JPH0579887B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0579887B2 JPH0579887B2 JP59211376A JP21137684A JPH0579887B2 JP H0579887 B2 JPH0579887 B2 JP H0579887B2 JP 59211376 A JP59211376 A JP 59211376A JP 21137684 A JP21137684 A JP 21137684A JP H0579887 B2 JPH0579887 B2 JP H0579887B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wind speed
- dust
- clean
- air
- clean room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F7/00—Ventilation
- F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
- F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
- F24F7/10—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit with air supply, or exhaust, through perforated wall, floor or ceiling
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、他の領域で発生した塵埃が清浄に保
持すべき領域に拡散することを防止したクリーン
ルームに関する。
持すべき領域に拡散することを防止したクリーン
ルームに関する。
半導体産業ではクリーンルームの清浄度に対す
る要求が年々厳しくなつている。クリーンルーム
として提案されている構造としては従来は、たと
えば電子材料1983年８月号第51〜56頁に記載され
ているように、天井全面に高性能フイルタを設
け、床は格子状あるいは、多くの穴のある床板材
で敷きつめ、フイルタから床に垂直に清浄空気を
吹き出す全面ダウンフロー形式、あるいは同上文
献や日経エレクトロニクス別冊日経エレクトロニ
クスマイクロデバイス第134〜138頁（1983年８月
22日）に記載されているような、作業領域を中心
に超清浄にし、その周囲の通路や保全域は通常の
清浄度に維持するようにする、いわゆるトンネル
モジユール形式もしくはベイ方式とよばれるクリ
ーンルームが提案されている。このうち全面ダウ
ンフローの従来の例について第２図によつて説明
する。クリーンルーム１には、送風機２、与圧室
３、および高性能フイルタ４からなるフイルタユ
ニツト５より清浄な空気６が吹き出されており、
この空気は開口を有する床７より床下ダクト８に
排出され、さらに壁の内部などに設けられたダク
トを通つて天井裏９に導びかれた後、再び送風機
２、与圧室３、フイルタ４を通つてクリーンルー
ム１に、清浄空気６として供給される。このと
き、清浄空気６の吹き出される風速は、全面に亘
つてほぼ均一に調整されているのが通常で、その
風速としてはおよそ0.3〜0.5m／ｓが選ばれてい
る。
る要求が年々厳しくなつている。クリーンルーム
として提案されている構造としては従来は、たと
えば電子材料1983年８月号第51〜56頁に記載され
ているように、天井全面に高性能フイルタを設
け、床は格子状あるいは、多くの穴のある床板材
で敷きつめ、フイルタから床に垂直に清浄空気を
吹き出す全面ダウンフロー形式、あるいは同上文
献や日経エレクトロニクス別冊日経エレクトロニ
クスマイクロデバイス第134〜138頁（1983年８月
22日）に記載されているような、作業領域を中心
に超清浄にし、その周囲の通路や保全域は通常の
清浄度に維持するようにする、いわゆるトンネル
モジユール形式もしくはベイ方式とよばれるクリ
ーンルームが提案されている。このうち全面ダウ
ンフローの従来の例について第２図によつて説明
する。クリーンルーム１には、送風機２、与圧室
３、および高性能フイルタ４からなるフイルタユ
ニツト５より清浄な空気６が吹き出されており、
この空気は開口を有する床７より床下ダクト８に
排出され、さらに壁の内部などに設けられたダク
トを通つて天井裏９に導びかれた後、再び送風機
２、与圧室３、フイルタ４を通つてクリーンルー
ム１に、清浄空気６として供給される。このと
き、清浄空気６の吹き出される風速は、全面に亘
つてほぼ均一に調整されているのが通常で、その
風速としてはおよそ0.3〜0.5m／ｓが選ばれてい
る。
ところでクリーンルーム１は、装置がおかれ、
製品となるべきシリコンウエーハが処理される作
業領域１０ａ，１０ｂ，１０ｃと、作業者が通行
したり、薬液や資材を搬送したりする通路領域あ
るいは保全領域１１ａ，１１ｂ，１１ｃとに通常
は区分されて用いられているが、従来は、これら
各区分領域に対する清浄空気の風速は同一になる
ように選ばれていた。このような従来のクリーン
ルームでは、下記のような欠点を有する。
製品となるべきシリコンウエーハが処理される作
業領域１０ａ，１０ｂ，１０ｃと、作業者が通行
したり、薬液や資材を搬送したりする通路領域あ
るいは保全領域１１ａ，１１ｂ，１１ｃとに通常
は区分されて用いられているが、従来は、これら
各区分領域に対する清浄空気の風速は同一になる
ように選ばれていた。このような従来のクリーン
ルームでは、下記のような欠点を有する。
すなわち、クリーンルームでの最大の発塵源は
防塵衣を着用しているとはいえ作業者自身といわ
れているが、その作業者が移動したりして動いて
いる状態では、相当の塵埃が発生している。従つ
て通路領域１１ａ〜１１ｃは常に塵埃が発生して
おり、その塵埃は極めて清浄に保つ必要のある作
業領域１０ａ〜１０ｃに拡散して、製品に付着
し、製造歩留りや製品の信頼度等を低下させるも
とになつている。
防塵衣を着用しているとはいえ作業者自身といわ
れているが、その作業者が移動したりして動いて
いる状態では、相当の塵埃が発生している。従つ
て通路領域１１ａ〜１１ｃは常に塵埃が発生して
おり、その塵埃は極めて清浄に保つ必要のある作
業領域１０ａ〜１０ｃに拡散して、製品に付着
し、製造歩留りや製品の信頼度等を低下させるも
とになつている。
本発明の目的は、上記従来の問題を解決し、塵
埃の発生しやすい領域から清浄に保つべき領域へ
の塵埃の拡散が極めて少ないクリーンルームを提
供することにある。
埃の発生しやすい領域から清浄に保つべき領域へ
の塵埃の拡散が極めて少ないクリーンルームを提
供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、塵埃の発
生しやすい通路領域の吹き出し風速が、清浄に保
つべき作業領域の吹き出し風速よりも大きくなる
ように、領域の性格によつて風速差を設けるもの
である。
生しやすい通路領域の吹き出し風速が、清浄に保
つべき作業領域の吹き出し風速よりも大きくなる
ように、領域の性格によつて風速差を設けるもの
である。
以下本発明の実施例を第１図によつて説明す
る。
る。
クリーンルームの構造そのものは第２図に示し
た従来のものと同じであるが、フイルタからの吹
き出し風速として、作業領域を６ａとしたのに対
して、通路領域６ｂとし、６ａより大とした。本
実施例では、６ａを0.35m／ｓ、６ｂを0.7m／ｓ
とした。
た従来のものと同じであるが、フイルタからの吹
き出し風速として、作業領域を６ａとしたのに対
して、通路領域６ｂとし、６ａより大とした。本
実施例では、６ａを0.35m／ｓ、６ｂを0.7m／ｓ
とした。
このように風速差をつけたことによる効果を、
実際に測定した結果に基づいて説明する。
実際に測定した結果に基づいて説明する。
第３図は隣接するフイルタ４ａ，４ｂからの空
気の流れの向きを示したものである。第４図の各
矢印は、それぞれ風速の方向を示している。Ａは
両フイルタ４ａ，４ｂ共0.35m／ｓで等風速とし
た場合、気流の向きに偏りはなく、いずれも垂直
に下方に向う。Ｂ〜Ｃは図中に示したように風速
差をつけた場合で、気流の向きは、いずれも低風
速側の空気が高風速側に向かつていることが認め
られた。すなわち低風速側の空気が高風速側に誘
引されるが、その逆は認められなかつた。なお、
第４図において記号７は開口を有する床面を表わ
す。
気の流れの向きを示したものである。第４図の各
矢印は、それぞれ風速の方向を示している。Ａは
両フイルタ４ａ，４ｂ共0.35m／ｓで等風速とし
た場合、気流の向きに偏りはなく、いずれも垂直
に下方に向う。Ｂ〜Ｃは図中に示したように風速
差をつけた場合で、気流の向きは、いずれも低風
速側の空気が高風速側に向かつていることが認め
られた。すなわち低風速側の空気が高風速側に誘
引されるが、その逆は認められなかつた。なお、
第４図において記号７は開口を有する床面を表わ
す。
第４図は、隣接するフイルタの境界の直下に発
塵器を置いて５秒間発塵したのち、その下方1m
の位置でダストのカウントを行つた測定結果を示
している。風速差をつけなかつたＡの場合は、対
称に塵埃が拡散していることがわかるが、風速差
をつけたＢ〜Ｄでは、高風速側に偏つて拡散して
おり、低速側の方がダスト濃度が低いことがわか
つた。
塵器を置いて５秒間発塵したのち、その下方1m
の位置でダストのカウントを行つた測定結果を示
している。風速差をつけなかつたＡの場合は、対
称に塵埃が拡散していることがわかるが、風速差
をつけたＢ〜Ｄでは、高風速側に偏つて拡散して
おり、低速側の方がダスト濃度が低いことがわか
つた。
さらに第５図は、同様に、高速風側に20cm入つ
た地点で発塵したのちの状況を示している。風速
差のないＡでは、境界付近まで塵埃の拡散が見ら
れるが、風速差をつれたＢ〜Ｄでは、境界付近よ
り低風速側への塵埃の拡散はほとんどみられなか
つた。
た地点で発塵したのちの状況を示している。風速
差のないＡでは、境界付近まで塵埃の拡散が見ら
れるが、風速差をつれたＢ〜Ｄでは、境界付近よ
り低風速側への塵埃の拡散はほとんどみられなか
つた。
〔発明の効果〕
上記説明から明らかなように、本発明によれば
清浄に保つ必要のある作業領域に、通路領域で発
生する塵埃を拡散させない手段として、作業領域
の風速に対して、通路領域の風速を大にすること
が極めて有効であり、これにより製品の歩留りや
信頼性の改善が可能である。本発明は格別の設備
や装置を付加することなく、フイルタからの吹出
し風速を調整するだけで達成することが可能なの
で、経済的にも有利である。
清浄に保つ必要のある作業領域に、通路領域で発
生する塵埃を拡散させない手段として、作業領域
の風速に対して、通路領域の風速を大にすること
が極めて有効であり、これにより製品の歩留りや
信頼性の改善が可能である。本発明は格別の設備
や装置を付加することなく、フイルタからの吹出
し風速を調整するだけで達成することが可能なの
で、経済的にも有利である。
第１図は本発明の一実施例を説明するための模
式図、第２図は従来のクリーンルームの一例を説
明するための模式図、第３図、第４図および第５
図は本発明の効果を説明するための図である。 １……クリーンルーム、２……送風機、３……
与圧室、４……高性能フイルタ、５……フイルタ
ユニツト、６，６ａ，６ｂ……風速を示す矢印、
７……開口を有する床面、８……床下ダクト、９
……天井裏ダクト、１０ａ〜１０ｃ……作業領
域、１１ａ〜１１ｃ……通路領域。
式図、第２図は従来のクリーンルームの一例を説
明するための模式図、第３図、第４図および第５
図は本発明の効果を説明するための図である。 １……クリーンルーム、２……送風機、３……
与圧室、４……高性能フイルタ、５……フイルタ
ユニツト、６，６ａ，６ｂ……風速を示す矢印、
７……開口を有する床面、８……床下ダクト、９
……天井裏ダクト、１０ａ〜１０ｃ……作業領
域、１１ａ〜１１ｃ……通路領域。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 清浄空気を上部から開口部を有する床へ吹き
出す手段と該床上に設けられた作業領域及び該作
業領域に隣接して設けられた通路領域とを備えた
クリーンルームにおいて、上記清浄空気の上記通
路領域における吹き出し風速を上記作業領域にお
ける吹き出し風速を越える風速に制御する手段を
有することを特徴とするクリーンルーム。 ２ 上記作業領域における風速と上記通路領域に
おける風速との風速差は0.15m／ｓ以上であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のクリ
ーンルーム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59211376A JPS6191434A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | クリ−ンル−ム |
| KR1019850006819A KR920007809B1 (ko) | 1984-10-11 | 1985-09-18 | 클린 룸 |
| US06/786,550 US4693173A (en) | 1984-10-11 | 1985-10-11 | Clean room |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59211376A JPS6191434A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | クリ−ンル−ム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191434A JPS6191434A (ja) | 1986-05-09 |
| JPH0579887B2 true JPH0579887B2 (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=16604935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59211376A Granted JPS6191434A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6191434A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2582866B2 (ja) * | 1988-07-11 | 1997-02-19 | 株式会社竹中工務店 | 危険薬品使用工場等用クリーンルームの給排気方法 |
-
1984
- 1984-10-11 JP JP59211376A patent/JPS6191434A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6191434A (ja) | 1986-05-09 |
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