JPH04305573A - 3−イソチアゾロンの製造方法 - Google Patents
3−イソチアゾロンの製造方法Info
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- C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、3−イソチアゾロンの
製造方法に関する。特に詳細には、本発明は、塩を殆ん
ど含有しないかまたは全く含有しない(salt−fr
ee)、およびまた水を殆んど含有しないかまたは全く
含有しない(water−free)3−イソチアゾロ
ンの製造方法に関する。
製造方法に関する。特に詳細には、本発明は、塩を殆ん
ど含有しないかまたは全く含有しない(salt−fr
ee)、およびまた水を殆んど含有しないかまたは全く
含有しない(water−free)3−イソチアゾロ
ンの製造方法に関する。
【0002】
【化3】
【0003】式中、Yは、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキルまたは置換アルキル、2〜10個の炭素原子
を有する非置換またはハロゲン置換のアルケニルまたは
アルキニル、10個までの炭素原子を有するアラルキル
またはハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコ
キシ−置換のアラルキルであり、Xは、水素または(C
1 −C2 )アルキルであり、X1 は、水素、塩素
、または(C1 −C2 )アルキルである、
るアルキルまたは置換アルキル、2〜10個の炭素原子
を有する非置換またはハロゲン置換のアルケニルまたは
アルキニル、10個までの炭素原子を有するアラルキル
またはハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコ
キシ−置換のアラルキルであり、Xは、水素または(C
1 −C2 )アルキルであり、X1 は、水素、塩素
、または(C1 −C2 )アルキルである、
【000
4】を有する3−イソチアゾロンは、米国特許第3,5
23,121号および同第3,761,488号に記載
されている。
4】を有する3−イソチアゾロンは、米国特許第3,5
23,121号および同第3,761,488号に記載
されている。
【0005】これらの3−イソチアゾロンは、殺微生物
剤としてよく知られており、かつ多くの工業用および家
庭用システムにおいて使用されている。一般的に、水溶
液中の3−イソチアゾロンは不安定であるので、米国特
許第3,870,795号および同第4,087,87
8号に記載されているような安定化用2価金属塩が混入
されている。
剤としてよく知られており、かつ多くの工業用および家
庭用システムにおいて使用されている。一般的に、水溶
液中の3−イソチアゾロンは不安定であるので、米国特
許第3,870,795号および同第4,087,87
8号に記載されているような安定化用2価金属塩が混入
されている。
【0006】ある種の適用例えばラテックス乳濁液の保
存においては、これらの金属安定化用塩はそのようなシ
ステムの性能または価値を減少させる問題の原因となる
。
存においては、これらの金属安定化用塩はそのようなシ
ステムの性能または価値を減少させる問題の原因となる
。
【0007】そのような金属安定化塩が有する他の問題
は、それらがある種のシステムにおける腐食の原因とな
ることである。例えば、塩化物塩(chloride
salts)は多くの金属を腐食させる影響があり、
できるだけ避けなければならない。カチオンおよびアニ
オンの低レベルが重要である場合の水処理システムにお
いては、そのような塩を除去することが望ましい。プラ
スチック物品の安定化においては、塩は光学的な劣化お
よび/または水の吸収および曇りのレベルを増加させる
一因となる。
は、それらがある種のシステムにおける腐食の原因とな
ることである。例えば、塩化物塩(chloride
salts)は多くの金属を腐食させる影響があり、
できるだけ避けなければならない。カチオンおよびアニ
オンの低レベルが重要である場合の水処理システムにお
いては、そのような塩を除去することが望ましい。プラ
スチック物品の安定化においては、塩は光学的な劣化お
よび/または水の吸収および曇りのレベルを増加させる
一因となる。
【0008】また、ある種の化粧用配合物においては、
無機塩特に硝酸塩を除去することが重要である。
無機塩特に硝酸塩を除去することが重要である。
【0009】一般的な従来技術のイソチアゾロン製造方
法においては、イソチアゾロン塩酸塩(イソチアゾロン
・HCl)が生成する。そのような、5−クロロ−2−
メチル−3−イソチアゾロンおよび2−メチル−3−イ
ソチアゾロンの混合物の製造方法は、米国特許第3,8
49,430号およびヨーロッパ特許第95,907号
に記載されている。イソチアゾロン・HClは、この方
法の塩素化/環化工程において生成する。この方法の工
程ではジ−(またはトリ)チオジアミドまたはメルカプ
トアミドのいずれかが環化される:
法においては、イソチアゾロン塩酸塩(イソチアゾロン
・HCl)が生成する。そのような、5−クロロ−2−
メチル−3−イソチアゾロンおよび2−メチル−3−イ
ソチアゾロンの混合物の製造方法は、米国特許第3,8
49,430号およびヨーロッパ特許第95,907号
に記載されている。イソチアゾロン・HClは、この方
法の塩素化/環化工程において生成する。この方法の工
程ではジ−(またはトリ)チオジアミドまたはメルカプ
トアミドのいずれかが環化される:
【化4】
【0010】次いで、塩素化スラリーを濾過し、次いで
イソチアゾロン・HClケーキ(cake)を洗い、そ
して同じかまたは異った溶媒に再びスラリー化しまたは
溶解させる。次いで、水性系においては、中和剤例えば
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムを加えて、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび塩酸塩を生成させる:
イソチアゾロン・HClケーキ(cake)を洗い、そ
して同じかまたは異った溶媒に再びスラリー化しまたは
溶解させる。次いで、水性系においては、中和剤例えば
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムを加えて、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび塩酸塩を生成させる:
【化
5】
5】
【0011】米国特許第4,824,957には、非水
有機媒質における中和剤として、ある種の有機アミンが
提案されている。しかし、そのような有機アミンは、副
生成物の中和塩として有機アミンハロゲン酸塩(hyd
rohalide)を生成する。イソチアゾロンハロゲ
ン酸塩を中和するのに必要とする有機アミンの量を決定
するのは難しく、それ故、中和の終点を正確に調節する
ことができない。任意の過剰の有機アミンが中和後の遊
離塩基イソチアゾロンの有機溶媒溶液中に残留し、最終
生成物の溶液を汚染し、更に遊離塩基イソチアゾロンと
化学的に反応して追加的な副生物を生成させる。更にま
た、これらの残留アミンは、そのような遊離塩基イソチ
アゾロンが硝酸塩で安定化された水溶液に配合されるな
らば、ニトロサミン汚染物源として作用する。
有機媒質における中和剤として、ある種の有機アミンが
提案されている。しかし、そのような有機アミンは、副
生成物の中和塩として有機アミンハロゲン酸塩(hyd
rohalide)を生成する。イソチアゾロンハロゲ
ン酸塩を中和するのに必要とする有機アミンの量を決定
するのは難しく、それ故、中和の終点を正確に調節する
ことができない。任意の過剰の有機アミンが中和後の遊
離塩基イソチアゾロンの有機溶媒溶液中に残留し、最終
生成物の溶液を汚染し、更に遊離塩基イソチアゾロンと
化学的に反応して追加的な副生物を生成させる。更にま
た、これらの残留アミンは、そのような遊離塩基イソチ
アゾロンが硝酸塩で安定化された水溶液に配合されるな
らば、ニトロサミン汚染物源として作用する。
【0012】中和反応により生成した遊離塩基イソチア
ゾロンおよびアミン塩酸塩(アミン・HCl)は、遊離
塩基イソチアゾロンの溶液から固体の塩を濾取すること
によって分離される。しかし、アミン・HClは、控え
めであるが溶媒にはかなり溶解性があり、結果的には最
終イソチアゾロン生成物には全く塩が含まれないという
ことはない。
ゾロンおよびアミン塩酸塩(アミン・HCl)は、遊離
塩基イソチアゾロンの溶液から固体の塩を濾取すること
によって分離される。しかし、アミン・HClは、控え
めであるが溶媒にはかなり溶解性があり、結果的には最
終イソチアゾロン生成物には全く塩が含まれないという
ことはない。
【0013】従来の方法のいずれにおいても、実質的に
純粋な、塩を含有しないし、水も含有していないイソチ
アゾロンを造ることはできない。
純粋な、塩を含有しないし、水も含有していないイソチ
アゾロンを造ることはできない。
【0014】発明の概要
本発明の目的は、高純度の塩を含有しない遊離のイソチ
アゾロンを高収率で製造することである。更に、本発明
の目的は、純粋なかつ塩と水を含有しないイソチアゾロ
ンを製造することである。これらの目的、および後述の
記載から明らかになるであろうその他の目的は、(a)
アンモニア水と、
アゾロンを高収率で製造することである。更に、本発明
の目的は、純粋なかつ塩と水を含有しないイソチアゾロ
ンを製造することである。これらの目的、および後述の
記載から明らかになるであろうその他の目的は、(a)
アンモニア水と、
【化6】
【0015】式中、Zは、塩素、臭素、硫酸塩(sul
fate)、またはフルオロスルホン酸塩(fluor
osulfate)であり、mは、Zが塩素、臭素、ま
たはフルオロスルホン酸塩であるときは1であり、そし
て、Zが硫酸塩であるときは2であり、Yは、1〜10
個の炭素原子を有するアルキルまたは置換アルキル、2
〜10個の炭素原子を有する非置換またはハロゲン置換
のアルケニルまたはアルキニル、および10個までの炭
素原子を有するアラルキルまたはハロゲン−、低級アル
キル−、または低級アルコキシ−置換のアラルキルから
成る群から選ばれ、 Xは、水素または(C1 −C2 )アルキルであり、
そして X1 は、水素、塩素、または(C1 −C2 )アル
キルである、
fate)、またはフルオロスルホン酸塩(fluor
osulfate)であり、mは、Zが塩素、臭素、ま
たはフルオロスルホン酸塩であるときは1であり、そし
て、Zが硫酸塩であるときは2であり、Yは、1〜10
個の炭素原子を有するアルキルまたは置換アルキル、2
〜10個の炭素原子を有する非置換またはハロゲン置換
のアルケニルまたはアルキニル、および10個までの炭
素原子を有するアラルキルまたはハロゲン−、低級アル
キル−、または低級アルコキシ−置換のアラルキルから
成る群から選ばれ、 Xは、水素または(C1 −C2 )アルキルであり、
そして X1 は、水素、塩素、または(C1 −C2 )アル
キルである、
【0016】を有するイソチアゾロン塩とを反応させ、
【0017】(b) その結果として得られた遊離塩基
イソチアゾロンから(NH4 )mZを分離する、こと
から成る、
イソチアゾロンから(NH4 )mZを分離する、こと
から成る、
【化7】
【0018】式中、Y、X、およびX1 は前記定義と
同じである、
同じである、
【0019】を有する3−イソチアゾロンの製造方法を
包含する、本発明によって達成される。
包含する、本発明によって達成される。
【0020】Yは、好ましくは、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ヒ
ドロキシメチル、クロロメチル、クロロプロピル、ベン
ジル、4−メトキシベンジル、4−クロロベンジル、フ
ェネチル、2−(4−クロロフェニル)エチル、4−フ
ェニルブチルである。
ピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ヒ
ドロキシメチル、クロロメチル、クロロプロピル、ベン
ジル、4−メトキシベンジル、4−クロロベンジル、フ
ェネチル、2−(4−クロロフェニル)エチル、4−フ
ェニルブチルである。
【0021】Zは、好ましくは、塩素または臭素であり
、最も好ましくは塩素である。
、最も好ましくは塩素である。
【0022】用語“低級”アルキル、低級アルコキシ等
は、それらのアルキルまたはアルコキシ部分が約1〜2
個の炭素原子を有していることを意味する。
は、それらのアルキルまたはアルコキシ部分が約1〜2
個の炭素原子を有していることを意味する。
【0023】発明の詳細および好ましい態様本発明方法
において、塩を溶解しまたは分散させるために有機溶媒
を使用することは任意的であるが、しかし好ましいこと
である。
において、塩を溶解しまたは分散させるために有機溶媒
を使用することは任意的であるが、しかし好ましいこと
である。
【0024】本発明方法は、式(I)のイソチアゾロン
塩または式(I)のイソチアゾロン塩と有機溶媒との混
合物を、存在しているHm Zを中和して遊離塩基のイ
ソチアゾロンおよび不溶性の(NH4 )m Z塩を生
成させるのに充分な量において、無水アンモニアと接触
させ、次いでこの混合物を分離することから成っている
。有機溶媒は、遊離塩基のイソチアゾロンがその溶媒に
本質的に可溶であり、かつ(NH4 )m Z塩がその
溶媒に本質的に不溶であるように選ばれる。用語“本質
的に可溶(essentially soluble
)”は、遊離塩基のイソチアゾロンが使用した溶媒に充
分に可溶であり、利用可能な遊離塩基のイソチアゾロン
の>95%が(NH4 )m Z塩の分離後に回収する
ことができることを意味する。また、用語“本質的に不
溶(essentially insoluble)
”は、(NH4 )m Z塩が使用した溶媒または溶媒
混合物に充分に不溶であり、(NH4 )m Z塩の<
0.5%、好ましくは<0.1%、が単離した遊離塩基
のイソチアゾロン中に見出されることを意味する。
塩または式(I)のイソチアゾロン塩と有機溶媒との混
合物を、存在しているHm Zを中和して遊離塩基のイ
ソチアゾロンおよび不溶性の(NH4 )m Z塩を生
成させるのに充分な量において、無水アンモニアと接触
させ、次いでこの混合物を分離することから成っている
。有機溶媒は、遊離塩基のイソチアゾロンがその溶媒に
本質的に可溶であり、かつ(NH4 )m Z塩がその
溶媒に本質的に不溶であるように選ばれる。用語“本質
的に可溶(essentially soluble
)”は、遊離塩基のイソチアゾロンが使用した溶媒に充
分に可溶であり、利用可能な遊離塩基のイソチアゾロン
の>95%が(NH4 )m Z塩の分離後に回収する
ことができることを意味する。また、用語“本質的に不
溶(essentially insoluble)
”は、(NH4 )m Z塩が使用した溶媒または溶媒
混合物に充分に不溶であり、(NH4 )m Z塩の<
0.5%、好ましくは<0.1%、が単離した遊離塩基
のイソチアゾロン中に見出されることを意味する。
【0025】また、好ましくは、選択した溶媒は、式(
I)のイソチアゾロン塩を造る前述のハロゲン化/環化
の工程における溶媒として使用する。中和のための適当
な溶媒には、アルコール類、グリコール類、グリコール
エーテル類、芳香族炭化水素類、塩素化芳香族炭化水素
類、脂肪族炭化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、およ
び酢酸エステル類が包含される。酢酸エステル類が好ま
しく、特に酢酸エチルまたは酢酸ブチルが好ましい。
I)のイソチアゾロン塩を造る前述のハロゲン化/環化
の工程における溶媒として使用する。中和のための適当
な溶媒には、アルコール類、グリコール類、グリコール
エーテル類、芳香族炭化水素類、塩素化芳香族炭化水素
類、脂肪族炭化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、およ
び酢酸エステル類が包含される。酢酸エステル類が好ま
しく、特に酢酸エチルまたは酢酸ブチルが好ましい。
【0026】イソチアゾロン塩を溶解したりまたは分散
したりするための好ましい有機溶媒は、(C1 −C5
)アルキルアルコール、(C2 −C8 )アルキレ
ングリコール、(C3 −C10)アルキレングリコー
ルエーテル、(C6 )芳香族炭化水素、(C1 −C
2 )アルキル置換芳香族炭化水素、塩素置換(C6
)芳香族炭化水素、塩素置換(C1 −C2 )アルキ
ル置換芳香族炭化水素、(C6 − C8 )アルカ
ン、塩素置換(C1 −C3 )アルカン、および酢酸
の(C1 −C4 )アルキルエステルから成る群から
選ばれる。
したりするための好ましい有機溶媒は、(C1 −C5
)アルキルアルコール、(C2 −C8 )アルキレ
ングリコール、(C3 −C10)アルキレングリコー
ルエーテル、(C6 )芳香族炭化水素、(C1 −C
2 )アルキル置換芳香族炭化水素、塩素置換(C6
)芳香族炭化水素、塩素置換(C1 −C2 )アルキ
ル置換芳香族炭化水素、(C6 − C8 )アルカ
ン、塩素置換(C1 −C3 )アルカン、および酢酸
の(C1 −C4 )アルキルエステルから成る群から
選ばれる。
【0027】溶媒の特に好ましい群は、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール
、ジプロピレングリコール、エチレングリコールブチル
エーテル、トルエン、モノクロロベンゼン、ヘプタン、
ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、酢酸エチル
、および酢酸ブチルから成る群から選ばれる。
ール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール
、ジプロピレングリコール、エチレングリコールブチル
エーテル、トルエン、モノクロロベンゼン、ヘプタン、
ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、酢酸エチル
、および酢酸ブチルから成る群から選ばれる。
【0028】中和の間に、式(I)のイソチアゾロン塩
の溶液または分散液に導入するアンモニアの量は、該塩
を中和するのに必要な化学量論量よりも少ないかまたは
ちょうど等しくすべきである。過剰のアンモニアを避け
、遊離塩基のイソチアゾロンと反応し、その結果として
低収率、および低純度と高い色付きを与える副生成物の
生成を防止すべきである。本発明者は、中和した式(I
)のイソチアゾロン溶液上の蒸気空間中のアンモニアを
監視することによって、過剰のアンモニアを避けること
が可能であることを見出した。本発明者には、アンモニ
アガス検出用のプローブ(probe)または湿ったリ
トマス紙(litmus paper)を使用して、
中和のために導入したアンモニアの量を正確に調節し、
Hm Zの全てがいったん中和されれば、遊離塩基のイ
ソチアゾロン中にアンモニアが殆んどまたは過剰にたま
らないことが好ましい。
の溶液または分散液に導入するアンモニアの量は、該塩
を中和するのに必要な化学量論量よりも少ないかまたは
ちょうど等しくすべきである。過剰のアンモニアを避け
、遊離塩基のイソチアゾロンと反応し、その結果として
低収率、および低純度と高い色付きを与える副生成物の
生成を防止すべきである。本発明者は、中和した式(I
)のイソチアゾロン溶液上の蒸気空間中のアンモニアを
監視することによって、過剰のアンモニアを避けること
が可能であることを見出した。本発明者には、アンモニ
アガス検出用のプローブ(probe)または湿ったリ
トマス紙(litmus paper)を使用して、
中和のために導入したアンモニアの量を正確に調節し、
Hm Zの全てがいったん中和されれば、遊離塩基のイ
ソチアゾロン中にアンモニアが殆んどまたは過剰にたま
らないことが好ましい。
【0029】イソチアゾロン・HZの中和工程に使用で
きるが、前述のハロゲン化/環化工程のためには使用で
きない溶媒には、メタノール;グリコール類、例えばエ
チレングリコール、1,3−ブタンジオール、ジプロピ
レングリコール、およびプロピレングリコール;および
グリコールエーテル類、例えばエチレングリコールおよ
びジエチレングリコールのメチルエーテルおよびブチル
エーテルがある。最後の遊離塩基イソチアゾロンをこれ
らの溶媒中に配合し、それにより中和後の(減圧ストリ
ッピング(stripping)または蒸溜による)溶
媒除去工程の必要性を除くことができる。また、これら
の溶媒は、ハロゲン化/環化工程のために使用する溶媒
と組み合わせてまたは混合物として使用することができ
る。中和のために選ばれたアルコール、グリコール、ま
たはグリコールエーテルに依存するが、所望した濃度よ
りも(NH4 )m Z塩のより高い濃度が中間の遊離
塩基のイソチアゾロン溶液中に見出される。これらの(
NH4 )m Z塩濃度は、選択した溶媒、例えばジプ
ロピレングリコール中に最後の遊離塩基のイソチアゾロ
ンを配合することにより許容できるレベルに減少させ、
次いで濾過することができる。
きるが、前述のハロゲン化/環化工程のためには使用で
きない溶媒には、メタノール;グリコール類、例えばエ
チレングリコール、1,3−ブタンジオール、ジプロピ
レングリコール、およびプロピレングリコール;および
グリコールエーテル類、例えばエチレングリコールおよ
びジエチレングリコールのメチルエーテルおよびブチル
エーテルがある。最後の遊離塩基イソチアゾロンをこれ
らの溶媒中に配合し、それにより中和後の(減圧ストリ
ッピング(stripping)または蒸溜による)溶
媒除去工程の必要性を除くことができる。また、これら
の溶媒は、ハロゲン化/環化工程のために使用する溶媒
と組み合わせてまたは混合物として使用することができ
る。中和のために選ばれたアルコール、グリコール、ま
たはグリコールエーテルに依存するが、所望した濃度よ
りも(NH4 )m Z塩のより高い濃度が中間の遊離
塩基のイソチアゾロン溶液中に見出される。これらの(
NH4 )m Z塩濃度は、選択した溶媒、例えばジプ
ロピレングリコール中に最後の遊離塩基のイソチアゾロ
ンを配合することにより許容できるレベルに減少させ、
次いで濾過することができる。
【0030】他の強酸の塩、例えば(イソチアゾロン)
2 ・(H2 SO4 )または(イソチアゾロン)・
HFSO3 は、無水アンモニアを用いて中和し、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび不溶性の硫酸アンモニウム
またはフルオロスルホン酸アンモニウムを生成させるこ
とができる。
2 ・(H2 SO4 )または(イソチアゾロン)・
HFSO3 は、無水アンモニアを用いて中和し、遊離
塩基のイソチアゾロンおよび不溶性の硫酸アンモニウム
またはフルオロスルホン酸アンモニウムを生成させるこ
とができる。
【0031】イソチアゾロンおよびイソチアゾロン混合
物の、高純度かつ塩を含有しない、水を含有しない配合
物を得る本発明方法に加えて、本発明を使用して、式(
I)のイソチアゾロン塩混合物中に最初に存在している
2種以上のイソチアゾロンの異った比を得ることができ
る。例えば、(5−クロロ−2−メチル−3−イソチア
ゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン)m ・Hm
Zの3/1混合物を、アンモニアを用いて部分的にだ
け中和し、次いで〔残留している式(I)のイソチアゾ
ロン塩および(NH4 )mZ塩の濾取後〕に遊離塩基
のイソチアゾロンを単離することができる。この操作に
よって得られた遊離塩基のイソチアゾロンは、2−メチ
ル−3−イソチアゾロンに関連して5−クロロ−2−メ
チル−3−イソチアゾロンが豊んでいる。これは遊離塩
基のイソチアゾロンの塩基度の差に起因する。この豊富
化の操作は、中和すべき式(I)のイソチアゾロン塩の
最初の混合物中のイソチアゾロンの塩基度に差異がある
ときはいつでも、本発明方法におって行うことができる
。実際、当業者は、本発明方法を使用して5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イ
ソチアゾロン混合物から5−クロロ−2−メチル−3−
イソチアゾロンの極めて豊富な混合物を単離することが
できる。次いで、残留している式(I)のイソチアゾロ
ンは、アンモニアを追加処理して遊離塩基のイソチアゾ
ロンを遊離させ、それにより2−メチル−3−イソチア
ゾロンの極めて豊富な混合物を単離することができる。
物の、高純度かつ塩を含有しない、水を含有しない配合
物を得る本発明方法に加えて、本発明を使用して、式(
I)のイソチアゾロン塩混合物中に最初に存在している
2種以上のイソチアゾロンの異った比を得ることができ
る。例えば、(5−クロロ−2−メチル−3−イソチア
ゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン)m ・Hm
Zの3/1混合物を、アンモニアを用いて部分的にだ
け中和し、次いで〔残留している式(I)のイソチアゾ
ロン塩および(NH4 )mZ塩の濾取後〕に遊離塩基
のイソチアゾロンを単離することができる。この操作に
よって得られた遊離塩基のイソチアゾロンは、2−メチ
ル−3−イソチアゾロンに関連して5−クロロ−2−メ
チル−3−イソチアゾロンが豊んでいる。これは遊離塩
基のイソチアゾロンの塩基度の差に起因する。この豊富
化の操作は、中和すべき式(I)のイソチアゾロン塩の
最初の混合物中のイソチアゾロンの塩基度に差異がある
ときはいつでも、本発明方法におって行うことができる
。実際、当業者は、本発明方法を使用して5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イ
ソチアゾロン混合物から5−クロロ−2−メチル−3−
イソチアゾロンの極めて豊富な混合物を単離することが
できる。次いで、残留している式(I)のイソチアゾロ
ンは、アンモニアを追加処理して遊離塩基のイソチアゾ
ロンを遊離させ、それにより2−メチル−3−イソチア
ゾロンの極めて豊富な混合物を単離することができる。
【0032】前述の記載および次の実施例から理解され
るように、本発明方法によって、実質的に水を含有しな
い、塩を含有しない遊離塩基のイソチアゾロンを製造す
るための、独特、新規、有用、かつ高有利の方法が提供
される。好ましいイソチアゾロンは、イソチアゾロンの
重量に基づいて、約0.1%以下の水および約0.1%
以下の(NH4 )m Zを含んでいる。次の実施例は
本発明方法を例示するが、これらは例示だけであり、本
発明の範囲を制限することを意図しているものではない
。
るように、本発明方法によって、実質的に水を含有しな
い、塩を含有しない遊離塩基のイソチアゾロンを製造す
るための、独特、新規、有用、かつ高有利の方法が提供
される。好ましいイソチアゾロンは、イソチアゾロンの
重量に基づいて、約0.1%以下の水および約0.1%
以下の(NH4 )m Zを含んでいる。次の実施例は
本発明方法を例示するが、これらは例示だけであり、本
発明の範囲を制限することを意図しているものではない
。
【0033】実施例1
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロンおよび2
−メチル−3−イソチアゾロンの3:1混合物の製造こ
の実施例は、塩素化/環化および中和の両方のための有
機溶媒として酢酸エチルを使用し、中和剤として無水ア
ンモニアを使用する例を示す。尚、塩素化/環化は米国
特許第3,849,430号およびヨーロッパ特許第9
5907号により行った。塩素化/環化および中和の両
方のために同じ溶媒を使用した。
−メチル−3−イソチアゾロンの3:1混合物の製造こ
の実施例は、塩素化/環化および中和の両方のための有
機溶媒として酢酸エチルを使用し、中和剤として無水ア
ンモニアを使用する例を示す。尚、塩素化/環化は米国
特許第3,849,430号およびヨーロッパ特許第9
5907号により行った。塩素化/環化および中和の両
方のために同じ溶媒を使用した。
【0034】工程1:N−メチル−3−メルカプトプロ
ピオンアミド(MMPA)の塩素化底部に取出し口を有
する1lのジャケット付き反応器(kettle)に、
頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、28%MMPA
酢酸エチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバー
(caustic scrubber)に連結した冷
却器を装備した。この反応器に、酢酸エチルを仕込んだ
。 この酢酸エチルの下部に、よくかくはんしながら、かつ
温度を調節しながら1〜3時間かけて塩素および28%
MMPA溶液を共供給した。得られたイソチアゾロン・
HCl塩の塩素化スラリーを濾過してイソチアゾロン・
HClケーキを単離した。このイソチアゾロン・HCl
ケーキを酢酸エチルを用いてよく洗い、イソチアゾロン
・HCl塩の高純度混合物(HPLCおよびHCl分析
により99.9%、73.5%5−クロロ−2−メチル
−3−イソチアゾロン/26.5%2−メチル−3−イ
ソチアゾロン、すなわち2.8:1の比)を造った。
ピオンアミド(MMPA)の塩素化底部に取出し口を有
する1lのジャケット付き反応器(kettle)に、
頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、28%MMPA
酢酸エチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバー
(caustic scrubber)に連結した冷
却器を装備した。この反応器に、酢酸エチルを仕込んだ
。 この酢酸エチルの下部に、よくかくはんしながら、かつ
温度を調節しながら1〜3時間かけて塩素および28%
MMPA溶液を共供給した。得られたイソチアゾロン・
HCl塩の塩素化スラリーを濾過してイソチアゾロン・
HClケーキを単離した。このイソチアゾロン・HCl
ケーキを酢酸エチルを用いてよく洗い、イソチアゾロン
・HCl塩の高純度混合物(HPLCおよびHCl分析
により99.9%、73.5%5−クロロ−2−メチル
−3−イソチアゾロン/26.5%2−メチル−3−イ
ソチアゾロン、すなわち2.8:1の比)を造った。
【0035】工程2:イソチアゾロン・HCl塩の中和
イソチアゾロン・HCl塩の混合物を新しい酢酸エチル
中に再びスラリー化し(25%個体)、遊離アンモニア
がアンモニアガス検出プルーブによって反応器の上部空
間に検出することができるまで、10〜22℃の温度に
おいて、スラリーを通して無水アンモニアを徐々に流し
た。遊離アンモニアがガス上部空間に検出される前に、
イソチアゾロン・HCl塩混合物はアンモニア22.3
gを吸収した。次いで、遊離塩基のイソチアゾロン溶液
中に得られた塩化アンモニウムスラリーを減圧ブフナー
ロートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸エチル
でよく洗った。
イソチアゾロン・HCl塩の混合物を新しい酢酸エチル
中に再びスラリー化し(25%個体)、遊離アンモニア
がアンモニアガス検出プルーブによって反応器の上部空
間に検出することができるまで、10〜22℃の温度に
おいて、スラリーを通して無水アンモニアを徐々に流し
た。遊離アンモニアがガス上部空間に検出される前に、
イソチアゾロン・HCl塩混合物はアンモニア22.3
gを吸収した。次いで、遊離塩基のイソチアゾロン溶液
中に得られた塩化アンモニウムスラリーを減圧ブフナー
ロートによって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸エチル
でよく洗った。
【0036】工程3:溶媒ストリップ(strip)濾
液および酢酸エチルで洗った液をいっしょにし、減圧下
(40℃/20mmHg〜50℃/2mmHg)でスト
リップし、高純度の遊離塩基のイソチアゾロン生成物:
76.4%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロ
ン/23.4%2−メチル−3−イソチアゾロン(3.
3:1の比)、純度99.8%(<0.1%NH4 C
l)の176.8gを得た。全収率は出発MMPAに基
づいて84.2モル%であった。
液および酢酸エチルで洗った液をいっしょにし、減圧下
(40℃/20mmHg〜50℃/2mmHg)でスト
リップし、高純度の遊離塩基のイソチアゾロン生成物:
76.4%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロ
ン/23.4%2−メチル−3−イソチアゾロン(3.
3:1の比)、純度99.8%(<0.1%NH4 C
l)の176.8gを得た。全収率は出発MMPAに基
づいて84.2モル%であった。
【0037】工程4:5−クロロ−2−メチル−3−イ
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンをジプ
ロピレングリコール(DPG)に溶解した配合物前記の
高純度の遊離塩基イソチアゾロン混合物を、DPGの適
当な量に溶解し、5%イソチアゾロン(活性成分)DP
G溶液を造った。次いで、この5%活性成分を含有する
配合物を、30〜100ppm (活性活分)において
種々なラテックス乳濁液に加えた。これらはラテックス
中にゲルを生成させないで、生物的汚染に対して秀れた
防護を提供した。
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンをジプ
ロピレングリコール(DPG)に溶解した配合物前記の
高純度の遊離塩基イソチアゾロン混合物を、DPGの適
当な量に溶解し、5%イソチアゾロン(活性成分)DP
G溶液を造った。次いで、この5%活性成分を含有する
配合物を、30〜100ppm (活性活分)において
種々なラテックス乳濁液に加えた。これらはラテックス
中にゲルを生成させないで、生物的汚染に対して秀れた
防護を提供した。
【0038】実施例2
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メ
チル−3−イソチアゾロンの3:97混合物の製造実施
例1の工程1に類似した方法を用いて、純度98.2%
および5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/
2−メチル−3−イソチアゾロン比2:98を有するイ
ソチアゾロン・HClを得た。実施例1の工程2の操作
に従って、このイソチアゾロン・HClをアンモニアで
中和し、純度98.2%(5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比
3:97、<0.1%NH4 Cl)を有するイソチア
ゾロンを得た。全モル収率は86.4%であった。
チル−3−イソチアゾロンの3:97混合物の製造実施
例1の工程1に類似した方法を用いて、純度98.2%
および5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/
2−メチル−3−イソチアゾロン比2:98を有するイ
ソチアゾロン・HClを得た。実施例1の工程2の操作
に従って、このイソチアゾロン・HClをアンモニアで
中和し、純度98.2%(5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比
3:97、<0.1%NH4 Cl)を有するイソチア
ゾロンを得た。全モル収率は86.4%であった。
【0039】実施例3
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メ
チル−3−イソチアゾロンの92:8混合物の製造工程
1:MMPAの塩素化実施例1の工程1の操作に従って
、HPLCおよびHClの分析に基づいて、純度99.
9%(91%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾ
ロン/9%2−メチル−3−イソチアゾロン、すなわち
10.1:1の比)を有するイソチアゾロン・HCl塩
試料を得た。工程2:イソチアゾロン・HCl塩の中和
この工程は実施例1の工程2の操作を繰り返し、92%
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/8%2
−メチル−3−イソチアゾロン(11.4:1)の比を
有する遊離塩基イソチアゾロン(純度99.5%、<0
.1%NH4 Cl)181gを得た。出発MMPAに
基づいた全イソチアゾロン収率は82モル%であった。
チル−3−イソチアゾロンの92:8混合物の製造工程
1:MMPAの塩素化実施例1の工程1の操作に従って
、HPLCおよびHClの分析に基づいて、純度99.
9%(91%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾ
ロン/9%2−メチル−3−イソチアゾロン、すなわち
10.1:1の比)を有するイソチアゾロン・HCl塩
試料を得た。工程2:イソチアゾロン・HCl塩の中和
この工程は実施例1の工程2の操作を繰り返し、92%
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/8%2
−メチル−3−イソチアゾロン(11.4:1)の比を
有する遊離塩基イソチアゾロン(純度99.5%、<0
.1%NH4 Cl)181gを得た。出発MMPAに
基づいた全イソチアゾロン収率は82モル%であった。
【0040】実施例4
トルエン溶媒を用いて5−クロロ−2−メチル−3−イ
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン混合物
の製造 酢酸エチル溶媒をトルエンで置き代えた以外は、実施例
1の工程1を繰り返した。得られたイソチアゾロン・H
Clは、純度89%(5−クロロ−2−メチル−3−イ
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比3.
7:1)を有していた。実施例1の工程2の操作に従っ
てイソチアゾロン・HCl塩をアンモニアを用いて中和
し、純度88%(<0.1%NH4 Cl)および5−
クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル
−3−イソチアゾロン比4.4:1を有する遊離塩基イ
ソチアゾロンを造った。
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン混合物
の製造 酢酸エチル溶媒をトルエンで置き代えた以外は、実施例
1の工程1を繰り返した。得られたイソチアゾロン・H
Clは、純度89%(5−クロロ−2−メチル−3−イ
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比3.
7:1)を有していた。実施例1の工程2の操作に従っ
てイソチアゾロン・HCl塩をアンモニアを用いて中和
し、純度88%(<0.1%NH4 Cl)および5−
クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル
−3−イソチアゾロン比4.4:1を有する遊離塩基イ
ソチアゾロンを造った。
【0041】実施例5
酢酸ブチル(BuOAc)溶媒を用いて5−クロロ−2
−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソ
チアゾロン混合物の製造 酢酸エチル溶媒をBuOAcで置き代えた以外は、実施
例1の工程1を繰り返した。得られたイソチアゾロン・
HClは、純度99%(5−クロロ−2−メチル−3−
イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比3
.9:1)を有していた。実施例1の工程2の操作に従
ってイソチアゾロン・HCl塩をアンモニアを用いて中
和し、純度>99%および5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比
4.7:1(<0.5%NH4Cl)を有する遊離塩基
イソチアゾロンを造った。
−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソ
チアゾロン混合物の製造 酢酸エチル溶媒をBuOAcで置き代えた以外は、実施
例1の工程1を繰り返した。得られたイソチアゾロン・
HClは、純度99%(5−クロロ−2−メチル−3−
イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比3
.9:1)を有していた。実施例1の工程2の操作に従
ってイソチアゾロン・HCl塩をアンモニアを用いて中
和し、純度>99%および5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン比
4.7:1(<0.5%NH4Cl)を有する遊離塩基
イソチアゾロンを造った。
【0042】実施例6
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メ
チル−3−イソチアゾロンの4:1混合物の製造この実
施例は、塩素化/環化工程だけを行う溶媒として酢酸エ
チルを使用し、無水アンモニアを使用する中和工程を、
グリコールおよび共溶媒としての酢酸エチルの混合物中
で行う、本発明方法を例示する。得られたイソチアゾロ
ン・HClは純度98.3%を有し、かつ5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イ
ソチアゾロン比は4:1であった。
チル−3−イソチアゾロンの4:1混合物の製造この実
施例は、塩素化/環化工程だけを行う溶媒として酢酸エ
チルを使用し、無水アンモニアを使用する中和工程を、
グリコールおよび共溶媒としての酢酸エチルの混合物中
で行う、本発明方法を例示する。得られたイソチアゾロ
ン・HClは純度98.3%を有し、かつ5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イ
ソチアゾロン比は4:1であった。
【0043】工程2:イソチアゾロン・HCl塩の中和
イソチアゾロン・HClケーキ(68.4g)を、酢酸
エチル126.6gおよびジプロピレングリコール(D
PG)85.8g中に再スラリー化した。次いで、よく
かくはんしたスラリーを、遊離アンモニアが反応器の上
部空間に検出されるまで該スラリーを通してアンモニア
ガスを流した(アンモニア5.5gが中和のために必要
であった)。次いで、得られた遊離塩基イソチアゾロン
および塩化アンモニウムを濾過し、新しい酢酸エチルで
よく洗った。
イソチアゾロン・HClケーキ(68.4g)を、酢酸
エチル126.6gおよびジプロピレングリコール(D
PG)85.8g中に再スラリー化した。次いで、よく
かくはんしたスラリーを、遊離アンモニアが反応器の上
部空間に検出されるまで該スラリーを通してアンモニア
ガスを流した(アンモニア5.5gが中和のために必要
であった)。次いで、得られた遊離塩基イソチアゾロン
および塩化アンモニウムを濾過し、新しい酢酸エチルで
よく洗った。
【0044】工程3:溶媒ストリップ
濾液および酢酸エチルで洗った液をいっしょにし、これ
にトリエチルオルトホルメート安定剤12.1gを加え
た。次いで、この混合物から酢酸エチルを50℃/20
〜5mmHgでストリップし、26.4%5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン、6.6%2−メチル
−3−イソチアゾロン(4:1比)、<0.5%NH4
Clを含有するDPG液体混合物132.3gを得た
。
にトリエチルオルトホルメート安定剤12.1gを加え
た。次いで、この混合物から酢酸エチルを50℃/20
〜5mmHgでストリップし、26.4%5−クロロ−
2−メチル−3−イソチアゾロン、6.6%2−メチル
−3−イソチアゾロン(4:1比)、<0.5%NH4
Clを含有するDPG液体混合物132.3gを得た
。
【0045】工程4:5−クロロ−2−メチル−3−イ
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンをDP
Gに溶解した配合物 前記の溶液にDPG150.5gを更に加えて希釈し、
次いで濾過し、15.2%5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンの
DPG溶液の最終配合物を得た。
ソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンをDP
Gに溶解した配合物 前記の溶液にDPG150.5gを更に加えて希釈し、
次いで濾過し、15.2%5−クロロ−2−メチル−3
−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロンの
DPG溶液の最終配合物を得た。
【0046】実施例7
2−オクチル−3−イソチアゾロンの製造この実施例は
、塩素化/環化工程および中和の両方を行う溶媒として
酢酸ブチルを使用し、かつ中和剤として無水アンモニア
を使用した本発明方法を例示する。
、塩素化/環化工程および中和の両方を行う溶媒として
酢酸ブチルを使用し、かつ中和剤として無水アンモニア
を使用した本発明方法を例示する。
【0047】工程1:N−オクチル−3−メルカプトプ
ロピオンアミド(OMPA)の塩素化 底部に取出し口を有する1lのジャケット付き反応器に
、頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、28%OMP
A酢酸ブチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバ
ーに連結した冷却器を装備した。この反応器に、酢酸ブ
チルを仕込んだ。この酢酸ブチルの下部に、よくかくは
んしながら、かつ温度を調節しながら1〜2時間かけて
塩素および28%OMPA溶液を共供給した。得られた
2−オクチル−3−イソチアゾロン・HClの塩素化ス
ラリーを濾過して2−オクチル−3−イソチアゾロン・
HClケーキを単離した。この2−オクチル−3−イソ
チアゾロン・HClケーキを酢酸ブチルを用いてよく洗
い、高純度の2−オクチル−3−イソチアゾロン・HC
l塩を得た。この2−オクチル−3−イソチアゾロン・
HClの1部を乾燥し、2−オクチル−3−イソチアゾ
ロンをGC(ガスクロマトグラフィー)によって分析し
、そしてHClを電位差計滴定によって分析し、それら
の結果はそれぞれ85.3%および14.5%であった
。これから2−オクチル−3−イソオクタン・HCl全
部の純度は99.8%であった。
ロピオンアミド(OMPA)の塩素化 底部に取出し口を有する1lのジャケット付き反応器に
、頭上かくはん機、温度計、塩素用入口、28%OMP
A酢酸ブチル溶液用入口、および苛性アルカリスクラバ
ーに連結した冷却器を装備した。この反応器に、酢酸ブ
チルを仕込んだ。この酢酸ブチルの下部に、よくかくは
んしながら、かつ温度を調節しながら1〜2時間かけて
塩素および28%OMPA溶液を共供給した。得られた
2−オクチル−3−イソチアゾロン・HClの塩素化ス
ラリーを濾過して2−オクチル−3−イソチアゾロン・
HClケーキを単離した。この2−オクチル−3−イソ
チアゾロン・HClケーキを酢酸ブチルを用いてよく洗
い、高純度の2−オクチル−3−イソチアゾロン・HC
l塩を得た。この2−オクチル−3−イソチアゾロン・
HClの1部を乾燥し、2−オクチル−3−イソチアゾ
ロンをGC(ガスクロマトグラフィー)によって分析し
、そしてHClを電位差計滴定によって分析し、それら
の結果はそれぞれ85.3%および14.5%であった
。これから2−オクチル−3−イソオクタン・HCl全
部の純度は99.8%であった。
【0048】工程2:2−オクチル−3−イソチアゾロ
ンの中和2−オクチル−3−イソチアゾロン・HCl塩
を新しい酢酸ブチル中に再びスラリー化し(25%固体
)、遊離アンモニアが湿ったリトマス試験紙またはアン
モニア検出プルーブのいずれかによって容器の上部空間
に検出できるまで、(10〜20℃に維持した)スラリ
ーを通して、無水アンモニアを徐々に流した。次いで、
得られた遊離塩基2−オクチル−3−イソチアゾロンお
よび塩化アンモニウムのスラリーを減圧ブフナーロート
によって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸ブチルでよく
洗った。
ンの中和2−オクチル−3−イソチアゾロン・HCl塩
を新しい酢酸ブチル中に再びスラリー化し(25%固体
)、遊離アンモニアが湿ったリトマス試験紙またはアン
モニア検出プルーブのいずれかによって容器の上部空間
に検出できるまで、(10〜20℃に維持した)スラリ
ーを通して、無水アンモニアを徐々に流した。次いで、
得られた遊離塩基2−オクチル−3−イソチアゾロンお
よび塩化アンモニウムのスラリーを減圧ブフナーロート
によって濾過し、濾過ケーキを新しい酢酸ブチルでよく
洗った。
【0049】工程3:溶媒ストリップ
濾液および酢酸ブチルで洗った液をいっしょにし、減圧
下でストリップし、高純度(>99%)の遊離塩基の2
−オクチル−3−イソチアゾロン生成物(<0.5%N
H4 Cl)を得た。
下でストリップし、高純度(>99%)の遊離塩基の2
−オクチル−3−イソチアゾロン生成物(<0.5%N
H4 Cl)を得た。
【0050】工程4:2−オクチル−3−イソチアゾロ
ンをプロピレングリコールに溶解した配合物2−オクチ
ル−3−イソチアゾロン(266g)を、1,2−プロ
ピレングリコール(312g)に溶解し、46%活性成
分の溶液を得た。この配合物は、市販のアクリル系ペイ
ント配合物に添加し、そのペイントが細菌の攻撃に対し
て金属製容器中で良好な貯蔵安定性を示し、かつ外部表
面に適用したときのカビ(mildew)に対する秀れ
た抵抗性を示すようにすることができる。
ンをプロピレングリコールに溶解した配合物2−オクチ
ル−3−イソチアゾロン(266g)を、1,2−プロ
ピレングリコール(312g)に溶解し、46%活性成
分の溶液を得た。この配合物は、市販のアクリル系ペイ
ント配合物に添加し、そのペイントが細菌の攻撃に対し
て金属製容器中で良好な貯蔵安定性を示し、かつ外部表
面に適用したときのカビ(mildew)に対する秀れ
た抵抗性を示すようにすることができる。
【0051】実施例8
アンモニアを用いてイソチアゾロン・HCl塩混合物の
部分的中和 この実施例は、2種のイソチアゾロンが最初のイソチア
ゾロン・HCl混合物に存在していたひよりも異なった
比において2種のイソチアゾロンの混合物を得る方法を
述べている。
部分的中和 この実施例は、2種のイソチアゾロンが最初のイソチア
ゾロン・HCl混合物に存在していたひよりも異なった
比において2種のイソチアゾロンの混合物を得る方法を
述べている。
【0052】5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾ
ロン・HClおよび2−メチル−3−イソチアゾロン・
HCl(75.4:24.6の比において)の95g混
合物を酢酸エチル400gに溶かした液を、5−クロロ
−2−メチル−3−イソチアゾロン・HClを充分に中
和するのに必要な95%の理論量アンモニア(6.2g
)を使用して、10℃において部分的に中和した。この
結果得られた固体としての塩化アンモニウムおよびイソ
チアゾロン・HCl塩混合物、および溶液中に溶けてい
る遊離塩基イソチアゾロンを、減圧ブフナーロートによ
って濾過し、得られたケーキを酢酸エチルで洗った。
ロン・HClおよび2−メチル−3−イソチアゾロン・
HCl(75.4:24.6の比において)の95g混
合物を酢酸エチル400gに溶かした液を、5−クロロ
−2−メチル−3−イソチアゾロン・HClを充分に中
和するのに必要な95%の理論量アンモニア(6.2g
)を使用して、10℃において部分的に中和した。この
結果得られた固体としての塩化アンモニウムおよびイソ
チアゾロン・HCl塩混合物、および溶液中に溶けてい
る遊離塩基イソチアゾロンを、減圧ブフナーロートによ
って濾過し、得られたケーキを酢酸エチルで洗った。
【0053】濾液および酢酸エチルで洗った液をいっし
ょにし、減圧下(50℃/20mmHg)でストリップ
し、本質的に5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾ
ロン(96.1%)、および少量だけの2−メチル−3
−イソチアゾロン(1.1%)を含有する遊離塩基55
.3gを得た。
ょにし、減圧下(50℃/20mmHg)でストリップ
し、本質的に5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾ
ロン(96.1%)、および少量だけの2−メチル−3
−イソチアゾロン(1.1%)を含有する遊離塩基55
.3gを得た。
【0054】前記のNH4 Cl/イソチアゾロン・H
Cl塩混合物の湿ったケーキを、酢酸エチル275g中
に再びスラリー化し、完全に中和した。これは、NH3
が反応器の上部空間に検出される前に、NH3 2.
8gを吸収した。得られたスラリーを濾過し、減圧ブフ
ナーロート上で洗った。この濾液を減圧下(50℃/2
0mmHg)でストリップし、5−クロロ−2−メチル
−3−イソチアゾロンおよび2−メチル−3−イソチア
ゾロン比25:75を含有する遊離塩基混合物を得た。
Cl塩混合物の湿ったケーキを、酢酸エチル275g中
に再びスラリー化し、完全に中和した。これは、NH3
が反応器の上部空間に検出される前に、NH3 2.
8gを吸収した。得られたスラリーを濾過し、減圧ブフ
ナーロート上で洗った。この濾液を減圧下(50℃/2
0mmHg)でストリップし、5−クロロ−2−メチル
−3−イソチアゾロンおよび2−メチル−3−イソチア
ゾロン比25:75を含有する遊離塩基混合物を得た。
【0055】比較例
次の比較例1および2は、中和剤としてトリエチルアミ
ン(TEA)およびピリジン(PYR)を用いる従来技
術の使用例を示す。最終生成物の純度は、これらの有機
塩基を使用したときは低くなり、実施例1〜7の<0.
5%塩化アンモニウムと比較して、2%またはそれ以上
のアミン・HCl塩(TEA・HClまたはPYR・H
Cl)不純物が存在する。
ン(TEA)およびピリジン(PYR)を用いる従来技
術の使用例を示す。最終生成物の純度は、これらの有機
塩基を使用したときは低くなり、実施例1〜7の<0.
5%塩化アンモニウムと比較して、2%またはそれ以上
のアミン・HCl塩(TEA・HClまたはPYR・H
Cl)不純物が存在する。
【0056】比較例1
トリエチルアミン(TEA)を用いて5−クロロ−2−
メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチ
アゾロンの4/1混合物の製造 実施例6の工程1の操作に従って得たイソチアゾロン・
HClの湿ったケーキ(83.2g)の試料を酢酸エチ
ル383.5g中に再びスラリー化した。このイソチア
ゾロン・HClの湿ったケーキのよくかくはんしたスラ
リーに、温度を8〜12℃に維持しながらTEA43g
を滴下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られた
スラリーを23℃に暖め、ブフナーロートで濾過した。 固体TEA・HClを酢酸エチル300gを用いて洗っ
た。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を50℃かつ
20〜5mmHgにおいてストリップし、78.3%5
−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/19.8
%2−メチル−3−イソチアゾロン/2.0%TEA・
HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン57.0gを
得た。
メチル−3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチ
アゾロンの4/1混合物の製造 実施例6の工程1の操作に従って得たイソチアゾロン・
HClの湿ったケーキ(83.2g)の試料を酢酸エチ
ル383.5g中に再びスラリー化した。このイソチア
ゾロン・HClの湿ったケーキのよくかくはんしたスラ
リーに、温度を8〜12℃に維持しながらTEA43g
を滴下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られた
スラリーを23℃に暖め、ブフナーロートで濾過した。 固体TEA・HClを酢酸エチル300gを用いて洗っ
た。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を50℃かつ
20〜5mmHgにおいてストリップし、78.3%5
−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/19.8
%2−メチル−3−イソチアゾロン/2.0%TEA・
HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン57.0gを
得た。
【0057】比較例2
ピリジン(PYR)を用いて5−クロロ−2−メチル−
3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン
の4/1混合物の製造 実施例6の工程1の操作に従って得たイソチアゾロン・
HClの湿ったケーキ(74.4g)の試料を酢酸エチ
ル410g中に再びスラリー化した。このイソチアゾロ
ン・HClの湿ったケーキのよくかくはんしたスラリー
に、温度を10℃に維持しながらPYR29.3gを滴
下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られたスラ
リーを25℃に暖め、2等分した。次いで、得られたス
ラリーの1つの部分(246g)をブフナーロートで濾
過した。固体のPYR・HClを酢酸エチル250gで
洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を50℃
、5〜20mmHgにおいてストリップし、77.6%
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/19.
4%2−メチル−3−イソチアゾロン/2.5%PYR
・HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン26.2g
を得た。次いで、得られたスラリーの第2の部分(24
4g)をPYR4.4gを追加して処理し、ブフナーロ
ートで濾過した。固体PYR・HClを酢酸エチル25
0gで洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を
50℃、5〜20mmHgにおいてストリップし、74
.3%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/
20.0%2−メチル−3−イソチアゾロン/4.4%
PYR・HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン25
.0gを得た。
3−イソチアゾロン/2−メチル−3−イソチアゾロン
の4/1混合物の製造 実施例6の工程1の操作に従って得たイソチアゾロン・
HClの湿ったケーキ(74.4g)の試料を酢酸エチ
ル410g中に再びスラリー化した。このイソチアゾロ
ン・HClの湿ったケーキのよくかくはんしたスラリー
に、温度を10℃に維持しながらPYR29.3gを滴
下しながら加えた。中和の終りにおいて、得られたスラ
リーを25℃に暖め、2等分した。次いで、得られたス
ラリーの1つの部分(246g)をブフナーロートで濾
過した。固体のPYR・HClを酢酸エチル250gで
洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を50℃
、5〜20mmHgにおいてストリップし、77.6%
5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/19.
4%2−メチル−3−イソチアゾロン/2.5%PYR
・HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン26.2g
を得た。次いで、得られたスラリーの第2の部分(24
4g)をPYR4.4gを追加して処理し、ブフナーロ
ートで濾過した。固体PYR・HClを酢酸エチル25
0gで洗った。濾液および洗液をいっしょにし、溶媒を
50℃、5〜20mmHgにおいてストリップし、74
.3%5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン/
20.0%2−メチル−3−イソチアゾロン/4.4%
PYR・HClを含有する遊離塩基イソチアゾロン25
.0gを得た。
Claims (21)
- 【請求項1】 (a) 無水アンモニアと、【化1】
式 式中、Yは、1〜10個の炭素原子を有するアルキルま
たは置換アルキル、2〜10個の炭素原子を有する非置
換またはハロゲン置換のアルケニルまたはアルキニル、
および10個までの炭素原子を有するアラルキルまたは
ハロゲン−、低級アルキル−、または低級アルコキシ−
置換のアラルキルから成る群から選ばれ、Xは、水素ま
たは(C1 −C2 )アルキルであり、そして X1 は、水素、塩素、または(C1 −C2 )アル
キルであり、 Zは、塩素、臭素、硫酸塩、またはフルオロスルホン酸
塩であり、 mは、Zが塩素、臭素、またはフルオロスルホン酸塩で
あるときは1であり、そしてmが硫酸塩であるときは2
である、 を有するイソチアゾロン塩とを反応させ、(b) 得ら
れた(NH4 )m Zを得られた遊離塩基のイソチア
ゾロンから分離することから成る、 【化2】式 式中、Y、X、およびX1 は前記定義と同じである、
を有する、3−イソチアゾロンの製造方法。 - 【請求項2】 前記塩を有機溶媒に溶解し、または分
散させる、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記溶媒が、アルコール類、グリコー
ル類、グリコールエーテル類、酢酸エステル類、脂肪族
炭化水素類、塩素化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素
類、および塩素化芳香族炭化水素類の溶媒から成る群か
ら選ばれる、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記溶媒が、(C1 −C5 )アル
キルアルコール、(C2 −C8 )アルキレングリコ
ール、(C3 −C10)アルキレングリコールエーテ
ル、(C6 )芳香族炭化水素、(C1 −C2 )ア
ルキル置換芳香族炭化水素、塩素置換(C6 )芳香族
炭化水素、塩素置換(C1 −C2 )アルキル置換芳
香族炭化水素、(C6 −C8 )アルカン、塩素置換
(C1 −C3 )アルカン、および酢酸の(C1 −
C4 )アルキルエステルから成る群から選ばれる、請
求項2に記載の方法。 - 【請求項5】 溶媒が、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、1,3−ブタンジオール、ジプロピレ
ングリコール、エチレングリコールブチルエーテル、ト
ルエン、モノクロロベンゼン、ヘプタン、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、酢酸エチル、および酢酸
ブチルから成る群から選ばれる、請求項4に記載の方法
。 - 【請求項6】 前記アンモニアを前記塩を中和するの
に充分な量で加える、請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 前記塩を有機溶媒に溶解または分散さ
せ、そして得られた溶液または分散液上の上部空間を、
アンモニアの充分な量を加えたときを決められるように
反応の間監視する、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 前記塩を中和するのに必要なアンモニ
アを越える過剰のアンモニアを避けることを更に包含す
る、請求項1に記載の方法。 - 【請求項9】 前記塩を中和するのに必要なアンモニ
アを越える過剰のアンモニアを避けることを更に包含す
る、請求項2に記載の方法。 - 【請求項10】 前記塩を不完全に中和するように、
前記塩と化学量論量以下のアンモニアとを反応させるこ
とを更に包含する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 Y置換基が(C1 −C8 )アル
キルである、請求項1に記載の方法。 - 【請求項12】 Yがn−オクチルであり、X1 が
水素であり、Xが水素である、請求項11に記載の方法
。 - 【請求項13】 Yがメチルであり、X1 が水素で
あり、Xが水素である、請求項11に記載の方法。 - 【請求項14】 Yがメチルであり、X1 が塩素で
あり、Xが水素である、請求項11に記載の方法。 - 【請求項15】 前記の得られた遊離塩基イソチアゾ
ロンが、5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロン
および2−メチル−3−イソチアゾロンの混合物である
、請求項9に記載の方法。 - 【請求項16】 前記5−クロロ−2−メチル−3−
イソチアゾロンおよび2−メチル−3−イソチアゾロン
の比が、約92:8〜3:97である、請求項15に記
載の方法。 - 【請求項17】 前記の遊離塩基イソチアゾロンが、
イソチアゾロンの重量に基づいて約0.5%以下の(N
H4 )m Zを含有している、請求項1に記載の方法
。 - 【請求項18】 前記の単離した遊離塩基イソチアゾ
ロンが、イソチアゾロンの重量に基づいて0.1%以下
の(NH4 )m Zを含有している、請求項1に記載
の方法。 - 【請求項19】 前記の得られた遊離塩基イソチアゾ
ロンが実質的に水を含有していない、請求項1に記載の
方法。 - 【請求項20】 前記イソチアゾロンが、イソチアゾ
ロンの重量に基づいて約0.1%以下の水、および約0
.1%以下の(NH4 )m Zを含有する、請求項1
9に記載の方法。 - 【請求項21】 mが1であり、Zが塩素または臭素
である、請求項2に記載の方法。
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US07/464,472 US5068344A (en) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | Process for the preparation of salt free, water free 3-isothiazolone compounds |
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Cited By (1)
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JP2011500735A (ja) * | 2007-10-25 | 2011-01-06 | 北京天▲チン▼化工有限責任公司 | 3−イソチアゾリノン誘導体およびその中間体生成物を連続的に生産する方法 |
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KR100573962B1 (ko) * | 1999-06-08 | 2006-04-25 | 에스케이케미칼주식회사 | 살균 상승효과를 갖는 살균 조성물 |
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CN103087002A (zh) * | 2011-11-03 | 2013-05-08 | Dhc有限公司 | 异噻唑啉酮的制造方法 |
CN105901000A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 常州大学 | 一种用生产无盐异噻唑啉酮时的工业废水生产丙烯酸酯乳液杀菌剂及其制备方法 |
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