JPS6099943A - クリ−ンル−ム - Google Patents
クリ−ンル−ムInfo
- Publication number
- JPS6099943A JPS6099943A JP58204814A JP20481483A JPS6099943A JP S6099943 A JPS6099943 A JP S6099943A JP 58204814 A JP58204814 A JP 58204814A JP 20481483 A JP20481483 A JP 20481483A JP S6099943 A JPS6099943 A JP S6099943A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- worker
- air
- clean
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はクリーンルームを高清浄度に保つための技術に
関するもので、特に半導体装置の製造用に用いるクリー
ンルームに利用して有効な技術に関するものである。
関するもので、特に半導体装置の製造用に用いるクリー
ンルームに利用して有効な技術に関するものである。
一般に半導体装置の製造工程、とりわけ半導体ウェーハ
上に回路素子を形成する所冊前工程では塵埃は大数であ
り、作業雰囲気における清浄度がそのまま製品歩留りに
結びつく。このため、この種の半導体装置の作業雰囲気
の高清浄化を図るためにクリーンルームが使用されてお
り、例えば第１図に示す構成のものが考えられる。
上に回路素子を形成する所冊前工程では塵埃は大数であ
り、作業雰囲気における清浄度がそのまま製品歩留りに
結びつく。このため、この種の半導体装置の作業雰囲気
の高清浄化を図るためにクリーンルームが使用されてお
り、例えば第１図に示す構成のものが考えられる。
第１図のクリーンルーム１は、清浄化と共に省エネルギ
化を図ったもので、装置２の上端面近くでワーク（半導
体ウェーハ）が処理され、このワークの雰囲気を高清浄
度域３とし℃ワークの要求に応じた清浄度に保っている
。清浄空気は高性能フィルタ４かも矢印の方向に吹き出
し、装置２と内隔壁５との間を通って装置保全域６に流
れ込む。
化を図ったもので、装置２の上端面近くでワーク（半導
体ウェーハ）が処理され、このワークの雰囲気を高清浄
度域３とし℃ワークの要求に応じた清浄度に保っている
。清浄空気は高性能フィルタ４かも矢印の方向に吹き出
し、装置２と内隔壁５との間を通って装置保全域６に流
れ込む。
作業者域７は高清浄度域３に較べて一般に一段下の清浄
度に保たれるが、高性能フィルタ８から吹出した空気は
装置２と床９の間を通り装置保全域６に流れ込む。作業
者１０は作業者域７で作業し装置２の操作を行なう。高
清浄度域３は作業者域７に較べて清浄空気の吹き出し量
が多くなるよう設計され℃″１６す、作業者１０が動き
まわる作業者域７からの汚染が少なくなるようにしであ
る。この場合、この効果を増すために両者間にスクリー
ンを設けることもある。
度に保たれるが、高性能フィルタ８から吹出した空気は
装置２と床９の間を通り装置保全域６に流れ込む。作業
者１０は作業者域７で作業し装置２の操作を行なう。高
清浄度域３は作業者域７に較べて清浄空気の吹き出し量
が多くなるよう設計され℃″１６す、作業者１０が動き
まわる作業者域７からの汚染が少なくなるようにしであ
る。この場合、この効果を増すために両者間にスクリー
ンを設けることもある。
装置保全域６の空気はプレフィルタ１１あるいはプレフ
ィルタ１２．リターンダクト１３を通り、夫々高性能フ
ィルタ４と高性能フィルタ８に戻り循環するっ外隅壁１
４は以上のクローズした循環系を外界と遮断分離するた
めに設けられている。
ィルタ１２．リターンダクト１３を通り、夫々高性能フ
ィルタ４と高性能フィルタ８に戻り循環するっ外隅壁１
４は以上のクローズした循環系を外界と遮断分離するた
めに設けられている。
なお、この例ではクリーントンネルの一つの単位を示し
たが、実際の作業ラインでは、この様なりリーントンネ
ルが何例も並んで設置される場合が多く、装置保全域６
は隣接するクリーントンネルと共用する形となる。
たが、実際の作業ラインでは、この様なりリーントンネ
ルが何例も並んで設置される場合が多く、装置保全域６
は隣接するクリーントンネルと共用する形となる。
ところで、前記したようなりリーンルームにあっては、
高清浄度域３に要求される清浄度は一般的にクラス１０
（０，５μｎ１以上）程度であり、これを満足するため
には高性能フィルタ８を天井の全面に設置する必要があ
る。この場合、空気の循環回数は６００〜７００回／時
となる。一方、作業者域７も同等の清浄度とするの力′
−理想であるが、高性能フィルタ４，８１茜価であるた
め作業者域７の天井全面に設置することはぜずに通常一
つお？［Ｌ、か配置していない。このため、空気の循環
回数は３００回／時程度となり、清浄度はクラス１００
かそれ以上に劣化する。これにより、高清浄度域３は作
業者１０の動作が原因とされる空気の巻込みにより清ｒ
１１度が低下されろという悪影響を受け易くなる。他方
、装置保全域６は本来それほど清浄度が要求されないの
にもかかわらず空気循環回数が８００回／時程度となり
、実質的にクラス１００以上の清浄度とブよっている。
高清浄度域３に要求される清浄度は一般的にクラス１０
（０，５μｎ１以上）程度であり、これを満足するため
には高性能フィルタ８を天井の全面に設置する必要があ
る。この場合、空気の循環回数は６００〜７００回／時
となる。一方、作業者域７も同等の清浄度とするの力′
−理想であるが、高性能フィルタ４，８１茜価であるた
め作業者域７の天井全面に設置することはぜずに通常一
つお？［Ｌ、か配置していない。このため、空気の循環
回数は３００回／時程度となり、清浄度はクラス１００
かそれ以上に劣化する。これにより、高清浄度域３は作
業者１０の動作が原因とされる空気の巻込みにより清ｒ
１１度が低下されろという悪影響を受け易くなる。他方
、装置保全域６は本来それほど清浄度が要求されないの
にもかかわらず空気循環回数が８００回／時程度となり
、実質的にクラス１００以上の清浄度とブよっている。
結局、前述したクリーンルーム構成では、高清浄度域３
の清浄度を高いレベルで安定に保持することが難しい反
面、高コスト化を生じるという問題がある。
の清浄度を高いレベルで安定に保持することが難しい反
面、高コスト化を生じるという問題がある。
本発明の目的は高清浄度域はもとより作業者域も清浄度
を高め、空気巻込みによる高清浄度域の清浄度の安定化
を高めることである。さらに本発明の目的は高価な高性
能フィルタの使用を低減して安価に構成することができ
るクリーントンネルを提供することにある。
を高め、空気巻込みによる高清浄度域の清浄度の安定化
を高めることである。さらに本発明の目的は高価な高性
能フィルタの使用を低減して安価に構成することができ
るクリーントンネルを提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである、 高清浄度力′−要求される空間を外側の内隅壁と、内側
のスクリーンとで画成し、この空間の天井面に高性能フ
ィルタを設けて清浄空気を吹き下すよう構成する一方、
これと並設されろ作業者域や装置保全域では、前記高清
浄度域から流入する空気を上方のリターン吸入口に向け
−Ｃ循）ＪＡ通流し得ろよう構成することにより、作業
者域から高清浄度域への空気の巻込みを防止して高清浄
度ｊ２１Ｊ Ｑ所定の清浄度に安定に保持する一方、作
業者域の６“１１性能フイルタを不要ＶＣＬ−Ｃ低コス
ト化を図ることができるものである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである、 高清浄度力′−要求される空間を外側の内隅壁と、内側
のスクリーンとで画成し、この空間の天井面に高性能フ
ィルタを設けて清浄空気を吹き下すよう構成する一方、
これと並設されろ作業者域や装置保全域では、前記高清
浄度域から流入する空気を上方のリターン吸入口に向け
−Ｃ循）ＪＡ通流し得ろよう構成することにより、作業
者域から高清浄度域への空気の巻込みを防止して高清浄
度ｊ２１Ｊ Ｑ所定の清浄度に安定に保持する一方、作
業者域の６“１１性能フイルタを不要ＶＣＬ−Ｃ低コス
ト化を図ることができるものである。
第２図は本発明のクリーントンネルの一実施例を示し１
おり、クリーントンネル２０は全体を外隅壁２１によっ
て外界と区画されている。そして、この区画内の中央に
作業者域２２を、その内外側に高清浄度域２３．２３を
、更にその内外側に装置保全域２４．２４を夫々構成し
ており、特に高清浄度域２３．２３はその外側に配設し
た内隅壁２５．２５と、内側に配設したスクリーン２６
゜２６とによってそれぞれ装置保全域２４．２４と、作
業者域２２とに区画される。なお、内隅壁２５゜２５と
スクリーン２６．２６とは、高清浄度域２３゜２３の床
２７上に設置される装置２８の上でワ−りが処理される
位置より低いところまでその下端が延在されるような状
態で吊り下げた構成とし、したがってその下側には床２
７との間に隙間が形成される。
おり、クリーントンネル２０は全体を外隅壁２１によっ
て外界と区画されている。そして、この区画内の中央に
作業者域２２を、その内外側に高清浄度域２３．２３を
、更にその内外側に装置保全域２４．２４を夫々構成し
ており、特に高清浄度域２３．２３はその外側に配設し
た内隅壁２５．２５と、内側に配設したスクリーン２６
゜２６とによってそれぞれ装置保全域２４．２４と、作
業者域２２とに区画される。なお、内隅壁２５゜２５と
スクリーン２６．２６とは、高清浄度域２３゜２３の床
２７上に設置される装置２８の上でワ−りが処理される
位置より低いところまでその下端が延在されるような状
態で吊り下げた構成とし、したがってその下側には床２
７との間に隙間が形成される。
そして、前記高清浄度域２３．２３の天井に夫々高性能
フィルタ２９．２９を設置すると共に、これを上部にお
いてダクト３０に接続する。一方、作？ｒ者域２２の天
井にはプレフィルタ３１を設けて前記ダクト３０に連通
させ、また装置保全域ハ。
フィルタ２９．２９を設置すると共に、これを上部にお
いてダクト３０に接続する。一方、作？ｒ者域２２の天
井にはプレフィルタ３１を設けて前記ダクト３０に連通
させ、また装置保全域ハ。
２４の天井にもプレフィルタ３２．３２を設けて前記高
性能フィルタ２９．２９に連通させる。なお、図中３３
はスクリーン２６に設けた作業用の窓であり、作業者域
２２にいる作業者３４はこの作業用窓３３を通して装置
２８を操作する。
性能フィルタ２９．２９に連通させる。なお、図中３３
はスクリーン２６に設けた作業用の窓であり、作業者域
２２にいる作業者３４はこの作業用窓３３を通して装置
２８を操作する。
この構成によれば、清浄空気は高性能フィルタ２９．２
９から矢印のように下方に向け℃高清浄度１１＆２３．
２３を満たしここを清浄化する。清浄空気は更に装置べ
２８と内隔壁２５およびスクリーン２６の隙間を通って
夫々装］置保全域２４ 、２４と作業者域２２に流れ込
む。また一部は作業用窓３３を通して作業者域２２に流
れ込む。そして、装置保全域２４の空気は上向きに流れ
、プレフィルタ３２に吸込まれ、直接に前記高性能フィ
ルタ２９Ｖｃ戻り前述のように循環する。一方、作業者
域２２の空気も上向きに流れプレフィルタ３１からダク
ト３０を通って高性能フィルタ２９に戻り前述のように
循環する。
９から矢印のように下方に向け℃高清浄度１１＆２３．
２３を満たしここを清浄化する。清浄空気は更に装置べ
２８と内隔壁２５およびスクリーン２６の隙間を通って
夫々装］置保全域２４ 、２４と作業者域２２に流れ込
む。また一部は作業用窓３３を通して作業者域２２に流
れ込む。そして、装置保全域２４の空気は上向きに流れ
、プレフィルタ３２に吸込まれ、直接に前記高性能フィ
ルタ２９Ｖｃ戻り前述のように循環する。一方、作業者
域２２の空気も上向きに流れプレフィルタ３１からダク
ト３０を通って高性能フィルタ２９に戻り前述のように
循環する。
したがって、このクリーントンネルによれば、高清浄度
域２３は陽圧となる一方、装置保全域２４と作業者域２
２は共に陽圧となるために、清浄空気は高清浄度域２３
から装置保全域２４と作業者域２２に向かってのみ吹き
出すことになり、作業者域２２から高清浄度域２３への
空気の巻込みを防止する。また、高清浄度域２３では高
性能フィルタ２９からの清浄空気が供給されるので要求
される高清浄度を満たし、前記空気の巻込み防止と相俟
って清浄度を安定に保持することができる。
域２３は陽圧となる一方、装置保全域２４と作業者域２
２は共に陽圧となるために、清浄空気は高清浄度域２３
から装置保全域２４と作業者域２２に向かってのみ吹き
出すことになり、作業者域２２から高清浄度域２３への
空気の巻込みを防止する。また、高清浄度域２３では高
性能フィルタ２９からの清浄空気が供給されるので要求
される高清浄度を満たし、前記空気の巻込み防止と相俟
って清浄度を安定に保持することができる。
因みに、高清浄度域２３は循環回数が６００〜７００回
／時でクラス１０が得られ、装置保全域２４と作業者域
２２はともに３００回／時穐度となってクラス１００の
清浄度が得られる。
／時でクラス１０が得られ、装置保全域２４と作業者域
２２はともに３００回／時穐度となってクラス１００の
清浄度が得られる。
また、装置２８と、内隔壁２５およびスクリーン２６と
の隙間を調整すれば、作業者域２２により多くの清浄空
気を流れ込むようにして循環回数を増やし、清浄度の向
上を図ることができる。作業者３４は作挙用窓３３から
装＠２８を操作するが窓３３から吹き出す空気の速度を
１ｍ／秒以上となるような窓の大きさとすれば空気の巻
込みを鋸視することができる。
の隙間を調整すれば、作業者域２２により多くの清浄空
気を流れ込むようにして循環回数を増やし、清浄度の向
上を図ることができる。作業者３４は作挙用窓３３から
装＠２８を操作するが窓３３から吹き出す空気の速度を
１ｍ／秒以上となるような窓の大きさとすれば空気の巻
込みを鋸視することができる。
更に作業者域２２の天井の高性能フィルタを省いている
の、フィルタ設置のための初期投資と運転のための電力
ランニングコストの双方を従来の２／３〜１／２に低減
できる。
の、フィルタ設置のための初期投資と運転のための電力
ランニングコストの双方を従来の２／３〜１／２に低減
できる。
ｉｌｌ 高清浄度」或を内隔壁とスクリーンで区画し、
その天井に高性能フィルタを設けて清浄空気を下方に向
けて吹出す一方、作ｆ者域や装置保全域はこの空気を循
環通流させるように構成しているので、高清浄度域が陽
圧になる一方作業者域や装置保全域は陽圧と／Ｚす、こ
れにより高清浄度域な所望の清浄度にすると共に作業者
域からの空気の巻込みを防止して高清浄度を安定に保持
することができる。
その天井に高性能フィルタを設けて清浄空気を下方に向
けて吹出す一方、作ｆ者域や装置保全域はこの空気を循
環通流させるように構成しているので、高清浄度域が陽
圧になる一方作業者域や装置保全域は陽圧と／Ｚす、こ
れにより高清浄度域な所望の清浄度にすると共に作業者
域からの空気の巻込みを防止して高清浄度を安定に保持
することができる。
（２）高性能フィルタは高清浄度域に設けるだけでよい
ので、設備コストの低減を図ることができる。
ので、設備コストの低減を図ることができる。
（３）高清浄度域と作業者域および装置保全域との間で
空気を循環させると共に、特に作業者域の高性能フィル
タを省略することができるので、電力のランニングコス
トの低減を図ることもできる。
空気を循環させると共に、特に作業者域の高性能フィル
タを省略することができるので、電力のランニングコス
トの低減を図ることもできる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的ＶＣ説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨紮逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはい）までもない。たとえば、床がグレ
ーティングのダウンフローの場合でも、また空気が水平
方向に流れるクロスフローでも同様の効果が得られる。
具体的ＶＣ説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨紮逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはい）までもない。たとえば、床がグレ
ーティングのダウンフローの場合でも、また空気が水平
方向に流れるクロスフローでも同様の効果が得られる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置の製造用
クリーンルームに適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、所ｔｔｉ半導体製造工程
の後工程用装置としても適用でき、更に＃導体製造装置
以外の微細７１１工装置、たとえば磁気記憶装置の塗布
工程、光ディスクの製造工程、精密部品・精密装置の組
立装置等に適用できる。
をその背景となった利用分野である半導体装置の製造用
クリーンルームに適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、所ｔｔｉ半導体製造工程
の後工程用装置としても適用でき、更に＃導体製造装置
以外の微細７１１工装置、たとえば磁気記憶装置の塗布
工程、光ディスクの製造工程、精密部品・精密装置の組
立装置等に適用できる。
第１図はクリーンルームの断面構成図、第２図は本発明
の一実施例のクリーンルームの断面構成図である〜 ２０・・・クリーンルーム、２１・・・外隅壁、２２・
・・作栗者域、２３・・・高清浄度域、２４・・・装置
保全域、２５・・・内隅壁、２６・・・スクリーン、２
８・・・装置、２９・・・高性能フィルタ、３０・・・
ダクト、３１・・・プレフィルタ、３２・・・プレフィ
ルタ、３４・・・作菜者。 第 １ 図 ／３ 第 ２ 図
の一実施例のクリーンルームの断面構成図である〜 ２０・・・クリーンルーム、２１・・・外隅壁、２２・
・・作栗者域、２３・・・高清浄度域、２４・・・装置
保全域、２５・・・内隅壁、２６・・・スクリーン、２
８・・・装置、２９・・・高性能フィルタ、３０・・・
ダクト、３１・・・プレフィルタ、３２・・・プレフィ
ルタ、３４・・・作菜者。 第 １ 図 ／３ 第 ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、外隔壁にて外界と遮断された空間内に、高清浄度が
要求される高清浄度域を内隔壁とスクリーンとによって
区画形成し、この高清浄度域の天井に清浄空気を吹出す
高性能フィルタを配設すると共に、高清浄度域以外の領
域の上部には前記清浄空気を循環通流するプレフィルタ
を配設したことを特徴とするクリーンルーム。 ２、高清浄度域の両側に作桑者域と装置保全域とを設け
、これら作業者域と装置保全域の夫々にプレフィルタを
設け、このプレフィルタを直接或いはダクトを介して前
記高性能フィルタに連通させてなる特許請求の範囲第１
項記載のクリーンルーム。 ３、内隔壁とスクリーンは床との間に適宜の隙間を設け
てなる′「判￥Ｆ 請求の範囲第１項又は第２項記載の
クリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204814A JPS6099943A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | クリ−ンル−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204814A JPS6099943A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | クリ−ンル−ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6099943A true JPS6099943A (ja) | 1985-06-03 |
Family
ID=16496814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58204814A Pending JPS6099943A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6099943A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125238A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Shimizu Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
| JPS6375733U (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-20 | ||
| JPS6438539A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-08 | Takenaka Komuten Co | Clean room system ceiling |
| JPH02183748A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Fujitsu Ltd | クリーンルーム |
| JPH04161740A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-05 | Hitachi Ltd | 空気清浄システム |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP58204814A patent/JPS6099943A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125238A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Shimizu Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
| JPS6375733U (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-20 | ||
| JPH0311650Y2 (ja) * | 1986-11-04 | 1991-03-20 | ||
| JPS6438539A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-08 | Takenaka Komuten Co | Clean room system ceiling |
| JPH02183748A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Fujitsu Ltd | クリーンルーム |
| JPH04161740A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-05 | Hitachi Ltd | 空気清浄システム |
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