FI74156C - Ljuskaensligt skiktoeverfoeringsmaterial, och foerfarande foer framstaellning av ett fotoresistschablon. - Google Patents

Ljuskaensligt skiktoeverfoeringsmaterial, och foerfarande foer framstaellning av ett fotoresistschablon. Download PDF

Info

Publication number
FI74156C
FI74156C FI833517A FI833517A FI74156C FI 74156 C FI74156 C FI 74156C FI 833517 A FI833517 A FI 833517A FI 833517 A FI833517 A FI 833517A FI 74156 C FI74156 C FI 74156C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
film
layer
photopolymerizable
transfer material
light
Prior art date
Application number
FI833517A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI74156B (fi
FI833517A0 (fi
FI833517A (fi
Inventor
Ulrich Geissler
Walter Herwig
Helga Sikora
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6174792&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI74156(C) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of FI833517A0 publication Critical patent/FI833517A0/fi
Publication of FI833517A publication Critical patent/FI833517A/fi
Publication of FI74156B publication Critical patent/FI74156B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI74156C publication Critical patent/FI74156C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/115Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/34Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
    • G03F7/346Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away using photosensitive materials other than non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

1 74156
Valonherkkä kalvonsiirtomateriaali ja menetelmä fotoresis-timallineen valmistamiseksi
Keksinnön kohteena on valonherkkä kalvonsiirtomate-5 riaali varustettuna väliaikaisella, taipuisalla tukikalvol-la, lämpöplastisella, fotopolymeroituvalla kalvolla sekä peitekalvolla, joka on fotopolymeroituvan kalvon sillä pinnalla, joka on poispäin tukikalvosta, ja joka peitekalvo kiinnittyy fotopolymeroituvaan kalvoon heikommin kuin tuki-10 kalvo; sekä menetelmä fotoresistimallineen valmistamiseksi, jolloin taipuisalle tukikalvolle levitetty lämpöplastinen, fotopolymeroituva kalvo laminoidaan paljaalta pinnaltaan pysyvälle kalvoalustalle, fotopolymeroituva kalvo valotetaan kuvion mukaan ja taipuisan tukikalvon poisvetämisen 15 jälkeen kehitetään korkokuvaksi pesemällä pois kalvon valottumatta jääneet osat.
Mainitunlaisia kalvonsiirtomateriaaleja ja -menetelmiä on esitetty esimerkiksi DE-patenttijulkaisussa 1 522 515 ja US-patenttijulkaisussa 4 193 797. Tällöin 20 siirretään negatiivisesti tai positiivisesti toimivia, läm- pöplastisia, valonherkkiä kalvoja paineen tai lämmön avulla kuivina pysyvällä kalvoalustalle, ne käsitellään siinä fo-toresistimallineeksi ja pysyvää kalvoalustaa käsitellään sitten mallineen peittämättömiltä kohdilta, esimerkiksi 25 syövytetään tai galvanoidaan.
DE-patenttijulkaisuissa 2 196 574 ja 2 123 702 esitellään vastaavia materiaaleja, jolloin valoherkän kalvon ja väliaikaisen kalvonalustan väliin on sijoitettu lämmössä muovautumaton välikerros, joka liukenee valonherkän kal-30 von käsitettelyssä käytettyyn kehitteeseen ja joka kiinnittyy valonherkkään kerrokseen voimakkaammin kuin väliaikaiseen kalvonalustaan. Näitä materiaaleja käsitellään siten, että valonherkkä kalvo laminoidaan pysyvälle kalvonalustal-le ja sitten väliaikainen kalvonalusta poistetaan väliker-35 roksesta vetämällä. Vasta tämän jälkeen valotetaan kosketuksessa valotusmallin kanssa ja lopuksi kehitetään. Koska suositeltavat välikerrokset ovat vesiliukoisia, ne pyrkivät turpoamaan ilmassa ilman kosteuspitoisuuden mukaan ja 2 74156 pinnalle muodostuu epätasainen rakenne, joka vaikeuttaa huomattavasti oikeanmukaista valotusta tai tekee sen jopa mahdottomaksi.
US-patenttijulkaisusta 4 278 762 tunnetaan myös 5 juotteenestopinnoitteiden valmistus kuivaresistimenetelmäl-lä. On havaittu, että tätä käytettäessä, mutta myös edellä mainittuja menetelmiä käytettäessä, resistikalvonvoimakkaasti kiiltävä pinta, joka muodostuu poistettaessa vetämällä väliaikainen tukikalvo, on useissa tapauksissa häiritsevä.
10 Lisäksi määrätyissä juotosolosuhteissa juotteenestopinnoit-teen pintaan jää aaltojuotoksen jälkeen kiinni juoteseosta olevia säikeitä ja pallosia, jotka mahdollisesti voivat aiheuttaa oikosulkuja. Kiiltävillä pinnoilla esiintyy lisäksi häiritseviä heijastuksia, erikoisesti käsinsijoittelussa.
15 Kuivaresistin tapauksessa tarjoaa matta pinta kupa- ripintaan verrattuna selvästi pienemmän heijastuksen vuoksi mahdollisuuden kehitetyn piirilevyn optiseen tarkastukseen.
DE-patenttijulkaisussa 2 403 487 on esitetty foto-polymeroituvia kohopainolaattoja, joissa fotopolymeroituvan 20 kerroksen pinta on tehty mataksi originaalikuvan ja kerroksen välisen kosketuksen parantamiseksi tyhjökopiokehyksessä ja painovärin oton parantamiseksi fleksopainatuksessa (sivu 3, 1. kappale). Pinnan mattaus voidaan suorittaa esimerkiksi kosketuksen avulla mattamaisen tai rakeisen pinnan, esi-25 merkiksi karhennetun alumiinilevyn tai karhennetun polyes-terikalvon kanssa, jolloin karhennettu pinta peitetään si-likonilla kalvon seuraavaksi tarvittavan irrottamisen mahdollistamiseksi. Valonherkän painolaatan käsittely eroaa oleellisesti kuivaresistimateriaalin käsittelystä ja tehtä-30 vä, joka siinä ratkaistaan karhentamalla valonherkän kerroksen pinta, on toinen, mitä edellä on esitetty valmistettaessa kuivaresististä juotteenestopinnoitteita tai resisti-mallineita.
Keksinnön tehtävänä oli saattaa käytettäväksi kal-35 vonsiirtomateriaali, joka vesiliukoisia tai kosteassa ilmassa turpoavia erotuskerroksia käytettäessä ei aiheuta mitään vaikeuksia valotettaessa ja jossa väliaikaisen tukikalvon poistamisen jälkeen ei ole kiiltävää kalvopintaa.
3 74156
Keksinnön mukaiselle valonherkälle kalvonsiirtoma-teriaalille on tunnusomaista, että tukikalvon fotopolyme-roituvan kalvon puoleisen pinnan keskimääräinen karheus on 0,5 - 5 mikrometriä.
5 Keksinnön mukaiselle menetelmälle fotoresistimalli- neen valmistamiseksi on tunnusomaista, että käytetään läpinäkyvää tukikalvoa, jonka pinnan, jolle fotopolymeroitu-va kalvo on levitetty, keskimääräinen karheus on 0,5 - 5 mikrometriä, ja että fotopolymeroituva kalvo valotetaan 10 sen lävitse ennen tukikalvon poisvetämistä.
Eräässä keksinnön mukaisessa valonherkän kalvonsiir-tomateriaalin toteutusmuodossa fotopolymerisoitavan kalvon ja tukikalvon väliin on sijoitettu ohut välikerros, joka kiinnittyy fotopolymeroituvaan kalvoon voimakkaammin kuin 15 tukikalvoon, joka lämmitettäessä jopa 150°C lämpötilaan ei muutu tahmeaksi, ja joka liukenee fotopolymeroituvan kalvon kehiteliuokseen.
Väliaikaisen tukikalvon pinnankarheus voidaan muodostaa mekaanisesti karhentamalla, esimerkiksi hiekkapu-20 halluksen avulla tai lisäämällä siihen hienojakoisia osa sia, esimerkiksi piidioksidia, talkkia, magnesiumoksidia, boorinitridiä, alumiinioksidia tai korkeassa lämpötilassa sulavia, liukenemattomia orgaanisia aineita. Osasten määrä on edullisesti noin 0,5 - 6 paino-% kalvon painosta 25 laskettuna.
Tukikalvon karheus on 0,5 - 5 mikrometriä. Alueen ylärajalla olevat karheudet valitaan käytettäessä paksuhkoja valonherkkiä kalvoja, kun taas alarajalla olevia karheuksia käytetään ohuille kerroksille, erikoisesti käytet-30 täessä verrattain ohuita välikerroksia.
Jos kalvonpinnan karheus muodostetaan lisäämällä osasia, on niiden koko keskimäärin hieman halutun karheuden yläpuolella, se voi esimerkiksi olla 1,5- ... 2,5-kertäinen sen suhteen.
35 Väliaikaisen tukikalvon täytyisi olla läpinäkyvä niissä tapauksissa, joissa ei käytetä välikerrosta. Tässä tapauksessa täytyy myös osasten koko ja taitekerroin valita siten, että ei vaikuteta merkittävän haitallisesti läpi- 4 74156 näkyvyyteen. Polyetyleenitereftalaattikalvon yhdistelmä piidioksidiosasten kanssa on tällöin erikoisen edullinen. Kalvo voi yleisesti muodostua DE-patenttijulkaisussa 2 123 702 esitetyistä materiaaleista.
5 Välikerrosta varten ovat myös DE-patenttijulkai sussa 2 123 702 mainitut materiaalit sopivia. Polyvinyyli-alkoholi, polyvinyylipyrrolidoni ja akryyliamidipolymeraa-tit ovat esimerkkejä hyvin soveltuvista aineista. Välikerroksen paksuus on noin 0,5 - 8, edullisesti 1-5 mikro-10 metriä.
Erikoisen edullista voi olla, jos välikerrokseen lisätään vähäinen määrä vähintään yhtä fotopolymeroituvan kalvon aineosaa. Tämä edistää fotopolymeroituvan kalvon kiinnittymistä ja tukikalvon poistamista. Tämä toteutus-15 muoto on erikoisen edullinen, jos välikerrokseen lisätään fotopolymeroituvan kalvon aineosista polymeroituvaa yhdistettä.
Fotopolymeroituvat kalvot muodostuvat yleensä po-lymeroituvasta yhdisteestä, erikoisesti yhdisteestä, joka 20 sisältää vähintään 2 akryyli- tai metakryylihappoesteri- ryhmää, fotoinitiaattoria radikaaliketjupolymerointia varten, polymeeristä sideainetta sekä muita tavanomaisia lisäaineita. Tämän tapaisia ja muita negatiivisesti toimivia, ts. valottamalla kovettuvia kalvoja on esitetty esimerkik-25 si DE-patenttijulkaisuissa 1 522 515, 2 123 702 ja 3 036 694 sekä US-patenttijulkaisussa 4 247 611.
Fotopolymerisoituvan kalvon takapinta peitetään edullisesti peitekalvolla, joka kiinnittyy fotopolymeroi-tuvaan kalvoon heikommin kuin väliaikainen tukikalvo, esi-30 merkiksi polyetyleenikalvolla.
Keksinnön mukaisen materiaalin käsittely tapahtuu siten, että mahdollisesti käytetty peitekalvo poistetaan ja lämpöplastisen fotopolymeroituvan kalvon vapautunut tai vapaa pinta kiinnitetään laminoimalla, edullisesti paineen 35 ja lämmön avulla, pysyvälle kantajalle, edullisesti piirilevylle, kuten kuparipäällysteiselle pohjamateriaalille. Sitten voidaan, jos ei käytetä välikerrosta väliaikaisen tukikalvon ja fotopolymeroituvan kalvon välissä, valottaa 5 74156 tukikalvon lävitse, poistaa viimeksimainittu ja kehittää valotettu kalvo. Jos on kyseessä juotteenestomaski, läm-pökäsitellään se kehittämisen jälkeen. Resistimallineen pinta voidaan sen mattamaisen ulkonäön vuoksi erottaa vi-5 suaalisesti hyvin vapautuneesta kuparipinnasta niin, että kopion arviointi helpottuu. Seuraavassa juotostapahtumas-sa säilyy juotosmaskin matta pinta yllättävästi vapaana juotemetallin esimerkiksi tina/lyijy-seoksen roiskesäi-keiltä tai -pallosilta.
10 Jos on kyse tavanomaisesta fotoresistimallineesta, poistetaan syövyttämällä kehittämisen jälkeen paljastunut perusmetalli tai sille saostetaan metallia useimmiten gal-vaanisesti.
Jos käsitellään materiaalia, jossa on välikerros 15 tukikalvon ja fotopolymerisoituvan kalvon välissä, tukikal-vo poistetaan laminoinnin jälkeen vetämällä ja sitten valo-tusmalli sijoitetaan tukikalvon karhean pinnan kuvioimalle välikerrokselle. Kuvioidussa tai matassa välikerroksessa ei edes pitkähkön ajan jälkeen kosteassa ilmassa esiinny 20 taipumusta epätasaiseen turpoamiseen tai muodonmuutoksiin niin, että on mahdollista saada moitteeton pinnakkaiskopio.
Fotopolymeroituvan kalvon muodostuessa fotopolyme-roituvasta seoksesta se on herkkä ilman hapen suhteen, joten on huolehdittava siitä, että välikerros ei ole ohuempi 25 kuin kalvon pinnan karheus. Muutoin on olemassa vaara, että tämä samalla hapenestokerroksena toimiva kerros murtuu paikoitellen ja menettää näissä kohdissa suojauskykynsä. Yleensä on kuitenkin mahdollista saada yhtenäisiä polyvi-nyylialkoholikerroksia, jos niiden paksuus on vain vähän, 30 esimerkiksi muutamia mikrometrin kymmenesosia, suurempi kuin kalvon suurin karheus.
Keksinnön mukaisten materiaalien valotus tapahtuu tunnetulla tavalla kosketuksessa läpinäkyvän valotusmallin kanssa tavanmukaisten valotuslamppujen lyhytaaltoisen näky-35 vän tai ultravioletin valon avulla. Kalvon kuvionmuodostus voidaan suorittaa myös lasersäteilyn avulla. Tällöin on erikoisen edullista, että keksinnön mukainen materiaali 6 74156 vaikuttaa myös alentavasti tarvittavaan valomäärään, siis suurentaa käytännöllistä valonherkkyyttä.
Seuraavat esimerkit esittelevät keksinnön suositeltavia toteutusmuotoja. Jollei toisin ole mainittu, ovat 5 prosenttiluvut ja määräsuhteet painoyksiköltä. Paino-osat (po) ja tilavuusosat (to) suhtautuvat kuten gramma kuutio-senttimetriin .
Esimerkki 1
Valmistettiin päällystysliuos seuraavista aineosis- 10 ta: 13 po n-heksyylimetakrylaatin, metakryylihapon ja styreenin terpolymeraattia (60:30:10), jonka keskimääräinen moo-lipaino oli noin 35 000 ja happoluku 195, 4,4 po polyetyleeniglykoli-400-dimetakrylaattia, 15 1,6 po glysidyylimetakrylaatista, adipiinihaposta ja oli- gomeerisestä di-isosyanaatista saatua elastomeeristä reaktiotuotetta, jolloin di-isosyanaatti on saatu tolyleenidi-isosyanaatin reaktiosta polybutaani-1,4-diolin kanssa (vrt. DE-patentti 3 036 694), 20 1 po heksametoksimetyylimetamiinia, 0,2 po 9-fenyyliakridiinia, 0,01 po sinistä atsovärlainetta, joka on saatu kytkemällä 2,4-dinitri-6-kloori-bentseenidiatsoniumsuola 2-metoksi-5-asetyyliamino-N,N-dietyylianiliinin kanssa, 25 0,03 po 1,4-bis-(4-tert.-butoksi-fenyyliamino)-5,8-dihydr- oksiantrakinonia, 30 paino-osassa butanolia ja 5,0 paino-osassa etanolia.
Liuoksella päällystettiin jatkuvasti rakosuuttimen 30 kautta sekä sileää, että huokoisella piidioksidilla, jonka keskimääräinen osasläpimitta oli 1 mikrometri, pigmentoi-tua 110 cm:n levyistä polyetyleenitereftalaattikalvoa, jonka paksuus oli 23 mikrometriä. Kuivaustilan läpikulun jälkeen oli resistikerroksen paksuus kulloinkin 100 mikromet-35 riä ja se peitettiin 25 mikrometrin paksuisella polypropy-leenikalvolla. Täten valmistetut kuivaresistikalvot leikattiin sitten rullaleikkurin avulla helppokäyttöisiksi re-sistirulliksi, joiden leveys oli 45 cm ja rainan pituus 50 m.
7 74156
Laminointikokeita varten käytettiin epoksi/lasikui-tulaminaattia olevia testilevyjä varustettuina noin 65 mikrometrin paksuisilla kuparijohtimilla, joiden pinnat oli tinattu, sekä läpikuparoiduilla rei'illä. Johdinleveydet ja 5 niiden väliset etäisyydet olivat 200 - 1000 mikrometriä ja reikien läpimitat olivat 0,6 - 4 mm.
Näille levyille laminoitiin 100 mikrometrin paksuisia juotteenestopinnoitteita kaupallisella laminointilait-teella 120°C lämpötilassa.
10 Levyt valotettiin valotusmallineen lävitse, joka peitti juotettavat täplät ja reiät, 5kW metallihalogenidi-lampulla varustetun valotuslaitteen avulla 25 sekunnin aikana, kehitettiin kaupallisessa ruiskutuslaitteessa 150 sekunnin aikana 0,8-%:isen natriumkarbonaattiliuoksen avulla 15 ja puhallettiin kuiviksi. Täten valmistettuja piirilevyjä kovetettiin sitten kuivauskaapissa 60 minuuttia 150°C lämpötilassa. Jäähdytetyt levyt kostutettiin sitten juoksutteella TL 33-16 (Fma Alpha Grillo) ja johdettiin tämän jälkeen nopeudella 1,0 m/min kaupallisen tina/lyijy-aalto-20 juotoskylvyn ylitse, jonka lämpötila oli 250°C. Esitetyllä matalla juotteenestopinnoitteella varustetut piirilevyt olivat juottamisen ja puhdistamisen jälkeen täysin puhtaat.
Sileälle polyesterikalvolle levitetyssä juotteenes-topinnoitteessa esiintyi määrätyissä juotosolosuhteissa 25 (esimerkiksi juoksutekalvon epätäydellisessä kuivauksessa) virheitä, jolloin juotteenestopinnoitteeseen oli kiinnittynyt juotemetallia olevia pallosia tai säikeitä, joita ei voitu puhdistettaessa myöskään poistaa. Ne aiheuttavat oikosulkuja ja piirilevy on käyttökelvoton.
30 Tina/lyijy-osasten kiinnittyminen mattaan, ts. kar- hennettuun resistin pintaan on selvästi vähäisempää kuin kiiltävään, ts. sileään pintaan.
8 74156
Esimerkki 2
Valmistettiin päällystysliuoksia esimerkin 1 mukaisesti, joissa polyetyleeniglykoli-400-dimetakrylaatti oli korvattu seuraavilla monomeereillä: 5 a) reaktiotuote 2,2,4-trimetyyliheksametyleenidi-isosyanaa-tista ja hydroksietyylimetakrylaatista, b) reaktiotuote trietyleeniglykolista, 2,2,4-trimetyylihek-sametyleenidi-isosyanaatista ja hydroksietyylimetakrylaatista, 10 c) 2,2-bis-^4-(2-akryloyylioksipropoksi)fenyyli^propaani.
Liuoksilla päällystettiin esimerkin 1 mukaisesti sekä sileä, että silikageelillä pigmentoitu polyesterikal-vo ja kalvot peitettiin kuivauksen jälkeen polypropyleeni-15 kalvolla. Kuivaresistikalvoja käsiteltiin esimerkissä 1 esitetyllä tavalla.
Myös tällöin ilmenee, että juotteenestomaskin matalle pinnalle ei juottamisen jälkeen kiinnity lyijy/tina-tähteitä, kun taas kiiltävillä pinnoilla niitä kiinnittyy 20 epäedullisissa olosuhteissa.
Esimerkki 3 A. Valmistettiin päällystysliuos seuraavasti: 6,5 po n-heksyylimetakrylaatin, metakryylihapon ja styreenin terpolymeeriä (60:30:10), jonka keskimääräinen mooli-25 paino oli 35 000 ja happoluku 195, 3,2 po polyetyleeniglykoli-400-dimetakrylaattia, 0,8 po esimerkissä 1 esitettyä elastomeeriä, 0,1 po 9-fenyyliakridiinia, 0,035 po atsoväriainetta, jota saadaan kytkemällä 2,4-di-30 nitro-6-klooribentseenidiatsoniumsuolaa 2-metoksi-5-asetyy-liamino-N-syaanietyyli-N-hydroksietyylianiliinin kanssa, 10 po metyylietyyliketonia ja 1 po etanolia.
B. Liuos välikerrosta varten valmistettiin seuraa- 35 vasti: 200 po 7-%:ista polyvinyylialkoholiliuosta, 1 po polyetyleeniglykoii-400-dimetyyliakrylaattia ja 0,002 po kideviolettia.
9 74156 C. Päällystysliuosta A lingotettiin biaksiaalisesti venytetylle ja lämpökiinnitetylle polyetyleenitereftalaat-tikalvolle, jonka paksuus oli 25 mikrometriä ja joka oli varustettu liuoksen B avulla noin 1 mikrometrin paksuisel- 5 la polyvinyylialkoholia olevalla erotuskalvolla siten, että kuivauksen jälkeen 100°C:n lämpötilassa saatiin kalvon 2 painoksi 4,0 g/m .
D. Käsittely C toistettiin, kuitenkin käyttäen poly-etyleenitereftalaattikalvoa, joka oli varustettu karhealla 10 pinnalla lisäämällä noin 1,5 paino-% huokoista piidioksidia, jonka keskimääräinen raekoko oli 1 mikrometri.
Kohtien C ja D mukaan saatuja kuivaresistikalvoja laminoitiin kaupallisessa laminointilaitteessa 120°C lämpötilassa 7,5 mikrometrin paksuisella kuparikaivolla päällys-15 tetyille, lasikuituvahvisteisille epoksihartsilevyille.
Jäähdytettiin huoneen lämpötilaan ja sitten polyesterikal-vo vedettiin pois.
Pinnanlaatu tarkastettiin ja rekisteröitiin eri ajankohtina ja eri ilmankosteuksilla: 20 ______
Varastointiaika minuuttia 2244 180 180 — * — — — » — — — — — — — - — — — » — — — — — — — — — — — — — — — — — — « —
Suhteellinen 25 kosteus % 30 80 30 80 30 80 C kiil- ___tävä - (-) D matta matta matta matta matta matta + + + + + + 30 + käyttökelpoinen, muuttumaton pinta (-) alkava epäsäännöllinen muodonmuutos "y pinta käyt-- voimakas, epäsäännöllinen muodonmuutos J tökelvoton 10 741 56
Esimerkki 4
Kuivaresistikalvojen valmistamiseksi tuotantomitta-kaavassa meneteltiin seuraavasti:
Esimerkissä 3 A esitetyn koostumuksen omaavalla 5 liuoksella päällystettiin esimerkissä 3 D esitetyllä tavalla polyvinyylialkoholilla esipäällystettyä, 25 mikro-metrin paksuisen, 100 cm levyisen polyesterikalvon rainaa, jonka pinta oli karhennettu, jatkuvasti rakosuuttimen avulla. Kuivaustilan läpikulun jälkeen oli resistikalvon pak-10 suus 38 mikrometriä ja se peitettiin polypropyleenikalvol-la. Täten valmistettu kuivaresistikalvo varastoitiin suur-rullalle. Suurrulla leikattiin sitten rullaleikkurin avulla helposti käsiteltäviksi resistirulliksi, joiden leveys oli 45 cm ja rainanpituus 50 m. Säätämällä optimaalinen 15 käämintäjännitys taattiin, että rulla muodostui kerros kerrokselta tasaisesti tukisydämelle, eikä esiintynyt sivut-taista liukumista, so. ei muodostunut teleskooppimaisia osia.
Vertailua varten valmistettiin samalla päällystys-20 liuoksella rullia, joissa käytettiin kuitenkin mattaamat-tomia polyesterikalvoja, eikä käytetty polyvinyylialkoho-lia olevaa välikerrosta.
Saatuja kalvoja laminoitiin kaupallisen laminointi-laitteen avulla 120°C lämpötilassa 17,5 mikrometrin paksui-25 sella kuparikaivolla päällystetylle lasikuituvahvisteisel-le epoksihartsilaminaatille ja sitten - polyvinyylialkoho-livälikerroksella varustetut levyt tukikalvon poisvetämisen jälkeen - valotettiin kaupallisen valotuslaitteen (teho 5 kW) avulla. Kuviomallineena käytettiin viivamalli-30 netta, jonka viivaleveydet ja -etäisyydet olivat 60 mikro-metriin saakka.
Valotuksen jälkeen kehitettiin kalvot 0,8-%:isella natriumkarbonaattiliuoksella ruiskutuslaitteessa 60 sekunnin aikana.
35 Levyjä huuhdeltiin 30 sekunnin ajan vesijohtovedel lä, niitä syövytettiin 30 sekunnin ajan 15-%:isessa ammo-niumpersulfaattiliuoksessa ja galvanoitiin sitten 60 minuu- 11 74156 tin ajan tyyppiä "Glanzkupfer-Bad" olevassa kuparielekt- rolyyttikylvyssä (Firma Schlötter, Geislingen/Steige).
2
Virtatiheys: 2,5 A/dm .
Metallikerroksen paksuuskasvu noin 30 mikrometriä.
5 Seuraavassa taulukossa on esitetty molempien re- sistimateriaalien valoherkkyydet valotusmallineena käytetyn porraskiilan mukaan ja galvaanisesti saostettujen kupari johtimien leveyden mukaan kolmella erilaisella valo-tusmallineen leveydellä.
10 _(_|_________
Valotusaika I j sekuntia 1234567
Esimerkin 4 kiilan porras 4,7 5,1 5,9 6,0 6,8 7,1 7,4 15 Vertailumallin kiilan porras 2,1 4,0 4,6 5,0 5,5 6,0 6,5
Cu-johtimen leveys esimerkin 4 valotusmalli-20 neen leveydellä 198 mikrometriä 198 190 186 180 178 176 174
Vertailumallin Cu-johtimen leveys 220 210 207 198 192 187 180 25 Cu-johtimen le veys esimerkin 4 valotusmalli-neen leveydellä 102 mikrometriä 102 98 94 91 88 85 80 30 Vertailumallin
Cu-johtimen leveys - 110 102 96 92 -
Cu-johtimen le- i veys esimerkin 35 4 valotusmalli- neen leveydellä 76 mikrometriä 75 70 68 66 64 -
Cu-johdinleveys «4—kehitteen vastustuskyky pienenee 4— Vertailuinani —► johdinleveydet huononevat -^ 12 741 56
Esimerkki 5
Esimerkissä 4 esitetylle kuivaresistikalvolle la-minoitiin 120°C lämpötilassa 17,5 mikrometrin paksuisella kuparifoliolla päällystettyjä, lasikuituvahvisteisia epok-5 sihartsikerroslevyjä, joiden koko oli 25 x 16 cm. 10 minuutin varastoinnin jälkeen poistettiin tukikalvo vetämällä. Kaupallisella lasersäteilylaitteella (Laserite^ 105R, American Hoechst Corp., Eocom Division), joka oli varustettu argonionilaserilla, käyttäen 150 mW tehoa ja 1200 2 10 viivaa/2,5 cm (vastaten 4mJ/cm ) säteilytettiin levyjä.
Laserite-laite oli tällöin yhdistetty väliinsijoitettuun tietokoneeseen siten, että aineettoman valotusmallineen välityksellä resitikalvolle muodostettiin kytkentäkuvio.
Aineeton kuva sisälsi viivoja ja kaaria eri kulma-15 asennoissa välillä 200 - 70 mikrometriä olevien viivale- veyksien ja viivaetäisyyksien muodostamiseksi. Säteilytyk-sen jälkeen kehitettiin levyt 0,8-%:isessa natriumkarbo-naattiliuoksessa. Resistin reunat johdinviivoissa olivat reunoiltaan tarkat. Resistimalline oli aineettoman valo-20 tusmallin tarkka kopio riippumatta muistiin syötettyjen viivojen asemasta ja muodosta.
Kovetetun resistimallineen vastustuskyky galvaanisia kylpyjä vastaan oli erittäin hyvä niin, että levyt voitiin varustaa esimerkiksi esimerkissä 4 esitetyn kiil-25 tokuparikylvyn avulla virheettömillä ja lujasti kiinnipy- syvillä kuparijohtimilla.
Esimerkki 6
Positiivisesti toimivan kuivaresistimateriaalin valmistamiseksi valmistettiin seuraavat päällysteliuok-30 set: A. Valonherkkä kalvo 34.5 po etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 21,0 po butanolia, 27.5 po kresoli/formaldehydi-novolakkaa, jonka pehmenemis-35 alue oli 105 - 120°C DIN 53181 mukaisen kapillaarimene- telmän mukaan, 5,4 po polyetyleeniglykolia (moolipaino 2000), I; 13 7415 6 9,7 po polyasetaalia saatuna 2-etyylibutyyrialdehydistä ja trietyleeniglykolista, 0,3 po 2-(4-etoksi-naft-l-yyli)-4,6-bis-trikloorimetyyli-s-triatsiinia, 5 1,9 po kaupallista silikoniperusteista lakanapuainetta ja 0,02 po kristalliviolettiemästä.
B. Välikerros 200 po 7-%:ista polyvinyylialkoholin vesiliuosta ja 1 po polyetyleeniglykolia (moolipaino 2000).
10
Biaksiaalisesti venytetylle ja lämpökiinnitetyl-le polyetyleenitereftalaattikalvolle, jonka pinta oli kar-hennettu ja joka sisälsi 1,5 paino-% pyrogeenistä piidioksidia, jonka osaskoko oli keskimäärin 1 mikrometri, le-15 vitettiin liuoksen B avulla 1,4 - 1,8 mikrometrin paksui nen polyvinyylialkoholikerros ja sitten päällystysliuosta A siten, että kuivauksen jälkeen 90 - 110°C lämpötilassa 2 saatiin kalvon painoksi 45 g/m .
Täten saatua kuivaresistikalvoa laminoitiin kau-20 pallisen laminointilaitteen avulla 110°C lämpötilassa 17,5 mikrometrin paksuiselle kuparifoliolla päällystetylle la-sikuituvahvistetulle epoksihartsilevylle. 10 minuutin kuluttua voitiin polyesterikalvo poistaa vaikeuksitta vetämällä. Polyvinyylialkoholikerroksen silkinmatta pinta ei 25 muuttunut varastoitaessa jopa kauemmin kuin 2 tuntia ti lassa, jonka lämpötila oli 25°C ja suhteellinen kosteus 70 %.
Päällystetyt levyt valotettiin tavanomaisesti va-lotusmallineen lävitse ja kehitettiin 3,5-%:isella trinat-30 riumfosfaattiliuoksella. Paljastuneet kuparialueet pois tettiin syövyttämällä rauta-III-kloridiliuoksella ja saatiin kytkentäkuvio, jonka reunat olivat sileät.

Claims (8)

14 741 5 6
1. Valonherkkä kalvonsiirtomateriaali varustettuna väliaikaisella, taipuisalla tukikalvolla, lämpöplastisel- 5 la, fotopolymeroituvalla kalvolla sekä peitekalvolla, joka on fotopolymeroituvan kalvon sillä pinnalla, joka on poispäin tukikalvosta, ja joka peitekalvo kiinnittyy fo-topolymeroituvaan kalvoon heikommin kuin tukikalvo, tunnettu siitä, että tukikalvon fotopolymeroitu- 10 van kalvon puoleisen pinnan keskimääräinen karheus on 0,5-5 mikrometriä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen valonherkkä kalvonsiirtomateriaali, tunnettu siitä, että tukikalvo on läpinäkyvä.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen valonherkkä kalvon siirtomateriaali, tunnettu siitä, että fotopolymeroituvan kalvon ja tukikalvon väliin on sijoitettu ohut välikerros, joka kiinnittyy fotopolymeroituvaan kalvoon voimakkaammin kuin tukikalvoon, joka lämmitettäessä jopa 20 150°C lämpötilaan ei muutu tahmeaksi ja joka liukenee foto polymeroituvan kalvon kehiteliuokseen.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen valonherkkä kalvonsiirtomateriaali, tunnettu siitä, että välikerroksen paksuus on 1 - 5 mikrometriä.
5. Patenttivaatimuksen 3 mukainen valonherkkä kalvonsiirtomateriaali, tunnettu siitä, että välikerros on vesiliukoinen.
6. Patenttivaatimuksen 3 mukainen valonherkkä kalvonsiirtomateriaali, tunnettu siitä, että välikerros 30 sisältää pienehkön osuuden vähintään yhtä fotopolymeroituvan kalvon aineosaa.
7. Menetelmä fotoresistimallineen valmistamiseksi, jolloin taipuisalle tukikalvolle levitetty lämpöplastinen, fotopolymeroituva kalvo laminoidaan paljaalta pinnaltaan 35 pysyvälle kalvoalustalle, fotopolymeroituva kalvo valotetaan kuvion mukaan ja taipuisan tukikalvon poisvetämisen jälkeen kehitetään korkokuvaksi pesemällä pois kalvon valottumatta jääneet osat, tunnettu siitä, että käy- l. 15 741 56 tetään läpinäkyvää tukikalvoa, jonka pinnan, jolle fotopo-lymeroituva kalvo on levitetty, keskimääräinen karheus on 0,5-5 mikrometriä, ja että fotopolymeroituva kalvo valotetaan sen lävitse ennen tukikalvon poisvetämistä.
8. Menetelmä fotoresistimallineen valmistamiseksi, jolloin kalvonsiirtomateriaalia, joka muodostuu väliaikaisesta taipuisasta tukikalvosta, ohuesta välikerroksesta, joka lämmitettäessä jopa lämpötilaan 150°C ei muutu tahmeaksi, välikerroksen päällä olevasta lämpöplastisesta, 10 fotopolymeroituvasta kalvosta ja peitekalvosta, joka on fo-topolymeroituvan kalvon sillä pinnalla, joka on poispäin tukikalvosta, ja joka peitekalvo kiinnittyy fotopolymeroi-tuvaan kalvoon heikommin kuin tukikalvo, jolloin välikerros kiinnittyy fotopolymeroituvaan kalvoon voimakkaammin 15 kuin tukikalvoon ja liukenee fotopolymeroituvan kalvon ke-hiteliuokseen, laminoidaan peitekalvon poisvetämisen jälkeen fotopolymeroituvan kalvon paljaalta pinnalta pysyvälle kalvoalustalle, väliaikainen tukikalvo poistetaan vetämällä, fotopolymeroituva kalvo valotetaan kuvion mukaan ja 20 kehitetään korkokuvaksi, tunnettu siitä, että käytetään väliaikaista tukikalvoa, jonka pinnan, jolla välikerros ja fotopolymeroituva kalvo sijaitsevat, keskimääräinen karheus on 0,5 - 5 mikrometriä. 74156
FI833517A 1982-10-02 1983-09-29 Ljuskaensligt skiktoeverfoeringsmaterial, och foerfarande foer framstaellning av ett fotoresistschablon. FI74156C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19823236560 DE3236560A1 (de) 1982-10-02 1982-10-02 Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
DE3236560 1982-10-02

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI833517A0 FI833517A0 (fi) 1983-09-29
FI833517A FI833517A (fi) 1984-04-03
FI74156B FI74156B (fi) 1987-08-31
FI74156C true FI74156C (fi) 1987-12-10

Family

ID=6174792

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI833517A FI74156C (fi) 1982-10-02 1983-09-29 Ljuskaensligt skiktoeverfoeringsmaterial, och foerfarande foer framstaellning av ett fotoresistschablon.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4559292A (fi)
EP (1) EP0105421B1 (fi)
JP (1) JPH0612413B2 (fi)
KR (1) KR910004874B1 (fi)
AT (1) ATE35060T1 (fi)
AU (1) AU558773B2 (fi)
CA (1) CA1242100A (fi)
DE (2) DE3236560A1 (fi)
ES (1) ES8501539A1 (fi)
FI (1) FI74156C (fi)
IL (1) IL69876A (fi)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59181342A (ja) * 1983-03-31 1984-10-15 Nitto Electric Ind Co Ltd 剥離現像方法
US4587199A (en) * 1983-07-11 1986-05-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Controlled roughening of a photosensitive composition
JPS61169829A (ja) * 1985-01-23 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US4719169A (en) * 1986-04-18 1988-01-12 Hoechst Celanese Corporation Protective coating for images
JPH0623845B2 (ja) * 1986-06-23 1994-03-30 富士写真フイルム株式会社 感光性受像シート材料及び画像転写方法
JPH07101309B2 (ja) * 1987-05-29 1995-11-01 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料
US5213945A (en) * 1988-02-26 1993-05-25 Morton International, Inc. Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like
JPH07107603B2 (ja) * 1988-10-07 1995-11-15 曙フォトマスク株式会社 スクリーン印刷用スクリーン及びその製造方法
JPH0345548U (fi) * 1989-09-08 1991-04-26
DE3931467A1 (de) * 1989-09-21 1991-04-04 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske
JP2613990B2 (ja) * 1990-08-01 1997-05-28 矢崎総業株式会社 分岐回路構成体
EP0471483A1 (en) * 1990-08-03 1992-02-19 Canon Kabushiki Kaisha Surface reforming method, process for production of printing plate, printing plate and printing process
JPH0580503A (ja) * 1991-06-25 1993-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
DE4243912A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben
US5391458A (en) * 1992-12-18 1995-02-21 Morton International, Inc. Photoresist processing for improved resolution having a bake step to remove the tackiness of the laminated photosensitive layer prior to contact imagewise exposure
TW475098B (en) * 1995-10-27 2002-02-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same
JP3592827B2 (ja) * 1996-03-06 2004-11-24 富士写真フイルム株式会社 感光性エレメント及び多層配線基板の製造方法
US5993945A (en) * 1996-05-30 1999-11-30 International Business Machines Corporation Process for high resolution photoimageable dielectric
US5795647A (en) * 1996-09-11 1998-08-18 Aluminum Company Of America Printing plate having improved wear resistance
US6022670A (en) * 1997-05-08 2000-02-08 International Business Machines Corporation Process for high resolution photoimageable dielectric
US6399270B1 (en) * 1998-12-04 2002-06-04 Konica Corporation Support for printing plate and printing plate
EP1483624B1 (en) * 2002-03-14 2008-07-09 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element for use as flexographic printing plate
US20080213570A1 (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Jennifer Hoyt Lalli Self-assembled conductive deformable films
US20040234886A1 (en) * 2003-03-12 2004-11-25 Rudolph Michael Lee Photosensitive element for use as flexographic printing plate
JP2015066853A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版の製版方法
TWI592760B (zh) * 2014-12-30 2017-07-21 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之塗層組合物
JP2018014446A (ja) * 2016-07-22 2018-01-25 イビデン株式会社 ソルダーレジスト及びプリント配線板
CN106498616B (zh) * 2016-12-26 2018-09-21 浙江海森纺机科技有限公司 手套机机头联动系统及功能驱动夹
US20220066322A1 (en) * 2020-08-26 2022-03-03 Tamura Corporation Photosensitive dry film, and printed wiring board with photosensitive dry film

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1591304A (en) * 1925-07-16 1926-07-06 Walter W Giveans Stripping films
US3010390A (en) * 1954-06-29 1961-11-28 Buskes Willem Marie Planographic printing plates
FR1310056A (fi) * 1960-10-19 1963-03-04
DE1522515C2 (de) 1965-08-03 1980-10-09 Du Pont Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE2106574A1 (de) * 1970-03-03 1971-09-23 Shpley Co Inc Lichtempfindliches Laminat
US4193797A (en) 1971-03-22 1980-03-18 E. I. Dupont De Nemours And Company Method for making photoresists
DE2123702B2 (de) 1971-05-13 1979-11-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
JPS5236698B2 (fi) * 1973-01-29 1977-09-17
US3891443A (en) * 1973-02-01 1975-06-24 Polychrome Corp Mat finish photosensitive relief plates
US3909328A (en) 1973-04-10 1975-09-30 Du Pont Decoration of substrates by thermal transfer of photosensitive, thermoplastic, dye-imaged film
JPS5019961A (fi) * 1973-06-29 1975-03-03
CH621416A5 (fi) 1975-03-27 1981-01-30 Hoechst Ag
DE2718254C3 (de) 1977-04-25 1980-04-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliche Kopiermasse
US4278752A (en) 1978-09-07 1981-07-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flame retardant radiation sensitive element
US4232108A (en) * 1979-05-01 1980-11-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Marking transfer sheets
JPS5642629A (en) * 1979-09-17 1981-04-20 Diafoil Co Ltd Biaxially-stretched polyester film for photograph
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch

Also Published As

Publication number Publication date
FI74156B (fi) 1987-08-31
CA1242100A (en) 1988-09-20
KR840006419A (ko) 1984-11-29
DE3236560A1 (de) 1984-04-05
DE3377022D1 (en) 1988-07-14
EP0105421B1 (de) 1988-06-08
ES526181A0 (es) 1984-11-16
AU1986283A (en) 1984-04-05
ATE35060T1 (de) 1988-06-15
US4559292A (en) 1985-12-17
FI833517A0 (fi) 1983-09-29
ES8501539A1 (es) 1984-11-16
IL69876A0 (en) 1983-12-30
KR910004874B1 (ko) 1991-07-15
FI833517A (fi) 1984-04-03
IL69876A (en) 1987-02-27
AU558773B2 (en) 1987-02-05
EP0105421A1 (de) 1984-04-18
JPS5975245A (ja) 1984-04-27
JPH0612413B2 (ja) 1994-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI74156C (fi) Ljuskaensligt skiktoeverfoeringsmaterial, och foerfarande foer framstaellning av ett fotoresistschablon.
EP0041640B1 (en) Photopolymerizable composition
EP0123158B1 (en) Prelamination, imagewise exposure of photohardenable layer in process for sensitizing, registering and exposing circuit boards
US3615435A (en) Photohardenable image reproduction element with integral pigmented layer and process for use
US4530896A (en) Photosensitive laminate
CA1051707A (en) Photoresist film with non-photosensitive resist layer
CA1247441A (en) Controlled roughening of a photosensitive composition
EP0141868A1 (en) High resolution phototransparency image forming with photopolymers
KR100599219B1 (ko) 감광성 엘리먼트, 감광성 엘리먼트롤, 이것을 사용한레지스트패턴의 제조법, 레지스트패턴, 레지스트패턴적층기판, 배선패턴의 제조법 및 배선패턴
US4572887A (en) Radiation-polymerizable mixture with crosslinkable binder
JP4535953B2 (ja) 感光性樹脂積層体
US20100028808A1 (en) Photosensitive element
JP4305732B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法
US4548884A (en) Registering and exposing sheet substrates using photosensitive liquid
EP0096863B1 (en) Process of registering and exposing sheet substrates using photosensitive liquid
EP0041643B1 (en) Self-trimming photosensitive layer
JP4175079B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント
CA2006205A1 (en) Bubble free liquid solder mask-coated printed circuit boards by fluid pressurizing
CA1197406A (en) High resolution phototransparency image forming with photopolymers
EP0382944A2 (en) Method and structure for preventing wet etchant penetration at the interface between a resist mask and an underlying metal layer
JPH0738233A (ja) プリント配線基板及びその製造方法
JP2002099082A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
GB2151365A (en) High resolution image forming with photopolymers
JPS587628A (ja) 感光性積層構造物
GB2179756A (en) Laminating

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: MORTON INTERNATIONAL, INC.

MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: MORTON INTERNATIONAL, INC.