JPH0215545Y2 - - Google Patents

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JPH0215545Y2
JPH0215545Y2 JP19291684U JP19291684U JPH0215545Y2 JP H0215545 Y2 JPH0215545 Y2 JP H0215545Y2 JP 19291684 U JP19291684 U JP 19291684U JP 19291684 U JP19291684 U JP 19291684U JP H0215545 Y2 JPH0215545 Y2 JP H0215545Y2
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JP
Japan
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air
duct
air supply
sub
air purification
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JP19291684U
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Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この考案は、無塵雰囲気中に保持すべき被搬送
物、例えば半導体ウエハ等を搬送する搬送装置に
おいて、搬送系を無塵状態に保持するエアー浄化
装置に関し、特に隣接した他のエアー浄化装置の
エアー浄化フイルタ室に搬送系からの排気を循環
するようにして、排気系の設備を省略化した設置
簡便なる搬送装置のエアー浄化装置に関する。
〈従来の技術〉 従来、この種の技術としてセミコンニユース
(SEMICON NEWS)、巻(Vol.8)(1983)マ
ーカムインターナシヨナルインコーポレイテイド
(Marcom International,Inc.)、ピーアールハ
ンリー(P.R.Hanley)、超LSI製造の自動化、
P.38〜44に記載されたものがある。
この文献にも記載がある通り、今日の半導体素
子の高集積化に伴い、半導体素子製造において極
めて微細な塵埃の付着によつても製品の歩留りが
低下してしまう。このためウエハの処理工程にお
いてのみならず、搬送段階においても高い清浄度
を確保することが要請されている。
そこで従来の搬送装置においては、HEPAフ
イルタを通して浄化したエアーを供給すると共に
排気を行うことにより、ウエハが搬送されるトン
ネル内の清浄度を保持していた。
しかしながらこの従来の搬送装置は、その排気
系の設備、工業排気ダクト等の設置が大規模でか
つ長期間の工事を要し、コスト面でも問題があつ
た。
それゆえ出願人は、昭和59年12月21日提出の実
用新案登録願(A)「搬送装置のエアー浄化装置」に
おいて、エアーを装置内にて循環させることによ
り、排気系の設備を不要とした技術を開示してい
る。
第2図は上記の搬送装置のエアー浄化装置の一
構成例を示す。同図に示すように、搬送機構ユニ
ツト4の排気口とフアンボツクス6の吸気側とを
循環ダクト5により連結し、フアンボツクス6の
送気側とフイルタユニツト1とを連結することに
より、装置内においてエアーを循環せしめる構成
である。またフイルタユニツト1に連結した給気
ダクト8はサプライエアーダクトに連結してお
り、この給気ダクト8を介してフイルタユニツト
1内にエアーを供給することにより、ウエハのカ
セツト3が搬送されるトンネル2内を該トンネル
2が連結される室内と比較して陽圧に保持させる
と共に、トンネル2内の温度上昇を抑えるように
している。
〈考案が解決しようとする問題点〉 搬送装置が連結される室内よりトンネル2内の
方がより高い清浄度を要求される場合は、上記の
ようにトンネル2内を陽圧に保持する必要がある
が、逆に連結される室内の方がより高い清浄度を
要求される場合もある。この場合は連結される室
内と比較してトンネル2内を陰圧に保持する必要
がある。ところがサプライエアーの供給をストツ
プするとトンネル2内の温度が上昇してしまうた
め、サプライエアーは供給しなければならず、従
つてトンネル2内は陽圧にならざるを得ない。
このような事情に鑑み、この考案は、排気系の
設備を省略化を担保しつつ搬送系を陰圧に保持せ
しめることが可能な搬送装置のエアー浄化装置を
提供することを目的としている。
〈問題点を解決するための手段〉 この考案は上記の目的を達成するため、他のエ
アー浄化装置に隣接した搬送装置のエアー浄化装
置において、搬送系に給気する給気口を備えたエ
アー浄化フイルタ室とサプライエアーダンパとを
連結するダクトにダンパを付設し、前記搬送系の
排気口とフアンの吸気側とをダクトにより連結
し、該フアンの送気側と前記他のエアー浄化装置
のエアー浄化フイルタ室とをダクトにより連結し
たものである。
〈作用〉 搬送系からの排気を他のエアー浄化装置のエア
ー浄化フイルタ室に送気するようにしたので、排
気系の設備を設けないでよい。
またダンパによりサプライエアーの供給量を調
節することにより、搬送系を陽圧ないし陰圧に自
在に保持できる。
〈実施例〉 第1図aはこの考案の一実施例のエアー浄化装
置を適用したウエハの搬送装置の断面図である。
同図において、1はフイルタユニツト、11は
フイルタユニツト1のカバー、11aはカバー1
1の上面に開口するエアー供給口、12はカバー
11の下部開口に設置される給気口部、13は給
気口部12に装着されたHEPAフイルタ、2は
ウエハが搬送されるトンネル、21は該トンネル
2の側壁を形成する気密に取付けられたカバー、
22は搬送具、3はウエハを装填したカセツト、
4は搬送機構ユニツト、41は搬送機構ユニツト
4のカバー、41aはカバー41に開口する排気
口、42は搬送具22を駆動する搬送機構であ
る。搬送具22は、カバー41の上面に形成され
たスリツト41bにその脚部22aを挿通して搬
送機構42に連結している。5は、搬送機構ユニ
ツト4のカバー41をフアンボツクス6の吸気側
に連結する循環ダクトである。61はフアンボツ
クス6のカバー、62はカバー61内に設置され
たフアンで、吸気側が循環ダクト5に連結されて
いる。7はフイルタユニツトを貫通して設けられ
た送気ダクトで、フアン62の送気側と他のエア
ー浄化装置のフイルタユニツト(後述する第1図
bに図示)とを連結している。8はフイルタユニ
ツト1のエアー供給口11aとサプライエアーダ
クトとを連結する給気ダクト、9は給気ダクト8
に付設されたダンパである。
第1図bは第1図aの装置の設置を示す断面図
である。同図において、10は他のエアー浄化装
置のフイルタユニツトで、給気ダクト8に連結さ
れている。9は給気ダクトに付設されたダンパで
ある。
この装置の動作を説明する。同図中矢印で示す
如く、フイルタユニツト1内には、給気ダクト8
を介してサプライエアーダクトから給気されて高
圧となり、給気口部12から、HEPAフイルタ
13を通つたクリーンエアーをトンネル2内に層
流として供給する。
また搬送機構ユニツト4内は、同図中矢印に示
す如く循環ダクト5を介してフアン62に吸気さ
れるので負圧となり、トンネル2内のエアーは同
図中矢印で示す如くスリツト41bから排気され
る。
この排気されたエアーは送気ダクト7を通つて
フイルタユニツト10に送気され、このフイルタ
ユニツト10のサプライエアーとなる。
ここでダンパ9によりエアーの供給量を調節す
ると、フアン62の送風量はほぼ一定であるの
で、トンネル2が連結される室内との比較におい
てトンネル2内を陰圧に設定できる。また、場合
によつては陽圧にすることも勿論可能である。
〈考案の効果〉 この考案は以上説明したように、搬送系からの
排気を隣接する他のエアー浄化装置のエアー浄化
フイルタ室に送気することにより、排気系の設備
を設置する必要がない。それゆえ装置の設置は簡
易に行えるという効果がある。またエアーの経路
が短かいため効率が良く、搬送系を良好な清浄状
態に保持できるという効果がある。さらに設置が
簡易かつ効率が良好であることにより、初期投資
及びランニングコスト共に従来設備より低価にで
き、費用削減が可能となるという効果がある。
さらにサプライエアーダクトに連結するダクト
に付設したダンパによりエアーの供給量を調節す
ることにより、搬送系を、該搬送系が連結される
室との比較において、陰圧ないし陽圧に自在に調
節できる。それゆえこの考案のエアー浄化装置を
適用した搬送装置は、清浄度の高い室ないし低い
室いずれにも設置できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図aはこの考案の一実施例のエアー浄化装
置を適用したウエハの搬送装置の断面図である。
第1図bは第1図aの装置の設置を示す断面図で
ある。第2図はこの考案の技術背景を示すために
掲げた搬送装置の断面図である。 1:フイルタユニツト、11:カバー、11
a:エアー供給口、11b:循環エアー供給口、
12:給気口部、13:HEPAフイルタ、2:
トンネル、21:カバー、22:搬送具、3:カ
セツト、4:搬送機構ユニツト、41:カバー、
41a:排気口、41b:スリツト、42:搬送
機構、5:循環ダクト、6:フアンボツクス、6
1:カバー、62:フアン、7:送気ダクト、
8:給気ダクト、9:ダンパ、10:第2エアー
浄化フイルタ室、10b:第2サブ給気ダクト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. エアー浄化を必要とする少くとも二つの装置に
    浄化を行うエアー浄化装置であつて、一方のエア
    ー浄化を必要とする装置はメイン給気ダクトから
    分岐した第1サブ吸気ダクトと該第1サブ吸気ダ
    クトに連結された第1エアー浄化フイルター室と
    該フイルター室から浄化されたエアーの供給を受
    ける半導体ウエハ搬送室及び該搬送室に連結され
    た排気ダクトを含み、他方のエアー浄化を必要と
    する装置は前記メイン給気ダクトから分岐した第
    2サブ給気ダクトと、該第2サブ給気ダクトに連
    結された第2エアー浄化フイルター室と、該第2
    エアー浄化フイルター室から浄化されたエアーの
    供給を受ける半導体ウエハ処理室及び前記第2エ
    アー浄化フイルター室に第2の給気を行う第3サ
    ブ給気ダクトを含み該第3サブ送気ダクトは前記
    排気ダクトと連結されると共にその中間にフアン
    を設置したことを特徴とする搬送装置のエアー浄
    化装置。
JP19291684U 1984-12-21 1984-12-21 Expired JPH0215545Y2 (ja)

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JPS61111518U JPS61111518U (ja) 1986-07-15
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JP2582866B2 (ja) * 1988-07-11 1997-02-19 株式会社竹中工務店 危険薬品使用工場等用クリーンルームの給排気方法

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JPS61111518U (ja) 1986-07-15

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