JPH0239696B2 - - Google Patents
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- JPH0239696B2 JPH0239696B2 JP58060026A JP6002683A JPH0239696B2 JP H0239696 B2 JPH0239696 B2 JP H0239696B2 JP 58060026 A JP58060026 A JP 58060026A JP 6002683 A JP6002683 A JP 6002683A JP H0239696 B2 JPH0239696 B2 JP H0239696B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- area
- clean room
- floor
- compartment
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 16
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
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- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Central Air Conditioning (AREA)
- Ventilation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、画室を浄化してクリーンルームを
形成するにさいし、その画室に自由に位置が変え
られるトンネル型クリーンルームを形成する方法
に関するものである。
形成するにさいし、その画室に自由に位置が変え
られるトンネル型クリーンルームを形成する方法
に関するものである。
まず第１図と第２図によつて従来の画室を浄化
してクリーンルームを形成する方法を説明する。
してクリーンルームを形成する方法を説明する。
第１図は、トンネル形のクリーンルームの一例
を示したもので、Ｋは建築物の隔壁空間を形成す
る構造躯体、Ｇはグレーチング床、Ｄはダクト、
ＦはダクトＤの空気吹出口に取り付けたエアフイ
ルター、Ｃは空気吹出孔を設けた天井パネル、Ｓ
は間仕切り壁、Ｒは上記構造躯体Ｋで形成される
隔壁空間内にグレーチング床ＧとダクトＤと天井
パネルＣと間仕切り壁Ｓとで囲んで形成した画
室、Ａは生産ラインを構成する装置である。
を示したもので、Ｋは建築物の隔壁空間を形成す
る構造躯体、Ｇはグレーチング床、Ｄはダクト、
ＦはダクトＤの空気吹出口に取り付けたエアフイ
ルター、Ｃは空気吹出孔を設けた天井パネル、Ｓ
は間仕切り壁、Ｒは上記構造躯体Ｋで形成される
隔壁空間内にグレーチング床ＧとダクトＤと天井
パネルＣと間仕切り壁Ｓとで囲んで形成した画
室、Ａは生産ラインを構成する装置である。
このような構成になつているので、ダクトＤの
空気吹出口から下方へ吹き出された空気は、エア
フイルターＦで浄化されて画室Ｒへ送給され、そ
の画室Ｒで発生した塵埃等で汚れた空気はグレー
チング床Ｆから図外の吸引ポンプで吸い出され
る。
空気吹出口から下方へ吹き出された空気は、エア
フイルターＦで浄化されて画室Ｒへ送給され、そ
の画室Ｒで発生した塵埃等で汚れた空気はグレー
チング床Ｆから図外の吸引ポンプで吸い出され
る。
このようにして画室Ｒは浄化され、そこに常に
クリーンルームが形成されるわけであるが、この
方法にはそれ相応の利点はあるが、次のような問
題点がある。
クリーンルームが形成されるわけであるが、この
方法にはそれ相応の利点はあるが、次のような問
題点がある。
すなわち、間仕切り壁Ｓによつて生産ラインに
必要な空間、つまりトンネルを形成する方法であ
るから、空気の送給量を必要最小限に抑えること
ができ、省エネルギーの面で有利である。しか
し、間仕切り壁Ｓは通常隔壁空間を形成する構造
躯体Ｋに固定して取り付られるので、生産ライン
を例えば半導体産業におけるようにたびたび組み
換える必要がある場合には、その都度多くの時間
と労力をかけて位置換えをしなければならず、生
産ラインの変更に即応できないという問題があ
る。
必要な空間、つまりトンネルを形成する方法であ
るから、空気の送給量を必要最小限に抑えること
ができ、省エネルギーの面で有利である。しか
し、間仕切り壁Ｓは通常隔壁空間を形成する構造
躯体Ｋに固定して取り付られるので、生産ライン
を例えば半導体産業におけるようにたびたび組み
換える必要がある場合には、その都度多くの時間
と労力をかけて位置換えをしなければならず、生
産ラインの変更に即応できないという問題があ
る。
第２図は、ダウンフロー形（全面ラミナーフロ
ー形）のクリーンルームの一例を示したもので、
同図イは縦断面図、同図ロは天井裏の平面図であ
る。第１図と同一ないし均等部分には同符号が付
してある。図中、Ｈは一定の間隔をおいて天井全
面に配設した空気吹出口、Ｍは送風機であつて、
１はそのフアン、２はそのエアフイルター、３は
送風管である。ダクトＤは天井裏全体がダクトを
形成し、エアフイルターＦは空気吹出口Ｈに取り
付けてある。
ー形）のクリーンルームの一例を示したもので、
同図イは縦断面図、同図ロは天井裏の平面図であ
る。第１図と同一ないし均等部分には同符号が付
してある。図中、Ｈは一定の間隔をおいて天井全
面に配設した空気吹出口、Ｍは送風機であつて、
１はそのフアン、２はそのエアフイルター、３は
送風管である。ダクトＤは天井裏全体がダクトを
形成し、エアフイルターＦは空気吹出口Ｈに取り
付けてある。
このような構成になつているので、ダクトＤか
ら下方へ吹き出された空気は、エアフイルターＦ
で浄化されて画室Ｒへ送給され、その画室Ｒで発
生した塵埃等で汚れた空気は送風機Ｍによつてグ
レーチング床Ｇの下へ吸い出され、そのエアフイ
ルターＦで浄化されて再びダクトＤへ送られてい
く。このようにして、画室Ｒは常に浄化されて、
そこにクリーンルームが形成される。
ら下方へ吹き出された空気は、エアフイルターＦ
で浄化されて画室Ｒへ送給され、その画室Ｒで発
生した塵埃等で汚れた空気は送風機Ｍによつてグ
レーチング床Ｇの下へ吸い出され、そのエアフイ
ルターＦで浄化されて再びダクトＤへ送られてい
く。このようにして、画室Ｒは常に浄化されて、
そこにクリーンルームが形成される。
このクリーンルームの形成法によれば、天井全
面に配設した空気吹出口からの空気は通常0.3〜
0.5ｍ／ｓの範囲内の一定の吹出速度で吹き出さ
れるので、画室Ｒ全体は一様に浄化される。した
がつて、生産ラインの組み換えは画室Ｒ内で自由
に行なうことができ、トンネル形のクリーンルー
ムのように、生産ラインの変更に即応できないと
いう問題はその限りにおいて解決されることにな
る。しかし、このクリーンルームにおいては生産
ラインの各種装置Ａ上、特にその段部等に吹きお
ろす気流によつて渦気流ｆが生じ、これが生産に
よつて生ずる塵埃等を巻き込んで、剥離されない
まゝ滞溜してしまう。クリーンルームでは、この
渦気流ｆをできるだけ早く剥離して流し、装置上
をクリーンに保つことが最も要求されることであ
り、かつ不可欠の条件であるから、このように渦
気流ｆを剥離できないことは、クリーンルームの
致命的欠点となる。
面に配設した空気吹出口からの空気は通常0.3〜
0.5ｍ／ｓの範囲内の一定の吹出速度で吹き出さ
れるので、画室Ｒ全体は一様に浄化される。した
がつて、生産ラインの組み換えは画室Ｒ内で自由
に行なうことができ、トンネル形のクリーンルー
ムのように、生産ラインの変更に即応できないと
いう問題はその限りにおいて解決されることにな
る。しかし、このクリーンルームにおいては生産
ラインの各種装置Ａ上、特にその段部等に吹きお
ろす気流によつて渦気流ｆが生じ、これが生産に
よつて生ずる塵埃等を巻き込んで、剥離されない
まゝ滞溜してしまう。クリーンルームでは、この
渦気流ｆをできるだけ早く剥離して流し、装置上
をクリーンに保つことが最も要求されることであ
り、かつ不可欠の条件であるから、このように渦
気流ｆを剥離できないことは、クリーンルームの
致命的欠点となる。
このような欠点は、空気の吹出速度が上述のよ
うに0.3〜0.5ｍ／ｓ程度で、渦気流ｆを流し去る
にはやゝ遅いために生ずるものである。これは過
去の実績に基づく測定結果からも知られているこ
とである。したがつて、上記吹出速度を早くし
て、例えば0.6〜0.7ｍ／ｓとすれば、この点は一
応解決できることになる。ところが、このように
すると、この全面ラミナーフロー形のクリーンル
ームでは、その全ての空気吹出口から一様に0.6
〜0.7ｍ／ｓの吹出速度で空気が吹き出すことゝ
なるので、グレーチング床Ｇ上で生産ラインが占
有する領域をカバーする空気吹出口以外の吹出口
から出る空気は過剰となつて、少なともその過剰
分は全く無駄なものとなり、省エネルギー上問題
がある。
うに0.3〜0.5ｍ／ｓ程度で、渦気流ｆを流し去る
にはやゝ遅いために生ずるものである。これは過
去の実績に基づく測定結果からも知られているこ
とである。したがつて、上記吹出速度を早くし
て、例えば0.6〜0.7ｍ／ｓとすれば、この点は一
応解決できることになる。ところが、このように
すると、この全面ラミナーフロー形のクリーンル
ームでは、その全ての空気吹出口から一様に0.6
〜0.7ｍ／ｓの吹出速度で空気が吹き出すことゝ
なるので、グレーチング床Ｇ上で生産ラインが占
有する領域をカバーする空気吹出口以外の吹出口
から出る空気は過剰となつて、少なともその過剰
分は全く無駄なものとなり、省エネルギー上問題
がある。
この発明は、このような問題点に着目してなさ
れたもので、画室を浄化してクリーンルームを形
成するにさいし、一定の間隔をおいて画室の天井
全面に配設した空気吹出口からの空気吹出速度を
各吹出口ごとに可変可能とすることによつて、(1)
生産ラインの変更に即応し易く、かつ(2)生産ライ
ンの各種装置上に生じ易い渦気流を効果的に剥離
して、そのライン上のクリーン度を一層向上させ
ることができ、しかも(3)エネルギーの節減を図る
ことのできる画室に自由に位置が変えられるクリ
ーンルームを形成する方法を提供することを目的
とするものである。
れたもので、画室を浄化してクリーンルームを形
成するにさいし、一定の間隔をおいて画室の天井
全面に配設した空気吹出口からの空気吹出速度を
各吹出口ごとに可変可能とすることによつて、(1)
生産ラインの変更に即応し易く、かつ(2)生産ライ
ンの各種装置上に生じ易い渦気流を効果的に剥離
して、そのライン上のクリーン度を一層向上させ
ることができ、しかも(3)エネルギーの節減を図る
ことのできる画室に自由に位置が変えられるクリ
ーンルームを形成する方法を提供することを目的
とするものである。
この発明は、一定の間隔をおいて天井全面に配
設した空気吹出口から下方へ吹き出す空気をエア
フイルターで浄化して画室に供給し、その画室で
発生する塵埃等で汚れた前記空気をグレーチング
床等の通気孔を有する床から吸い出して画室を浄
化するにさいし、前記空気吹出口からの空気吹出
速度を、床の第１領域において大きく、その周囲
の第２領域において小さく、かつ、第１領域のう
ち特にその周縁部において最も大きくすることに
よつて、前記第１領域に空気流によるクリーンル
ーム領域を形成することを特徴とする画室に自由
に位置が変えられるクリーンルームを形成する方
法である。
設した空気吹出口から下方へ吹き出す空気をエア
フイルターで浄化して画室に供給し、その画室で
発生する塵埃等で汚れた前記空気をグレーチング
床等の通気孔を有する床から吸い出して画室を浄
化するにさいし、前記空気吹出口からの空気吹出
速度を、床の第１領域において大きく、その周囲
の第２領域において小さく、かつ、第１領域のう
ち特にその周縁部において最も大きくすることに
よつて、前記第１領域に空気流によるクリーンル
ーム領域を形成することを特徴とする画室に自由
に位置が変えられるクリーンルームを形成する方
法である。
以下この発明の実施例を第３図と第４図によつ
て説明する。第２図と同一ないし均等部分には同
一符号を付し、説明は省略する。なお、第３図は
第２図に相当する図である。
て説明する。第２図と同一ないし均等部分には同
一符号を付し、説明は省略する。なお、第３図は
第２図に相当する図である。
図中、Ｕはフアンユニツトで、生産ラインを構
成する装置Ａが占有する床とその周辺の第１領域
（以下ライン領域という）をカバーする空気吹出
口Ｈに、後述のようにエアフイルターＦに取り付
けて天井裏のダクトＤに配設してある。５はエア
フイルターＦの取付け枠で、ハンガー４で構造躯
体Ｋに吊してある。したがつて、エアフイルター
Ｆはこの取付け枠５に着脱できるようになつてい
る。そして、フアンユニツトＵは、エアフイルタ
ーＦに着脱できる構成にして、必要に応じ、取り
付け、取り外しができるようにしてある。
成する装置Ａが占有する床とその周辺の第１領域
（以下ライン領域という）をカバーする空気吹出
口Ｈに、後述のようにエアフイルターＦに取り付
けて天井裏のダクトＤに配設してある。５はエア
フイルターＦの取付け枠で、ハンガー４で構造躯
体Ｋに吊してある。したがつて、エアフイルター
Ｆはこの取付け枠５に着脱できるようになつてい
る。そして、フアンユニツトＵは、エアフイルタ
ーＦに着脱できる構成にして、必要に応じ、取り
付け、取り外しができるようにしてある。
ｍは送風機Ｍから送られる空気が画室Ｒに送給
されるときの空気吹出速度V1，V2，V3のモード
を示したものである。V1は、フアンユニツトＵ
のライン領域Ｗ周縁部における空気吹出速度で
0.6〜0.7ｍ／ｓ、V2は同領域Ｗにおける装置Ａ上
の空気吹出速度で0.3〜0.5ｍ／ｓ、V3は同領域以
外の空気吹出速度で０〜0.15ｍ／ｓである。空気
吹出速度V1のモードは、フアンユニツトＵのダ
ンパー（図示せず）で風向を変えることによつて
形成してある。フアンユニツトＵは、そのフアン
の回転速度を可変できる構造になつているが、こ
の実施例では同一回転速度に設定し、上述のよう
にダンパーで空気吹出速度V1を比較的早くして
ある。空気吹出口速度V3は送風機Ｍからの送風
量とフアンユニツトＵの送風量との関係で規制し
てある。
されるときの空気吹出速度V1，V2，V3のモード
を示したものである。V1は、フアンユニツトＵ
のライン領域Ｗ周縁部における空気吹出速度で
0.6〜0.7ｍ／ｓ、V2は同領域Ｗにおける装置Ａ上
の空気吹出速度で0.3〜0.5ｍ／ｓ、V3は同領域以
外の空気吹出速度で０〜0.15ｍ／ｓである。空気
吹出速度V1のモードは、フアンユニツトＵのダ
ンパー（図示せず）で風向を変えることによつて
形成してある。フアンユニツトＵは、そのフアン
の回転速度を可変できる構造になつているが、こ
の実施例では同一回転速度に設定し、上述のよう
にダンパーで空気吹出速度V1を比較的早くして
ある。空気吹出口速度V3は送風機Ｍからの送風
量とフアンユニツトＵの送風量との関係で規制し
てある。
送風機ＭによつてダクトＤに送給された空気
は、空気吹出口ＨからエアフイルターＦに浄化さ
れて画室Ｒに送給され、その画室で発生する塵埃
等で汚れた空気はグレーチング床Ｇから送風機Ｍ
によつて床下へ吸い出され、そのエアフイルター
２で浄化されて再びダクトＤへ送給されていく。
は、空気吹出口ＨからエアフイルターＦに浄化さ
れて画室Ｒに送給され、その画室で発生する塵埃
等で汚れた空気はグレーチング床Ｇから送風機Ｍ
によつて床下へ吸い出され、そのエアフイルター
２で浄化されて再びダクトＤへ送給されていく。
このとき、フアンユニツトＵによつて、加速さ
れて吹き出される空気は、ライン領域Ｗの周縁部
で0.6〜0.7ｍ／ｓ、その中央部で0.3〜0.5ｍ／ｓ
であり、それ以外の領域では０〜0.15ｍ／ｓとな
る。
れて吹き出される空気は、ライン領域Ｗの周縁部
で0.6〜0.7ｍ／ｓ、その中央部で0.3〜0.5ｍ／ｓ
であり、それ以外の領域では０〜0.15ｍ／ｓとな
る。
このような速度で空気が吹き出されると、ライ
ン領域Ｗ内の気流Vaは、同領域Ｗ外の気流Vbに
よるスクリーン効果によつて遮ぎられ、そのスク
リーンとの摩擦抵抗を受ける形となるが、気流
Vbの吹出速度V3が可成り遅いので、左程減速さ
れることなく、気流Vaの裾を拡げるようにして
グレーチング床Ｇに吸い込まれていく。その結
果、第４図の鎖線で示すように、ライン領域Ｗ上
に、V2に近い空気吹出速度をもつた気流Vaによ
るクリーンルーム領域が形成されることゝなる。
ン領域Ｗ内の気流Vaは、同領域Ｗ外の気流Vbに
よるスクリーン効果によつて遮ぎられ、そのスク
リーンとの摩擦抵抗を受ける形となるが、気流
Vbの吹出速度V3が可成り遅いので、左程減速さ
れることなく、気流Vaの裾を拡げるようにして
グレーチング床Ｇに吸い込まれていく。その結
果、第４図の鎖線で示すように、ライン領域Ｗ上
に、V2に近い空気吹出速度をもつた気流Vaによ
るクリーンルーム領域が形成されることゝなる。
なお、気流Vaの速度、装置Ａ上をクリーンに
するため、或いは渦気流をできるだけ早く剥離す
るため、気流Vbよりできるだけ早い方が望まし
い。しかし、通常の場合、ライン領域Ｗ外もクリ
ーンに保つ必要があるので、気流Vbを零にする
ことは可能ではあるが実用的でない。
するため、或いは渦気流をできるだけ早く剥離す
るため、気流Vbよりできるだけ早い方が望まし
い。しかし、通常の場合、ライン領域Ｗ外もクリ
ーンに保つ必要があるので、気流Vbを零にする
ことは可能ではあるが実用的でない。
(1) フアンユニツトＵは、生産ラインに変更が生
じた場合は、変更後のライン領域に合わせて、
これをカバーする空気吹出口Ｈにつけ換えれば
よいし、ライン領域Ｗが長くなれば、その分新
たに取り付けるようにするとよいから、この実
施例によれば、生産ラインの変更に即応し得
る。
じた場合は、変更後のライン領域に合わせて、
これをカバーする空気吹出口Ｈにつけ換えれば
よいし、ライン領域Ｗが長くなれば、その分新
たに取り付けるようにするとよいから、この実
施例によれば、生産ラインの変更に即応し得
る。
(2) クリーンルーム内では気流Vaの速度は充分
に早くなるので、この実施例によれば、装置Ａ
上に滞滞する渦気流を効果的に速かに剥離する
ことができる。
に早くなるので、この実施例によれば、装置Ａ
上に滞滞する渦気流を効果的に速かに剥離する
ことができる。
(3) クリーンルーム領域は必要な一定領域のみに
形成し、不要な領域には最低限の空気を送給す
ればよいから、この実施例によれば、画室Ｒ全
体としてみた場合、送給する空気量を必要最小
限に抑えることができ、送風機Ｍ等に要するエ
ネルギーを節減することができる。
形成し、不要な領域には最低限の空気を送給す
ればよいから、この実施例によれば、画室Ｒ全
体としてみた場合、送給する空気量を必要最小
限に抑えることができ、送風機Ｍ等に要するエ
ネルギーを節減することができる。
以上説明したように、この発明は、画室を浄化
してクリーンルームを形成するにさいし、一定の
間隔をおいて天井全面に配設した空気吹出口から
の空気吹出速度を、床の第１領域において大き
く、その周囲の第２領域において小さく、かつ、
第１領域のうち特にその周縁部において最も大き
くすることによつて、前記第１領域に空気流によ
るクリーンルーム領域を形成できるようにしたか
ら、次の効果を得ることができる。
してクリーンルームを形成するにさいし、一定の
間隔をおいて天井全面に配設した空気吹出口から
の空気吹出速度を、床の第１領域において大き
く、その周囲の第２領域において小さく、かつ、
第１領域のうち特にその周縁部において最も大き
くすることによつて、前記第１領域に空気流によ
るクリーンルーム領域を形成できるようにしたか
ら、次の効果を得ることができる。
すなわち、(1)生産ラインの変更があつても、こ
れに即応して、その生産ラインを包むクリーンル
ーム領域を形成することができ、(2)かつ生産ライ
ンの各種装置上に生ずる渦気流を効果的に剥離し
て、ライン上のクリーン床を一層向上させること
ができるとともに、(3)必要なところに必要なクリ
ーンルームを形成して不必要なエネルギーの浪費
を避け、エネルギーの節減を図ることができる。
れに即応して、その生産ラインを包むクリーンル
ーム領域を形成することができ、(2)かつ生産ライ
ンの各種装置上に生ずる渦気流を効果的に剥離し
て、ライン上のクリーン床を一層向上させること
ができるとともに、(3)必要なところに必要なクリ
ーンルームを形成して不必要なエネルギーの浪費
を避け、エネルギーの節減を図ることができる。
第１図は従来のトンネル形クリーンルームの概
要を示す縦断面図、第２図は全面ラミナーフロー
形のクリーンルームの概要を示し、同図イはその
縦断面図、同図ロはその平面図、第３図はこの発
明を説明するためのクリーンルームの概要を示
し、同図イはその縦断面、同図ロはその平面図、
第４図は第３図イの拡大図である。 Ｈ……空気吹出口、Ｆ……エアフイルター、Ｇ
……グレーチング床、Ｒ……画室、V1，V2，V3
……空気吹出速度、Ｗ……ライン領域。
要を示す縦断面図、第２図は全面ラミナーフロー
形のクリーンルームの概要を示し、同図イはその
縦断面図、同図ロはその平面図、第３図はこの発
明を説明するためのクリーンルームの概要を示
し、同図イはその縦断面、同図ロはその平面図、
第４図は第３図イの拡大図である。 Ｈ……空気吹出口、Ｆ……エアフイルター、Ｇ
……グレーチング床、Ｒ……画室、V1，V2，V3
……空気吹出速度、Ｗ……ライン領域。
Claims (1)
- １ 天井面の下部全面に配設したフイルターを備
えた空気吹出口を有する天井パネルと、全面に通
気孔を有する床とで上下を区画された画室の床
に、自由に移動して位置設定した第１領域にクリ
ーンルーム領域を形成するクリーンルームの形成
方法であつて、前記天井面と天井パネルとにより
区切られたエアダクトに送風機によつて空気を供
給すると同時に、前記第１領域に対応した前記空
気吹出口上の前記エアダクト内に移動して設置可
能な複数のフアンユニツトを配設して、前記空気
吹出口より浄化した空気を吹出して画室に供給
し、その画室で発生する塵埃等で汚れた前記空気
を前記通気孔を有する床から吸い込んで前記画室
を浄化し、前記空気吹出口からの空気吹出速度
を、床の前記第１領域において大きく、この第１
領域の周囲に形成される他の領域で小さく、さら
に、前記第１領域のうち特にその周縁部において
最も大きくして、前記移動して設定される第１領
域に空気流によるクリーンルーム領域を形成する
ことを特徴とするクリーンルームの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58060026A JPS59185923A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | クリーンルームの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58060026A JPS59185923A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | クリーンルームの形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59185923A JPS59185923A (ja) | 1984-10-22 |
| JPH0239696B2 true JPH0239696B2 (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=13130140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58060026A Granted JPS59185923A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | クリーンルームの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59185923A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61141644U (ja) * | 1985-02-21 | 1986-09-02 | ||
| JPS625031A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-12 | Kajima Corp | 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム |
| JPH0410504Y2 (ja) * | 1986-02-08 | 1992-03-16 | ||
| JPH03284730A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 電気泳動表示装置用表示パネルの製造法 |
| JP2524214Y2 (ja) * | 1990-08-13 | 1997-01-29 | 株式会社大氣社 | クリーンルーム設備 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5237174U (ja) * | 1975-09-08 | 1977-03-16 | ||
| JPS56162335A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Air conditioner |
| JPS58129124A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-02 | Hitachi Ltd | 清浄作業室 |
-
1983
- 1983-04-07 JP JP58060026A patent/JPS59185923A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5237174U (ja) * | 1975-09-08 | 1977-03-16 | ||
| JPS56162335A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Air conditioner |
| JPS58129124A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-02 | Hitachi Ltd | 清浄作業室 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59185923A (ja) | 1984-10-22 |
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