JP2001013681A - 感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密
着性及びレジストパターンの平坦性が極めて優れ、マウ
スバイトの数が少ない感光性エレメント、レジストパタ
ーン及びプリント配線板の製造法を提供する。 【解決手段】 二軸配向ポリエステルフィルムの一方の
面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルム
の前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の
層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントにおいて、前
記感光性樹脂組成物の層の波長３６５nmの紫外線に対す
る透過率が５〜７５％である感光性エレメント、この感
光性エレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成
物の層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状
に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により
除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性エレメン
ト、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリン
ト配線板の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板の製造、金属の精
密加工等の分野において、エッチング、めっき等に用い
られるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物及び感
光性エレメントが広く用いられている。感光性エレメン
トは、通常光透過性の支持フィルム、感光性樹脂組成物
の層、保護フィルムの３層から成り、使用方法として
は、まず保護フィルムをはく離した後、感光性樹脂層が
直接触れるよう圧着（ラミネート）し、光透過性フィル
ム上にパターニングされたネガフィルムを密着し、活性
光線（紫外線を用いることが多い）を照射（露光）し、
次いで有機溶剤又はアルカリ水溶液を噴霧し不要部分を
除去することでレジストパターンを形成（現像）する方
法が一般的である。特に、環境問題などの面から、現像
液としてはアルカリ水溶液を用いるものが求められてい
る。

【０００３】近年、電子機器の小型、軽量化が推進され
ており、プリント配線板も回路の微細化が求められてお
り、レジストパターンも細線化され、感光性エレメント
の高解像度化が求められている。しかし、従来の３層構
造から成る感光性エレメントでは要求を満足できなくな
っている。即ち、光透過性支持体フィルムを介して露光
するため高解像度化にはそのフィルム厚みをなるべく薄
くする必要があるが、一方感光性樹脂組成物を塗布する
際の支持体としての役目をはたすにはある程度の自己保
持性が要求され、一般に１５〜２５μｍ程度の厚みが必
要となり、従来グレードの光透過性支持体フィルムを用
いたのでは高解像度化の要求にこたえることができない
のが現状である。

【０００４】これらの要求に対して、高解像度化を達成
するため様々な試みがなされている。例えば、露光前に
支持フィルムをはがし、感光性樹脂組成物の層の上に直
接ネガフィルムを密着させる方法である。通常、感光性
樹脂組成物の層は、基材に密着するようある程度粘着性
を保持しており、この方法を直接適用すると、ネガフィ
ルムと感光性樹脂組成物の層が密着してしまい、ネガフ
ィルムをはがしにくく作業性が低下したり、ネガフィル
ムを感光性樹脂が汚染したり、空気阻害のため感度が低
下したりする等の問題があった。そこでこの方法を改良
する試みとして、特開昭６１−３１８５５号公報、特開
平１−２２１７３５号公報、特開平２−２３０１４９号
公報等に示される。感光性樹脂組成物の層を２層以上と
し、ネガフィルムと直接接触する層を非粘着性層とする
ことが行われている。しかし、この方法は感光性樹脂組
成物の層を多層化するため塗工に手間がかかるうえ、感
度低下に対しては効果のないものであった。

【０００５】また別の方法として、感光性樹脂組成物上
に中間層を設けこれらの欠点を解決しようとする試み
が、特公昭５６−４０８２４号公報、特開昭５５−５０
１０７２号公報、特公昭５４−１２２１５号公報、特開
昭４７−４６９号公報、特開昭５９−９７１３８号公
報、特開昭５９−２１６１４１号公報、特開昭６３−１
９７９４２号公報等に示されている。しかし、これらは
いずれも支持体フィルムと感光性樹脂組成物の層との間
に中間層を設けなければなれず、塗工が２度手間にな
り、また薄い中間層については取り扱いが困難であっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１及び２記載の
発明は、レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密着
性及びレジストパターンの平坦性が極めて優れ、マウス
バイトの数が少ない感光性エレメントを提供するもので
ある。請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発
明の効果を奏し、さらにレジストパターンの側面ギザ性
が極めて優れる感光性エレメントを提供するものであ
る。請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の
発明の効果を奏し、さらに解像度が極めて優れる感光性
エレメントを提供するものである。請求項５、６及び７
記載の発明は、請求項１、２、３又は４記載の発明の効
果に加えて、さらにラミネート時の感光性エレメントの
寸法変化性が極めて優れる感光性エレメントを提供する
ものである。

【０００７】請求項８記載の発明は、請求項１、２、
３、４、５、６又は７記載の発明の効果に加えて、さら
に感光特性が極めて優れる感光性エレメントを提供する
ものである。請求項９記載の発明は、請求項８記載の発
明の効果に加えて、さらにレジスト硬化後の膜強度が極
めて優れる感光性エレメントを提供するものである。請
求項１０記載の発明は、請求項８又は９記載の発明の効
果に加えて、さらに剥離性が極めて優れる感光性エレメ
ントを提供するものである。請求項１１記載の発明は、
請求項８、９又は１０記載の発明の効果に加えて、さら
に保管時のコールドフロー性が極めて優れる感光性エレ
メントを提供するものである。

【０００８】請求項１２記載の発明は、レジストパター
ンの側面ギザ性、解像度及び密着性が極めて優れ、マウ
スバイトの数が少ないレジストパターンの製造法を提供
するものである。請求項１３記載の発明は、配線パター
ンの側面ギザ性、解像度及び密着性が極めて優れ、マウ
スバイトの数が少ないプリント配線板の製造法を提供す
るものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、二軸配向ポリ
エステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂
層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対
の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光
性エレメントにおいて、前記感光性樹脂組成物の層の波
長３６５nmの紫外線に対する透過率が５〜７５％である
感光性エレメントに関する。また、本発明は、微粒子の
平均粒径が０．０１〜５．０μｍである前記感光性エレ
メントに関する。また、本発明は、微粒子を含有する樹
脂層の層厚が０．０１〜５．０μｍである前記感光性エ
レメントに関する。

【００１０】また、本発明は、支持フィルムのヘーズが
０．０１〜５．０％である前記感光性エレメントに関す
る。また、本発明は、支持フィルムの長手方向の１０５
℃、３０分間における熱収縮率が０．３０〜０．６０％
である前記感光性エレメントに関する。また、本発明
は、支持フィルムの長手方向の１５０℃、３０分間にお
ける熱収縮率が１．００〜１．９０％である前記感光性
エレメントに関する。また、本発明は、支持フィルムの
長手方向の２００℃、３０分間における熱収縮率が３．
００〜６．５０％である前記感光性エレメントに関す
る。

【００１１】また、本発明は、感光性樹脂組成物が、
（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも
１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性
化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる前記感光
性エレメントに関する。また、本発明は、（Ａ）バイン
ダーポリマーの重量平均分子量が２０，０００〜３０
０，０００である前記感光性エレメントに関する。ま
た、本発明は、（Ａ）バインダーポリマーの酸価が５０
〜３００mgKOH/gである前記感光性エレメントに関す
る。

【００１２】また、本発明は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分
及び（Ｃ）成分の配合量が、（Ａ）成分が、（Ａ）成分
及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、４０〜８
０重量部、（Ｂ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の
総量１００重量部に対して、２０〜６０重量部、（Ｃ）
成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部
に対して、０．０１〜２０重量部である前記感光性エレ
メントに関する。

【００１３】また、本発明は、前記感光性エレメント
を、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物の層が密着す
るようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光
部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを
特徴とするレジストパターンの製造法に関する。また、
本発明は、前記レジストパターンの製造法により、レジ
ストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング
又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造
法に関する。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。なお、本発明における（メタ）アクリル酸とは、
アクリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、
（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びそれに対
応するメタクリレートを意味する。

【００１５】本発明における支持フィルムは、二軸配向
ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する
樹脂層を積層してなる。上記微粒子の平均粒径は０．０
１〜５．０μｍであることが好ましく、０．０２〜４．
０μｍであることがより好ましく、０．０３〜３．０μ
ｍであることが特に好ましい。この平均粒径が０．０１
μｍ未満では作業性に劣る傾向があり、５．０μｍを超
えると解像度及び感度の低下を生じる傾向がある。上記
微粒子の配合量は、例えば、樹脂層を構成するベース樹
脂、微粒子の種類及び平均粒径、所望の物性等に応じて
好ましい配合量が異なる。

【００１６】上記微粒子としては、例えば、シリカ、カ
オリン、タルク、アルミナ、リン酸カルシウム、二酸化
チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、フッ化カルシ
ウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等
の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の
有機粒子などを挙げることができ、透明性の見地からは
シリカの粒子が好ましい。これらは単独で又は２種類以
上を組み合わせて使用される。前記微粒子を含有する樹
脂層を構成するベース樹脂としては、例えば、ポリエス
テル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、こ
れらの混合物、これらの共重合物等が挙げられる。

【００１７】前記樹脂層の厚みは、０．０１〜５．０μ
ｍであることが好ましく、０．０５〜３．０μｍである
ことがより好ましく、０．１〜２．０μｍであることが
特に好ましく、０．１〜１．０μｍであることが極めて
好ましい。この厚みが０．０１μｍ未満では本発明の効
果が得られない傾向があり、５．０μｍを超えるとポリ
エステルフィルムの透明性が劣り、感度及び解像度が劣
る傾向がある。

【００１８】前記二軸配向ポリエステルフィルムの一方
の面に、前記樹脂層を積層する方法としては、特に制限
はなく、例えば、コーティング等が挙げられる。前記二
軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステル系
樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
トなどの芳香族ジカルボン酸類とジオール類とを構成成
分とする芳香族線状ポリエステル、脂肪族ジカルボン酸
類とジオール類とを構成成分とする脂肪族線状ポリエス
テル、これらの共重合体等のポリエステルなどから主と
してなるポリエステル系樹脂などが挙げられる。これら
は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。前
記樹脂層が積層される二軸配向ポリエステルフィルムに
は、微粒子が含有されていてもよく、上記微粒子として
は、例えば、前記樹脂層に含有される微粒子と同様のも
のなどが挙げられる。その含有量は０〜８０ppmである
ことが好ましく、０〜６０ppmであることがより好まし
く、０〜４０ppmであることが特に好ましい。この含有
量が８０ppmを超えるとポリエステルフィルム全体の透
明性が低下し、解像度及び感度の低下を生じる傾向があ
る。

【００１９】前記二軸配向ポリエステルフィルムの製造
方法は、特に限定されず、例えば、二軸延伸方法等を用
いることができる。また、未延伸フィルム又は一軸延伸
フィルムの一方の面に、前記樹脂層を形成後、更に延伸
して支持フィルムとしてもよい。

【００２０】前記二軸配向ポリエステルフィルムの厚み
は、１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μ
ｍであることがより好ましく、１〜３０μｍであること
が特に好ましく、１０〜３０μｍであることが極めて好
ましい。この厚みが１μｍ未満では、製造容易性及び入
手容易性に劣る傾向があり、１００μｍを超えると廉価
性に劣る傾向がある。

【００２１】前記支持フィルムのヘーズは、０．０１〜
５．０％であることが好ましく、０．０１〜３．０％で
あることがより好ましく、０．０１〜２．０％であるこ
とが特に好ましく、０．０１〜１．０％であることが極
めて好ましい。このヘーズが０．０１％未満では製造容
易性が劣る傾向があり、５．０％を超えると感度及び解
像度が悪化する傾向がある。なお、本発明におけるヘー
ズはＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定したものであ
り、例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業(株)
製、商品名）等の市販の濁度計などで測定が可能であ
る。

【００２２】前記支持フィルムの長手方向の１０５℃、
３０分間における熱収縮率は０．３０〜０．６０％であ
ることが好ましく、０．３５〜０．５５％であることが
より好ましく、０．４０〜０．５０％であることが特に
好ましい。この熱収縮率が０．３０％未満ではポリエス
テルフィルムがもろくなる傾向があり、０．６０％を超
えるとラミネート時に感光性エレメントの寸法変化が生
じる傾向がある。

【００２３】前記支持フィルムの長手方向の１５０℃、
３０分間における熱収縮率は１．００〜１．９０％であ
ることが好ましく、１．００〜１．７０％であることが
より好ましく、１．１０〜１．６０％であることが特に
好ましく、１．２０〜１．５０％であることが極めて好
ましい。この熱収縮率が１．００％未満ではポリエステ
ルフィルムがもろくなる傾向があり、１．９０％を超え
るとラミネート時に感光性エレメントの寸法変化が生じ
る傾向がある。

【００２４】前記支持フィルムの長手方向の２００℃、
３０分間における熱収縮率は３．００〜６．５０％であ
ることが好ましく、３．００〜５．００％であることが
より好ましく、３．３０〜４．７０％であることが特に
好ましく、３．６０〜４．４０％であることが極めて好
ましい。この熱収縮率が３．００％未満ではポリエステ
ルフィルムがもろくなる傾向があり、６．５０％を超え
るとラミネート時に感光性エレメントの寸法変化が生じ
る傾向がある。

【００２５】なお、本発明における熱収縮率は、幅２０
mm、長さ１５０mmの試験片をフィルム長手方向及び幅方
向から各々５枚採り、それぞれの中央部に約１００mmの
距離をおいて標点を付け、上記温度±３℃に保持された
熱風循環式恒温槽に試験片を垂直につるし、３０分間加
熱した後取り出し、室温に３０分間放置してから標点間
距離を測定して、下記式（１）によって算出し、その平
均を求めることによって測定できる。

【００２６】

【数１】

【００２７】入手可能な前記支持フィルムとしては、例
えば、東洋紡績(株)製のＡ２１００−１６、Ａ４１００
−２５等が挙げられる。

【００２８】上記支持フィルムの厚みは、１〜１００μ
ｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがよ
り好ましく、１〜３０μｍであることが特に好ましく、
１０〜３０μｍであることが極めて好ましい。この厚み
が１μｍ未満では、機械的強度が低下し、塗工時に重合
体フィルムが破れるなどの問題が発生する傾向があり、
１００μｍを超えると解像度が低下し、価格が高くなる
傾向がある。

【００２９】本発明の感光性エレメントは、二軸配向ポ
リエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹
脂層を積層したポリエステルフィルムを支持フィルムと
して、上記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成
物の層を塗布、乾燥して得ることができる。上記塗布
は、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エ
アーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ等の公知の
方法で行うことができる。また、乾燥は、８０〜１５０
℃、５〜３０分程度で行うことができる。

【００３０】このようにして得られる感光性樹脂組成物
の層と支持フィルムとの２層からなる本発明の感光性エ
レメントは、例えば、そのまま又は感光性樹脂組成物の
層の他の面に保護フィルムをさらに積層してロール状に
巻きとって貯蔵される。上記保護フィルムとしては、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の不活性なポリ
オレフィンフィルム等が挙げられるが、感光性樹脂組成
物の層からの剥離性の見地から、ポリエチレンフィルム
が好ましい。

【００３１】本発明の感光性エレメントは、二軸配向ポ
リエステルフィルムの一方の面に、平均粒径０．０１〜
５．０μｍの粒子を含有する樹脂層を積層したポリエス
テルフィルムの樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂
組成物の層を塗布、乾燥してなる。上記感光性樹脂組成
物の層の波長３６５nmの紫外線に対する透過率が５〜７
５％である必要があり、７〜６０％であることが好まし
く、１０〜４０％であることがより好ましい。この透過
率が５％未満では密着性が劣り、７５％を超えると解像
度が劣る。上記透過率は、ＵＶ分光計により測定するこ
とができ、上記ＵＶ分光計としては、(株)日立製作所製
２２８Ａ型Ｗビーム分光光度計等が挙げられる。

【００３２】本発明における感光性樹脂組成物の層は、
波長３６５nmの紫外線に対する透過率が３〜９０％であ
れば特に制限はないが、例えば、（Ａ）バインダーポリ
マー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重
合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物の層等が挙げ
られる。本発明における感光性樹脂組成物に層の波長３
６５nmの紫外線における透過率は、上記（Ａ）成分、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分等の種類、配合量などの感光性
樹脂組成物の組成及び膜厚によって調整が可能である。

【００３３】上記（Ａ）バインダーポリマーとしては、
例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ系
樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、アルキド
系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。アルカリ現
像性の見地からは、アクリル系樹脂が好ましい。これら
は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【００３４】上記（Ａ）バインダーポリマーは、例え
ば、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造
することができる。上記重合性単量体としては、例え
ば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等
のα−位若しくは芳香族環において置換されている重合
可能なスチレン誘導体、ジアセトンアクリルアミド等の
アクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチ
ルエーテル等のビニルアルコールのエステル類、（メ
タ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸
テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸
ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジ
エチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリ
シジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メ
タ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α
−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アク
リル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル
（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、
マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイ
ン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フ
マール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン
酸、クロトン酸、プロピオール酸などが挙げられる。

【００３５】上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル
としては、例えば、一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は炭素
数１〜１２のアルキル基を示す）で表される化合物、こ
れらの化合物のアルキル基に水酸基、エポキシ基、ハロ
ゲン基等が置換した化合物などが挙げられる。上記一般
式（Ｉ）中のＲ²で示される炭素数１〜１２のアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基及びこれらの構造異性体が挙げられる。

【００３６】上記一般式（Ｉ）で表される単量体として
は、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メ
タ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸プ
ロピルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、
（メタ）アクリル酸ペンチルエステル、（メタ）アクリ
ル酸ヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヘプチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸オクチルエステル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）
アクリル酸ノニルエステル、（メタ）アクリル酸デシル
エステル、（メタ）アクリル酸ウンデシルエステル、
（メタ）アクリル酸ドデシルエステル、等が挙げられ
る。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。

【００３７】また、前記（Ａ）バインダーポリマーは、
アルカリ現像性の見地から、カルボキシル基を含有させ
ることが好ましく、例えば、カルボキシル基を有する重
合性単量体とその他の重合性単量体をラジカル重合させ
ることにより製造することができる。前記（Ａ）バイン
ダーポリマーの酸価は５０〜３００mgKOH/gであること
が好ましく、６０〜２５０mgKOH/gであることがより好
ましく、７０〜２００mgKOH/gであることが特に好まし
い。この酸価が５０mgKOH/g未満では、現像時間が遅く
なる傾向があり、３００mgKOH/gを超えると光硬化した
レジストの耐現像液性が低下する傾向がある。

【００３８】また、前記（Ａ）バインダーポリマーは、
可とう性の見地からスチレン又はスチレン誘導体を重合
性単量体として含有させることが好ましい。上記スチレ
ン又はスチレン誘導体を共重合成分として、密着性及び
剥離特性を共に良好にするには、０．１〜３０重量％含
むことが好ましく、１〜２８重量％含むことがより好ま
しく、１．５〜２７重量％含むことが特に好ましい。こ
の含有量が０．１重量％未満では、密着性が劣る傾向が
あり、３０重量％を超えると、剥離片が大きくなり、剥
離時間が長くなる傾向がある。これらのバインダーポリ
マーは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００３９】前記（Ａ）バインダーポリマーは、塗膜性
及び解像度の見地から、重量平均分子量が２０，０００
〜３００，０００であることが好ましく、２５，０００
〜２００，０００であることがより好ましく、３０，０
００〜１５０，０００であることが特に好ましい。この
重量平均分子量が２０，０００未満では耐現像液性が低
下する傾向があり、３００，０００を超えると現像時間
が長くなる傾向がある。なお、本発明において、重量平
均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換
算した値である。

【００４０】前記（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合
可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物とし
ては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボ
ン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−
（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロ
パン、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボ
ン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマー、
ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ
−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）ア
クリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロ
キシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル
−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−
（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、
（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。

【００４１】上記多価アルコールにα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、
エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１
４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキ
シトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
テトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレー
ト、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００４２】上記α，β−不飽和カルボン酸としては、
例えば、（メタ）アクリル酸等が拳げられる。上記２，
２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）
フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス
（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシ
トリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシ
デカエトキシ）フェニル）等が挙げられ、２，２−ビス
（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プ
ロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業(株)製、製
品名）として商業的に入手可能である。上記グリシジル
基含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、
２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロ
キシ−プロピルオキシ）フェニル等が拳げられる。

【００４３】上記ウレタンモノマーとしては、例えば、
β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソ
ホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシア
ネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート
化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシ
テトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチ
レンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）ア
クリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイ
ドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド
基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオ
キサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオ
キサイド基のブロック構造を有する。ＥＯ変性ウレタン
ジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学
工業(株)製、製品名ＵＡ−１１等が挙げられる。また、
ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとして
は、例えば、新中村化学工業(株)製、製品名ＵＡ−１３
等が挙げられる。

【００４４】上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル
としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アク
リル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチル
ヘキシルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【００４５】前記（Ｂ）成分の光重合開始剤としては、
例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メ
チル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、２−エチ
ルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−tert−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアント
ラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフ
ェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２
−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，
１０−フェナンタラキノン、２−メチル１，４−ナフト
キノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン
類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエー
テル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベ
ンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタ
ール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−
クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリール
イミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７
−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリ
ジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリ
シン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。

【００４６】また、２つの２，４，５−トリアリールイ
ミダゾールのアリール基の置換基は同一で対象な化合物
を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えても
よい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ
安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合
物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。また、
密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリアリー
ルイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独
で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００４７】前記（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及
び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、５０〜７０
重量部とすることが好ましく、５５〜６５重量部とする
ことがより好ましい。この配合量が、４０重量部未満で
は感光性エレメントとして用いた場合、塗膜性に劣る傾
向があり、８０重量部を超えると、光硬化性が不充分と
なる傾向がある。

【００４８】前記（Ｂ）成分の配合量は、（Ａ）成分及
び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、３０〜５０
重量部とすることが好ましく、３５〜４５重量部とする
ことがより好ましい。この配合量が、２０重量部未満で
は光硬化性が不充分となる傾向があり、６０重量部を超
えると塗膜性が悪化する傾向がある。

【００４９】前記（Ｃ）成分の配合量は、（Ａ）成分及
び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜
２０重量部とすることが好ましく、０．０５〜１０重量
部とすることがより好ましく、０．１〜５重量部とする
ことが特に好ましい。この配合量が０．０１重量部未満
では感度が不十分となる傾向があり、２０重量部を超え
ると解像度が悪化する傾向がある。

【００５０】また、前記感光性樹脂組成物には、必要に
応じて、マラカイトグリーン等の染料、ロイコクリスタ
ルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トル
エンスルホン酸アミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡
剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥
離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋
剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部
に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することが
できる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせ
て使用される。

【００５１】前記感光性樹脂組成物は、必要に応じて、
メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、
Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶剤又はこれらの混合溶
剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として
塗布することができる。

【００５２】また、感光性樹脂組成物の層の厚みは、用
途により異なるが、乾燥後の厚みで１〜２００μｍであ
ることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好
ましく、１〜３０μｍであることが特に好ましい。この
厚みが１μｍ未満では工業的に塗工困難な傾向があり、
２００μｍを超えるとレジスト底部の光硬化性が悪化す
る傾向がある。

【００５３】上記感光性エレメントを用いてレジストパ
ターンを製造するに際しては、前記保護フィルムが存在
している場合には、保護フィルムを除去後、感光性樹脂
組成物の層を加熱しながら回路形成用基板に圧着するこ
とにより積層する方法などが挙げられ、密着性及び追従
性の見地から減圧下で積層することが好ましい。積層さ
れる表面は、通常金属面であるが、特に制限はない。感
光性樹脂組成物の層の加熱温度は７０〜１３０℃とする
ことが好ましく、圧着圧力は、１〜１０kgf/cm²とする
ことが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
また、感光性樹脂組成物の層を前記のように７０〜１３
０℃に加熱すれば、予め回路形成用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、積層性をさらに向上させるため
に、回路形成用基板の予熱処理を行うこともできる。

【００５４】このようにして積層が完了した感光性樹脂
組成物の層は、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマ
スクパターンを通して活性光線が画像状に照射される。
この際、感光性樹脂組成物の層上に存在する重合体フィ
ルムが透明の場合には、そのまま、活性光線を照射して
もよく、また、不透明の場合には、当然除去する必要が
ある。活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、
カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、
高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射す
るものが用いられる。また、写真用フラッド電球、太陽
ランプ等の可視光を有効に放射するものも用いられる。

【００５５】次いで、露光後、感光性樹脂組成物の層上
に支持体が存在している場合には、支持体を除去した
後、ウエット現像、ドライ現像等で未露光部を除去して
現像し、レジストパターンを製造する。ウエット現像の
場合は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の
感光性樹脂組成物に対応した現像液を用いて、例えば、
スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等
の公知の方法により現像する。

【００５６】現像液としては、アルカリ性水溶液等の安
全かつ安定であり、操作性が良好なものが用いられる。
上記アルカリ性水溶液の塩基としては、例えば、リチウ
ム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アル
カリ、リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモ
ニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸
カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸
塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のア
ルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられる。また、現像
に用いるアルカリ性水溶液としては、０．１〜５重量％
炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％炭酸カリ
ウムの希薄溶液、０．１〜５重量％水酸化ナトリウムの
希薄溶液、０．１〜５重量％四ホウ酸ナトリウムの希薄
溶液等が好ましい。また、現像に用いるアルカリ性水溶
液のpHは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温
度は、感光性樹脂組成物の層の現像性に合わせて調節さ
れる。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消
泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入
させてもよい。

【００５７】上記水系現像液としては、水又はアルカリ
水溶液と一種以上の有機溶剤とからなる。ここでアルカ
リ物質としては、前記物質以外に、例えば、ホウ砂やメ
タケイ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウ
ム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、２ーアミノ−２−ヒドロキシメチル−１、
３−プロパンジオール、１、３−ジアミノプロパノール
−２、モルホリン等が挙げられる。現像液のpHは、レジ
ストの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくする
ことが好ましく、pH８〜１２とすることが好ましく、pH
９〜１０とすることがより好ましい。

【００５８】上記有機溶剤としては、例えば、三アセト
ンアルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４の
アルコキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で
又は２種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の
濃度は、通常、２〜９０重量％とすることが好ましく、
その温度は、現像性にあわせて調整することができる。
また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量
混入することもできる。

【００５９】単独で用いる有機溶剤系現像液としては、
例えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピ
ロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキ
サノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン
等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のた
め、１〜２０重量％の範囲で水を添加することが好まし
い。また、必要に応じて２種以上の現像方法を併用して
もよい。現像の方式には、ディップ方式、バトル方式、
スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等があり、
高圧スプレー方式が解像度向上のためには最も適してい
る。

【００６０】現像後の処理として、必要に応じて６０〜
２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０mJ/cm²程度の露光
を行うことによりレジストパターンをさらに硬化して用
いてもよい。

【００６１】現像後に行われる金属面のエッチングには
塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング
溶液、過酸化水素系エッチング液を用いることができる
が、エッチファクタが良好な点から塩化第二鉄溶液を用
いることが望ましい。

【００６２】本発明の感光性エレメントを用いてプリン
ト配線板を製造する場合、現像されたレジストパターン
をマスクとして、回路形成用基板の表面を、エッチン
グ、めっき等の公知方法で処理する。上記めっき法とし
ては、例えば、硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき等の
銅めっき、ハイスローはんだめっき等のはんだめっき、
ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）めっき、スル
ファミン酸ニッケルめっき等のニッケルめっき、ハード
金めっき、ソフト金めっき等の金めっきなどがある。

【００６３】次いで、レジストパターンは、例えば、現
像に用いたアルカリ性水溶液よりさらに強アルカリ性の
水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水
溶液としては、例えば、１〜１０重量％水酸化ナトリウ
ム水溶液、１〜１０重量％水酸化カリウム水溶液等が用
いられる。剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプ
レイ方式等が挙げられ、浸漬方式及びスプレイ方式を単
独で使用してもよいし、併用してもよい。また、レジス
トパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリン
ト配線板でもよい。

【００６４】

【実施例】次に、実施例により本発明を説明する。

【００６５】実施例１、実施例２及び比較例１〜４ 表１に示す配合量で（Ａ）成分を合成し、溶液を調整
し、それに（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、その他成分及び溶
剤を混合して感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【００６６】

【表１】

【００６７】得られた感光性樹脂組成物の溶液を表２に
示す支持フィルム（Ａ２１００−１６及びＡ４１００−
２５（微粒子を含有する樹脂層を有する）：東洋紡績
(株)製、Ｇ２−１６、Ｇ２−１９及びＶ−２０（微粒子
を含有する樹脂層を有さない）：帝人(株)製）上に均一
に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥
して感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物の層の
乾燥後の膜厚は２０μｍであった。

【００６８】次にＵＶ分光計（(株)日立製作所製２２８
Ａ型Ｗビーム分光光度計）を用いて、感光性樹脂組成物
の層の波長３６５nmの紫外線に対する透過率を測定し
た。透過率は、まず測定側に支持フィルム及び感光性樹
脂組成物の層からなる感光性エレメントを置き、リファ
レンス側に支持フィルムを置き、Ｔ％モードにより７０
０〜３００μｍまでを連続測定し、３６５nmの値を読み
とることにより測定した。

【００６９】表２に示す支持フィルムのヘーズをＪＩＳ
Ｋ ７１０５に準拠し、ヘーズメーター（東京電色
(株)製ＴＣ−Ｈ３ＤＰ）を用い測定した。

【００７０】また、幅２０mm、長さ１５０mmの試験片を
支持フィルム長手方向から５枚採り、それぞれの中央部
に１００mmの距離をおいて標点を付け、１０５±３℃、
１５０±３℃及び２００±３℃に保持された熱風循環式
恒温槽に試験片を垂直につるし、３０分間加熱した後取
り出し、室温に３０分間放置してから標点間距離を測定
して、前記式（１）によって算出し、その平均を求め
た。

【００７１】次に、銅箔（厚み３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張積層板（日立化成工業
(株)製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を＃６００
相当のブラシを持つ研磨機（山啓(株)製）を用いて研磨
し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張積層板を８
０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組成物の
層を１２０℃、４kgf/cm²でラミネートした。

【００７２】その後、３KW超高圧水銀灯ランプを有する
露光機（オーク(株)製）ＨＭＷ−２０１Ｂを用い、ネガ
としてストーファー２１段ステップタブレットを有する
フォトツールと、密着性評価用ネガとして、ライン幅／
スペース幅が３０／４００〜２５０／４００（単位：μ
ｍ）の配線パターンを有するフォトツールを用いて、現
像後の残存ステップ段数が８．０となるエネルギー量で
露光した。次いで、支持フィルムを除去し、３０℃で
１．０重量％炭酸ナトリウム水溶液をスプレーすること
により現像した。ここで密着性は、現像後に密着してい
た細線のライン幅の最も小さい値により評価した。密着
性の評価は、数値が小さいほど良好な値である。その
後、５μｍのくし形パターンを用い、上記密着性の評価
と同様にレジストパターンを得て、残存したレジストパ
ターンから解像度（μｍ）を求めた。解像度の評価は、
数値が小さいほど良好な値である。

【００７３】次に、上記エネルギー量でライン幅／スペ
ース幅が５０μｍ／５０μｍで露光し、２０秒間の現像
を行い、得たレジストパターンの形状を走査型電子顕微
鏡で観察し、レジストパターンの側面ギザ性を調べた。
レジストパターンの側面ギザとは、レジストパターンの
形状がストレートではなく、ギザ付があって好ましくな
い状態をいい、レジストパターンの側面ギザの凹凸は、
浅い方が好ましい。 深い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍを超
える場合 浅い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍ以下
の場合 結果をまとめて表２に示した。

【００７４】

【表２】

【００７５】

【発明の効果】請求項１及び２記載の感光性エレメント
は、レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密着性及
びレジストパターンの平坦性が極めて優れ、マウスバイ
トの数が少ない。請求項３記載の感光性エレメントは、
請求項１又は２記載の発明の効果を奏し、さらにレジス
トパターンの側面ギザ性が極めて優れる。請求項４記載
の感光性エレメントは、請求項１、２又は３記載の発明
の効果を奏し、さらに解像度が極めて優れる。請求項
５、６及び７記載の感光性エレメントは、請求項１、
２、３又は４記載の発明の効果に加えて、さらにラミネ
ート時の感光性エレメントの寸法変化性が極めて優れ
る。

【００７６】請求項８記載の感光性エレメントは、請求
項１、２、３、４、５、６又は７記載の発明の効果に加
えて、さらに感光特性が極めて優れる。請求項９記載の
感光性エレメントは、請求項８記載の発明の効果に加え
て、さらにレジスト硬化後の膜強度が極めて優れる。請
求項１０記載の感光性エレメントは、請求項８又は９記
載の発明の効果に加えて、さらに剥離性が極めて優れ
る。請求項１１記載の感光性エレメントは、請求項８、
９又は１０記載の発明の効果に加えて、さらに保管時の
コールドフロー性が極めて優れる。

【００７６】請求項１２記載のレジストパターンの製造
法は、レジストパターンの側面ギザ性、解像度及び密着
性が極めて優れ、マウスバイトの数が少ない。請求項１
３記載のプリント配線板の製造法は、配線パターンの側
面ギザ性、解像度及び密着性が極めて優れ、マウスバイ
トの数が少ない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ 3/18 3/18 Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA03 AA14 AA18 AB15 AC01 AD01 BC12 BC31 BC51 CB51 CB55 CC12 DA18 DA40 FA17 FA40 FA43 5E339 BE13 CC01 CC10 CD01 CE12 CE14 CF16 CF17 DD02 FF10 GG10 5E343 AA02 AA11 BB21 CC62 DD32 ER16 ER18 GG08

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 二軸配向ポリエステルフィルムの一方の
   面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルム
   の前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の
   層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントにおいて、前
   記感光性樹脂組成物の層の波長３６５nmの紫外線に対す
   る透過率が５〜７５％である感光性エレメント。
2. 【請求項２】 微粒子の平均粒径が０．０１〜５．０μ
   ｍである請求項１記載の感光性エレメント。
3. 【請求項３】 微粒子を含有する樹脂層の層厚が０．０
   １〜５．０μｍである請求項１又は２記載の感光性エレ
   メント。
4. 【請求項４】 支持フィルムのヘーズが０．０１〜５．
   ０％である請求項１、２又は３記載の感光性エレメン
   ト。
5. 【請求項５】 支持フィルムの長手方向の１０５℃、３
   ０分間における熱収縮率が０．３０〜０．６０％である
   請求項１、２、３又は４記載の感光性エレメント。
6. 【請求項６】 支持フィルムの長手方向の１５０℃、３
   ０分間における熱収縮率が１．００〜１．９０％である
   請求項１、２、３、４又は５記載の感光性エレメント。
7. 【請求項７】 支持フィルムの長手方向の２００℃、３
   ０分間における熱収縮率が３．００〜６．５０％である
   請求項１、２、３、４、５又は６記載の感光性エレメン
   ト。
8. 【請求項８】 感光性樹脂組成物が、（Ａ）バインダー
   ポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合可能な
   エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）
   光重合開始剤を含有してなる請求項１、２、３、４、
   ５、６又は７記載の感光性エレメント。
9. 【請求項９】 （Ａ）バインダーポリマーの重量平均分
   子量が２０，０００〜３００，０００である請求項８記
   載の感光性エレメント。
10. 【請求項１０】 （Ａ）バインダーポリマーの酸価が５
    ０〜３００mgKOH/gである請求項８又は９記載の感光性
    エレメント。
11. 【請求項１１】 （Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成
    分の配合量が、（Ａ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成
    分の総量１００重量部に対して、４０〜８０重量部、
    （Ｂ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００
    重量部に対して、２０〜６０重量部、（Ｃ）成分が、
    （Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
    て、０．０１〜２０重量部である請求項８、９又は１０
    記載の感光性エレメント。
12. 【請求項１２】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
    ８、９、１０又は１１記載の感光性エレメントを、回路
    形成用基板上に感光性樹脂組成物の層が密着するように
    して積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬
    化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とす
    るレジストパターンの製造法。
13. 【請求項１３】 請求項１２記載のレジストパターンの
    製造法により、レジストパターンの製造された回路形成
    用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプ
    リント配線板の製造法。