JPH02103328A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH02103328A JPH02103328A JP25681388A JP25681388A JPH02103328A JP H02103328 A JPH02103328 A JP H02103328A JP 25681388 A JP25681388 A JP 25681388A JP 25681388 A JP25681388 A JP 25681388A JP H02103328 A JPH02103328 A JP H02103328A
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- JP
- Japan
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- air
- cleanness
- filter
- work
- spot
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- Pending
Links
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- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 1
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Landscapes
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体工場や精密機械工場などで採用され
ているクリーンルームに関するものである。
ているクリーンルームに関するものである。
半導体工場等におけるクリーンルームの清浄度は、作業
種別によりクラス１００〜１０．０００程度と差がある
。そこで、従来のクリーンルームにおいては、第５図に
示すように、清浄度のクラス毎に間仕切２により仕切り
、清浄度の異なる作業室３を形成している。そして、各
作業室３の天井には、同一の仕様のＨＥＰＡフィルター
１を取付け、各天井チャンバー４への吹込風量を、吹出
口５の流量を調整することにより変化させて、クラス１
００あるいはクラス１０００の作業室を得ている。
種別によりクラス１００〜１０．０００程度と差がある
。そこで、従来のクリーンルームにおいては、第５図に
示すように、清浄度のクラス毎に間仕切２により仕切り
、清浄度の異なる作業室３を形成している。そして、各
作業室３の天井には、同一の仕様のＨＥＰＡフィルター
１を取付け、各天井チャンバー４への吹込風量を、吹出
口５の流量を調整することにより変化させて、クラス１
００あるいはクラス１０００の作業室を得ている。
しかしながら、前述のような従来構造では、生産ライン
の変更により、清浄度あるいはスペースが変わると、間
仕切、吹出口、ダクトの変更が必要となり、時間と費用
を要する問題点があった。
の変更により、清浄度あるいはスペースが変わると、間
仕切、吹出口、ダクトの変更が必要となり、時間と費用
を要する問題点があった。
この発明は、このような問題点を解消すべくなされたも
ので、その目的は、間仕切を用いることなく清浄度の異
なる作業箇所が得られ、作業箇所の変更の容易なりリー
ンルームを提供することにある。
ので、その目的は、間仕切を用いることなく清浄度の異
なる作業箇所が得られ、作業箇所の変更の容易なりリー
ンルームを提供することにある。
本発明に係るクリーンルームは、第１図に示すように、
１つの室内に清浄度の異なる作業箇所６を複数形成する
に際し、清浄度の違う作業箇所６Ａ、６Ｂ毎に、異なる
抵抗係数を有したＨＥＰＡフィルターＬＡ、ＩＢを用い
ると共に、全ＨＥＰＡフィルターＩＡ、ＩＢに共通天井
チャンバー７から給気するように構成する。
１つの室内に清浄度の異なる作業箇所６を複数形成する
に際し、清浄度の違う作業箇所６Ａ、６Ｂ毎に、異なる
抵抗係数を有したＨＥＰＡフィルターＬＡ、ＩＢを用い
ると共に、全ＨＥＰＡフィルターＩＡ、ＩＢに共通天井
チャンバー７から給気するように構成する。
抵抗係数は、各箇所６に必要な風速に基づいて、風速比
に反比例する抵抗係数比となるように決定する０例えば
、清浄度の高い箇所と低い箇所の風速比がｎ：１の場合
、清浄度の高い箇所の抵抗係数を１ ／ ｎとする。
に反比例する抵抗係数比となるように決定する０例えば
、清浄度の高い箇所と低い箇所の風速比がｎ：１の場合
、清浄度の高い箇所の抵抗係数を１ ／ ｎとする。
共通天井チャンバー７により各ＨＥＰＡフィルターＩＡ
、ＩＢへの供給圧は等しく、また間仕切がないことによ
り室内側の圧力は同一であるため、ＨＥＰＡフィルター
前後の差圧が等しくなる。そのため、抵抗係数の小さい
ＨＥＰＡフィルターＩＡにおいては、風量、風速が他の
フィルターＩＢよりも増大し、作業箇所６Ａが他の箇所
よりも清浄度の高い空間となる。
、ＩＢへの供給圧は等しく、また間仕切がないことによ
り室内側の圧力は同一であるため、ＨＥＰＡフィルター
前後の差圧が等しくなる。そのため、抵抗係数の小さい
ＨＥＰＡフィルターＩＡにおいては、風量、風速が他の
フィルターＩＢよりも増大し、作業箇所６Ａが他の箇所
よりも清浄度の高い空間となる。
抵抗係数を適当に選べば、クラス１００とクラス１００
０の空間を間仕切なしで得ることができる。
０の空間を間仕切なしで得ることができる。
生産ラインの変更に際しては、ＨＥＰＡフィルター１の
取付位置を変えるだけで対応できる。
取付位置を変えるだけで対応できる。
クリーンルームの清浄度は室内への給気空気量により決
まり、大口、次表に示す通りである。
まり、大口、次表に示す通りである。
また、ＨＥＰＡフィルターのように、
を極低速で通過する気流の抵抗ΔＰは、ΔＰ＝Ｃ・■
但し、■：フィルター前面風速
Ｃ：フィルターの抵抗係数
ろ紙白
となる。
そこで、第１図に示すように、共通天井チャンバー７と
作業箇所６間にＨＥＰＡフィルター１を配設した場合、
各ＨＥＰＡフィルターＩＡ。
作業箇所６間にＨＥＰＡフィルター１を配設した場合、
各ＨＥＰＡフィルターＩＡ。
ＩＢで圧損ΔＰは同じとなるから、Ｃ＝ΔＰ／Ｖの■に
前表の値を入れ、Ｃを求めれば、クラス１００とクラス
１０００において抵抗係数Ｃの比が１：３．３となる。
前表の値を入れ、Ｃを求めれば、クラス１００とクラス
１０００において抵抗係数Ｃの比が１：３．３となる。
従って、ＨＥＰＡフィルターＩＢに通常の抵抗係数のＨ
ＥＰＡフィルターを用い、ＨＥＰＡフィルターＩＡに通
常の１／３．３の抵抗係数を有するＨＥＰＡフィルター
を用いれば、共通の供給圧で、作業箇所６Ａを風速０．
２ ｒａへのクラス１００の空間、作業箇所６Ｂを風速
０．０６−へのクラス１０００の空間とすることができ
る。
ＥＰＡフィルターを用い、ＨＥＰＡフィルターＩＡに通
常の１／３．３の抵抗係数を有するＨＥＰＡフィルター
を用いれば、共通の供給圧で、作業箇所６Ａを風速０．
２ ｒａへのクラス１００の空間、作業箇所６Ｂを風速
０．０６−へのクラス１０００の空間とすることができ
る。
抵抗係数の小さいＨＥＰＡフィルターＩＢは、通常のＨ
ＥＰＡフィルターのろ紙の折り返しピッチを大きくする
ことにより容易に得られる。
ＥＰＡフィルターのろ紙の折り返しピッチを大きくする
ことにより容易に得られる。
作業箇所の境に間仕切がないが、クラス１０００以上で
は、第２図に示すように床面吸込みのため、境界面でも
気流は天井面から床面に乱れなく流れ、各作業箇所の清
浄度が保持される。
は、第２図に示すように床面吸込みのため、境界面でも
気流は天井面から床面に乱れなく流れ、各作業箇所の清
浄度が保持される。
なお、クラス１０．０００のように風速が小さい場合に
は、天井全面吹出しではなく、ＨＥＰＡフィルター１を
モジュールに合わせて点在配置してもよい（第３図参照
）。
は、天井全面吹出しではなく、ＨＥＰＡフィルター１を
モジュールに合わせて点在配置してもよい（第３図参照
）。
チャンバーへの給気は、第１図に示すように、共通天井
チャンバー７へ供給してもよいし、第４図に示すように
、各ＨＥＰＡフィルターｌ上へ吹出口８を設けてもよい
。いずれの場合も室内の異なる清浄度領域に関係なく、
共通の空気量が供給される。
チャンバー７へ供給してもよいし、第４図に示すように
、各ＨＥＰＡフィルターｌ上へ吹出口８を設けてもよい
。いずれの場合も室内の異なる清浄度領域に関係なく、
共通の空気量が供給される。
従って、生産ラインの変更があっても、ＨＥＰＡフィル
ター１の取付位置を変えるだけで、任意の清浄度のスペ
ースを容易に短時間に形成することができる。
ター１の取付位置を変えるだけで、任意の清浄度のスペ
ースを容易に短時間に形成することができる。
前述のとおり、この発明に係るクリーンルームは、高性
能フィルターを清浄度に応じた抵抗係数の高性能フィル
ターとし、全フィルターに共通天井チャンバーから給気
するようにしたため、間仕切を用いることなく清浄度の
異なる作４゜ 業箇所を得ることができると共に、生産ラインの変更に
対してフィルターの取付位置を変えるだけで対応でき、
任意の清浄度のスペースを容易に短時間に、安価に形成
することができる。
能フィルターを清浄度に応じた抵抗係数の高性能フィル
ターとし、全フィルターに共通天井チャンバーから給気
するようにしたため、間仕切を用いることなく清浄度の
異なる作４゜ 業箇所を得ることができると共に、生産ラインの変更に
対してフィルターの取付位置を変えるだけで対応でき、
任意の清浄度のスペースを容易に短時間に、安価に形成
することができる。
また、間仕切、流量の調整が不要で、イニシャルコスト
、ランニングコストを低減することができる。
、ランニングコストを低減することができる。
第１図は、この発明に係るクリーンルームを示す概略図
、第２図は境界面での気流の状態を示す概略図、第３図
は乱流形のフィルター配置を示す平面図、第４図は給気
チャンバーの他の例を示す概略図、第５図は従来例を示
す概略図である。 １・・・・・・ＨＥＰＡフィルタ ＩＡ・・・・・・抵抗係数の小さいフィルター１Ｂ・・
・・・・抵抗係数の大きいフィルター６・・・・・・作
業箇所 ７・・・・・・共通天井チャンバー 第 図 第 図 第 第 図 手続補 正置 昭和６３年１１月１４日 １、 １９牛のｈ １９１６３年 特 願 第 ２゜ 発明の名称 ク リ ーンル−ム ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 新日本空調株式会社 ４、代理人 住所 ■１０７東京都港区赤坂６丁目５番２１号シャドー赤坂
５、 補正命令の日付 自 発補 正６、
補正により増加する発明の数
、第２図は境界面での気流の状態を示す概略図、第３図
は乱流形のフィルター配置を示す平面図、第４図は給気
チャンバーの他の例を示す概略図、第５図は従来例を示
す概略図である。 １・・・・・・ＨＥＰＡフィルタ ＩＡ・・・・・・抵抗係数の小さいフィルター１Ｂ・・
・・・・抵抗係数の大きいフィルター６・・・・・・作
業箇所 ７・・・・・・共通天井チャンバー 第 図 第 図 第 第 図 手続補 正置 昭和６３年１１月１４日 １、 １９牛のｈ １９１６３年 特 願 第 ２゜ 発明の名称 ク リ ーンル−ム ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 新日本空調株式会社 ４、代理人 住所 ■１０７東京都港区赤坂６丁目５番２１号シャドー赤坂
５、 補正命令の日付 自 発補 正６、
補正により増加する発明の数
Claims (1)
- （１）一つの室内に清浄度の異なる場所が複数形成され
るクリーンルームにおいて、 清浄度の違う場所毎に、異なる抵抗係数を 有した高性能フィルターを用いると共に全高性能フィル
ターに共通天井チャンバーより給気するように構成した
ことを特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25681388A JPH02103328A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25681388A JPH02103328A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | クリーンルーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02103328A true JPH02103328A (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=17297793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25681388A Pending JPH02103328A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02103328A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6264550B1 (en) * | 1997-07-11 | 2001-07-24 | Nippon Steel Semiconductor Corporation | Clean room and method of remodeling clean room |
| JP2020056227A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 日揮株式会社 | モジュール、モジュール化施設、およびモジュール化施設の建設方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS597836A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-17 | Oshitari Kenkyusho:Kk | 垂直層流式無塵室 |
| JPS607779U (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-19 | 永井 達雄 | 永式漬物容器 |
-
1988
- 1988-10-12 JP JP25681388A patent/JPH02103328A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS597836A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-17 | Oshitari Kenkyusho:Kk | 垂直層流式無塵室 |
| JPS607779U (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-19 | 永井 達雄 | 永式漬物容器 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6264550B1 (en) * | 1997-07-11 | 2001-07-24 | Nippon Steel Semiconductor Corporation | Clean room and method of remodeling clean room |
| JP2020056227A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 日揮株式会社 | モジュール、モジュール化施設、およびモジュール化施設の建設方法 |
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