KR920007809B1

KR920007809B1 - 클린 룸

Info

Publication number: KR920007809B1
Application number: KR1019850006819A
Authority: KR
Inventors: 아쯔시 사이끼; 미찌오 스즈끼; 히데오 스나미; 쇼지로 아사이; 미찌요시 마끼; 기니찌로 아사미
Original assignee: 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼; 미다 가쓰기게; 히다찌 플랜트 겐세쯔 가부시기가이샤; 다가 히사시
Priority date: 1984-10-11
Filing date: 1985-09-18
Publication date: 1992-09-17
Also published as: KR860003059A; US4693173A

Abstract

내용 없음.

Description

클린 룸

제1도, 제2도 및 제3도는 종래의 클린 룸을 나타낸 개략 단면도.

제4도 내지 제8도는 본 발명의 각 실시예에 의한 클린 룸을 나타낸 개략 단면도.

제9a도 내지 제9c도 및 제10a도 내지 제10c도는 개구율이 상이한 바닥면을 나타낸 평면도.

제11도는 본 발명의 다른 실시예에 있어서의 클린 룸을 나타낸 개략 단면도.

제12도는 또 다른 실시예에 있어서의 클린 룸의 개략 단면도.

제13도는 여러가지 풍속의 영역이 접하는 공간에 있어서의 공기의 흐름을 나타낸 설명도.

제14도 및 제15도는 여러가지 풍속의 영역이 접하는 공간에 있어서의 진애의 분포를 나타낸 그래피이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 클린 룸 101 : 초청정 공간

2, 102, 120 : 송풍기 3, 103 : 가압실

4, 104, 4a, 4b : 고성능 필터 5, 105 : 필터장치

6 : 풍속 6a : 작업영역 풍속

6b : 통로 영역 풍속 7, 106 : 바닥

8, 107 : 바닥밑 덕트 108 : 공기 귀환구

9 : 천정 이면 10a, 10b, 10c : 작업 영역

11a, 11b, 11c : 통로 영역 108, 109 : 벽내 덕트

110 : 천정 이면 덕트 112a, 112b, 112c : 장치

114 : 바닥판재 116a, 116b, 116c : 바닥판재의 개구 형상

본 발명은 클린 룸에 관한 것으로, 특히 다른 영역에서 발생한 진애(dust)가 청정(淸淨)을 유지하여야 할 영역으로 확산되지 않도록한 클린 룸에 관한 것이다.

반도체산업에서는 클린 룸의 청정도(cleanliness)에 대한 요구가 해마다 엄격해 지고 있고, 대표적으로 MOS 메모리 소자에 관해서는 집적도가 64K, 256K, 다시 1M 비트가 됨에 따라, 소위 슈퍼 클린 룸 혹은 총청정 공간(Super clean space)가 필요하게 되었다. 이와같은 초청정 공간을 실현하는 클린 룸으로서 제안되고 있는 종래 구조로는 예를들면 전자재료 1983년 8월호 제51-56페이지에 기재되어 있는 바와같이 천정 전면에 고성능 필터(HEPA(High Efficiency Particulate Air)filter)를 설치하고 바닥은 격자상 또는 많은 구멍이 뚫려있는 바닥판재로 깔고 상기 필터로부터 바닥에 수직으로 청정 공기를 분출시키는 전면 수직층류(down flow)형식, 혹은 상기 문헌이나 일경(日經) 일렉트로닉스 별책 일경 일렉트로닉스 마이크로 디바이스(NIKEI Electronics mlcro-device) 제134~138페이지(1983년 8월 22일)에 기재되어 있는 바와같은 작업영역을 중심으로 초청정으로 하고, 그 주위의 통로나 보전 영역(maintenancearea)은 통상의 청정도로 유지되도록 하는 소위 터널 모듈 형식(tunnel module type) 또는 베이 방식(bay type)이라는 불리는 클린 룸이 제안되고 있다. 그중에서 전면 수직층류의 종래의 예에 관하여 제1도에 따라 설명한다.

클린 룸(1)에는 송풍기(2), 가압실(3)(High pressure chamber) 및 고성능 필터(4)로 이루어진 필터장치(5)로부터 청정 공기가 풍속(6)으로 분출되고 있고, 이 공기는 개구를 갖는 바닥(7)으로부터 바닥밑 덕트(8)로 배출되고 다시 벽 내부 등에 설치된 덕트를 통하여 천정이면(9)으로 유도된 다음 다시 송풍기(2), 가압실(3), 필터(4)를 통하여 클린 룸(1)으로 청정공기가 되어 공급된다. 이때 청정공기의 분출 풍속(6)은 전면에 걸쳐 거의 균일하게 되도록 조정되어 있는 것이 보통이고, 이 풍속(6)의 대략 0.3-0.5m/sec로 선정되어 있다. 그러나, 클린 룸(1)은 장치가 설치되어 있고 제품이 되는 실리콘 웨이퍼가 처리되는 작업영역(10a, 10b, 10c)과 작업자가 통행하거나, 약액이나 자재를 반송하거나 하는 통로영역 혹은 통로영역(11a, 11b, 11c)으로 구분되어 사용되고 있으나, 종래는 이들 각 구분 영역에 대한 청정 공기의 풍속(6)은 동일하게 되도록 선정되어 있다.

이와같은 종래의 클린 룸에서는 다음과 같은 결점을 갖는다. 즉 클린 룸에서의 최대의 발진원(發塵源)은 방진복을 착용하고 있다고 하더라도 작업자 자신이라고 말하고 있으나, 이 작업자가 이동하거나 하여 움직이고 있는 상태에서는 상당한 진애가 발생하고 있다. 따라서 통로영역(11a-11c)은 항상 진애가 발생하고 있으며, 그 진애는 극히 청정을 유지할 필요가 있는 작업영역(10a-10c)으로 확산되고 제품에 부착되어 제조 수율이나, 제품의 신뢰도 등을 저하시키는 근원이 되고 있다. 또한 전면 수직층류에 대하여 기류의 분포를 측정해 보면, 제2도에 나타낸 바와같이 반드시 수직층류가 되어 있지 않다는 것이 본 발명자의 검토에 의하여 명백해 졌다. 즉 제2도에서 총청정 공간(101)의 천정에서는 송풍기(102), 가압실(103), 고성능 필터(104)로 이루어지는 필터장치(105)가 실질적으로 거의 전면에 설치되어 있고, 바닥은 격자상의 개구를 갖는 바닥판(106)이 깔려 있어 고성능 필터(104)로부터 분출된 공기는 실내를 통과한 후 바닥판(106)의 개구를 통하여 바닥밑 덕트(107)를 거쳐 공기 귀환구(108)를 향하고 벽내 덕트(109)를 상승하여 천정이면 덕트(110)로 유도되고 다시 송풍기(102), 가압실(103), 고성능필터(104)를 통하여 청정화 되어 또다시 총청정 공간(1)으로 분출된다. 단선(短線)(111)은 각 점에 있어서의 청정 공기의 흐름의 방향과 속도를 나타낸다.

제2도에서 명백한 바와같이 바닥(106)의 개구부를 통과하는 공기는 귀환구 (108)에 가까운 바닥의 개구부로 집중되고, 바닥전면에 걸쳐 균일한 풍속으로 통과하는 상태로는 되지 않는다. 이 때문에 실내 전체의 기류는 제2도의 경우에 있어서는 우측 하부를 향하고 있으며 특히 실내의 중앙부에서는 거의 옆으로 흐르게 되어 수직층류가 되지 않고 있음을 알게되었다. 이것은 귀환구(108)로부터 먼 실내의 어느 일점에서 진애가 발생했을때 그 진애는 즉시 수직으로 떨어져 내려가 바닥 및으로 제거되는 것이 아니라, 수평으로 흘러가서 확산되어 초청정 공간을 광범위하게 오염시키게 된다. 또한 제3도는 제2도에 나타낸 클린 룸에 제조나 검사에 사용되는 장치(112a-112c)가 배치되었을 경우의 보다 실제에 가까운 상황에서의 청정 공기의 흐름의 방향과 속도를 나타낸 것이다. 제3도에서 설명하지 않은 부호는 제2도와 동일한 것을 나타낸다. 이 제3도에서도 실내의 공기흐름은 우측 하부에 바닥면 개구부로 집중되어 흐르고 있어 오염의 확산 방지가 보다 곤란한 상황이 되는 것은 명백하다. 또한 전술한 터널 모듈 방식 혹은 베이방식이라 불리는 종래의 클린 룸은 작게 칸막이를 하므로서 웨이퍼 처리 영역을 국소적(局所的)으로 청정화 하는 것이므로 운전비용은 작은 대신 배치 계획(lay out)변동이 자유스럽지 못하고 설비 갱신, 재배치와 같은 변경을 할때는 크게 개조할 필요가 생겨 막대한 비용이 든다는 결점을 갖는다.

본 발명의 목적은 상기한 바와같은 문제를 해결하고 진애가 발생하기 쉬운 영역으로부터 청정을 유지해야 할 영역으로의 진애의 확산이 극히 적은 클린 룸을 제공하는데 있다.

본 발명의 다른 목적은 거의 천정 전면에 필터가 설치되고 바닥 전면이 개구를 갖는 격자상 바닥으로 깔려져 있고, 수직층류 형으로 설계된 클린 룸에 있어서 공기의 흐름을 실질적으로 수직층류 시켜 진애의 확산이 작은 초청정 공간을 만들 수 있는 클린 룸을 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 작업 영역의 공기가 통로 영역측으로 유인되어 통로 영역에서 발생하는 진애가 작업영역으로 확산 되는 것을 억제하는 클린 룸을 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 클린 룸은 예를들면 클린 룸 천정면에 설치된 필터를 통하여 클린 룸 상부로 부터 클린 룸 바닥으로 흡입된 청정 공기가 바닥면의 개구부를 통하여 배출된 후 다시 상기 필터를 거쳐 클린 룸 상부로 부터 클린 룸 바닥으로 흡입되도록 구성된 클린 룸에 있어서, 1) 상기 바닥면의 개구율은 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운부분이 상기 바닥밑의 공기 귀환구에서 먼 부분보다 작고, 2)상기 청정 공기의 통로 영역에 있어서의 풍속이 작업영역에 있어서의 풍속보다 크게 구성시킨 것이다.

상기 구성조건 1) 및 2)는 각각 단독으로도 효과가 있으나 두가지를 함께 갖추면 더욱 뛰어난 효과를 얻을 수 있게 된다.

먼저 요건 1)에 대하여 설명하면 본 발명은 클린 룸에 있어서의 실내 우측 하부의 바닥 개구부로의 기류의 집중을 격자상판의 개구율을 장소에 따라 다르게 함으로써 해소시키는 것이다. 즉 바닥밑 귀환구에 가까운 바닥판의 개구율은 작게하고, 귀환구로부터 떨어진 먼 곳의 바닥판일수록 개구율을 크게한다. 이것으로서 상기 수직층류를 얻지 못했던 결점은 해소되고 실질적으로 공기의 흐름이 수직층류가 되는 클린 룸을 실현할 수가 있게 된다.

공기 귀환구에 가장 가까운측의 개구율은 20%이하로 하는 것이 바람직하며 귀환구로부터 먼 곳의 개구율은 20%보다 다소라도 크면 그 나름대로 효과를 얻을 수가 있다.

다음에 요건 2)에 대하여 설명하면 본 발명은 클린 룸에 있어서 진애가 발생하기 쉬운 통로 영역의 분출 풍속이 청정을 유지해야 할 작업 영역의 분출 풍속보다 커지도록 영역의 성격에 따라 풍속차를 갖도록 하는 것이다. 이렇게 함으로써 상기한 통로 영역에서 발생한 진애가 작업영역으로 확산되는 것을 제지 할 수가 있어 작업영역에 있어서 진애가 현저하게 적은 클린 룸을 실현할 수가 있다. 일반적으로 작업 영역의 풍속은 약 0.45m/s로 하는 경우가 많으나, 0.25=0.50m/s라도 좋으며, 또 이 범위 밖이라도 청정 공기의 분위기가 유지되면 된다. 통로 영역의 풍속이 작업 영역의 풍속보다 다소라도 크면 그 나름대로의 효과를 얻을 수가 있으나 더욱 바람직한 결과를 얻을 수 있는 통로 영역의 풍속은 예를들면 작업 영역의 풍속이 0.25m/s인 경우는 0.50~0.7m/s, 작업영역의 풍속이 0.35m/s인 경우는 0.50-1.00m/s, 작업영역의 풍속이 0.50m/s인 경우는 0.70-1.00m/s이다. 그러나 작업영역의 풍속이 약 0.35m/s이고 통로 영역의 풍속이 약 0.70m/s인 경우에 가장 바람직한 결과가 얻어진다. 통로 영역의 풍속이 낮으면 본 발명의 효과가 낮아지고 높으면 비용이 상승한다. 또한 풍속은 송풍기를 제어함으로써 변화시킬 수가 있다.

[실시예 1]

제4도에 의하여 본 실시예를 설명한다.

공기 귀환구(108)에 가까운 영역(a)의 바닥판(106)의 개구율을 10%로 하고, 영역(a)에 인접하는 영역(b)의 바닥판의 개구율은 33%로 하고, 다시 공기 귀환구(108)로부터 가장 먼 영역(c)의 바닥판의 개구율을 67%로 하였다. 영역 a, b, c는 대략 같게 등분하였다. 그 결과 공기의 흐름은 단선(111)로 나타낸 바와 같이 제2도에 나타낸 종래의 클린 룸의 경우보다는 현저하게 개선되었다. 즉 공기 귀환구에 가까운 부분으로의 기류의 집중은 대폭적으로 저감되어 수평 방향의 기류는 거의 없어지고 대략 수직 기류가 되어 수직층류가 실현되었다.

[실시예 2]

제5도는 본 실시예를 나타낸 도이다.

실시예 1과 마찬가지로 바닥판의 개구율을 공기 귀환구(108)에 가까운 쪽으로부터 순차적으로 영역 a, 영역 b, 영역 c로 구분하고 각각 10%, 33%, 67%로 했다. 도면에 나타낸 바와같이 장치(112a), (112b), (112c)를 배치하고 실내의 기류의 상태를 측정했다. 또한 도면에 나타낸 바와같이 천정의 고성능 필터를 일부 제거했다. 이 조건에서의 공기의 흐름은 단선(111)으로 나타낸 바와같이 제3도에 나타낸 종래의 클린 룸에 비하여 역시 수직 방향으로의 층류성(層流性)이 개선되어 있고, 또 장치(112a), (112b), (112c)의 상측의 흐름은 극단적인 수평 흐름으로 되지않고 진애가 확산되기 어려운 극히 양호한 상태에 있음을 확인했다.

[실시예 3]

제6도는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸다.

실시예 1과 마찬가지로 구성한 위에 칸막이벽(113a), (113b)을 실내에 설치했다. 기류의 수직층류성의 개선은 역시 양호하고 칸막이 벽을 설치함으로써 기류의 방향은 더욱 향호해 졌다.

[실시예 4]

제7도에 다른 실시예를 나타낸다.

상기 실시예 3의 클린 룸내에 장치(112a), (112b), (112c)를 배치한 상태에서의 기류의 상황을 제7도에 나타냈다. 칸막이벽(113a), (113b)과 장치의 배치에 따라 수직 층류성은 더욱 양호해 졌음을 확인할 수 있었다. 이러한 바람직한 결과는 바닥판의 개구율을 상기한 바와같이 부분에 따라 다르게 함으로써 얻을 수 있는 것은 명백하다.

[실시예 5]

본 실시예를 8도에 따라 설명한다.

공기 귀환구(108)가 반대축(108')의 위치에서도 설치되어 있고, 따라서 벽내의 덕트(109)도 반대측(109')에도 있어 여기로 부터도 공기가 천정이면(110)으로 귀환하는 구조로 되어 있다. 도면에 나타낸 바와같이 공기 귀환구(108), (108')에 가장 가까운 영역에 있어서의 바닥판의 개구율을 작은 값인 10%로 하고 중간의 영역은 33%, 공기 귀환구(108), (108')로 부터 가장 먼 중앙의 영역의 개구율을 67%로 했다.

이 경우도 제8도에 나타낸 바와같이 극히 양호한 기류 분포가 얻어졌다. 또한 상기 각 실시예에 있어서는 바닥판의 개구율 10%, 33%, 67%의 3단계로 선정한 예에 대하여 설명했으나 본 발명의 목적 달성에는 상기 값에 한정되는 것이 아니라 바닥밑 귀환구에 가까운 측으로부터 개구율을 각각 5~20%, 25~45%, 50~70%로 하면 바람직한 결과를 얻을 수 있음이 확인되었다. 바닥밑 귀환구에 제일 가까운 측의 개구율을 20%를 넘게 선정했을 경우는 수직층류성의 개선은 현저하게 개선되지 않으므로 20%이하로 하는 것이 바람직하다. 또한 제4도 내지 제8도에서 특별히 설명하지 않은 부호는 제3도와 동일한 것을 나타낸다. 그리고 또 상기예에 있어서는 개구율을 3단계로한 예에 대하여 설명했으나 2단계로 해도 유효하고, 또 4단계 이상으로 선정해도 물론 유효하다는 것은 말할 것도 없다.

개구율이 상이한 바닥면을 구성함에 있어서는 예를들면 다음과 같이 하면 실현할 수가 있다. 즉 제9a도 내지 제9c도에 나타낸 바와같이 바닥부재(114)에 설치되는 개구의 크기를 변화시켜(115a), (115b), (115c)가 되도록 선정하면 된다. 또는 제10a도 내지 제10c도에 나타낸 바와같이 바닥판재(114)의 개구(116a-116c)의 형상을 구형(矩形)으로 하고 각 구형상 개구의 양변의 길이를 변화시켜도 좋다. 바닥판의 개구를 상기한 바와같이 조정하는 것과 동일한 유효한 다른 수단으로서는 개구를 갖는 바닥의 하측(아래)에 상이한 개구를 갖는 가동판을 겹쳐 설치하고, 가동판을 수평 방향으로 슬라이드시켜 양 개구부의 중복 비율을 변화시켜 개구 면적을 조정할 수 있도록 해도 된다. 또 다른 수단으로서는 개구바닥의 밑에 거치른 필터(coarse filter)를 설치하여 개구부를 통과하는 공기 흐름의 저항을 증가시킴으로써 개구면적을 변화시키는 것과 동일한 효과를 얻을 수도 있다. 또한 제4도 내지 제8도에 나타낸 상기 실시예에 있어서 청정 공기의 분출 기구를 송풍기와 가압실과 필터를 일체로한 소위 필터장치로 하는 방식에 관하여 예를 들어 설명했으나, 제11도에 나타낸 바와같이 귀환공기가 천정 이면에 들어가는 위치에 전체의 필터에 공기를 공급하는 송풍기(120)를 설치한 방식으로 하여도 본 발명의 목적은 물론 달성된다. 이 경우 천정 이면(110)은 가압실이된다. 제11도에서 특별히 설명하지 않은 부호는 제3도와 동일부분을 나타낸다.

상기 각 실시예에 있어서의 청정공기의 분출 풍속은 0.35m/s로 했다.

[실시예 6]

본 실시예를 제12도에 따라 설명한다.

클린 룸의 구조 그 자체는 제1도에 나타낸 종래의 것과 동일하나, 필터로 부터의 분출 풍속으로서 작업 영역을 풍속(6a)로 한것에 대하여 통로 영역을 풍속(6b)로 하여 풍속(6a)보다 크게 했다. 본 실시예에서는 풍속(6a)을 0.35m/s, 풍속(6b)를 0.5, 0.7 및 1.0m/s로 했다. 제12도에서 기타 부호는 제1도와 동일 부분을 나타낸다.

이와같이 풍속차를 둠으로써 얻어지는 효과를 실제로 측정한 결과에 의거하여 설명한다.

제13도는 인접하는 필터(4a), (4b)로부터의 공기의 흐름의 방향을 나타낸 것이다. 제13도의 각 화살표는 각각 풍속의 방향을 나타내고 있다. 각 필터(4a), (4b)의 위에는 풍속을 표시하고 있다. A는 양 필터(4a), (4b) 모두 0.35m/s의 같은 풍속으로 했을 경우 기류 방향의 편기는 없고 모두 수직 아래 방향을 향한다. B-D는 도면에 나타낸 바와같이 풍속차를 두었을 경우로서, 기류의 방향은 모두 저풍속 측의 공기가 고풍속측으로 향하고 있다는 것이 확인되었다. 즉 저풍속측의 공기가 고풍속측으로 유인되나 그 반대는 확인되지 않았다. 또한 제13도에서 기호(7)는 개구를 갖는 바닥면을 나타낸다.

제14도는 인접하는 필터의 경계선 바로밑에 발진기(dust generator)를 설치하고 5초간 발진시킨 다음 1분 경과후 그 아래쪽 1m의 위치에서 진애를 계수한 측정 결과를 나타내고 있다. 풍속차를 두지 아니했던 A의 경우는 대칭적으로 진애가 확산되고 있음을 알 수 있으나 풍속차를 둔 B-D에서는 고풍속측으로 편기되어 확산하고 있는 저속측의 쪽이 진애 농도가 낮음을 알았다.

제14도 및 후술하는 제15도에 있어서 부호(X)는 발진위치(dust generating position)을 나타내고 또한 각 필터(4a), (4b)의 위에는 공기 분출 풍속이 기재되어 있다. 제14도 및 제15도의 횡축은 인접하는 필터의 경계로부터의 거리(㎝), 종축은 0.5㎛보다 크기가 큰 진애 농도(1입방 피이트 당의 진애의 수)를 나타낸다. 또한 제15도는 마찬가지로 인접하는 필터의 경계로 부터 고속 풍속측으로 20㎝ 들어간 지점에서 발진시킨후의 상황을 나타내고 있다. 풍속차가 없는 A에서는 경계 부근까지 진애의 확산을 볼 수 있으나, 풍속차를 둔 B-D에서는 경계 부근에서부터 저풍속측으로의 진애의 확산은 거의 볼 수가 없었다.

[실시예 7]

실시예 1에서 나타낸 클린 룸에 있어서 작업영역에 있어서의 청정 공기 분출 풍속을 0.35m/s, 통로 영역에 있어서의 분출 풍속을 0.7m/s로 했던바, 통로 영역에서 발생시킨 진애는 거의 작업 영역으로는 확산되지 않아 극히 바람직한 결과를 얻었다.

상기한 바와같이 바닥판의 개구율을 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운 영역을 작게하고 먼 영역을 크게 함으로써 클린 룸의 공기의 흐름을 실질적으로 수직층류로 할 수가 있고 이에 의하여 진애의 확산이 방지되어 제품의 수율이나 신뢰성이 향상이 실현된다. 또 부분적으로 필터를 설치하지 아니한 곳을 만들어 경제성도 좋다. 또 청정을 유지할 필요가 있는 작업 영역에 통로 영역에서 발색하는 진애를 확신시키지 않는 수단으로서 작업 영역의 풍속에 대하여 통로영역의 풍속을 크게 하는것이 극히 유효하고 이에 따라 제품의 수율이나 신뢰성의 개선이 가능하다. 이 경우에는 각별한 설비나 장치를 부가하는 일이 없이 필터로부터의 분출 풍속을 조절하는 것만으로 달설하는 것이 가능하므로 경제적으로도 유리하다. 또한 바닥판의 개구율을 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운 영역을 작게하고, 먼 영역을 크게함과 동시에 작업 영역의 풍속에 대하여 통로 영역의 풍속을 크게 함으로써 작업 영역의 진애 밀도를 극히 잦게 유지 할 수가 있다.

본 발명의 청구범위에 관하여 본 명세서에서 기재하지 아니한 사항에 대해서는 당 기술분야에 있어서의 종래의 상식을 사용해도 무방하다.

Claims

필터를 통하여 얻은 청정 공기를 상부로부터 바닥으로 분출하고 바닥면의 개구부를 통하여 배출한 후 다시 상기 필터를 통하여 상부로부터 바닥으로 분출하는 수단을 갖는 클린 룸에 있어서, 상기 청정 공기의 통로 영역에 있어서의 풍속이 작업 영역에 있어서의 풍속보다 크게한 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제1항에 있어서, 작업영역의 풍속이 0.25-0.05m/s이고 통로영역의 풍속이 0.50-1.00m/s인 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제1항에 있어서, 작업영역의 풍속이 약 0.35m/s, 통로 영역의 풍속이 약 0.70m/s인 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제1항에 있어서, 상기 바닥면의 개구율은 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운부분이 바닥밑의 공기 귀환구에서 먼 부분보다 작은 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제4항에 있어서, 상기 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운 부분에 있어서의 바닥면의 개구율이 20%이하인 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제4항에 있어서, 상기 바닥면의 개구율을 공기 귀환구에 가장 가까운 부분에서는 5-20%, 다음 부분에서는 25-40%, 가장 먼 부분에서는 50-70%로 한 것을 특징으로 하는 클린 룸.
필터를 거쳐 얻은 청정 공기를 상부로부터 바닥으로 분출하고 바닥면의 개구부를 통하여 배출한 후 다시 필터를 통하여 상부로부터 바닥으로 분출하는 수단을 갖는 클린 룸에 있어서, 바닥면의 개구율은 바닥밑의 공기 귀환구에 가까운 부분이 바닥밑의 공기 귀환구에서 먼 부분 보다 작은 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제7항에 있어서, 상기 바닥밑의 공기귀환구에 가까운 부분에 있어서의 바닥면의 개구율이 20%이하인 것을 특징으로 하는 클린 룸.
제7항에 있어서, 상기 공기 귀환구에 가장 가까운 부분에서는 5-20%, 다음 부분에서는 25-45%, 가장 먼 부분에서는 50-70%로 한 것을 특징으로 하는 클린 룸.