JPH06300333A - クリーンルーム - Google Patents

クリーンルーム

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Publication number
JPH06300333A
JPH06300333A JP5104894A JP10489493A JPH06300333A JP H06300333 A JPH06300333 A JP H06300333A JP 5104894 A JP5104894 A JP 5104894A JP 10489493 A JP10489493 A JP 10489493A JP H06300333 A JPH06300333 A JP H06300333A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
clean room
floor
air
return port
filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5104894A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Kawakami
寛明 川上
Mitsumasa Fushimi
光雅 伏見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP5104894A priority Critical patent/JPH06300333A/ja
Publication of JPH06300333A publication Critical patent/JPH06300333A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ダウンフロー型のクリーンルームにおいて、
空気の流れを実質上ダウンフローにさせて垂直層流を生
成し、塵埃の拡散の少ない超清浄空間をつくることので
きるクリーンルームを提供する。 【構成】 超清浄空間1の天井には、送風機2、与圧室
3、高性能フィルタ4とからなるフィルタユニット5が
ほぼ全面に設けられており、床は格子状の開口を有する
床板6が敷きつめられており、高性能のフィルタ4から
吹き出された空気は室内を通過したのち、床板6の開口
を通過して、床下ダクト7を通って空気戻り口8に向か
い、壁内ダクト9を上昇して天井裏ダクト10に導か
れ、さらにファン2、与圧室3、高性能フィルタ4を通
って清浄化されて再び超清浄空間1に吹き出される。1
1は、各点における清浄空気の流れの向きを示したもの
である。12は床板6の下部に垂直方向に向かって設け
られた垂壁であり、戻り口8に最も近い部分の床板に設
けられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームに関
し、詳しくは、たとえば半導体装置の製造などの用途に
用いられるクリーンルームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、特に半導体分野ではクリーンルー
ムの清浄度に関する要求が年々厳しくなっており、MO
Sメモリ素子に代表されるように、集積度が4M,16
M、さらには64Mビットと高まるにつれて、所謂スー
パークリーンルームあるいは超清浄空間が必要になっ
た。このような超清浄空間を実現するクリーンルームと
して、図4に示すような構造のものが提案されている。
【0003】図4(a),(b)は、従来のクリーンル
ームの構造を示す断面図、及び平面図であり、超清浄空
間1の天井には、送風機2、与圧室3、高性能フィルタ
4とからなるフィルタユニット5がほぼ全面に設けられ
ており、床は格子状の開口を有する床板6が敷きつめら
れており、高性能のフィルタ4から吹き出された空気は
室内を通過したのち、床板6の開口を通過して、床下ダ
クト7を通って空気戻り口8に向かい、壁内ダクト9を
上昇して天井裏ダクト10に導かれ、さらにファン2、
与圧室3、高性能フィルタ4を通って清浄化されて再び
超清浄空間1に吹き出される。11は、各点における清
浄空気の流れの向きを示したものである。図4に示した
クリーンルームは、床板6の開口部を通過する空気は、
戻り口8に近い床の開口部に集中しがちになり、床全面
に亘って均一な風速で通過する状況にないため部屋全体
の気流は右下部に向かって横流れとなって、「垂直」層
流とはなり難い。それを防ぐために、空気戻り口に近い
領域aにおける床板6の開口率を10%とし、領域aに
隣接する領域bの床板の開口率を33%とし、さらに空
気戻り口8より最も遠い領域cの床板の開口率を67%
とした。その結果空気の流れは、11で示したように空
気戻り口に近い部分への気流の集中は大幅に低減され、
横方向の気流はほぼなくなり、ほぼ垂直気流となる。
【0004】また、図5及び図6に示すように、戻り口
8の他に反対側の位置にも戻り口8′が設けられてお
り、それによって壁内ダクト9の他に9′があって、こ
ちらからも空気が天井裏10に戻る構造になっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のク
リーンルームにおいては、次のような不都合な点が存在
するため、米国連邦規格Fed.Std.209Dにお
いて規定される垂直気流(鉛直角に対する偏流角14度
以内)を満足することは難しく、また、気流の横流れに
よる塵埃の拡散を防止することが容易ではない。 床面上で頻繁に行われる生産装置のレイアウト変更に
対応した気流制御が困難となる。つまり、床面に設置さ
れる装置によって、開口部が塞がれてしまうために、装
置が設置された位置の床面開口率は0となり、開口率の
変更は不可能となるばかりでなく、変更の効果もない。 広い床面の開口率の調整は、多くの手間と時間を要す
る。 また、不規則にかつ複数の平面的な戻り口を設置しな
ければならない場合に、床面の開口率の調整による気流
制御には限界がある。
【0006】本発明はかかる課題を解決するためになさ
れたもので、ダウンフロー型のクリーンルームにおい
て、空気の流れを実質上ダウンフローにさせて垂直層流
を生成し、塵埃の拡散の少ない超清浄空間をつくること
のできるクリーンルームを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明のクリーンルームは、請求項1におい
て、上部に設けたフィルタを通して得られる清浄空気
を、開口率がそれぞれ均一もしくは均一でない開口部を
有する床板を通して後、再び前記フィルタを通す手段を
備えたクリーンルームにおいて、床下に設けた循環空気
の戻り口の近傍に、前記床板より垂直下方に向かって少
なくとも1つの垂壁を設置する構成を有するものであ
り、また、請求項2において、各垂壁の上下方向の長さ
を、設置する床板のそれぞれの位置により異ならせるも
のであり、その各垂壁の上下方向の長さは、循環空気の
戻り口に近い位置では長く、前記戻り口に遠い位置では
短くすることが望ましく、さらに、各垂壁のうち少なく
とも1つの垂壁には少なくとも1つの透孔を設ける構成
にしてもよい。
【0008】
【作用】本発明によれば、生産装置の床面上でのレイア
ウトに変更があっても、気流に変動はなく、循環空気の
戻り口の配置が不規則になっても、垂壁により気流の制
御が行われ、超清浄空間内に垂直層流が確実に生成され
る。
【0009】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるクリーンルー
ムの主要部の構成を示す断面図であり、図4と同一の機
能を有するものは、同一符号を付し、その説明は省略す
る。
【0010】図1において、12は床板6の下部に垂直
方向に向かって設けられた垂壁である。この垂壁12
は、循環空気の戻り口8に最も近い部分の床板に設けら
れる。この垂壁12を設けることにより、循環空気の戻
り口8の開口率は変化し、この変化により床板面上に設
置される生産装置のレイアウトに影響されることなく、
垂直層流の生成が増進される。また、クリーンルームの
長さ(a+b+c)が長くなるにしたがって、図2の如
く垂壁12a,12b,12c,12dと示したよう
に、その設置を多くし、さらにその際、循環空気の戻り
口8に近い部分の垂壁12aの長さ(垂直方向)を長く
し、循環空気の戻り口8に遠い部分の垂壁12b,12
c,12dの長さを順次短くしていく(12a>12b
>12c>12d)ことにより、クリーンルーム内の垂
直層流の生成がより達成可能になる。
【0011】また、図3に示すように、循環空気の戻り
口が複数で、かつ不規則に設けられている場合でも、そ
れら循環空気の戻り口8,8′の位置に応じて各垂壁を
適正配置すれば、垂直層流が得られる。
【0012】さらにまた、垂壁に用いる板材に対して少
なくとも1つの透孔を設け、循環空気の戻り口8に向か
う循環空気の遮蔽率を変化させることにより、循環空気
の戻り口の開口率を任意に変化させることも可能であ
る。
【0013】なお、上述の各垂壁を設けるに際しては、
この垂壁と床下ピット床との間隔をdとしたとき、この
間隔dは、そこを通過する循環空気の風速を10m/s
ec以下になることを目安にして垂壁を設けている。
【0014】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明のクリーンル
ームは、上部に設けたフィルタを通して得られる清浄空
気を、開口率がそれぞれ均一もしくは均一でない開口部
を有する床板を通して後、再び前記フィルタを通す手段
を備えたクリーンルームにおいて、床下に設けた循環空
気の戻り口の近傍に、前記床板より垂直下方に向かって
少なくとも1つの垂壁を設置することにより、生産装置
のレイアウト変更に影響されずに、クリーンルームを汚
染することなく超清浄空間の創出が可能となる。
【0015】また、クリーンルームが長い場合や、循環
空気の戻り口の不規則さに関係なく、各垂壁の上下方向
の長さを、設置する床板のそれぞれの位置により異なら
せるか、循環空気の戻り口に近い位置では長く、前記戻
り口に遠い位置では短くすることにより、垂直層流の実
現が可能となり、当初設計段階における生産装置レイア
ウト決定に対する自由度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるクリーンルームの主要
部の構成を示す断面図である。
【図2】本発明の他の実施例であるクリーンルームの主
要部の概略構成を示す断面図である。
【図3】本発明のさらに他の実施例であるクリーンルー
ムの主要部の概略構成を示す平面図である。
【図4】従来のクリーンルームの概略構成を示す断面図
及び平面図である。
【図5】従来の他のクリーンルームの概略構成を示す断
面図である。
【図6】従来のさらに他のクリーンルームの概略構成を
示す平面図である。
【符号の説明】
1 清浄空間 2 送風機 3 与圧室 4 フィルタ 5 フィルタユニット 6 床板 7 床下ダクト 8 循環空気戻り口 9 壁内ダクト 10 天井裏ダクト 11 空気の流れと向きを示す線 12 垂壁

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上部に設けたフィルタを通して得られる
    清浄空気を、開口率がそれぞれ均一もしくは均一でない
    開口部を有する床板を通して後、再び前記フィルタを通
    す手段を備えたクリーンルームにおいて、床下に設けた
    循環空気の戻り口の近傍に、前記床板より垂直下方に向
    かって少なくとも1つの垂壁を設置することを特徴とす
    るクリーンルーム。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のクリーンルームにおい
    て、各垂壁の上下方向の長さを、設置する床板のそれぞ
    れの位置により異ならせることを特徴とするクリーンル
    ーム。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のクリーンルームにおい
    て、各垂壁の上下方向の長さは、循環空気の戻り口に近
    い位置では長く、前記戻り口に遠い位置では短くするこ
    とを特徴とするクリーンルーム。
  4. 【請求項4】 請求項2または3記載のクリーンルーム
    において、各垂壁のうち少なくとも1つの垂壁には少な
    くとも1つの透孔を設けることを特徴とするクリーンル
    ーム。
JP5104894A 1993-04-08 1993-04-08 クリーンルーム Pending JPH06300333A (ja)

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JP5104894A JPH06300333A (ja) 1993-04-08 1993-04-08 クリーンルーム

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JP5104894A JPH06300333A (ja) 1993-04-08 1993-04-08 クリーンルーム

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JPH06300333A true JPH06300333A (ja) 1994-10-28

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ID=14392873

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JP5104894A Pending JPH06300333A (ja) 1993-04-08 1993-04-08 クリーンルーム

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62261838A (ja) * 1986-05-09 1987-11-14 Hitachi Ltd 防塵室

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62261838A (ja) * 1986-05-09 1987-11-14 Hitachi Ltd 防塵室

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