JPH06102654B2 - ３−イソチアゾロンの製造方法 - Google Patents
３−イソチアゾロンの製造方法Info
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- JPH06102654B2 JPH06102654B2 JP3001602A JP160291A JPH06102654B2 JP H06102654 B2 JPH06102654 B2 JP H06102654B2 JP 3001602 A JP3001602 A JP 3001602A JP 160291 A JP160291 A JP 160291A JP H06102654 B2 JPH06102654 B2 JP H06102654B2
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
- C07D275/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D275/03—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、３−イソチアゾロンの
製造方法に関する。特に詳細には、本発明は、塩を殆ん
ど含有しないかまたは全く含有しない（ｓａｌｔ−ｆｒ
ｅｅ）、およびまた水を殆んど含有しないかまたは全く
含有しない（ｗａｔｅｒ−ｆｒｅｅ）３−イソチアゾロ
ンの製造方法に関する。
製造方法に関する。特に詳細には、本発明は、塩を殆ん
ど含有しないかまたは全く含有しない（ｓａｌｔ−ｆｒ
ｅｅ）、およびまた水を殆んど含有しないかまたは全く
含有しない（ｗａｔｅｒ−ｆｒｅｅ）３−イソチアゾロ
ンの製造方法に関する。
【０００２】
【化３】
【０００３】式中、Ｙは、１〜１０個の炭素原子を有す
るアルキルまたは置換アルキル、２〜１０個の炭素原子
を有する非置換またはハロゲン置換のアルケニルまたは
アルキニル、１０個までの炭素原子を有するアラルキル
またはハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコ
キシ−置換のアラルキルであり、Ｘは、水素または（Ｃ
1 −Ｃ2 ）アルキルであり、Ｘ1 は、水素、塩素、また
は（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルである、
るアルキルまたは置換アルキル、２〜１０個の炭素原子
を有する非置換またはハロゲン置換のアルケニルまたは
アルキニル、１０個までの炭素原子を有するアラルキル
またはハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコ
キシ−置換のアラルキルであり、Ｘは、水素または（Ｃ
1 −Ｃ2 ）アルキルであり、Ｘ1 は、水素、塩素、また
は（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルである、
【０００４】を有する３−イソチアゾロンは、米国特許
第３，５２３，１２１号および同第３，７６１，４８８
号に記載されている。
第３，５２３，１２１号および同第３，７６１，４８８
号に記載されている。
【０００５】これらの３−イソチアゾロンは、殺微生物
剤としてよく知られており、かつ多くの工業用および家
庭用システムにおいて使用されている。一般的に、水溶
液中の３−イソチアゾロンは不安定であるので、米国特
許第３，８７０，７９５号および同第４，０８７，８７
８号に記載されているような安定化用２価金属塩が混入
されている。
剤としてよく知られており、かつ多くの工業用および家
庭用システムにおいて使用されている。一般的に、水溶
液中の３−イソチアゾロンは不安定であるので、米国特
許第３，８７０，７９５号および同第４，０８７，８７
８号に記載されているような安定化用２価金属塩が混入
されている。
【０００６】ある種の適用例えばラテックス乳濁液の保
存においては、これらの金属安定化用塩はそのようなシ
ステムの性能または価値を減少させる問題の原因とな
る。
存においては、これらの金属安定化用塩はそのようなシ
ステムの性能または価値を減少させる問題の原因とな
る。
【０００７】そのような金属安定化塩が有する他の問題
は、それらがある種のシステムにおける腐食の原因とな
ることである。例えば、塩化物塩（ｃｈｌｏｒｉｄｅ
ｓａｌｔｓ）は多くの金属を腐食させる影響があり、で
きるだけ避けなければならない。カチオンおよびアニオ
ンの低レベルが重要である場合の水処理システムにおい
ては、そのような塩を除去することが望ましい。プラス
チック物品の安定化においては、塩は光学的な劣化およ
び／または水の吸収および曇りのレベルを増加させる一
因となる。
は、それらがある種のシステムにおける腐食の原因とな
ることである。例えば、塩化物塩（ｃｈｌｏｒｉｄｅ
ｓａｌｔｓ）は多くの金属を腐食させる影響があり、で
きるだけ避けなければならない。カチオンおよびアニオ
ンの低レベルが重要である場合の水処理システムにおい
ては、そのような塩を除去することが望ましい。プラス
チック物品の安定化においては、塩は光学的な劣化およ
び／または水の吸収および曇りのレベルを増加させる一
因となる。
【０００８】また、ある種の化粧用配合物においては、
無機塩特に硝酸塩を除去することが重要である。
無機塩特に硝酸塩を除去することが重要である。
【０００９】一般的な従来技術のイソチアゾロン製造方
法においては、イソチアゾロン塩酸塩（イソチアゾロン
・ＨＣｌ）が生成する。そのような、５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロンおよび２−メチル−３−イ
ソチアゾロンの混合物の製造方法は、米国特許第３，８
４９，４３０号およびヨーロッパ特許第９５，９０７号
に記載されている。イソチアゾロン・ＨＣｌは、この方
法の塩素化／環化工程において生成する。この方法の工
程ではジ−（またはトリ）チオジアミドまたはメルカプ
トアミドのいずれかが環化される：
法においては、イソチアゾロン塩酸塩（イソチアゾロン
・ＨＣｌ）が生成する。そのような、５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロンおよび２−メチル−３−イ
ソチアゾロンの混合物の製造方法は、米国特許第３，８
４９，４３０号およびヨーロッパ特許第９５，９０７号
に記載されている。イソチアゾロン・ＨＣｌは、この方
法の塩素化／環化工程において生成する。この方法の工
程ではジ−（またはトリ）チオジアミドまたはメルカプ
トアミドのいずれかが環化される：
【化４】
【００１０】次いで、塩素化スラリーを濾過し、次いで
イソチアゾロン・ＨＣｌケーキ（ｃａｋｅ）を洗い、そ
して同じかまたは異った溶媒に再びスラリー化しまたは
溶解させる。次いで、水性系においては、中和剤例えば
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムを加えて、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび塩酸塩を生成させる：
イソチアゾロン・ＨＣｌケーキ（ｃａｋｅ）を洗い、そ
して同じかまたは異った溶媒に再びスラリー化しまたは
溶解させる。次いで、水性系においては、中和剤例えば
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムを加えて、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび塩酸塩を生成させる：
【化５】
【００１１】米国特許第４，８２４，９５７には、非水
有機媒質における中和剤として、ある種の有機アミンが
提案されている。しかし、そのような有機アミンは、副
生成物の中和塩として有機アミンハロゲン酸塩（ｈｙｄ
ｒｏｈａｌｉｄｅ）を生成する。イソチアゾロンハロゲ
ン酸塩を中和するのに必要とする有機アミンの量を決定
するのは難しく、それ故、中和の終点を正確に調節する
ことができない。任意の過剰の有機アミンが中和後の遊
離塩基イソチアゾロンの有機溶媒溶液中に残留し、最終
生成物の溶液を汚染し、更に遊離塩基イソチアゾロンと
化学的に反応して追加的な副生物を生成させる。更にま
た、これらの残留アミンは、そのような遊離塩基イソチ
アゾロンが硝酸塩で安定化された水溶液に配合されるな
らば、ニトロサミン汚染物源として作用する。
有機媒質における中和剤として、ある種の有機アミンが
提案されている。しかし、そのような有機アミンは、副
生成物の中和塩として有機アミンハロゲン酸塩（ｈｙｄ
ｒｏｈａｌｉｄｅ）を生成する。イソチアゾロンハロゲ
ン酸塩を中和するのに必要とする有機アミンの量を決定
するのは難しく、それ故、中和の終点を正確に調節する
ことができない。任意の過剰の有機アミンが中和後の遊
離塩基イソチアゾロンの有機溶媒溶液中に残留し、最終
生成物の溶液を汚染し、更に遊離塩基イソチアゾロンと
化学的に反応して追加的な副生物を生成させる。更にま
た、これらの残留アミンは、そのような遊離塩基イソチ
アゾロンが硝酸塩で安定化された水溶液に配合されるな
らば、ニトロサミン汚染物源として作用する。
【００１２】中和反応により生成した遊離塩基イソチア
ゾロンおよびアミン塩酸塩（アミン・ＨＣｌ）は、遊離
塩基イソチアゾロンの溶液から固体の塩を濾取すること
によって分離される。しかし、アミン・ＨＣｌは、控え
めであるが溶媒にはかなり溶解性があり、結果的には最
終イソチアゾロン生成物には全く塩が含まれないという
ことはない。
ゾロンおよびアミン塩酸塩（アミン・ＨＣｌ）は、遊離
塩基イソチアゾロンの溶液から固体の塩を濾取すること
によって分離される。しかし、アミン・ＨＣｌは、控え
めであるが溶媒にはかなり溶解性があり、結果的には最
終イソチアゾロン生成物には全く塩が含まれないという
ことはない。
【００１３】従来の方法のいずれにおいても、実質的に
純粋な、塩を含有しないし、水も含有していないイソチ
アゾロンを造ることはできない。
純粋な、塩を含有しないし、水も含有していないイソチ
アゾロンを造ることはできない。
【００１４】発明の概要 本発明の目的は、高純度の塩を含有しない遊離のイソチ
アゾロンを高収率で製造することである。更に、本発明
の目的は、純粋なかつ塩と水を含有しないイソチアゾロ
ンを製造することである。これらの目的、および後述の
記載から明らかになるであろうその他の目的は、(a) ア
ンモニア水と、
アゾロンを高収率で製造することである。更に、本発明
の目的は、純粋なかつ塩と水を含有しないイソチアゾロ
ンを製造することである。これらの目的、および後述の
記載から明らかになるであろうその他の目的は、(a) ア
ンモニア水と、
【化６】
【００１５】式中、Ｚは、塩素、臭素、硫酸塩（ｓｕｌ
ｆａｔｅ）、またはフルオロスルホン酸塩（ｆｌｕｏｒ
ｏｓｕｌｆａｔｅ）であり、ｍは、Ｚが塩素、臭素、ま
たはフルオロスルホン酸塩であるときは１であり、そし
て、Ｚが硫酸塩であるときは２であり、Ｙは、１〜１０
個の炭素原子を有するアルキルまたは置換アルキル、２
〜１０個の炭素原子を有する非置換またはハロゲン置換
のアルケニルまたはアルキニル、および１０個までの炭
素原子を有するアラルキルまたはハロゲン−、低級アル
キル−、または低級アルコキシ−置換のアラルキルから
成る群から選ばれ、 Ｘは、水素または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルであり、そし
て Ｘ1 は、水素、塩素、または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルで
ある、
ｆａｔｅ）、またはフルオロスルホン酸塩（ｆｌｕｏｒ
ｏｓｕｌｆａｔｅ）であり、ｍは、Ｚが塩素、臭素、ま
たはフルオロスルホン酸塩であるときは１であり、そし
て、Ｚが硫酸塩であるときは２であり、Ｙは、１〜１０
個の炭素原子を有するアルキルまたは置換アルキル、２
〜１０個の炭素原子を有する非置換またはハロゲン置換
のアルケニルまたはアルキニル、および１０個までの炭
素原子を有するアラルキルまたはハロゲン−、低級アル
キル−、または低級アルコキシ−置換のアラルキルから
成る群から選ばれ、 Ｘは、水素または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルであり、そし
て Ｘ1 は、水素、塩素、または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルで
ある、
【００１６】を有するイソチアゾロン塩とを反応させ、
【００１７】(b) その結果として得られた遊離塩基イソ
チアゾロンから（ＮＨ4 ）ｍＺを分離する、ことから成
る、
チアゾロンから（ＮＨ4 ）ｍＺを分離する、ことから成
る、
【化７】
【００１８】式中、Ｙ、Ｘ、およびＸ1 は前記定義と同
じである、
じである、
【００１９】を有する３−イソチアゾロンの製造方法を
包含する、本発明によって達成される。
包含する、本発明によって達成される。
【００２０】Ｙは、好ましくは、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ヒ
ドロキシメチル、クロロメチル、クロロプロピル、ベン
ジル、４−メトキシベンジル、４−クロロベンジル、フ
ェネチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、４−フ
ェニルブチルである。
ピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ヒ
ドロキシメチル、クロロメチル、クロロプロピル、ベン
ジル、４−メトキシベンジル、４−クロロベンジル、フ
ェネチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、４−フ
ェニルブチルである。
【００２１】Ｚは、好ましくは、塩素または臭素であ
り、最も好ましくは塩素である。
り、最も好ましくは塩素である。
【００２２】用語“低級”アルキル、低級アルコキシ等
は、それらのアルキルまたはアルコキシ部分が約１〜２
個の炭素原子を有していることを意味する。
は、それらのアルキルまたはアルコキシ部分が約１〜２
個の炭素原子を有していることを意味する。
【００２３】発明の詳細および好ましい態様 本発明方法において、塩を溶解しまたは分散させるため
に有機溶媒を使用することは任意的であるが、しかし好
ましいことである。
に有機溶媒を使用することは任意的であるが、しかし好
ましいことである。
【００２４】本発明方法は、式（Ｉ）のイソチアゾロン
塩または式（Ｉ）のイソチアゾロン塩と有機溶媒との混
合物を、存在しているＨm Ｚを中和して遊離塩基のイソ
チアゾロンおよび不溶性の（ＮＨ4 ）m Ｚ塩を生成させ
るのに充分な量において、無水アンモニアと接触させ、
次いでこの混合物を分離することから成っている。有機
溶媒は、遊離塩基のイソチアゾロンがその溶媒に本質的
に可溶であり、かつ（ＮＨ4 ）m Ｚ塩がその溶媒に本質
的に不溶であるように選ばれる。用語“本質的に可溶
（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｓｏｌｕｂｌｅ）”は、遊
離塩基のイソチアゾロンが使用した溶媒に充分に可溶で
あり、利用可能な遊離塩基のイソチアゾロンの＞９５％
が（ＮＨ4 ）m Ｚ塩の分離後に回収することができるこ
とを意味する。また、用語“本質的に不溶（ｅｓｓｅｎ
ｔｉａｌｌｙ ｉｎｓｏｌｕｂｌｅ）”は、（ＮＨ4 ）
m Ｚ塩が使用した溶媒または溶媒混合物に充分に不溶で
あり、（ＮＨ4 ）m Ｚ塩の＜０．５％、好ましくは＜
０．１％、が単離した遊離塩基のイソチアゾロン中に見
出されることを意味する。
塩または式（Ｉ）のイソチアゾロン塩と有機溶媒との混
合物を、存在しているＨm Ｚを中和して遊離塩基のイソ
チアゾロンおよび不溶性の（ＮＨ4 ）m Ｚ塩を生成させ
るのに充分な量において、無水アンモニアと接触させ、
次いでこの混合物を分離することから成っている。有機
溶媒は、遊離塩基のイソチアゾロンがその溶媒に本質的
に可溶であり、かつ（ＮＨ4 ）m Ｚ塩がその溶媒に本質
的に不溶であるように選ばれる。用語“本質的に可溶
（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｓｏｌｕｂｌｅ）”は、遊
離塩基のイソチアゾロンが使用した溶媒に充分に可溶で
あり、利用可能な遊離塩基のイソチアゾロンの＞９５％
が（ＮＨ4 ）m Ｚ塩の分離後に回収することができるこ
とを意味する。また、用語“本質的に不溶（ｅｓｓｅｎ
ｔｉａｌｌｙ ｉｎｓｏｌｕｂｌｅ）”は、（ＮＨ4 ）
m Ｚ塩が使用した溶媒または溶媒混合物に充分に不溶で
あり、（ＮＨ4 ）m Ｚ塩の＜０．５％、好ましくは＜
０．１％、が単離した遊離塩基のイソチアゾロン中に見
出されることを意味する。
【００２５】また、好ましくは、選択した溶媒は、式
（Ｉ）のイソチアゾロン塩を造る前述のハロゲン化／環
化の工程における溶媒として使用する。中和のための適
当な溶媒には、アルコール類、グリコール類、グリコー
ルエーテル類、芳香族炭化水素類、塩素化芳香族炭化水
素類、脂肪族炭化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、お
よび酢酸エステル類が包含される。酢酸エステル類が好
ましく、特に酢酸エチルまたは酢酸ブチルが好ましい。
（Ｉ）のイソチアゾロン塩を造る前述のハロゲン化／環
化の工程における溶媒として使用する。中和のための適
当な溶媒には、アルコール類、グリコール類、グリコー
ルエーテル類、芳香族炭化水素類、塩素化芳香族炭化水
素類、脂肪族炭化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、お
よび酢酸エステル類が包含される。酢酸エステル類が好
ましく、特に酢酸エチルまたは酢酸ブチルが好ましい。
【００２６】イソチアゾロン塩を溶解したりまたは分散
したりするための好ましい有機溶媒は、（Ｃ1 −Ｃ5 ）
アルキルアルコール、（Ｃ2 −Ｃ8 ）アルキレングリコ
ール、（Ｃ3 −Ｃ10）アルキレングリコールエーテル、
（Ｃ6 ）芳香族炭化水素、（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキル置換
芳香族炭化水素、塩素置換（Ｃ6 ）芳香族炭化水素、塩
素置換（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキル置換芳香族炭化水素、
（Ｃ6 − Ｃ8 ）アルカン、塩素置換（Ｃ1 −Ｃ3 ）ア
ルカン、および酢酸の（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルキルエステル
から成る群から選ばれる。
したりするための好ましい有機溶媒は、（Ｃ1 −Ｃ5 ）
アルキルアルコール、（Ｃ2 −Ｃ8 ）アルキレングリコ
ール、（Ｃ3 −Ｃ10）アルキレングリコールエーテル、
（Ｃ6 ）芳香族炭化水素、（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキル置換
芳香族炭化水素、塩素置換（Ｃ6 ）芳香族炭化水素、塩
素置換（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキル置換芳香族炭化水素、
（Ｃ6 − Ｃ8 ）アルカン、塩素置換（Ｃ1 −Ｃ3 ）ア
ルカン、および酢酸の（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルキルエステル
から成る群から選ばれる。
【００２７】溶媒の特に好ましい群は、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオー
ル、ジプロピレングリコール、エチレングリコールブチ
ルエーテル、トルエン、モノクロロベンゼン、ヘプタ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エ
チル、および酢酸ブチルから成る群から選ばれる。
ール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオー
ル、ジプロピレングリコール、エチレングリコールブチ
ルエーテル、トルエン、モノクロロベンゼン、ヘプタ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エ
チル、および酢酸ブチルから成る群から選ばれる。
【００２８】中和の間に、式（Ｉ）のイソチアゾロン塩
の溶液または分散液に導入するアンモニアの量は、該塩
を中和するのに必要な化学量論量よりも少ないかまたは
ちょうど等しくすべきである。過剰のアンモニアを避
け、遊離塩基のイソチアゾロンと反応し、その結果とし
て低収率、および低純度と高い色付きを与える副生成物
の生成を防止すべきである。本発明者は、中和した式
（Ｉ）のイソチアゾロン溶液上の蒸気空間中のアンモニ
アを監視することによって、過剰のアンモニアを避ける
ことが可能であることを見出した。本発明者には、アン
モニアガス検出用のプローブ（ｐｒｏｂｅ）または湿っ
たリトマス紙（ｌｉｔｍｕｓ ｐａｐｅｒ）を使用し
て、中和のために導入したアンモニアの量を正確に調節
し、Ｈm Ｚの全てがいったん中和されれば、遊離塩基の
イソチアゾロン中にアンモニアが殆んどまたは過剰にた
まらないことが好ましい。
の溶液または分散液に導入するアンモニアの量は、該塩
を中和するのに必要な化学量論量よりも少ないかまたは
ちょうど等しくすべきである。過剰のアンモニアを避
け、遊離塩基のイソチアゾロンと反応し、その結果とし
て低収率、および低純度と高い色付きを与える副生成物
の生成を防止すべきである。本発明者は、中和した式
（Ｉ）のイソチアゾロン溶液上の蒸気空間中のアンモニ
アを監視することによって、過剰のアンモニアを避ける
ことが可能であることを見出した。本発明者には、アン
モニアガス検出用のプローブ（ｐｒｏｂｅ）または湿っ
たリトマス紙（ｌｉｔｍｕｓ ｐａｐｅｒ）を使用し
て、中和のために導入したアンモニアの量を正確に調節
し、Ｈm Ｚの全てがいったん中和されれば、遊離塩基の
イソチアゾロン中にアンモニアが殆んどまたは過剰にた
まらないことが好ましい。
【００２９】イソチアゾロン・ＨＺの中和工程に使用で
きるが、前述のハロゲン化／環化工程のためには使用で
きない溶媒には、メタノール；グリコール類、例えばエ
チレングリコール、１，３−ブタンジオール、ジプロピ
レングリコール、およびプロピレングリコール；および
グリコールエーテル類、例えばエチレングリコールおよ
びジエチレングリコールのメチルエーテルおよびブチル
エーテルがある。最後の遊離塩基イソチアゾロンをこれ
らの溶媒中に配合し、それにより中和後の（減圧ストリ
ッピング（ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ）または蒸溜による）溶
媒除去工程の必要性を除くことができる。また、これら
の溶媒は、ハロゲン化／環化工程のために使用する溶媒
と組み合わせてまたは混合物として使用することができ
る。中和のために選ばれたアルコール、グリコール、ま
たはグリコールエーテルに依存するが、所望した濃度よ
りも（ＮＨ4 ）m Ｚ塩のより高い濃度が中間の遊離塩基
のイソチアゾロン溶液中に見出される。これらの（ＮＨ
4 ）m Ｚ塩濃度は、選択した溶媒、例えばジプロピレン
グリコール中に最後の遊離塩基のイソチアゾロンを配合
することにより許容できるレベルに減少させ、次いで濾
過することができる。
きるが、前述のハロゲン化／環化工程のためには使用で
きない溶媒には、メタノール；グリコール類、例えばエ
チレングリコール、１，３−ブタンジオール、ジプロピ
レングリコール、およびプロピレングリコール；および
グリコールエーテル類、例えばエチレングリコールおよ
びジエチレングリコールのメチルエーテルおよびブチル
エーテルがある。最後の遊離塩基イソチアゾロンをこれ
らの溶媒中に配合し、それにより中和後の（減圧ストリ
ッピング（ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ）または蒸溜による）溶
媒除去工程の必要性を除くことができる。また、これら
の溶媒は、ハロゲン化／環化工程のために使用する溶媒
と組み合わせてまたは混合物として使用することができ
る。中和のために選ばれたアルコール、グリコール、ま
たはグリコールエーテルに依存するが、所望した濃度よ
りも（ＮＨ4 ）m Ｚ塩のより高い濃度が中間の遊離塩基
のイソチアゾロン溶液中に見出される。これらの（ＮＨ
4 ）m Ｚ塩濃度は、選択した溶媒、例えばジプロピレン
グリコール中に最後の遊離塩基のイソチアゾロンを配合
することにより許容できるレベルに減少させ、次いで濾
過することができる。
【００３０】他の強酸の塩、例えば（イソチアゾロン）
2 ・（Ｈ2 ＳＯ4 ）または（イソチアゾロン）・ＨＦＳ
Ｏ3 は、無水アンモニアを用いて中和し、遊離塩基のイ
ソチアゾロンおよび不溶性の硫酸アンモニウムまたはフ
ルオロスルホン酸アンモニウムを生成させることができ
る。
2 ・（Ｈ2 ＳＯ4 ）または（イソチアゾロン）・ＨＦＳ
Ｏ3 は、無水アンモニアを用いて中和し、遊離塩基のイ
ソチアゾロンおよび不溶性の硫酸アンモニウムまたはフ
ルオロスルホン酸アンモニウムを生成させることができ
る。
【００３１】イソチアゾロンおよびイソチアゾロン混合
物の、高純度かつ塩を含有しない、水を含有しない配合
物を得る本発明方法に加えて、本発明を使用して、式
（Ｉ）のイソチアゾロン塩混合物中に最初に存在してい
る２種以上のイソチアゾロンの異った比を得ることがで
きる。例えば、（５−クロロ−２−メチル−３−イソチ
アゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン）m ・Ｈm
Ｚの３／１混合物を、アンモニアを用いて部分的にだけ
中和し、次いで〔残留している式（Ｉ）のイソチアゾロ
ン塩および（ＮＨ4 ）mＺ塩の濾取後〕に遊離塩基のイ
ソチアゾロンを単離することができる。この操作によっ
て得られた遊離塩基のイソチアゾロンは、２−メチル−
３−イソチアゾロンに関連して５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロンが豊んでいる。これは遊離塩基の
イソチアゾロンの塩基度の差に起因する。この豊富化の
操作は、中和すべき式（Ｉ）のイソチアゾロン塩の最初
の混合物中のイソチアゾロンの塩基度に差異があるとき
はいつでも、本発明方法におって行うことができる。実
際、当業者は、本発明方法を使用して５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチ
アゾロン混合物から５−クロロ−２−メチル−３−イソ
チアゾロンの極めて豊富な混合物を単離することができ
る。次いで、残留している式（Ｉ）のイソチアゾロン
は、アンモニアを追加処理して遊離塩基のイソチアゾロ
ンを遊離させ、それにより２−メチル−３−イソチアゾ
ロンの極めて豊富な混合物を単離することができる。
物の、高純度かつ塩を含有しない、水を含有しない配合
物を得る本発明方法に加えて、本発明を使用して、式
（Ｉ）のイソチアゾロン塩混合物中に最初に存在してい
る２種以上のイソチアゾロンの異った比を得ることがで
きる。例えば、（５−クロロ−２−メチル−３−イソチ
アゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン）m ・Ｈm
Ｚの３／１混合物を、アンモニアを用いて部分的にだけ
中和し、次いで〔残留している式（Ｉ）のイソチアゾロ
ン塩および（ＮＨ4 ）mＺ塩の濾取後〕に遊離塩基のイ
ソチアゾロンを単離することができる。この操作によっ
て得られた遊離塩基のイソチアゾロンは、２−メチル−
３−イソチアゾロンに関連して５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロンが豊んでいる。これは遊離塩基の
イソチアゾロンの塩基度の差に起因する。この豊富化の
操作は、中和すべき式（Ｉ）のイソチアゾロン塩の最初
の混合物中のイソチアゾロンの塩基度に差異があるとき
はいつでも、本発明方法におって行うことができる。実
際、当業者は、本発明方法を使用して５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチ
アゾロン混合物から５−クロロ−２−メチル−３−イソ
チアゾロンの極めて豊富な混合物を単離することができ
る。次いで、残留している式（Ｉ）のイソチアゾロン
は、アンモニアを追加処理して遊離塩基のイソチアゾロ
ンを遊離させ、それにより２−メチル−３−イソチアゾ
ロンの極めて豊富な混合物を単離することができる。
【００３２】前述の記載および次の実施例から理解され
るように、本発明方法によって、実質的に水を含有しな
い、塩を含有しない遊離塩基のイソチアゾロンを製造す
るための、独特、新規、有用、かつ高有利の方法が提供
される。好ましいイソチアゾロンは、イソチアゾロンの
重量に基づいて、約０．１％以下の水および約０．１％
以下の（ＮＨ4 ）m Ｚを含んでいる。次の実施例は本発
明方法を例示するが、これらは例示だけであり、本発明
の範囲を制限することを意図しているものではない。
るように、本発明方法によって、実質的に水を含有しな
い、塩を含有しない遊離塩基のイソチアゾロンを製造す
るための、独特、新規、有用、かつ高有利の方法が提供
される。好ましいイソチアゾロンは、イソチアゾロンの
重量に基づいて、約０．１％以下の水および約０．１％
以下の（ＮＨ4 ）m Ｚを含んでいる。次の実施例は本発
明方法を例示するが、これらは例示だけであり、本発明
の範囲を制限することを意図しているものではない。
【００３３】実施例１５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロンおよび２
−メチル−３−イソチアゾロンの３：１混合物の製造 この実施例は、塩素化／環化および中和の両方のための
有機溶媒として酢酸エチルを使用し、中和剤として無水
アンモニアを使用する例を示す。尚、塩素化／環化は米
国特許第３，８４９，４３０号およびヨーロッパ特許第
９５９０７号により行った。塩素化／環化および中和の
両方のために同じ溶媒を使用した。
−メチル−３−イソチアゾロンの３：１混合物の製造 この実施例は、塩素化／環化および中和の両方のための
有機溶媒として酢酸エチルを使用し、中和剤として無水
アンモニアを使用する例を示す。尚、塩素化／環化は米
国特許第３，８４９，４３０号およびヨーロッパ特許第
９５９０７号により行った。塩素化／環化および中和の
両方のために同じ溶媒を使用した。
【００３４】工程１：Ｎ−メチル−３−メルカプトプロ
ピオンアミド（ＭＭＰＡ）の塩素化底部に取出し口を有
する１ｌのジャケット付き反応器（ｋｅｔｔｌｅ）に、
頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、２８％ＭＭＰＡ
酢酸エチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバー
（ｃａｕｓｔｉｃ ｓｃｒｕｂｂｅｒ）に連結した冷却
器を装備した。この反応器に、酢酸エチルを仕込んだ。
この酢酸エチルの下部に、よくかくはんしながら、かつ
温度を調節しながら１〜３時間かけて塩素および２８％
ＭＭＰＡ溶液を共供給した。得られたイソチアゾロン・
ＨＣｌ塩の塩素化スラリーを濾過してイソチアゾロン・
ＨＣｌケーキを単離した。このイソチアゾロン・ＨＣｌ
ケーキを酢酸エチルを用いてよく洗い、イソチアゾロン
・ＨＣｌ塩の高純度混合物（ＨＰＬＣおよびＨＣｌ分析
により９９．９％、７３．５％５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロン／２６．５％２−メチル−３−イ
ソチアゾロン、すなわち２．８：１の比）を造った。
ピオンアミド（ＭＭＰＡ）の塩素化底部に取出し口を有
する１ｌのジャケット付き反応器（ｋｅｔｔｌｅ）に、
頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、２８％ＭＭＰＡ
酢酸エチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバー
（ｃａｕｓｔｉｃ ｓｃｒｕｂｂｅｒ）に連結した冷却
器を装備した。この反応器に、酢酸エチルを仕込んだ。
この酢酸エチルの下部に、よくかくはんしながら、かつ
温度を調節しながら１〜３時間かけて塩素および２８％
ＭＭＰＡ溶液を共供給した。得られたイソチアゾロン・
ＨＣｌ塩の塩素化スラリーを濾過してイソチアゾロン・
ＨＣｌケーキを単離した。このイソチアゾロン・ＨＣｌ
ケーキを酢酸エチルを用いてよく洗い、イソチアゾロン
・ＨＣｌ塩の高純度混合物（ＨＰＬＣおよびＨＣｌ分析
により９９．９％、７３．５％５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロン／２６．５％２−メチル−３−イ
ソチアゾロン、すなわち２．８：１の比）を造った。
【００３５】工程２：イソチアゾロン・ＨＣｌ塩の中和 イソチアゾロン・ＨＣｌ塩の混合物を新しい酢酸エチル
中に再びスラリー化し（２５％個体）、遊離アンモニア
がアンモニアガス検出プルーブによって反応器の上部空
間に検出することができるまで、１０〜２２℃の温度に
おいて、スラリーを通して無水アンモニアを徐々に流し
た。遊離アンモニアがガス上部空間に検出される前に、
イソチアゾロン・ＨＣｌ塩混合物はアンモニア２２．３
ｇを吸収した。次いで、遊離塩基のイソチアゾロン溶液
中に得られた塩化アンモニウムスラリーを減圧ブフナー
ロートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸エチル
でよく洗った。
中に再びスラリー化し（２５％個体）、遊離アンモニア
がアンモニアガス検出プルーブによって反応器の上部空
間に検出することができるまで、１０〜２２℃の温度に
おいて、スラリーを通して無水アンモニアを徐々に流し
た。遊離アンモニアがガス上部空間に検出される前に、
イソチアゾロン・ＨＣｌ塩混合物はアンモニア２２．３
ｇを吸収した。次いで、遊離塩基のイソチアゾロン溶液
中に得られた塩化アンモニウムスラリーを減圧ブフナー
ロートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸エチル
でよく洗った。
【００３６】工程３：溶媒ストリップ（ｓｔｒｉｐ） 濾液および酢酸エチルで洗った液をいっしょにし、減圧
下（４０℃／２０mmHg〜５０℃／２mmHg）でストリップ
し、高純度の遊離塩基のイソチアゾロン生成物：７６．
４％５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２
３．４％２−メチル−３−イソチアゾロン（３．３：１
の比）、純度９９．８％（＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）の１
７６．８ｇを得た。全収率は出発ＭＭＰＡに基づいて８
４．２モル％であった。
下（４０℃／２０mmHg〜５０℃／２mmHg）でストリップ
し、高純度の遊離塩基のイソチアゾロン生成物：７６．
４％５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２
３．４％２−メチル−３−イソチアゾロン（３．３：１
の比）、純度９９．８％（＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）の１
７６．８ｇを得た。全収率は出発ＭＭＰＡに基づいて８
４．２モル％であった。
【００３７】工程４：５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンをジプ
ロピレングリコール（ＤＰＧ）に溶解した配合物前記の
高純度の遊離塩基イソチアゾロン混合物を、ＤＰＧの適
当な量に溶解し、５％イソチアゾロン（活性成分）ＤＰ
Ｇ溶液を造った。次いで、この５％活性成分を含有する
配合物を、３０〜１００ppm （活性活分）において種々
なラテックス乳濁液に加えた。これらはラテックス中に
ゲルを生成させないで、生物的汚染に対して秀れた防護
を提供した。
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンをジプ
ロピレングリコール（ＤＰＧ）に溶解した配合物前記の
高純度の遊離塩基イソチアゾロン混合物を、ＤＰＧの適
当な量に溶解し、５％イソチアゾロン（活性成分）ＤＰ
Ｇ溶液を造った。次いで、この５％活性成分を含有する
配合物を、３０〜１００ppm （活性活分）において種々
なラテックス乳濁液に加えた。これらはラテックス中に
ゲルを生成させないで、生物的汚染に対して秀れた防護
を提供した。
【００３８】実施例２５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メ
チル−３−イソチアゾロンの３：９７混合物の製造 実施例１の工程１に類似した方法を用いて、純度９８．
２％および５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロ
ン／２−メチル−３−イソチアゾロン比２：９８を有す
るイソチアゾロン・ＨＣｌを得た。実施例１の工程２の
操作に従って、このイソチアゾロン・ＨＣｌをアンモニ
アで中和し、純度９８．２％（５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロ
ン比３：９７、＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）を有するイソチ
アゾロンを得た。全モル収率は８６．４％であった。
チル−３−イソチアゾロンの３：９７混合物の製造 実施例１の工程１に類似した方法を用いて、純度９８．
２％および５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロ
ン／２−メチル−３−イソチアゾロン比２：９８を有す
るイソチアゾロン・ＨＣｌを得た。実施例１の工程２の
操作に従って、このイソチアゾロン・ＨＣｌをアンモニ
アで中和し、純度９８．２％（５−クロロ−２−メチル
−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロ
ン比３：９７、＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）を有するイソチ
アゾロンを得た。全モル収率は８６．４％であった。
【００３９】実施例３５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メ
チル−３−イソチアゾロンの９２：８混合物の製造 工程１：ＭＭＰＡの塩素化実施例１の工程１の操作に従
って、ＨＰＬＣおよびＨＣｌの分析に基づいて、純度９
９．９％（９１％５−クロロ−２−メチル−３−イソチ
アゾロン／９％２−メチル−３−イソチアゾロン、すな
わち１０．１：１の比）を有するイソチアゾロン・ＨＣ
ｌ塩試料を得た。工程２：イソチアゾロン・ＨＣｌ塩の
中和この工程は実施例１の工程２の操作を繰り返し、９
２％５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／８
％２−メチル−３−イソチアゾロン（１１．４：１）の
比を有する遊離塩基イソチアゾロン（純度９９．５％、
＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）１８１ｇを得た。出発ＭＭＰＡ
に基づいた全イソチアゾロン収率は８２モル％であっ
た。
チル−３−イソチアゾロンの９２：８混合物の製造 工程１：ＭＭＰＡの塩素化実施例１の工程１の操作に従
って、ＨＰＬＣおよびＨＣｌの分析に基づいて、純度９
９．９％（９１％５−クロロ−２−メチル−３−イソチ
アゾロン／９％２−メチル−３−イソチアゾロン、すな
わち１０．１：１の比）を有するイソチアゾロン・ＨＣ
ｌ塩試料を得た。工程２：イソチアゾロン・ＨＣｌ塩の
中和この工程は実施例１の工程２の操作を繰り返し、９
２％５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／８
％２−メチル−３−イソチアゾロン（１１．４：１）の
比を有する遊離塩基イソチアゾロン（純度９９．５％、
＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）１８１ｇを得た。出発ＭＭＰＡ
に基づいた全イソチアゾロン収率は８２モル％であっ
た。
【００４０】実施例４トルエン溶媒を用いて５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン混合物
の製造 酢酸エチル溶媒をトルエンで置き代えた以外は、実施例
１の工程１を繰り返した。得られたイソチアゾロン・Ｈ
Ｃｌは、純度８９％（５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン比３．
７：１）を有していた。実施例１の工程２の操作に従っ
てイソチアゾロン・ＨＣｌ塩をアンモニアを用いて中和
し、純度８８％（＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）および５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−
３−イソチアゾロン比４．４：１を有する遊離塩基イソ
チアゾロンを造った。
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン混合物
の製造 酢酸エチル溶媒をトルエンで置き代えた以外は、実施例
１の工程１を繰り返した。得られたイソチアゾロン・Ｈ
Ｃｌは、純度８９％（５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン比３．
７：１）を有していた。実施例１の工程２の操作に従っ
てイソチアゾロン・ＨＣｌ塩をアンモニアを用いて中和
し、純度８８％（＜０．１％ＮＨ4 Ｃｌ）および５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−
３−イソチアゾロン比４．４：１を有する遊離塩基イソ
チアゾロンを造った。
【００４１】実施例５酢酸ブチル（ＢｕＯＡｃ）溶媒を用いて５−クロロ−２
−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソ
チアゾロン混合物の製造 酢酸エチル溶媒をＢｕＯＡｃで置き代えた以外は、実施
例１の工程１を繰り返した。得られたイソチアゾロン・
ＨＣｌは、純度９９％（５−クロロ−２−メチル−３−
イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン比
３．９：１）を有していた。実施例１の工程２の操作に
従ってイソチアゾロン・ＨＣｌ塩をアンモニアを用いて
中和し、純度＞９９％および５−クロロ−２−メチル−
３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン
比４．７：１（＜０．５％ＮＨ4Ｃｌ）を有する遊離塩
基イソチアゾロンを造った。
−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソ
チアゾロン混合物の製造 酢酸エチル溶媒をＢｕＯＡｃで置き代えた以外は、実施
例１の工程１を繰り返した。得られたイソチアゾロン・
ＨＣｌは、純度９９％（５−クロロ−２−メチル−３−
イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン比
３．９：１）を有していた。実施例１の工程２の操作に
従ってイソチアゾロン・ＨＣｌ塩をアンモニアを用いて
中和し、純度＞９９％および５−クロロ−２−メチル−
３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン
比４．７：１（＜０．５％ＮＨ4Ｃｌ）を有する遊離塩
基イソチアゾロンを造った。
【００４２】実施例６５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メ
チル−３−イソチアゾロンの４：１混合物の製造 この実施例は、塩素化／環化工程だけを行う溶媒として
酢酸エチルを使用し、無水アンモニアを使用する中和工
程を、グリコールおよび共溶媒としての酢酸エチルの混
合物中で行う、本発明方法を例示する。得られたイソチ
アゾロン・ＨＣｌは純度９８．３％を有し、かつ５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−
３−イソチアゾロン比は４：１であった。
チル−３−イソチアゾロンの４：１混合物の製造 この実施例は、塩素化／環化工程だけを行う溶媒として
酢酸エチルを使用し、無水アンモニアを使用する中和工
程を、グリコールおよび共溶媒としての酢酸エチルの混
合物中で行う、本発明方法を例示する。得られたイソチ
アゾロン・ＨＣｌは純度９８．３％を有し、かつ５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−
３−イソチアゾロン比は４：１であった。
【００４３】工程２：イソチアゾロン・ＨＣｌ塩の中和 イソチアゾロン・ＨＣｌケーキ（６８．４ｇ）を、酢酸
エチル１２６．６ｇおよびジプロピレングリコール（Ｄ
ＰＧ）８５．８ｇ中に再スラリー化した。次いで、よく
かくはんしたスラリーを、遊離アンモニアが反応器の上
部空間に検出されるまで該スラリーを通してアンモニア
ガスを流した（アンモニア５．５ｇが中和のために必要
であった）。次いで、得られた遊離塩基イソチアゾロン
および塩化アンモニウムを濾過し、新しい酢酸エチルで
よく洗った。
エチル１２６．６ｇおよびジプロピレングリコール（Ｄ
ＰＧ）８５．８ｇ中に再スラリー化した。次いで、よく
かくはんしたスラリーを、遊離アンモニアが反応器の上
部空間に検出されるまで該スラリーを通してアンモニア
ガスを流した（アンモニア５．５ｇが中和のために必要
であった）。次いで、得られた遊離塩基イソチアゾロン
および塩化アンモニウムを濾過し、新しい酢酸エチルで
よく洗った。
【００４４】工程３：溶媒ストリップ 濾液および酢酸エチルで洗った液をいっしょにし、これ
にトリエチルオルトホルメート安定剤１２．１ｇを加え
た。次いで、この混合物から酢酸エチルを５０℃／２０
〜５mmHgでストリップし、２６．４％５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロン、６．６％２−メチル−３
−イソチアゾロン（４：１比）、＜０．５％ＮＨ4 Ｃｌ
を含有するＤＰＧ液体混合物１３２．３ｇを得た。
にトリエチルオルトホルメート安定剤１２．１ｇを加え
た。次いで、この混合物から酢酸エチルを５０℃／２０
〜５mmHgでストリップし、２６．４％５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロン、６．６％２−メチル−３
−イソチアゾロン（４：１比）、＜０．５％ＮＨ4 Ｃｌ
を含有するＤＰＧ液体混合物１３２．３ｇを得た。
【００４５】工程４：５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンをＤＰ
Ｇに溶解した配合物 前記の溶液にＤＰＧ１５０．５ｇを更に加えて希釈し、
次いで濾過し、１５．２％５−クロロ−２−メチル−３
−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンの
ＤＰＧ溶液の最終配合物を得た。
ソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンをＤＰ
Ｇに溶解した配合物 前記の溶液にＤＰＧ１５０．５ｇを更に加えて希釈し、
次いで濾過し、１５．２％５−クロロ−２−メチル−３
−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロンの
ＤＰＧ溶液の最終配合物を得た。
【００４６】実施例７２−オクチル−３−イソチアゾロンの製造 この実施例は、塩素化／環化工程および中和の両方を行
う溶媒として酢酸ブチルを使用し、かつ中和剤として無
水アンモニアを使用した本発明方法を例示する。
う溶媒として酢酸ブチルを使用し、かつ中和剤として無
水アンモニアを使用した本発明方法を例示する。
【００４７】工程１：Ｎ−オクチル−３−メルカプトプ
ロピオンアミド（ＯＭＰＡ）の塩素化 底部に取出し口を有する１ｌのジャケット付き反応器
に、頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、２８％ＯＭ
ＰＡ酢酸ブチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラ
バーに連結した冷却器を装備した。この反応器に、酢酸
ブチルを仕込んだ。この酢酸ブチルの下部に、よくかく
はんしながら、かつ温度を調節しながら１〜２時間かけ
て塩素および２８％ＯＭＰＡ溶液を共供給した。得られ
た２−オクチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌの塩素化
スラリーを濾過して２−オクチル−３−イソチアゾロン
・ＨＣｌケーキを単離した。この２−オクチル−３−イ
ソチアゾロン・ＨＣｌケーキを酢酸ブチルを用いてよく
洗い、高純度の２−オクチル−３−イソチアゾロン・Ｈ
Ｃｌ塩を得た。この２−オクチル−３−イソチアゾロン
・ＨＣｌの１部を乾燥し、２−オクチル−３−イソチア
ゾロンをＧＣ（ガスクロマトグラフィー）によって分析
し、そしてＨＣｌを電位差計滴定によって分析し、それ
らの結果はそれぞれ８５．３％および１４．５％であっ
た。これから２−オクチル−３−イソオクタン・ＨＣｌ
全部の純度は９９．８％であった。
ロピオンアミド（ＯＭＰＡ）の塩素化 底部に取出し口を有する１ｌのジャケット付き反応器
に、頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、２８％ＯＭ
ＰＡ酢酸ブチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラ
バーに連結した冷却器を装備した。この反応器に、酢酸
ブチルを仕込んだ。この酢酸ブチルの下部に、よくかく
はんしながら、かつ温度を調節しながら１〜２時間かけ
て塩素および２８％ＯＭＰＡ溶液を共供給した。得られ
た２−オクチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌの塩素化
スラリーを濾過して２−オクチル−３−イソチアゾロン
・ＨＣｌケーキを単離した。この２−オクチル−３−イ
ソチアゾロン・ＨＣｌケーキを酢酸ブチルを用いてよく
洗い、高純度の２−オクチル−３−イソチアゾロン・Ｈ
Ｃｌ塩を得た。この２−オクチル−３−イソチアゾロン
・ＨＣｌの１部を乾燥し、２−オクチル−３−イソチア
ゾロンをＧＣ（ガスクロマトグラフィー）によって分析
し、そしてＨＣｌを電位差計滴定によって分析し、それ
らの結果はそれぞれ８５．３％および１４．５％であっ
た。これから２−オクチル−３−イソオクタン・ＨＣｌ
全部の純度は９９．８％であった。
【００４８】工程２：２−オクチル−３−イソチアゾロ
ンの中和２−オクチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌ塩
を新しい酢酸ブチル中に再びスラリー化し（２５％固
体）、遊離アンモニアが湿ったリトマス試験紙またはア
ンモニア検出プルーブのいずれかによって容器の上部空
間に検出できるまで、（１０〜２０℃に維持した）スラ
リーを通して、無水アンモニアを徐々に流した。次い
で、得られた遊離塩基２−オクチル−３−イソチアゾロ
ンおよび塩化アンモニウムのスラリーを減圧ブフナーロ
ートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸ブチルで
よく洗った。
ンの中和２−オクチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌ塩
を新しい酢酸ブチル中に再びスラリー化し（２５％固
体）、遊離アンモニアが湿ったリトマス試験紙またはア
ンモニア検出プルーブのいずれかによって容器の上部空
間に検出できるまで、（１０〜２０℃に維持した）スラ
リーを通して、無水アンモニアを徐々に流した。次い
で、得られた遊離塩基２−オクチル−３−イソチアゾロ
ンおよび塩化アンモニウムのスラリーを減圧ブフナーロ
ートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸ブチルで
よく洗った。
【００４９】工程３：溶媒ストリップ 濾液および酢酸ブチルで洗った液をいっしょにし、減圧
下でストリップし、高純度（＞９９％）の遊離塩基の２
−オクチル−３−イソチアゾロン生成物（＜０．５％Ｎ
Ｈ4 Ｃｌ）を得た。
下でストリップし、高純度（＞９９％）の遊離塩基の２
−オクチル−３−イソチアゾロン生成物（＜０．５％Ｎ
Ｈ4 Ｃｌ）を得た。
【００５０】工程４：２−オクチル−３−イソチアゾロ
ンをプロピレングリコールに溶解した配合物 ２−オクチル−３−イソチアゾロン（２６６ｇ）を、
１，２−プロピレングリコール（３１２ｇ）に溶解し、
４６％活性成分の溶液を得た。この配合物は、市販のア
クリル系ペイント配合物に添加し、そのペイントが細菌
の攻撃に対して金属製容器中で良好な貯蔵安定性を示
し、かつ外部表面に適用したときのカビ（ｍｉｌｄｅ
ｗ）に対する秀れた抵抗性を示すようにすることができ
る。
ンをプロピレングリコールに溶解した配合物 ２−オクチル−３−イソチアゾロン（２６６ｇ）を、
１，２−プロピレングリコール（３１２ｇ）に溶解し、
４６％活性成分の溶液を得た。この配合物は、市販のア
クリル系ペイント配合物に添加し、そのペイントが細菌
の攻撃に対して金属製容器中で良好な貯蔵安定性を示
し、かつ外部表面に適用したときのカビ（ｍｉｌｄｅ
ｗ）に対する秀れた抵抗性を示すようにすることができ
る。
【００５１】実施例８アンモニアを用いてイソチアゾロン・ＨＣｌ塩混合物の
部分的中和 この実施例は、２種のイソチアゾロンが最初のイソチア
ゾロン・ＨＣｌ混合物に存在していたひよりも異なった
比において２種のイソチアゾロンの混合物を得る方法を
述べている。
部分的中和 この実施例は、２種のイソチアゾロンが最初のイソチア
ゾロン・ＨＣｌ混合物に存在していたひよりも異なった
比において２種のイソチアゾロンの混合物を得る方法を
述べている。
【００５２】５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾ
ロン・ＨＣｌおよび２−メチル−３−イソチアゾロン・
ＨＣｌ（７５．４：２４．６の比において）の９５ｇ混
合物を酢酸エチル４００ｇに溶かした液を、５−クロロ
−２−メチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌを充分に中
和するのに必要な９５％の理論量アンモニア（６．２
ｇ）を使用して、１０℃において部分的に中和した。こ
の結果得られた固体としての塩化アンモニウムおよびイ
ソチアゾロン・ＨＣｌ塩混合物、および溶液中に溶けて
いる遊離塩基イソチアゾロンを、減圧ブフナーロートに
よって濾過し、得られたケーキを酢酸エチルで洗った。
ロン・ＨＣｌおよび２−メチル−３−イソチアゾロン・
ＨＣｌ（７５．４：２４．６の比において）の９５ｇ混
合物を酢酸エチル４００ｇに溶かした液を、５−クロロ
−２−メチル−３−イソチアゾロン・ＨＣｌを充分に中
和するのに必要な９５％の理論量アンモニア（６．２
ｇ）を使用して、１０℃において部分的に中和した。こ
の結果得られた固体としての塩化アンモニウムおよびイ
ソチアゾロン・ＨＣｌ塩混合物、および溶液中に溶けて
いる遊離塩基イソチアゾロンを、減圧ブフナーロートに
よって濾過し、得られたケーキを酢酸エチルで洗った。
【００５３】濾液および酢酸エチルで洗った液をいっし
ょにし、減圧下（５０℃／２０mmＨｇ）でストリップ
し、本質的に５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾ
ロン（９６．１％）、および少量だけの２−メチル−３
−イソチアゾロン（１．１％）を含有する遊離塩基５
５．３ｇを得た。
ょにし、減圧下（５０℃／２０mmＨｇ）でストリップ
し、本質的に５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾ
ロン（９６．１％）、および少量だけの２−メチル−３
−イソチアゾロン（１．１％）を含有する遊離塩基５
５．３ｇを得た。
【００５４】前記のＮＨ4 Ｃｌ／イソチアゾロン・ＨＣ
ｌ塩混合物の湿ったケーキを、酢酸エチル２７５ｇ中に
再びスラリー化し、完全に中和した。これは、ＮＨ3 が
反応器の上部空間に検出される前に、ＮＨ3 ２．８ｇを
吸収した。得られたスラリーを濾過し、減圧ブフナーロ
ート上で洗った。この濾液を減圧下（５０℃／２０mmH
g）でストリップし、５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロンおよび２−メチル−３−イソチアゾロン比
２５：７５を含有する遊離塩基混合物を得た。
ｌ塩混合物の湿ったケーキを、酢酸エチル２７５ｇ中に
再びスラリー化し、完全に中和した。これは、ＮＨ3 が
反応器の上部空間に検出される前に、ＮＨ3 ２．８ｇを
吸収した。得られたスラリーを濾過し、減圧ブフナーロ
ート上で洗った。この濾液を減圧下（５０℃／２０mmH
g）でストリップし、５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロンおよび２−メチル−３−イソチアゾロン比
２５：７５を含有する遊離塩基混合物を得た。
【００５５】比較例 次の比較例１および２は、中和剤としてトリエチルアミ
ン（ＴＥＡ）およびピリジン（ＰＹＲ）を用いる従来技
術の使用例を示す。最終生成物の純度は、これらの有機
塩基を使用したときは低くなり、実施例１〜７の＜０．
５％塩化アンモニウムと比較して、２％またはそれ以上
のアミン・ＨＣｌ塩（ＴＥＡ・ＨＣｌまたはＰＹＲ・Ｈ
Ｃｌ）不純物が存在する。
ン（ＴＥＡ）およびピリジン（ＰＹＲ）を用いる従来技
術の使用例を示す。最終生成物の純度は、これらの有機
塩基を使用したときは低くなり、実施例１〜７の＜０．
５％塩化アンモニウムと比較して、２％またはそれ以上
のアミン・ＨＣｌ塩（ＴＥＡ・ＨＣｌまたはＰＹＲ・Ｈ
Ｃｌ）不純物が存在する。
【００５６】比較例１トリエチルアミン（ＴＥＡ）を用いて５−クロロ−２−
メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチ
アゾロンの４／１混合物の製造 実施例６の工程１の操作に従って得たイソチアゾロン・
ＨＣｌの湿ったケーキ（８３．２ｇ）の試料を酢酸エチ
ル３８３．５ｇ中に再びスラリー化した。このイソチア
ゾロン・ＨＣｌの湿ったケーキのよくかくはんしたスラ
リーに、温度を８〜１２℃に維持しながらＴＥＡ４３ｇ
を滴下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られた
スラリーを２３℃に暖め、ブフナーロートで濾過した。
固体ＴＥＡ・ＨＣｌを酢酸エチル３００ｇを用いて洗っ
た。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５０℃かつ
２０〜５mmHgにおいてストリップし、７８．３％５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／１９．８％２
−メチル−３−イソチアゾロン／２．０％ＴＥＡ・ＨＣ
ｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン５７．０ｇを得
た。
メチル−３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチ
アゾロンの４／１混合物の製造 実施例６の工程１の操作に従って得たイソチアゾロン・
ＨＣｌの湿ったケーキ（８３．２ｇ）の試料を酢酸エチ
ル３８３．５ｇ中に再びスラリー化した。このイソチア
ゾロン・ＨＣｌの湿ったケーキのよくかくはんしたスラ
リーに、温度を８〜１２℃に維持しながらＴＥＡ４３ｇ
を滴下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られた
スラリーを２３℃に暖め、ブフナーロートで濾過した。
固体ＴＥＡ・ＨＣｌを酢酸エチル３００ｇを用いて洗っ
た。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５０℃かつ
２０〜５mmHgにおいてストリップし、７８．３％５−ク
ロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／１９．８％２
−メチル−３−イソチアゾロン／２．０％ＴＥＡ・ＨＣ
ｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン５７．０ｇを得
た。
【００５７】比較例２ピリジン（ＰＹＲ）を用いて５−クロロ−２−メチル−
３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン
の４／１混合物の製造 実施例６の工程１の操作に従って得たイソチアゾロン・
ＨＣｌの湿ったケーキ（７４．４ｇ）の試料を酢酸エチ
ル４１０ｇ中に再びスラリー化した。このイソチアゾロ
ン・ＨＣｌの湿ったケーキのよくかくはんしたスラリー
に、温度を１０℃に維持しながらＰＹＲ２９．３ｇを滴
下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られたスラ
リーを２５℃に暖め、２等分した。次いで、得られたス
ラリーの１つの部分（２４６ｇ）をブフナーロートで濾
過した。固体のＰＹＲ・ＨＣｌを酢酸エチル２５０ｇで
洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５０
℃、５〜２０mmHgにおいてストリップし、７７．６％５
−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／１９．４
％２−メチル−３−イソチアゾロン／２．５％ＰＹＲ・
ＨＣｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン２６．２ｇを
得た。次いで、得られたスラリーの第２の部分（２４４
ｇ）をＰＹＲ４．４ｇを追加して処理し、ブフナーロー
トで濾過した。固体ＰＹＲ・ＨＣｌを酢酸エチル２５０
ｇで洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５
０℃、５〜２０mmHgにおいてストリップし、７４．３％
５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２０．
０％２−メチル−３−イソチアゾロン／４．４％ＰＹＲ
・ＨＣｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン２５．０ｇ
を得た。
３−イソチアゾロン／２−メチル−３−イソチアゾロン
の４／１混合物の製造 実施例６の工程１の操作に従って得たイソチアゾロン・
ＨＣｌの湿ったケーキ（７４．４ｇ）の試料を酢酸エチ
ル４１０ｇ中に再びスラリー化した。このイソチアゾロ
ン・ＨＣｌの湿ったケーキのよくかくはんしたスラリー
に、温度を１０℃に維持しながらＰＹＲ２９．３ｇを滴
下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られたスラ
リーを２５℃に暖め、２等分した。次いで、得られたス
ラリーの１つの部分（２４６ｇ）をブフナーロートで濾
過した。固体のＰＹＲ・ＨＣｌを酢酸エチル２５０ｇで
洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５０
℃、５〜２０mmHgにおいてストリップし、７７．６％５
−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／１９．４
％２−メチル−３−イソチアゾロン／２．５％ＰＹＲ・
ＨＣｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン２６．２ｇを
得た。次いで、得られたスラリーの第２の部分（２４４
ｇ）をＰＹＲ４．４ｇを追加して処理し、ブフナーロー
トで濾過した。固体ＰＹＲ・ＨＣｌを酢酸エチル２５０
ｇで洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を５
０℃、５〜２０mmHgにおいてストリップし、７４．３％
５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロン／２０．
０％２−メチル−３−イソチアゾロン／４．４％ＰＹＲ
・ＨＣｌを含有する遊離塩基イソチアゾロン２５．０ｇ
を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート アルバ ウッドラフ アメリカ合衆国ペンシルバニア州バッキン ガム，アッパー マウンテイン ロード 5375 (72)発明者 ノーマン アンドリュー レイスター アメリカ合衆国ペンシルバニア州ハンティ ングドン バレー，ギンガー ロード 350 (56)参考文献 米国特許3870795（ＵＳ，Ａ) 米国特許3849430（ＵＳ，Ａ) 米国特許4824957（ＵＳ，Ａ) 米国特許3761488（ＵＳ，Ａ) 欧州特許出願公開95907（ＥＰ，Ａ) 欧州特許出願公開271761（ＥＰ，Ａ)
Claims (21)
- 【請求項１】 (a) 無水アンモニアと、 【化１】式 式中、Ｙは、１〜１０個の炭素原子を有するアルキルま
たは置換アルキル、２〜１０個の炭素原子を有する非置
換またはハロゲン置換のアルケニルまたはアルキニル、
および１０個までの炭素原子を有するアラルキルまたは
ハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコキシ−
置換のアラルキルから成る群から選ばれ、 Ｘは、水素または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルであり、そし
て Ｘ1 は、水素、塩素、または（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキルで
あり、 Ｚは、塩素、臭素、硫酸塩、またはフルオロスルホン酸
塩であり、 ｍは、Ｚが塩素、臭素、またはフルオロスルホン酸塩で
あるときは１であり、そしてｍが硫酸塩であるときは２
である、 を有するイソチアゾロン塩とを反応させ、(b) 得られた
（ＮＨ4 ）m Ｚを得られた遊離塩基のイソチアゾロンか
ら分離することから成る、 【化２】式 式中、Ｙ、Ｘ、およびＸ1 は前記定義と同じである、を
有する、３−イソチアゾロンの製造方法。 - 【請求項２】 前記塩を有機溶媒に溶解し、または分散
させる、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記溶媒が、アルコール類、グリコール
類、グリコールエーテル類、酢酸エステル類、脂肪族炭
化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素
類、および塩素化芳香族炭化水素類の溶媒から成る群か
ら選ばれる、請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記溶媒が、（Ｃ1 −Ｃ5 ）アルキルア
ルコール、（Ｃ2 −Ｃ8 ）アルキレングリコール、（Ｃ
3 −Ｃ10）アルキレングリコールエーテル、（Ｃ6 ）芳
香族炭化水素、（Ｃ1 −Ｃ2 ）アルキル置換芳香族炭化
水素、塩素置換（Ｃ6 ）芳香族炭化水素、塩素置換（Ｃ
1 −Ｃ2 ）アルキル置換芳香族炭化水素、（Ｃ6 −
Ｃ8 ）アルカン、塩素置換（Ｃ1 −Ｃ3 ）アルカン、お
よび酢酸の（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルキルエステルから成る群
から選ばれる、請求項２に記載の方法。 - 【請求項５】 溶媒が、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、１，３−ブタンジオール、ジプロピレン
グリコール、エチレングリコールブチルエーテル、トル
エン、モノクロロベンゼン、ヘプタン、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、および酢酸
ブチルから成る群から選ばれる、請求項４に記載の方
法。 - 【請求項６】 前記アンモニアを前記塩を中和するのに
充分な量で加える、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 前記塩を有機溶媒に溶解または分散さ
せ、そして得られた溶液または分散液上の上部空間を、
アンモニアの充分な量を加えたときを決められるように
反応の間監視する、請求項６に記載の方法。 - 【請求項８】 前記塩を中和するのに必要なアンモニア
を越える過剰のアンモニアを避けることを更に包含す
る、請求項１に記載の方法。 - 【請求項９】 前記塩を中和するのに必要なアンモニア
を越える過剰のアンモニアを避けることを更に包含す
る、請求項２に記載の方法。 - 【請求項１０】 前記塩を不完全に中和するように、前
記塩と化学量論量以下のアンモニアとを反応させること
を更に包含する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】 Ｙ置換基が（Ｃ1 −Ｃ8 ）アルキルで
ある、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１２】 Ｙがｎ−オクチルであり、Ｘ1 が水素
であり、Ｘが水素である、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 Ｙがメチルであり、Ｘ1 が水素であ
り、Ｘが水素である、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１４】 Ｙがメチルであり、Ｘ1 が塩素であ
り、Ｘが水素である、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１５】 前記の得られた遊離塩基イソチアゾロ
ンが、５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロンお
よび２−メチル−３−イソチアゾロンの混合物である、
請求項９に記載の方法。 - 【請求項１６】 前記５−クロロ−２−メチル−３−イ
ソチアゾロンおよび２−メチル−３−イソチアゾロンの
比が、約９２：８〜３：９７である、請求項１５に記載
の方法。 - 【請求項１７】 前記の遊離塩基イソチアゾロンが、イ
ソチアゾロンの重量に基づいて約０．５％以下の（ＮＨ
4 ）m Ｚを含有している、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記の単離した遊離塩基イソチアゾロ
ンが、イソチアゾロンの重量に基づいて０．１％以下の
（ＮＨ4 ）m Ｚを含有している、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項１９】 前記の得られた遊離塩基イソチアゾロ
ンが実質的に水を含有していない、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項２０】 前記イソチアゾロンが、イソチアゾロ
ンの重量に基づいて約０．１％以下の水、および約０．
１％以下の（ＮＨ4 ）m Ｚを含有する、請求項１９に記
載の方法。 - 【請求項２１】 ｍが１であり、Ｚが塩素または臭素で
ある、請求項２に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US464472 | 1990-01-12 | ||
| US07/464,472 US5068344A (en) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | Process for the preparation of salt free, water free 3-isothiazolone compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305573A JPH04305573A (ja) | 1992-10-28 |
| JPH06102654B2 true JPH06102654B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=23844073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3001602A Expired - Fee Related JPH06102654B2 (ja) | 1990-01-12 | 1991-01-10 | ３−イソチアゾロンの製造方法 |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5068344A (ja) |
| EP (1) | EP0437354B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06102654B2 (ja) |
| KR (1) | KR0158369B1 (ja) |
| CN (1) | CN1035818C (ja) |
| AT (1) | ATE113042T1 (ja) |
| AU (1) | AU643738B2 (ja) |
| BR (1) | BR9100084A (ja) |
| CA (1) | CA2033590A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ281950B6 (ja) |
| DE (1) | DE69104630T2 (ja) |
| DK (1) | DK0437354T3 (ja) |
| ES (1) | ES2064896T3 (ja) |
| HU (1) | HU209298B (ja) |
| IE (1) | IE65101B1 (ja) |
| IL (1) | IL96912A (ja) |
| MX (1) | MX24090A (ja) |
| MY (1) | MY107323A (ja) |
| NZ (1) | NZ236728A (ja) |
| PH (1) | PH27282A (ja) |
| PL (1) | PL165202B1 (ja) |
| ZA (1) | ZA91264B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9003871D0 (en) * | 1990-02-21 | 1990-04-18 | Rohm & Haas | Stabilization of isothiazolones |
| CA2056711A1 (en) * | 1990-12-11 | 1992-06-12 | Ramesh B. Petigara | Process for 3-isothiazolone compounds |
| US5466818A (en) * | 1994-03-31 | 1995-11-14 | Rohm And Haas Company | 3-isothiazolone biocide process |
| US6072056A (en) * | 1997-06-17 | 2000-06-06 | Sk Chemical | Method of preparing water free isothiazolone |
| KR100573962B1 (ko) * | 1999-06-08 | 2006-04-25 | 에스케이케미칼주식회사 | 살균 상승효과를 갖는 살균 조성물 |
| JP3732061B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2006-01-05 | 株式会社ケミクレア | ２−アルキル−４−イソチアゾリン−３−オン類の製造方法 |
| ES2264605B1 (es) * | 2004-07-02 | 2007-12-16 | Labiana Development, S.L. | "procedimiento para la obtencion de 2-alquilisotiazolonas y de sus formulaciones en forma estable solas o asociadas a otras moleculas con actividad biocida". |
| CN101417966A (zh) * | 2007-10-25 | 2009-04-29 | 北京天擎化工有限责任公司 | 3-异噻唑啉酮衍生物的连续式生产方法 |
| KR101569556B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2015-11-16 | 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤 | 살미생물제 |
| CN103087002A (zh) * | 2011-11-03 | 2013-05-08 | Dhc有限公司 | 异噻唑啉酮的制造方法 |
| CN105901000A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 常州大学 | 一种用生产无盐异噻唑啉酮时的工业废水生产丙烯酸酯乳液杀菌剂及其制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3452034A (en) * | 1967-03-09 | 1969-06-24 | American Cyanamid Co | Substituted 2-(1,3,4-thiadiazol-2-yl)-4(5)-nitroimidazoles |
| US3849430A (en) * | 1967-03-09 | 1974-11-19 | Rohm & Haas | Process for the preparation of 3-isothiazolones and 3-hydroxyisothiazoles |
| US4031055A (en) * | 1971-05-03 | 1977-06-21 | Rohm And Haas Company | Metal compound stabilized coating compositions |
| US3870795A (en) * | 1973-02-28 | 1975-03-11 | Rohm & Haas | Stabilization of solutions of 3-isothiazolones employing certain metal nitrates and nitrites |
| AR207229A1 (es) * | 1973-08-20 | 1976-09-22 | Rohm & Haas | Composicion de recubrimiento estabilizada con formaldehido y metodo para su preparacion |
| US4067878A (en) * | 1976-03-05 | 1978-01-10 | Rohm And Haas Company | Stabilization of solutions of 3-isothiazolones |
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-
1990
- 1990-01-12 US US07/464,472 patent/US5068344A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-03 CA CA002033590A patent/CA2033590A1/en not_active Abandoned
- 1991-01-03 PH PH41813A patent/PH27282A/en unknown
- 1991-01-07 CN CN91100890A patent/CN1035818C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-08 MX MX2409091A patent/MX24090A/es unknown
- 1991-01-09 EP EP91300154A patent/EP0437354B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-09 IL IL9691291A patent/IL96912A/en not_active IP Right Cessation
- 1991-01-09 DK DK91300154.1T patent/DK0437354T3/da active
- 1991-01-09 NZ NZ236728A patent/NZ236728A/xx unknown
- 1991-01-09 AT AT91300154T patent/ATE113042T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-01-09 DE DE69104630T patent/DE69104630T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-09 MY MYPI91000029A patent/MY107323A/en unknown
- 1991-01-09 ES ES91300154T patent/ES2064896T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-10 JP JP3001602A patent/JPH06102654B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-10 BR BR919100084A patent/BR9100084A/pt not_active IP Right Cessation
- 1991-01-10 AU AU69259/91A patent/AU643738B2/en not_active Ceased
- 1991-01-11 PL PL91288668A patent/PL165202B1/pl unknown
- 1991-01-11 CZ CS9157A patent/CZ281950B6/cs unknown
- 1991-01-11 KR KR1019910000343A patent/KR0158369B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-01-11 HU HU9179A patent/HU209298B/hu not_active IP Right Cessation
- 1991-01-11 IE IE10291A patent/IE65101B1/en not_active IP Right Cessation
- 1991-01-14 ZA ZA91264A patent/ZA91264B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NZ236728A (en) | 1992-09-25 |
| KR910014363A (ko) | 1991-08-31 |
| IL96912A0 (en) | 1992-03-29 |
| HU209298B (en) | 1994-04-28 |
| DK0437354T3 (da) | 1994-11-14 |
| MY107323A (en) | 1995-11-30 |
| AU643738B2 (en) | 1993-11-25 |
| JPH04305573A (ja) | 1992-10-28 |
| US5068344A (en) | 1991-11-26 |
| PL288668A1 (en) | 1992-01-27 |
| ES2064896T3 (es) | 1995-02-01 |
| EP0437354B1 (en) | 1994-10-19 |
| CZ281950B6 (cs) | 1997-04-16 |
| ATE113042T1 (de) | 1994-11-15 |
| IL96912A (en) | 1994-06-24 |
| AU6925991A (en) | 1991-07-18 |
| MX24090A (es) | 1994-02-28 |
| PL165202B1 (pl) | 1994-11-30 |
| HU910079D0 (en) | 1991-08-28 |
| KR0158369B1 (ko) | 1998-12-01 |
| CN1054977A (zh) | 1991-10-02 |
| CN1035818C (zh) | 1997-09-10 |
| DE69104630D1 (de) | 1994-11-24 |
| EP0437354A1 (en) | 1991-07-17 |
| HUT57750A (en) | 1991-12-30 |
| IE910102A1 (en) | 1991-07-17 |
| DE69104630T2 (de) | 1995-06-08 |
| IE65101B1 (en) | 1995-10-04 |
| CA2033590A1 (en) | 1991-07-13 |
| PH27282A (en) | 1993-05-04 |
| ZA91264B (en) | 1991-09-25 |
| BR9100084A (pt) | 1991-10-22 |
| CS9100057A2 (en) | 1991-09-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |