JPH0518576A - クリーンルーム - Google Patents

クリーンルーム

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Publication number
JPH0518576A
JPH0518576A JP19593491A JP19593491A JPH0518576A JP H0518576 A JPH0518576 A JP H0518576A JP 19593491 A JP19593491 A JP 19593491A JP 19593491 A JP19593491 A JP 19593491A JP H0518576 A JPH0518576 A JP H0518576A
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JP
Japan
Prior art keywords
clean room
clean
fan
manufacturing apparatus
fan filter
Prior art date
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Pending
Application number
JP19593491A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshito Takenami
敏人 竹浪
Junta Hirata
順太 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Plant Technologies Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Plant Technologies Ltd filed Critical Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority to JP19593491A priority Critical patent/JPH0518576A/ja
Publication of JPH0518576A publication Critical patent/JPH0518576A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ファンフイルタユニット14、16、18か
ら清浄エアを効率良く吹き出して清浄エアの搬送費用を
低減することができるクリーンルーム10を提供する。 【構成】 半導体製造装置24、26の稼働状態を検知
するセンサ38、44を半導体製造装置24、26に取
付けると共に、クリーンルーム10で作業する作業者6
6の位置を感知するセンサ64を半導体製造装置24、
26に取付け、そして前記センサ38、44から出力さ
れた製造装置24、26の稼働している状態を示す信号
がコントローラ34、40に入力されると、コントロー
ラ34、40がその製造装置24、26の上方にあるフ
ァンフイルタユニット14、18のファン30、30の
回転数を高くし、また、センサ60から出力された作業
者62の位置を感知した信号がコントローラ66に入力
されると、コントローラ66がその作業者62の上方に
あるファンフイルタユニット16のファン30の回転数
を高くする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームに係り、
特にクリーンルームの天井室に供給された清浄エアを、
天井面に配設されたファンフイルタユニットで加圧して
クリーンルームに吹き出し、床面から排気する下向流型
のクリーンルームに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のクリーンルームは、空調
装置からクリーンルームの天井室に供給された清浄エア
が、天井面に全域に配設された複数のファンフイルタユ
ニットのファンで加圧され、半導体製造装置等が据え付
けられたクリーンルームに向けて垂直に吹き出される。
前記クリーンルームに吹き出された清浄エアは、床面グ
レーチングから床下チャンバに吸い込まれ、吸い込まれ
た清浄エアの一部が循環通路を介して前記天井室に戻さ
れ、また残りの清浄エアが吸引ファンによって大気に放
出されるか又は前記空調装置に循環供給される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クリーンルームではクリーンルームの清浄度を維持する
為に、製造装置がOFF状態の時でも1日中(24時
間)にわたりファンフイルタユニットのファンを連続運
転させて清浄エアを吹き出さなければならない。これに
より、クリーンルームに供給される清浄エアの供給量
は、クリーンルームの容積に対し1時間当たり300倍
から500倍にも達し極めて大量になるので、清浄エア
の搬送費用が莫大になるという欠点がある。具体的に
は、ファンフイルタユニットの運転コストが空調コスト
全体の40%を占めている。
【0004】このような不具合を解消する方法として、
クリーンルームの塵埃濃度を許容最低限に維持するよう
に必要最小限の清浄エアを供給するという手段が採られ
ているが、この方法では塵埃濃度が場所により不均一に
なるという欠点がある。また、近時、半導体製造装置の
性能向上に伴い、作業者からの塵埃汚染を防止して歩留
まりを向上させ、更に省人化を推進する等の目的でウエ
ハの自動搬送、自動移載装置等の自動化が積極的に行わ
れている。しかし、従来のクリーンルームは前記製造装
置の自動化が行われている反面、ファンフイルタユニッ
トのファンの運転が一定回転数で運転されているので、
空調除塵動力の省エネルギ化は進んでいないという欠点
がある。
【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、清浄エアを効率良くクリーンルームに吹き出し
て清浄エアの搬送費用を低減することができるクリーン
ルームを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
する為に、空調装置からクリーンルームの天井室に供給
された清浄エアを、天井面に配設された複数のファンフ
イルタユニットで加圧してクリーンルームに吹き出し、
クリーンルームの床面から排気するクリーンルームに於
いて、前記ファンフイルタユニットから吹き出される清
浄エアの気流速度は、クリーンルームに設置された製造
装置の稼働状態に応じて自動制御されたことを特徴とす
る。
【0007】
【作用】本発明によれば、ファンフイルタユニットから
吹き出される清浄エアの気流速度を、クリーンルームに
設置された製造装置の稼働状態に応じて自動制御する。
即ち、前記製造装置が稼働している間は、前記清浄エア
の気流速度を速くして高い清浄度を維持し、製造装置が
停止している間は清浄エアの気流速度を遅くして許容最
低限の清浄度を維持する。
【0008】また、製造装置のON−OFF状態を検知
する第1のセンサを、製造装置に取付けると共に、クリ
ーンルームで作業する作業者の位置を感知する第2のセ
ンサをクリーンルームの所定位置に取付ける。そして、
第1のセンサから出力された製造装置のON状態を示す
信号が第1のコントローラに入力されると、第1のコン
トローラがその製造装置の上方に設置されたファンフイ
ルタユニットのファンの回転数を高くする。また、第2
のセンサから出力された作業者の位置を示す信号が第2
のコントローラに入力されると、第2のコントローラが
作業者の上方に設置されたファンフイルタユニットのフ
ァンの回転数を高くする。これにより、清浄エアを効率
良くクリーンルームに吹き出すことができる。
【0009】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るクリーン
ルームの好ましい実施例を詳説する。図1は本発明に係
るクリーンルーム10の第1実施例が示され、このクリ
ーンルーム10の天井室12にはファンフイルタユニッ
ト14、16、18がその清浄エア吹出し面が天井面2
0と同一面上になるように設置される。前記ファンフイ
ルタユニット14、18は、クリーンルーム10の床面
グレーチング22上に設置された半導体製造装置24、
26の上方に設けられている。
【0010】各ファンフイルタユニット14、16、1
8は、ファンケーシング28内にファン30が設けられ
ると共に、塵埃除去フイルタ32がファン30の後流側
でファン30に連結されている。ファンフイルタユニッ
ト14のファン30には、ファン30の回転速度を調節
するコントローラ34が接続され、このコントラーラ3
4はケーブル36を介してセンサ38に接続される。前
記センサ38は半導体製造装置24に内蔵されると共
に、半導体製造装置24の稼働状態、即ちON若しくは
OFF状態を検知して、その検知信号をケーブル36を
介してコントローラ34に出力する。
【0011】また、ファンフイルタユニット18のファ
ン30にも同様に、ファン30の回転速度を調節するコ
ントローラ40が接続され、このコントラーラ40はケ
ーブル42を介してセンサ44に接続される。前記セン
サ44は半導体製造装置26に内蔵されると共に、半導
体製造装置26のON若しくはOFF状態を検知して、
その検知信号をケーブル42を介してコントローラ40
に出力する。
【0012】前記天井室12にはダクト46を介して空
調装置48が連通される。この空調装置48には、外気
を空調装置48に吸引する為の図示しない吸引ファンが
連結される。更に、前記床面グレーチング22の下方
は、床下チャンバ50が形成される。この床下チャンバ
の図中左側はダクト52を介して排気ファン54が連結
されると共に、床下チャンバの図中右側はダクト56を
介して前記空調装置48に連結される。
【0013】また、循環通路58、58がクリーンルー
ム10の両側面に形成され、循環通路58、58によっ
て前記天井室12と床下ャンバ50とが連通される。次
に、前記の如く構成されたクリーンルーム10の第1実
施例の作用について説明する。先ず、吸引ファンで吸引
した外気を空調装置48で空調した後、前記ダクト46
を介して天井室12に供給する。天井室12に供給され
た空調エアは、ファンフイルタユニット14、16、1
8で加圧されると共に、各ファンフイルタユニット1
4、16、18の塵埃除去フイルタ32、32、32を
通過することにより清浄化された後、クリーンルーム1
0に吹き出される。クリーンルーム10に吹き出された
清浄エアは、床面グレーチング22を介して床下チャン
バ50に導入され、このうちの一部が循環通路58、5
8を介して天井室12に戻され、また残りがダクト52
を介して排気ファン54で外部に排気されるか、又はダ
クト56を介して空調装置48に導入されて天井室12
に循環供給される。
【0014】次に、ファンフイルタユニット14、18
に取付けられた各コントローラ34、40の制御方法に
ついて説明する例えば、図中右側の半導体製造装置26
がONになると、センサ44が半導体製造装置26のO
N状態を検知し、この検知信号をケーブル42を介して
コントローラ40に出力する。コントローラ40は前記
検知信号が入力されると、この検知信号に基づいて半導
体製造装置40の上方に設置されたファンフイルタユニ
ット18のファン30の回転数を高くする。これによ
り、前記半導体製造装置40には気流速度の早い清浄エ
アが吹き出されるので、半導体製造装置40の雰囲気を
高い清浄度に維持することができる。
【0015】また、半導体製造装置40がONからOF
Fになると、センサ44が半導体製造装置26のOFF
状態を検知し、この検知信号をケーブル42を介してコ
ントローラ40に出力する。コントローラ40はこの検
知信号に基づいて前記ファン30の回転数を0.2m/
sから0.3m/sに低くする。これにより、前記半導
体製造装置40には気流速度の遅い清浄エアが吹き出さ
れるようになり、半導体製造装置40の雰囲気の清浄度
が低下するが、許容最低限の清浄度を維持することがで
きる。
【0016】一方、コントローラ34の場合でも同様
に、センサ38の検知信号に基づいて半導体製造装置2
4の上方に設置されたファンフイルタユニット14のフ
ァン30の回転速度を調節する。このように、第1実施
例では半導体製造装置24、26の稼働状態に応じてフ
ァンフイルタユニット14、18から吹き出される清浄
エアの気流速度を変えたので、清浄エアを効率良く吹き
出すことができる。従って、清浄エアの搬送費用を、従
来のクリーンルームと比較して大幅に低減することがで
きる。
【0017】図2には本発明に係るクリーンルームの第
2実施例が示され、図1に示した第1実施例と同一若し
くは類似の部材については同一の符号を付している。第
2実施例によれば、半導体製造装置24の前面にセンサ
60が取付けられている。前記センサ60は、半導体製
造装置24で作業する作業者62、若しくは半導体製造
装置24に接近してくる作業者62を感知することがで
き、その感知信号はケーブル64を介してコントローラ
66に出力される。
【0018】前記コントローラ66は、前記作業者62
の上方に設置されたファンフイルタユニット16のファ
ン30に接続され、ファン30の回転数を適宜に変える
ことができる。第2実施例によれば、センサ60が作業
者62を感知すると、コントローラ66がファン30の
回転数を高くして、作業者62に向けて気流速度の早い
清浄エアを吹き出す。これにより、作業者62の雰囲気
を高い清浄度に維持できるので、作業者62による塵埃
汚染を防止することができる。尚、センサ60が作業者
62を感知しない場合には、ファン30の回転数を0.
2m/sから0.3m/sに低くして気流速度の遅い清
浄エアを吹き出す。従って、第2実施例も第1実施例と
同様に、清浄エアを効率良く吹き出して清浄エアの搬送
費用を大幅に低減することができる。
【0019】尚、前記センサ60を半導体製造装置24
に取付けるとしたが、これに限られるものではなく、半
導体製造装置26及びクリーンルーム10の壁面等に取
付けても良い。これにより、クリーンルーム10に於け
る作業者62の位置が常に監視され、その作業者62に
向けて清浄エアが常時吹き出されるようになる。また、
半導体製造装置24と作業者62との上方に1台のファ
ンフイルタユニット14しかない場合には、半導体製造
装置24がON状態の時に高速の清浄エアを吹き出すよ
うにし、半導体製造装置24がOFF状態の時に中速の
清浄エアを吹き出すようにすれば、清浄エアを更に効率
良く吹き出すことができる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るクリー
ンルームによれば、ファンフイルタユニットから吹き出
される清浄エアの気流速度を、クリーンルームに設置さ
れた製造装置が稼働している間は、製造装置が停止して
いる時よりも、前記清浄エアの気流速度を速くしたの
で、清浄エアを効率良くクリーンルームに吹き出して清
浄エアの搬送費用を低減することができる。
【0021】また、製造装置のON−OFF状態を検知
する第1のセンサを製造装置に取付けると共に、クリー
ンルームで作業する作業者の位置を感知する第2のセン
サをクリーンルームの所定位置に取付け、第1のセンサ
から出力された製造装置のON状態を示す信号が第1の
コントローラに入力されると、第1のコントローラがそ
の製造装置の上方に設置されたファンフイルタユニット
のファンの回転数を高くし、また、第2のセンサから出
力された作業者の位置を感知した信号が第2のコントロ
ーラに入力されると、第2のコントローラがその作業者
の上方に設置されたファンフイルタユニットのファンの
回転数を高くして、清浄度の高い清浄エアを稼働中の製
造装置に向けて、また作業者に向けて吹き出すようにし
たので、清浄エアを効率良くクリーンルームに吹き出し
て清浄エアの搬送費用を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るクリーンルームの第1実施例を示
す説明図
【図2】本発明に係るクリーンルームの第1実施例を示
す説明図
【符号の説明】
10…クリーンルーム 12…天井室 14、16、18…ファンフイルタユニット 22…床面グレーチング 24、26…半導体製造装置 30…ファン 32…塵埃除去フイルタ 34、40、66…コントローラ 38、44、60…センサ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空調装置からクリーンルームの天井室に
    供給された清浄エアを、天井面に配設された複数のファ
    ンフイルタユニットで加圧してクリーンルームに吹き出
    し、クリーンルームの床面から排気するクリーンルーム
    に於いて、 前記ファンフイルタユニットから吹き出される清浄エア
    の気流速度は、クリーンルームに設置された製造装置の
    稼働状態に応じて自動制御されたことを特徴とするクリ
    ーンルーム。
  2. 【請求項2】 空調装置からクリーンルームの天井室に
    供給された清浄エアを、天井面に配設された複数のファ
    ンフイルタユニットで加圧してクリーンルームに吹き出
    し、クリーンルームの床面から排気するクリーンルーム
    に於いて、 前記クリーンルームに設置された製造装置のON−OF
    F状態を検知する第1のセンサと、 第1のセンサから出力された製造装置のON若しくはO
    FF状態を示す信号に基づいて、その製造装置の上方に
    設置された前記ファンフイルタユニットのファンの回転
    数を制御する第1のコントローラと、 前記クリーンルームの所定位置に取付けられ、クリーン
    ルームで作業する作業者の位置を感知する第2のセンサ
    と、 第2のセンサから出力された作業者の位置を示す信号に
    基づいて、その作業者の上方に設置された前記ファンフ
    イルタユニットのファンの回転数を制御する第2のコン
    トローラと、 を備えたことを特徴とするクリーンルーム。
JP19593491A 1991-07-10 1991-07-10 クリーンルーム Pending JPH0518576A (ja)

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JP19593491A JPH0518576A (ja) 1991-07-10 1991-07-10 クリーンルーム

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7536940B2 (en) 2001-12-20 2009-05-26 Fujifilm Corporation Clean booth and sheet conveyor device
JP2015197267A (ja) * 2014-04-02 2015-11-09 清水建設株式会社 清浄化空調システム
KR20180069249A (ko) * 2016-12-15 2018-06-25 주식회사 시스웍 수율 향상을 위한 클린룸 기류의 방향 및 세기의 모니터링 방법과 기류제어장치

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US7536940B2 (en) 2001-12-20 2009-05-26 Fujifilm Corporation Clean booth and sheet conveyor device
JP2015197267A (ja) * 2014-04-02 2015-11-09 清水建設株式会社 清浄化空調システム
KR20180069249A (ko) * 2016-12-15 2018-06-25 주식회사 시스웍 수율 향상을 위한 클린룸 기류의 방향 및 세기의 모니터링 방법과 기류제어장치

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