす
ることによって得られたアゾ染料 0.０３５重量
部、 メチルエチルケトン １０重量部及び エタノール １重量部。
B.中間層を製造するための溶液は、次の組成を有した： ７％強のポリビニルアルコール水溶液 ２００重量
部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
１重量部、 クリスタルバイオレット 0.００２重量部。
部、 ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート
１重量部、 クリスタルバイオレット 0.００２重量部。
C.厚さ２５μを有しかつポリビニルアルコールの厚さ約
１μの中間層が設けられた、二軸延伸したヒートセット
ポリエチレンテレフタレートフィルムを、溶液Ｂを使用
して、層重量４０ｇ／m3が１００℃で乾燥した後に得ら
れるような方法で塗布溶液Ａで回転塗布した。
１μの中間層が設けられた、二軸延伸したヒートセット
ポリエチレンテレフタレートフィルムを、溶液Ｂを使用
して、層重量４０ｇ／m3が１００℃で乾燥した後に得ら
れるような方法で塗布溶液Ａで回転塗布した。
D.処理Ｃを繰り返したが、平均粒径１μを有する多孔質
の二酸化珪素約1.５重量％を添加することにより生じる
粗面を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを使
用してそれを繰り返した。
の二酸化珪素約1.５重量％を添加することにより生じる
粗面を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを使
用してそれを繰り返した。
市販の貼合せ機を、１２０℃でＣ及びＤにより得られた
ドライレジストフィルムを厚さ17.5μの銅箔で被覆した
ガラス繊維強化エポキシ積層品に積層するために使用し
た。室温への冷却後、ポリエステルフィルムを剥離し
た。
ドライレジストフィルムを厚さ17.5μの銅箔で被覆した
ガラス繊維強化エポキシ積層品に積層するために使用し
た。室温への冷却後、ポリエステルフィルムを剥離し
た。
表面状態を観察し、時間と大気湿度の１つの関数として
記録した： 例４ ドライレジストフィルムを工業規模で製造するために、
次の方法を実施した： 例３Ｄの記載と同様に粗面を有しかつポリビニルアルコ
ールで前塗布された厚さ２５μのポリエステルフィルム
の幅１００cmのウエブを、スロットダイを使用して例３
Ａに記載の組成物の溶液で連続的に塗布した。乾燥部を
通過した後、レジスト層は、厚さ３８μを有し、ポリプ
ロピレンフィルムで被覆された。こうして得られてドラ
イレジストフィルムを大型ロールで貯蔵した。この大型
ロールをその後にスリッターを用いて切断し、幅４５cm
及びウエブ長さ５０ｍを有する取扱い易いレジストロー
ルに巻取った。最適な巻取張力に調節することによっ
て、ロールを層ごとに支持芯上に均一に配置し、かつ横
方向にすべらない、すなわち竹の子状にならないことが
保証された。
記録した： 例４ ドライレジストフィルムを工業規模で製造するために、
次の方法を実施した： 例３Ｄの記載と同様に粗面を有しかつポリビニルアルコ
ールで前塗布された厚さ２５μのポリエステルフィルム
の幅１００cmのウエブを、スロットダイを使用して例３
Ａに記載の組成物の溶液で連続的に塗布した。乾燥部を
通過した後、レジスト層は、厚さ３８μを有し、ポリプ
ロピレンフィルムで被覆された。こうして得られてドラ
イレジストフィルムを大型ロールで貯蔵した。この大型
ロールをその後にスリッターを用いて切断し、幅４５cm
及びウエブ長さ５０ｍを有する取扱い易いレジストロー
ルに巻取った。最適な巻取張力に調節することによっ
て、ロールを層ごとに支持芯上に均一に配置し、かつ横
方向にすべらない、すなわち竹の子状にならないことが
保証された。
比較のために、レジストロールを同じ塗布溶液を用いて
製造したが、しかし使用したポリエステルフィルムは、
艶消仕上げがなされず、ポリビニルアルコールの中間層
は設けられなかった。
製造したが、しかし使用したポリエステルフィルムは、
艶消仕上げがなされず、ポリビニルアルコールの中間層
は設けられなかった。
得られたフィルムを、市販の貼合せ機を使用して厚さ1
7.5μの銅箔で被覆したガラス繊維強化エポキシ積層品
に１２０℃で積層し、次にポリビニルアルコール中間層
の場合、一時的支持フィルムを剥離した後に市販の露光
装置（出力5KW）中で露光した。使用したオリジナル
は、６０μにまで減少する線幅及び線距離を有する線オ
リジナルであった。
7.5μの銅箔で被覆したガラス繊維強化エポキシ積層品
に１２０℃で積層し、次にポリビニルアルコール中間層
の場合、一時的支持フィルムを剥離した後に市販の露光
装置（出力5KW）中で露光した。使用したオリジナル
は、６０μにまで減少する線幅及び線距離を有する線オ
リジナルであった。
露光後、レジスト層を噴霧処理装置中で６０秒間濃度0.
８％の炭酸ナトリウム溶液で現像した。
８％の炭酸ナトリウム溶液で現像した。
この板を水道水で３０秒間洗浄し、ペルオキシ二硫酸ア
ンモニウムの１５％強溶液中で３０秒間前腐蝕し、次に
銅電解浴、シュレッター（Schloetter、Geislingen/Stei
ge(Federal Republic of Germany）在）社の型“グラン
ックップフエル−バ−ト（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂ
ａｄ）”、中で６０分間電気メッキした。
ンモニウムの１５％強溶液中で３０秒間前腐蝕し、次に
銅電解浴、シュレッター（Schloetter、Geislingen/Stei
ge(Federal Republic of Germany）在）社の型“グラン
ックップフエル−バ−ト（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂ
ａｄ）”、中で６０分間電気メッキした。
電流密度：2.５Ａ／dm2 金属構成：約３０μ 次表には、オリジナルとして役立つ段階楔の楔段階によ
り測定された２つのレジスト材料の感光性と、３つの異
なるオリジナル幅に対して電気メッキによって蒸着され
た銅導電路の幅とが記載されている。
り測定された２つのレジスト材料の感光性と、３つの異
なるオリジナル幅に対して電気メッキによって蒸着され
た銅導電路の幅とが記載されている。
例５ 例４に記載のドライレジストフィルムを厚さ１7.５μの
銅箔で被覆した２５×１６cmのガラス繊維強化エポキシ
積層品に１２０℃で積層した。１０分間の貯蔵後、一時
的支持フィルムを剥離した。この板を、アルゴンイオン
レーザーを装備した、市販のレーザー照射装置（LASERI
TE 地１５０Ｒ、American hoechst CorporationのEoco
m Division製造）で１５０mW及び1200線．2.５４cm（４
mJ，cm2に相当）で照射した。この方法の場合、レーゼ
ライト（LASERITE）装置を中間接続されるコンピュータ
ーと結合し、したがって回路パターンを非物質的オリジ
ナルによりレジスト層上に得た。非物質的画像は、２０
０μ〜７０μの範囲の線幅及び線距離を得るために、種
々の角位置で直線及び曲線を包含した。照射後、この板
を濃度0.８％の炭酸ナトリウム溶液中で現像した。
銅箔で被覆した２５×１６cmのガラス繊維強化エポキシ
積層品に１２０℃で積層した。１０分間の貯蔵後、一時
的支持フィルムを剥離した。この板を、アルゴンイオン
レーザーを装備した、市販のレーザー照射装置（LASERI
TE 地１５０Ｒ、American hoechst CorporationのEoco
m Division製造）で１５０mW及び1200線．2.５４cm（４
mJ，cm2に相当）で照射した。この方法の場合、レーゼ
ライト（LASERITE）装置を中間接続されるコンピュータ
ーと結合し、したがって回路パターンを非物質的オリジ
ナルによりレジスト層上に得た。非物質的画像は、２０
０μ〜７０μの範囲の線幅及び線距離を得るために、種
々の角位置で直線及び曲線を包含した。照射後、この板
を濃度0.８％の炭酸ナトリウム溶液中で現像した。
導電路でのレジスト側面は、鮮明な輪郭を有した。レジ
ストステンシルは、貯蔵される導電路の位置及び形状と
は無関係に非物質的オリジナルの正確な複写であった。
ストステンシルは、貯蔵される導電路の位置及び形状と
は無関係に非物質的オリジナルの正確な複写であった。
ベーキングしたレジストステンシルは、電気メッキ浴に
対して著しく良好な抵抗性を示し、したがって板は、例
えば例４の記載の銅メッキ浴、“グランックップフエル
−バ−ド（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂａｄ）”、中で
欠陥のない堅固に密着する銅導電路を設けることができ
た。
対して著しく良好な抵抗性を示し、したがって板は、例
えば例４の記載の銅メッキ浴、“グランックップフエル
−バ−ド（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂａｄ）”、中で
欠陥のない堅固に密着する銅導電路を設けることができ
た。
例６ ポジ型のドライレジスト材料を製造するために、次の塗
布溶液を得た： A.感光層： エチレングリコールモノメチルエーテル 34.５重
量部、 ブタノン 21.０重量部、 ＤＩＮ ５３１８１の毛管法により測定された軟化範囲
１０５℃〜１２０℃を有するクレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック 27.５重量部、 ポリエチレングリコール（分子量2000） 5.４重量
部、 ２−エチル−ブチルアルデヒド及びトリエチレングリコ
ールから形成されたポリアセタール 9.７重量部、 ２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビ
ス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン 0.３重量
部、 シリコーンをベースとする市販の塗布助剤 1.９重
量部、及び クリスタルバイオレット塩基 0.０２重量部。
布溶液を得た： A.感光層： エチレングリコールモノメチルエーテル 34.５重
量部、 ブタノン 21.０重量部、 ＤＩＮ ５３１８１の毛管法により測定された軟化範囲
１０５℃〜１２０℃を有するクレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック 27.５重量部、 ポリエチレングリコール（分子量2000） 5.４重量
部、 ２−エチル−ブチルアルデヒド及びトリエチレングリコ
ールから形成されたポリアセタール 9.７重量部、 ２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビ
ス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン 0.３重量
部、 シリコーンをベースとする市販の塗布助剤 1.９重
量部、及び クリスタルバイオレット塩基 0.０２重量部。
B.中間層： 濃度７％のポリビニルアルコール水溶液 ２００重
量部及び ポリエチレングリコール（分子量2000） １重量
部。
量部及び ポリエチレングリコール（分子量2000） １重量
部。
溶液Ｂを、厚さ1.４〜1.８μのポリビニルアルコール層
を平均粒径１μの熱分解法二酸化珪素1.５重量％を含有
する、粗面を有する二軸延伸したヒートセットポリエチ
レンテレフタレートフィルムに塗布するためにこの層の
上面で使用し、塗布溶液Ａを、９０℃〜１１０℃での乾
燥後に層重量４５ｇ／m2が得られるような方法で回転塗
布した。
を平均粒径１μの熱分解法二酸化珪素1.５重量％を含有
する、粗面を有する二軸延伸したヒートセットポリエチ
レンテレフタレートフィルムに塗布するためにこの層の
上面で使用し、塗布溶液Ａを、９０℃〜１１０℃での乾
燥後に層重量４５ｇ／m2が得られるような方法で回転塗
布した。
こうして得られたドライレジストフィルムを１１０℃で
市販の貼合せ機を用いて厚さ17.5μの銅箔で被覆したガ
ラス繊維強化エポキシ積層品に積層した。１０分間の冷
却後、ポリエステルフィルムは、困難なしに剥離するこ
とができた。ポリビニルアルコール層の梨地仕上面は、
相対湿度７０％及び２５℃で室内で２時間よりも長時間
貯蔵した後であっても不変であった。
市販の貼合せ機を用いて厚さ17.5μの銅箔で被覆したガ
ラス繊維強化エポキシ積層品に積層した。１０分間の冷
却後、ポリエステルフィルムは、困難なしに剥離するこ
とができた。ポリビニルアルコール層の梨地仕上面は、
相対湿度７０％及び２５℃で室内で２時間よりも長時間
貯蔵した後であっても不変であった。
塗布した板を普通の方法でオリジナルの下で露光し、濃
度3.５％強の燐酸三ナトリウム溶液で現像した。被覆さ
れてない銅導電路を鉄−III−クロリド溶液で腐蝕し、
その際得られる回路パターンは垂直な側面を有した。
度3.５％強の燐酸三ナトリウム溶液で現像した。被覆さ
れてない銅導電路を鉄−III−クロリド溶液で腐蝕し、
その際得られる回路パターンは垂直な側面を有した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘルガ・ジコラ ドイツ連邦共和国ヴイ−スバ−デン・ブン ゼンシユトラ−セ６エフ (56)参考文献 特開 昭49−99021（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−42629（ＪＰ，Ａ) 特公 昭50−19961（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (6)
- 【請求項１】可撓性の一時的支持フィルムと熱可塑性感
光層よりなる感光性転写材料において、該感光層に面す
る一時的支持フィルムの表面が荒いことを特徴とする、
感光性転写材料。 - 【請求項２】一時的支持フィルムが透明である、特許請
求の範囲第１項記載の感光性転写材料。 - 【請求項３】一時的支持フィルムの平均表面荒さが０．
５〜５μの範囲内にある、特許請求の範囲第１項記載の
感光性転写材料。 - 【請求項４】感光層が光重合可能な層よりなる、特許請
求の範囲第１項記載の感光性転写材料。 - 【請求項５】一時的支持フィルムから背反する感光層の
表面が一時的支持フィルムに対する密着性よりも少ない
該層に対する密着性を有する被膜で被覆されている、特
許請求の範囲第１項記載の感光性転写材料。 - 【請求項６】感光層と一時的支持フィルムとの間に、二
時的支持フィルムに対するよりも感光層に対して堅固に
密着し、１５０℃までの温度に加熱する際に粘着性にな
らず、かつ感光層に使用される現像液に可溶である薄い
中間層が設けられている、特許請求の範囲第１項記載の
感光性転写材料。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3236560.8 | 1982-10-02 | ||
| DE32365608 | 1982-10-02 | ||
| DE19823236560 DE3236560A1 (de) | 1982-10-02 | 1982-10-02 | Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5975245A JPS5975245A (ja) | 1984-04-27 |
| JPH0612413B2 true JPH0612413B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=6174792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58168533A Expired - Lifetime JPH0612413B2 (ja) | 1982-10-02 | 1983-09-14 | 感光性転写材料 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4559292A (ja) |
| EP (1) | EP0105421B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0612413B2 (ja) |
| KR (1) | KR910004874B1 (ja) |
| AT (1) | ATE35060T1 (ja) |
| AU (1) | AU558773B2 (ja) |
| CA (1) | CA1242100A (ja) |
| DE (2) | DE3236560A1 (ja) |
| ES (1) | ES526181A0 (ja) |
| FI (1) | FI74156C (ja) |
| IL (1) | IL69876A (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59181342A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 剥離現像方法 |
| US4587199A (en) * | 1983-07-11 | 1986-05-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Controlled roughening of a photosensitive composition |
| JPS61169829A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| US4719169A (en) * | 1986-04-18 | 1988-01-12 | Hoechst Celanese Corporation | Protective coating for images |
| JPH0623845B2 (ja) * | 1986-06-23 | 1994-03-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性受像シート材料及び画像転写方法 |
| JPH07101309B2 (ja) * | 1987-05-29 | 1995-11-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性転写材料 |
| US5213945A (en) * | 1988-02-26 | 1993-05-25 | Morton International, Inc. | Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like |
| JPH07107603B2 (ja) * | 1988-10-07 | 1995-11-15 | 曙フォトマスク株式会社 | スクリーン印刷用スクリーン及びその製造方法 |
| JPH0345548U (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-26 | ||
| DE3931467A1 (de) * | 1989-09-21 | 1991-04-04 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske |
| JP2613990B2 (ja) * | 1990-08-01 | 1997-05-28 | 矢崎総業株式会社 | 分岐回路構成体 |
| EP0471483A1 (en) * | 1990-08-03 | 1992-02-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface reforming method, process for production of printing plate, printing plate and printing process |
| JPH0580503A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性転写材料及び画像形成方法 |
| DE4243912A1 (de) * | 1992-04-09 | 1993-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben |
| US5391458A (en) * | 1992-12-18 | 1995-02-21 | Morton International, Inc. | Photoresist processing for improved resolution having a bake step to remove the tackiness of the laminated photosensitive layer prior to contact imagewise exposure |
| TW475098B (en) * | 1995-10-27 | 2002-02-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same |
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