JPH0439552A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
- Publication number
- JPH0439552A JPH0439552A JP14498790A JP14498790A JPH0439552A JP H0439552 A JPH0439552 A JP H0439552A JP 14498790 A JP14498790 A JP 14498790A JP 14498790 A JP14498790 A JP 14498790A JP H0439552 A JPH0439552 A JP H0439552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- floor
- water
- air
- pass holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 241001212789 Dynamis Species 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
空気の中の浮遊塵を除去してダウンフロー（Ｄｏｗｎ
Ｆｌｏｗ）するクリーンルームに関し、クリーンルーム
内の作業者、装置などから発注し、クリーンルーム内を
降下する塵をクリーンルーム外に排出できるクリーンル
ームの提供を目的とし、 空気中の浮遊塵を除去し、この空気を床に向けてダウン
フローするクリーンルームにおいて、床に複数の貫通孔
を設け、且つ当該貫通孔の直下に水面が空気と接する水
を流すようにしてクリーンルームを構成する。
Ｆｌｏｗ）するクリーンルームに関し、クリーンルーム
内の作業者、装置などから発注し、クリーンルーム内を
降下する塵をクリーンルーム外に排出できるクリーンル
ームの提供を目的とし、 空気中の浮遊塵を除去し、この空気を床に向けてダウン
フローするクリーンルームにおいて、床に複数の貫通孔
を設け、且つ当該貫通孔の直下に水面が空気と接する水
を流すようにしてクリーンルームを構成する。
本発明は、クリーンルーム、特にクリーンルーム内の作
業者、装置等から発生し、クリーンルーム内を降下する
塵をクリーンルーム外に排出できるクリーンルームに関
する。
業者、装置等から発生し、クリーンルーム内を降下する
塵をクリーンルーム外に排出できるクリーンルームに関
する。
最近の半導体装置の配線パターン幅は、ＩＭＤＲＡＭや
４ Ｍ Ｄ ＲＡ Ｍ （ＤＲＡＭ ； Ｄｙｎａｍｉ
ｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ；記憶
保持動作が必要な随時書き込み読み出しメモリー）の技
術等でみられるように、サブミクロン領域となっている
。
４ Ｍ Ｄ ＲＡ Ｍ （ＤＲＡＭ ； Ｄｙｎａｍｉ
ｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ；記憶
保持動作が必要な随時書き込み読み出しメモリー）の技
術等でみられるように、サブミクロン領域となっている
。
従って、このような半導体装置を製造するために使用す
るクリーンルームは、益々高性能なものが求められるよ
うになっている。
るクリーンルームは、益々高性能なものが求められるよ
うになっている。
次に、従来のクリーンルームについて図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
第２図は、従来のクリーンルームの要部を模式的に示す
側断面図である。
側断面図である。
従来のクリーンルームは、第２図に示すように天井に配
設されて背面側から送り込まれた空気１０中の浮遊塵を
捕捉し、前面から浮遊塵を除去した空気ｌＯを部屋内の
床１１に向けて矢印Ｂで示すの如くダウンフローする高
性能フィルター、例えばＨＥＰＡフィルター（Ｈｉｇｈ
Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ ＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉ
ｒ Ｆｉｌｔｅｒ ）１２と、 吸入孔１３ａを有し、ＨＥＰＡフィルター１２から吹き
出された空気１０を矢印Ａで示すよにうＨＥＰＡフィル
ター１２の背面側に戻すための還流路となる還流ダクト
１３と、 還流ダクト１３内に設置され、矢印Ｃで示す如く回転し
、吸入孔１３ａから吸入した空気ＩＯを加圧してＨＥＰ
Ａフィルター１２の背面側に送る送風ファン１４を含ん
で構成したものである。
設されて背面側から送り込まれた空気１０中の浮遊塵を
捕捉し、前面から浮遊塵を除去した空気ｌＯを部屋内の
床１１に向けて矢印Ｂで示すの如くダウンフローする高
性能フィルター、例えばＨＥＰＡフィルター（Ｈｉｇｈ
Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ ＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉ
ｒ Ｆｉｌｔｅｒ ）１２と、 吸入孔１３ａを有し、ＨＥＰＡフィルター１２から吹き
出された空気１０を矢印Ａで示すよにうＨＥＰＡフィル
ター１２の背面側に戻すための還流路となる還流ダクト
１３と、 還流ダクト１３内に設置され、矢印Ｃで示す如く回転し
、吸入孔１３ａから吸入した空気ＩＯを加圧してＨＥＰ
Ａフィルター１２の背面側に送る送風ファン１４を含ん
で構成したものである。
従来のクリーンルームは、空気１０をＨＥＰＡフィルタ
ー１２を通過させることにより、空気１０中の極めて微
細な浮遊塵をも除去できるように構成されていた。
ー１２を通過させることにより、空気１０中の極めて微
細な浮遊塵をも除去できるように構成されていた。
ところが、クリーンルーム内の作業者や装置等から発生
する塵のなかで重量が重く、クリーンルーム内を降下す
る塵については、ＨＥＰＡフィルター１２により除去で
きなかった。
する塵のなかで重量が重く、クリーンルーム内を降下す
る塵については、ＨＥＰＡフィルター１２により除去で
きなかった。
このため、かかる塵がクリーンルーム内の床に堆積する
が如く蓄積され、クリーンルーム内で作業者が移動する
度毎にクリーンルーム内で舞い上がってレチクルや半導
体ウェーハに付着し、半導体装置等を不良にしたり、ま
た半導体装置の信軽度を損ねる等の問題があった。
が如く蓄積され、クリーンルーム内で作業者が移動する
度毎にクリーンルーム内で舞い上がってレチクルや半導
体ウェーハに付着し、半導体装置等を不良にしたり、ま
た半導体装置の信軽度を損ねる等の問題があった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
ので、その目的はクリーンルーム内の作業者、装置など
から発生し、クリーンルーム内を降下する塵をクリーン
ルーム外に排出できるクリーンルームの提供にある。
ので、その目的はクリーンルーム内の作業者、装置など
から発生し、クリーンルーム内を降下する塵をクリーン
ルーム外に排出できるクリーンルームの提供にある。
前記目的は、第１図に示すように空気１０中の浮遊塵を
除去し、空気１０を床２１に向けてダウンフローするク
リーンルームにおいて、 床２１に複数の貫通孔２１ａを設け、且つ貫通孔２１ａ
の直下に水面２０ａが空気１０と接する水２０を流すよ
うに構成したことを特徴とするクリーンルームによって
達成される。
除去し、空気１０を床２１に向けてダウンフローするク
リーンルームにおいて、 床２１に複数の貫通孔２１ａを設け、且つ貫通孔２１ａ
の直下に水面２０ａが空気１０と接する水２０を流すよ
うに構成したことを特徴とするクリーンルームによって
達成される。
本発明のクリーンルームは、その床２１に複数の貫通孔
２１ａを設け、且つ貫通孔２１ａの直下に水２０を流す
ように構成している。
２１ａを設け、且つ貫通孔２１ａの直下に水２０を流す
ように構成している。
このため、クリーンルーム内で作業者や装置から発生し
てクリーンルーム内を降下する塵は、床２１に設けた貫
通孔２１ａを通過し、貫通孔２１ａの直下を流れる水２
０に落下し、水２０とともにクリーンルーム外に排出さ
れることとなる。
てクリーンルーム内を降下する塵は、床２１に設けた貫
通孔２１ａを通過し、貫通孔２１ａの直下を流れる水２
０に落下し、水２０とともにクリーンルーム外に排出さ
れることとなる。
斯くして、クリーンルーム内で作業者や装置から発生し
てクリーンルーム内を降下する塵があってもクリーンル
ーム内の床２１に蓄積されることがないから、クリーン
ルーム内で作業者が移動しても床２１から塵がクリーン
ルーム内で舞い上がることもなくなる。
てクリーンルーム内を降下する塵があってもクリーンル
ーム内の床２１に蓄積されることがないから、クリーン
ルーム内で作業者が移動しても床２１から塵がクリーン
ルーム内で舞い上がることもなくなる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。
。
第１図は、本発明の一実施例のクリーンルームを説明す
るための図で、同図（ａ）はクリーンルームの要部を模
式的に示す側断面図、同図（ｂ）はクリーンルームの床
の部分平面図である。
るための図で、同図（ａ）はクリーンルームの要部を模
式的に示す側断面図、同図（ｂ）はクリーンルームの床
の部分平面図である。
すなわち、本発明の一実施例のクリーンルームは、第２
図により説明した従来のクリーンルームの床１１に代え
て、複数の貫通孔２１ａを設けた床２１にし、且つ貫通
孔２１ａの直下に水、例えば純水２０を流すように構成
したものである。
図により説明した従来のクリーンルームの床１１に代え
て、複数の貫通孔２１ａを設けた床２１にし、且つ貫通
孔２１ａの直下に水、例えば純水２０を流すように構成
したものである。
かかるクリーンルームでは、クリーンルーム内で作業者
や装置から発生してクリーンルーム内を降下する塵があ
ってもクリーンルーム内の床２１に蓄積されることがな
い。
や装置から発生してクリーンルーム内を降下する塵があ
ってもクリーンルーム内の床２１に蓄積されることがな
い。
従って、従来のクリーンルームではクリーンルーム内で
あっても塵がレチクルや半導体ウェーハに付着する等の
問題があったが、本発明の一実施例のクリーンルームで
はこのような問題は解消されることとなる。
あっても塵がレチクルや半導体ウェーハに付着する等の
問題があったが、本発明の一実施例のクリーンルームで
はこのような問題は解消されることとなる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、クリー
ンルーム内の作業者、装置などから発生し、クリーンル
ーム内を降下する塵をクリーンルーム外に排出するクリ
ーンルームを提供することが可能となる。
ンルーム内の作業者、装置などから発生し、クリーンル
ーム内を降下する塵をクリーンルーム外に排出するクリ
ーンルームを提供することが可能となる。
従って、本発明のクリーンルーム内で半導体装置等の製
造を行えば、半導体装置等の製造歩留まりの向上は固よ
り、半導体装置の信頼度を向上させることができること
となる。
造を行えば、半導体装置等の製造歩留まりの向上は固よ
り、半導体装置の信頼度を向上させることができること
となる。
を説明するための図、
第２図は、従来のクリーンルームの要部を模式的に示す
側断面図である。
側断面図である。
図において、
１０は空気、
１１と２１は床、
２１ａは貫通孔、
１２はＨＥＰＡフィルター
１３は還流ダクト、
１３ａは吸入孔、
１４は送風ファン、
２０は水（純水）、
２０ａは水面をそれぞれ示す。
第１図は、本発明の一実施例のクリーンルーム（ａ）ク
リーンルームの樗Ｉｐシ下１声４つ１ヒｔす償°Ｉｔ帆
動図（ｂ）”リーンルームめＡめ４ず弓テ層聞ゎ２不発
Ｗ月の一李）短音ｌのクリーンルーム１審克明”１６ｆ
−、、釣の図第１図 第２区
リーンルームの樗Ｉｐシ下１声４つ１ヒｔす償°Ｉｔ帆
動図（ｂ）”リーンルームめＡめ４ず弓テ層聞ゎ２不発
Ｗ月の一李）短音ｌのクリーンルーム１審克明”１６ｆ
−、、釣の図第１図 第２区
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 空気（１０）中の浮遊塵を除去し、当該空気（１０）を
床（２１）に向けてダウンフローするクリーンルームに
おいて、 前記床（２１）に複数の貫通孔（２１ａ）を設け、且つ
当該貫通孔（２１ａ）の直下に水面（２０ａ）が前記空
気（１０）と接する水（２０）を流すように構成したこ
とを特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14498790A JPH0439552A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14498790A JPH0439552A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | クリーンルーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0439552A true JPH0439552A (ja) | 1992-02-10 |
Family
ID=15374844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14498790A Pending JPH0439552A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0439552A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8137161B2 (en) | 2007-03-23 | 2012-03-20 | Showa Denko K.K. | Disk-shaped substrate manufacturing method |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP14498790A patent/JPH0439552A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8137161B2 (en) | 2007-03-23 | 2012-03-20 | Showa Denko K.K. | Disk-shaped substrate manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS625031A (ja) | 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム | |
| US20040149134A1 (en) | Trap-type air purification system | |
| JPH0322547B2 (ja) | ||
| JPH0439552A (ja) | クリーンルーム | |
| US5069113A (en) | Stacked and cross-connected recirculating fans in a semiconductor manufacturing cleanroom | |
| JPH06323616A (ja) | クリーンルームの給気吹出ユニット | |
| KR100643252B1 (ko) | 클린유닛 | |
| JPS61168735A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPH11218355A (ja) | フィルタ一体型気流吹き出しユニット | |
| JP2002243233A (ja) | 空気清浄化装置 | |
| JP3163722B2 (ja) | クリーンルーム用給気装置 | |
| JPH03146108A (ja) | 塵埃除去装置 | |
| JPH08114342A (ja) | クリーンルーム装置 | |
| JPS6099943A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPH01281350A (ja) | クリーンルーム | |
| KR20000000819A (ko) | 반도체 청정실용 모듈필터 | |
| JPS60129115A (ja) | 空気清浄装置 | |
| JPS61168736A (ja) | クリ−ンル−ム | |
| JPH0437614Y2 (ja) | ||
| JP4273812B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JPH0544663Y2 (ja) | ||
| JPH0467094B2 (ja) | ||
| JPS6315110B2 (ja) | ||
| JPH039782Y2 (ja) | ||
| JPS62268940A (ja) | 局所清浄装置 |