JPH05509179A - 高エネルギ光源 - Google Patents

高エネルギ光源

Info

Publication number
JPH05509179A
JPH05509179A JP3513223A JP51322391A JPH05509179A JP H05509179 A JPH05509179 A JP H05509179A JP 3513223 A JP3513223 A JP 3513223A JP 51322391 A JP51322391 A JP 51322391A JP H05509179 A JPH05509179 A JP H05509179A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
axis
beams
target
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3513223A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3078836B2 (ja
Inventor
レイブン、アンソニー
Original Assignee
ダイオメド・リミテツド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26297420&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH05509179(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GB909016857A external-priority patent/GB9016857D0/en
Application filed by ダイオメド・リミテツド filed Critical ダイオメド・リミテツド
Publication of JPH05509179A publication Critical patent/JPH05509179A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3078836B2 publication Critical patent/JP3078836B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0972Prisms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • G02B19/0014Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G02B19/0057Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02251Out-coupling of light using optical fibres
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4087Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り世j この発明は、光源に関し、特に、ソリッドステート・レーザダイオードからなる 光源に関する。
レーザダイオードは、コンパクトで、頑強で、効率的で、且つ、比較的コストが 安いレーザ光源である。故に、多くの用途においては、それまで使用されていた ガスレーザまたは大きくて持ち運びが容易でないネオジミウム・イツトリウムア ルミニウムガーネットのようなソリッドステートレーザの代りに、レーザダイオ ードを光源として使用することが提案されている。このような用途としては、身 体に植込み可能な脈管形成プローブ、眼科治療、接触レーザ手術などが含まれる 。
しかし、単一のレーザダイオードによって得られるエネルギ出力は、数ワットに 制限されるものである。さらに、各ダイオードは、長尺の高い縦横比の0縞”か ら比較的大きなテーバ角となるようビームを発射する。発射されたビームのテー バ角、すなわち、開口数は、レーザ縞の長い方の軸に平行な方向(以下X軸とい う)におけるものの方が、レーザ縞の前記長い方の軸に直角な方向(以下y軸と いう)におけるものより小さい。
多くの用途では、単一のレーザダイオードのエネルギ出力上の制限を考慮して、 多数のレーザダイオードからの出力を結合することが必要となる。このようなシ ステムにおいて、多数のレーザダイオードからの光は、典型的にはレーザ縞の縦 横比より小さな縦横比を有し、且つ、ターゲットに対する効果的な送光を実現す るためのある一定の最大受入れテーパ角または立体角を有するターゲットエリア に対して効果的に送られる必要がある。例えば、光ファイバを通して光エネルギ が送られる脈管形成装置のような用途においては、ターゲットエリアすなわちフ ァイバの端部は円いものであり、受入れ立体角は、両輪とも同じであり、前記フ ァイバに効果的に接続可能な入射ビームの最大開口数に対応する。他の用途例は 網膜治療であり、この場合、光エネルギは、最大受入れ立体角を課する虹採を介 して網膜上の所定のターゲットエリアに集中される必要がある。
実際上、必要なエネルギが、ターゲットに関する効率的な受入れ立体角、または 、光源自体の送光用光学素子に関する有効受入れ立体角によって課される制約内 において所定のターゲットエリアに送られるよう、複数のレーザダイオード光源 からの光を結合するためには、様々な問題がある。
このような問題を克服するため、多くの方法が提案されている。その1つは、偏 光ビームコンバイナを用いて2つのレーザダイオードからのビームを結合し、該 結合されたビームを光ファイバの端部に集中させる方法である。また、提案され ている他の方法は、結合されたレーザビームの両輪方向における開口数が光ファ イバの開口数に一致するまで、レーザ縞の像をその長手方向にアナモルフィック に縮小するものである。しかしながら、これらの方法のいずれにおいても、各フ ァイバごとの最大エネルギは単に2つのレーザダイオードからのエネルギと同等 であり、より大きなエネルギを得るためには、複数のこのようなファイバを束ね ることが必要になる。ある用途においては、像とターゲットとの寸法上の不一致 、および、複雑なファイバ光学素子が必要になるということを考慮した場合、こ れは、効率的な解決法ではない。
このように多数のファイバを束ねると、輝度が失われ、また、高いエネルギのた め熱による損傷が発生しやすくなる。さらに、波長選択鏡を用いて、異なる波長 を持つ多数のレーザビームを結合する方法も提案されている。
しかし、特にレーザダイオードの波長が温度に対して過度に反応するので、実際 上、これは満足できるものではない。さらに他の方法は、レーザダイオード縞に 対してより正確に一致するよう、光ファイバの端部を楕円形に形成するものであ るが、このようなファイバは製造コストが高く、しかも、光エネルギをこのよう なファイバ中にあまり効果的に接続できないという課題がある。
より強力なレーザダイオード光源は米国特許第4.905.690号に開示され ている。該特許において、多数のレーザダイオードからの光ビームは、互いに平 行な軸を有し、且つ、多数のビームを包囲するのに充分な直径を有する単一の集 中用レンズによってターゲットエリア上に集中されるようになっている。単一の 結像システムに適用されるこの技術の一例は、図1の平面図および側面図に示さ れている。すなわち、このシステムは、それぞれ焦点距離f1およびf2を有す るコリメーティングレンズ1および焦点レンズ2を備えており、しばしば、レー ザ発光縞の像3を光ファイバの端部に集中することによって、単一のレーザダイ オードを光ファイバに接続するために使用される。前記縞4は、X軸方向に長く てy軸方向に短く、前記レンズ1.2によって、両輪方向にf2/f1倍拡大さ れる。両前記軸における発射ビームの開口数の差により、典型的には、y軸にお ける平行化されたビーム5aの径は、X軸のものの3倍である。
故に、米国特許第4.905.690号によると、(X軸方向に積み重なる)さ らに2つの平行ビーム5b15Cは、実質的に集中用レンズ2の開口数内に収る ことができる。こうして、前記像のエネルギおよび強度は3倍に増大可能になる 。しかしながら、より大きなエネルギが必要であり、3つ以上のビームを含むよ う装置が拡大される場合には、さらに多くのビーム(図2において5つのビーム が示されている)を包囲するため、集中用レンズの直径を大きくする必要がある 。また、エネルギ損失を避けるため光ファイバの開口数以下になるよう、集中さ れたビームについて同一の開口数が維持される場合、焦点レンズの焦点距離は、 前述のように大きくされた直径に比例して大きくされる必要がある。このように 焦点距離が大きく (図2の場合は5/3倍)されると、縞の像もこれと同じ率 で大きくなる。従って、エネルギが増大するにもかかわらず、像も同一の比率で 大きくなる。
こうして、前記像がターゲットエリア、すなわち、光ファイバの端部の直径より 大きくなるよう拡大される場合、エネルギ損失が生じる。
(1989年10月1日発行の0ptics 1etters”、14巻、No 、19に掲載されている)“5calable、 end−pumped、 d iode−1aser−pumped 1aser” 、および、(1990年 2月発行の“IEEE Journal of Quantum Electr onics”の26@、N092に掲載されている)Fan等によるPump  5ource Requireme+nts for End−Pump La 5ers”は、ネオジミウム・イツトリウムアルミニウムガーネットレーザを発 生するレーザダイオードシステムを開示している(図3参照)。これらの開示内 容によると、多数の平行なレーザダイオードビーム6a、6b、6c(X軸では なくy軸方向に積み重なっている)は、1対の円筒レンズ6.7によって、ネオ ジミウム・イツトリウムアルミニウムガーネットレーザの利得媒体中に集中させ られる。各前記レンズ6.7は、互いに直交する面において独立にビーム集中を 行う。こうして、前記集中用レンズの焦点距離f3、f4が2つの軸において最 適化されることができる。故に、X軸方向において像3の寸法がターゲットエリ アより大きくなることがないようX軸における集中を行う円筒レンズ6の焦点距 離f3を選択することによって、光源およびコリメーティングレンズの性質なら びに集中されたビームの開口数の制限範囲内において、像3のより重要なX軸方 向の寸法が最適化される。また、それほど重要ではない前記像3の短い方のy軸 方向の寸法においては、開口サイズが多数のビームに応じて大きくされることが できる。この場合にも、エネルギ損失を回避するため、集中されたビームの開口 数を光ファイバの開口数以下に維持できるよう、前記レンズ7の焦点距離f4を 大きくする必要がある。また、このように焦点距離を大きくすることにより、多 像のy軸方向の寸法が同等に大きくなって、各ビームのy軸方向の開口数が小さ くなり、より多くのビームがタープ・ソトの受入れテーバ角中に収ることが可能 になる。こうして、上述の米国特許第4.905.690号に開示されているシ ステムとは異なり、このシステムがタープ・ソトエリアに集中されるビームの数 を増加するよう拡張される場合、より長いX軸方向ではなく重要でない方のy軸 方向における像の拡大率のみを大きくするだけで、集中されたビームの開口数が 維持される。故に、光ファイバの直径を一定とした場合、このシステムは、米国 特許第4.905.690号より高いエネルギを実現することができる。
しかし、このシステムは、多くの問題点を有するものである。第1に、妥当な開 口数の集中ビームに関して、光学収差を許容可能なレベルまで減少し、X軸方向 の円筒レンズによって発生するy軸方向の像の収差を補償するためには、複雑な 多素子または非球面の円筒レンズが必要になる。さらに、光学業界では、多素子 または非球面の対称的なレンズが普通に使用されているが、多素子または非球面 の円筒レンズの製造は、自明ではなく、はとんど知られていない。
第2に、妥当な数のビームを結合するため、y軸方向の円筒状集中用レンズの開 口サイズは、きわめて大きくする必要がある。故に、集中されたビームのy軸方 向における開口数を同一に維持するためには、y軸方向の集中用円筒レンズの焦 点距離も、ビーム数に比例して大きくする必要がある。このことは、ダイオード とX軸方向の集中用円筒レンズとの間の距離が大きくなることを意味する。この ため、X方向における前記距離にわたり、ビームが分散するという問題が生じる 。−例として、上述の刊行物において、Fan等は、y軸におけるビーム集中を 行う焦点距離が150mmで、開口サイズが25mmの円筒レンズを使用して、 3つのダイオードを組合わせる。同様な制約条件の下で16のビームに増加され る場合、前記レンズの開口サイズは155 m mに増大し、その焦点距離は1 m未満(930mm)に増加することとなる。これに直交する(y軸)面におい て、当初の20mmの焦点距離のレンズを使用する必要があるが、このレンズは 前記ダイオードから910mm以上離れているので、平行化されたビームのこの 軸方向における25mrad (ミリラド)の分散(この軸方向における光源サ イズにより発生するもの)によって、前記レンズの開口におけるビーム寸法が、 前記刊行物に示された約4mmから約30mmに増加する。すなわち、この軸方 向における集中ビームの開口数が0.INAから0.6NAに増加する。Fan 等は、X軸方向に100μmの縞寸法を有する光源、および、4mmの焦点距離 を有するコリメーティングレンズを使用しており、上述した分散計算はこれを基 礎として行われている。より高いエネルギの光源を実現するためには、典型的に は、200μmまたは500μmの光源が必要になるが、この場合、分散は2倍 または5倍に増加する。
この発明は、上述の問題点を解決しようとするものである。第1の観点に従うこ の発明は、所定のターゲットエリアに対しである一定の受入れ立体角範囲内に光 を送るための光源を提供するものであって、長い寸法方向(y軸)および短い寸 法方向(y軸)を有する、複数の縞状の光源と、実質的に前記ターゲットエリア の範囲内において前2輪の像を作るアナモルフィック結像手段と、前記光源から ビームを略平行化するコリメーティング手段と、各平行化されたビームのX軸方 向の幅をy軸方向の幅に対して大きくするアナモルフィックビーム成形手段と、 前記ビーム成形手段とターゲットとの間に配置されていて、前記2つの軸方向に 略共通の焦点距離を有する集中手段とを具備しており、前記結像手段は、各前2 輪のy軸方向の倍率とX軸方向の倍率との間のアナモルフィック比率が1より大 きくなるよう配置されており、前2輪の像が、前記ターゲットエリア上に集中す るが、前記ターゲットエリアの受入れ角内における実質的に異なる領域を占める 光ビームによって作られる、ことを特徴とするものである。
この発明によると、必要とされる像の数に関してターゲットエリアの寸法が許容 する限り、互いに重ならない像も提供可能であるが、前2輪の像はターゲットエ リアの範囲内で互いに重なるのが好ましい。
このような構成により、ある受入れ立体角の範囲で光フアイバケーブルの端部な どのターゲットエリア上に効果的に送ることができる光ビームの数が、図3に示 したFanらの装置と同様に増加可能になる。
これは、ターゲットエリアが光源、例えば、レーザ縞より低い縦横比を有するこ とを前提としている。というのは、この前提において、各レーザ縞の像の厚み方 向(y軸方向)における倍率が長手方向(X軸方向)に対して増加し、これによ り、輝度原理に従い、ターゲットエリア上に集中された各ビームのy軸方向にお ける開口数の相対的な減少がもたらされる。このy軸方向における開口数の相対 的な減少によって、図3に示したFan等の構成と同様に、ビームが重なること なくターゲットの受入れ立体角に収容可能なビームの数の増加が可能になる。
しかしながら、Fan等のシステムとは異なり、この発明は、低コストで容易に 入手可能な対称的なレンズを前記集中手段として使用可能なよう、光学システム のアナモルフィック手段を前記集中手段から分離する(なお、前記集中手段にお いである程度の非対称性が存在している場合であっても、この発明の普遍性は影 響されない、ということを理解すべきである)。
さらに、前記集中手段の焦点距離が長い場合であっても、前記コリメーティング 手段と集中手段との間の距離は比較的短く維持可能であり、これにより、平行化 されたビームにおける分散効果を最小化することができる(この発明によると、 上述のFan等のシステムに関する16ビーム装置は、Fan等のシステムでは 光源とX軸方向集中シリンダとの間の距離が約1.000mmであるのに対して 、線光源(例えば、レーザダイオード)と集中手段との間の距離が100mm未 満であるこの発明のシステムによって実現可能である)。
前記アナモルフィックビーム成形手段は、平行化されたビームのy軸方向の寸法 に対するX軸方向の寸法の比率を増加するものであり、これは、X軸方向のビー ム幅を拡張するか、もしくは、y軸方向のビーム幅を減少することによって、ま たは、その両方を組合わせることによって実現可能である。前記ビーム成形手段 がy軸方向のビーム幅を減少する場合、前記集中手段の開口サイズおよび焦点距 離は結合されたビーム数の増加に伴ってあまり大きくならなくともよいという、 前記Fan等のシステムに優る利点がある。というのは、より多くのビームが使 用されるのに伴いレンズの開口を大きくスル代すに、y軸方向のビーム幅をさら に減少できるからである(もちろん、これにより像はy軸方向に大きくなるが、 はとんどの用途においてこれは重要ではない)。このようにして、このシステム は、その実用性を維持し、多数のビームにも関わらずそのコンパクト性を維持で きる。
この発明の好ましい実施例において、前記ビーム成形手段は、アナモルフィック にビームを成形して、X軸を長軸とする略楕円形のビームを成形する。好ましく は、これは、平行化されたビームのX軸方向の幅を大きくすることによって実現 される。
特定のターゲットサイズおよび受入れ角度に関して効率的に結合され得るビーム の最大数は、y軸方向倍率とX軸方向倍率との間のアナモルフィック比率に略比 例する。
こうして、光フアイバケーブルの端部のようなある特定の多エリアに関して、X 軸方向の倍率Mxは、ターゲット上に作られる重なった像がX軸に沿うターゲッ トサイズ、すなわち、光フアイバケーブルのコア径に一致するよう、選択可能で ある。その場合、アナモルフィック比率Aは、(必要エネルギについて必要とさ れる)数Nのビームが実質的な角度的な重なり無しに受入れ立体角中に結合され るのを可能にする値(A最小値)より太きくなるよう、しかし、y軸方向倍率M yによって、厚み方向におけるレーザ縞の像か該方向におけるターゲットサイズ より実質的に大きくなる(エネルギ損失を生じる)最大値(A最大値)未満にな るよう、選択可能である。
このようにして、ある特定のMx値に関して、A max=Ty/ (MxSy )であり、ここで、Ty=像の厚み方向におけるターゲット寸法、Sy=前記前 記方向におけるレーザ縞寸法である。
また、 A m1n−=Nθ/(δ、Mx”φ)であり、ここで、N=(必要エネルギの ために)結合すべきビーム数、 θ=レーザ縞の発射立体角、 φ=ツタ−ットの受入れ立体角、 δ=最大実質比質量偏差、すなわち、ある特定の値すなわちNに関して、レーザ ビームによって占められる立体角φの端数である。
前記アナモルフィック比率は、各光源すなわちレーザダイオードについて同一で あるのが好ましいが、前記A最小値およびA最大値による制限範囲内で異なって いてもよい。前記A最小値より大きいアナモルフィック比率を有するターゲット の光源によって補償される場合、個々の光源は、前記A最小値より小さいアナモ ルフイ1.り比率を有してもよい。
この発明に従うと、従来のシステムに比べてより多くのレーザダイオードのよう な光源からの光か、複雑な光フアイバケーブル束、複雑なファイバ光学素子もし くはレンズを必要とすることなく、または、正確な波長制御がなされる多くの波 長を必要とすることなく、光フアイバケーブルまたは眼のaamのような、ある 一定の受入れ立体角を有するターゲットエリア中に効率的に接続可能である。後 者の点は、例えば、もちろんこの発明によってカバーされる用途であるネオジミ ウム・イツトリウムアルミニウムガーネットレーザロッドを発生する際において 、波長選択ターゲットを照すことが必要な場合に、特に重要である。
前記アナモルフィック結像手段は、様々な形態を採ることができる。1つの実施 例において、該結像手段は、各レーザ光ファイバごとのコリメーティング手段と 、該コリメーティング手段の下流側に配置された1つ以上のアナモルフィックビ ーム成形手段と、レーザ縞の重なった像を作るため、略対称的な集中用レンズま たは略対称的な集中用レンズアレイとを備えている。前記アナモルフィックビー ム成形手段は、プリズム対または円筒状望遠鏡からなり、y軸方向の倍率を大き くし、および/または、X軸方向の倍率を小さくするよう配置されている。
レーザダイオードのような光源と共に使用されるこのタイプまたはターゲットの タイプのアナモルフィックビーム成形用光学素子は、当該技術において知られて いる。
この発明の好ましい実施例は、集中用レンズの上流側に設けられた手段であって 、前記集中用レンズと交差し該手段によってターゲットエリア上に集中されるビ ームの密ではあるが同一空間に位置していない(コインシデントではない)ビー ム束を提供する手段を備える。前記ビーム東提供手段の一実施例は、前記集中用 レンズの中心光軸に沿って設けられることができ、且つ、入射ビームをカートホ イール式に取り込み、光軸に沿ってこれらのビームを密ではあるがコインシデン トではない束状に反射するよう配置された対称的な鏡アレイを備える。
もちろん、前記ビーム束は、上記のカートホイール式の構成に限られるものでは なく、いかなる形態であってもよい。前記アナモルフィックビーム成形手段は、 4X27レイのようなりニアアレイに組込まれてもよい。これは、例えば、ビー ムが前のビーム成形手段によって遮断されないよう、各ビームのビーム成形手段 を前後に段階状に配置することによって、実現され得る。
好ましい実施例において、ターゲットエリア上に集中される各ビーム自体は、偏 光および/または二色ビームコンバイナによって結合された、2つ以上のレーザ ダイオードからの同一空間を占めるビームからなるものである。このようにして 、ターゲットエリアに集中されたビーム数Nに関して、偏光ビームコンバイナの みが使用される場合には、得られるエネルギは2Nのレーザダイオードに等しく 、また、二色ビームコンバイナが使用される場合には、それ以上である。
他の好ましい実施例においては、前記集中手段によって、可視光源も前記ターゲ ツトエリア上に提供される。
例えば、前記光源が可視ビームが容易に照準される脈管形成装置に使用される場 合、このような可視光源が有用である。この可視光源ビームは、他の光源と同一 の特性を有する必要はなく、アナモルフイ・ツクに拡大されなくてもよい。
この発明は、特に、レーザダイオード光源について詳述されている。しかし、レ ーザダイオードと同様な出力縦横比および開口数特性を有する他の光源に適用し てもよい。
図1は、3つのレーザダイオードのビームを1つの光フアイバ中に集中させる従 来のシステムを、レーザ縞の長袖および短軸方向に示す略図、 図2は、5つのビームを1つの光ファイノく中に集中させる図1のものと同様な システムを両輪方向に示す略図、図3は、ネオジミウム・イツトリウムアルミニ ウムガーネットレーザを発生するため多数のレーザダイオードビームを結合する 従来のシステムを両長軸方向に示す略図、 図4は、図5の構成をレーザ縞の短軸(y軸)に沿って示す図、 図5は、この発明によりレーザ縞の長軸(X軸)に沿って示される2つのレーザ ダイオードからのビームをアナモルフィックに成形し、結合する手段を示す図、 図6aおよび図6bは、図4および図5に示されたビーム成形結合手段から発生 された7つ結合光ビームを束ねるための手段の正面図および断面図、図7aおよ び図7bは、レーザ縞か重なった像を発生するため、集中用レンズによって光フ ァイノくケーブルの端部上に衝突し集中されたビームの束を示す図、図8は、3 つのビームが組合される第2の実施例におけるレーザ縞を長袖および短軸方向に 示す略図、図9は、5つのビームが結合される実施例を示す図8の類似図、 図10は、この発明のさらに他の実施例に係る装置の破断側面図、 図11は、図10の装置の破断圧面図、図12は、図10の装置におけるベース プレートの平面図、 図13は、図10の装置の正面図、 図14は、図1−0の装置の平面図。
先ず、図4および図5(これらの図の縮尺は同一ではない)において、1対のレ ーザダイオードは、Sxの長さおよびsyの厚みを持つレーザ光源縞8を有する ものである。各レーザ光源は、y軸における開口数がX軸の開口数より大きいビ ーム9を発射する。各前記ビームは、コリメーティングレンズ10によって平行 化され、これにより、観かけ寸法BxおよびByを有する楕円形断面C のビーム11となる。上述した2つの軸における開口数の差により、寸法Byは 寸法Bxより3倍大きい(この点に関し、図4および図5の縮尺は一定ではない )。前記コリメーティングレンズ10の下流側には、アナモルフィック・プリズ ム対12が設けられている。該プリズム対12は、アナモルフィック比率Aに等 しい率だけ前記ビーム11をX方向に拡張するものであるが、X方向の厚みには 影響を与えない。このビームの厚みにおける相対的な増加により、各編の像のX 軸方向の径が、後述する下流側の集中用レンズによる率だけ、y軸方向の径に対 して減少する。図示例においては、前記アナモルフィック・プリズム対12の下 流側のビーム断面が略円形となるよう、アナモルフィック比率Aは3である。
アナモルフィック・プリズム対12を通過したビーム11は、偏光ビームコンバ イナによって結合される。該コンバイナは、各々の斜辺同士が接した2つのプリ ズムで構成された結合キューブ13からなり、前記プリズムの間の界面14には 、P偏光された光を通すがS偏光された光を反射する誘電被覆層が施されている 。レーザダイオードによって発射された光ビームは、共にP偏光されており、従 って、図4の上方のビームの通路には半波長板15が設けられている。前記上方 のビームは、別のプリズム16によって90度方向変換されて前記被覆された界 面14上に反射され、これにより、該界面14を通過する他方のビームと同軸の 通路に導かれる(前記半波長板15は前記上方のビームの極性を90度回転する )。こうして1、結合されたビーム16が作られる。
図示した実施例は、図4および図5に示す種類の7つのビーム成形結合手段を備 えるものである。結合ビーム16が図6aおよび図6bに示すビーム束形成鏡1 7上に向けてカートホイール式に内方に投射されるよう、これら7つのビーム成 形結合手段のうちの6つは、放射状に配置されている。前記ビーム束成形鏡17 は、図7bに示す密で、コインシデントでないビームの束を成形するため、各ビ ーム16を反射するよう配置された反射面18の対称的なアレイからなるもので ある。このビーム東成形鏡17は中央開口19を有し、該中央開口19によって 、7つのビーム成形結合手段からの結合ビーム16は、前記ビーム束の中心軸に 沿って導かれる。
図7aおよび図7bに示すように、ビーム束は集中用レンズ20上に導かれ、こ れにより、各ビームは、TxX T yの寸法を有する光ファイバまたはその他 のターゲットエリアTの端部上に集中される。こうして、すべてのレーザ縞の重 なった像からなるIxXIyの寸法を有する像21が、ターゲットエリア上に形 成される。上述のように、ある特定のターゲット径および受入れ立体角に関して 、このようにビーム同士が重なることなく効率的に結合され得る最大ビーム数N は、X軸方向の倍率とy軸方向の倍率との間のアナモルフィック比率Aに比例す る。ある特定のターゲット寸法に関して、適当なX軸方向の倍率は、縞の像Ix の長さかターゲット寸法TXに一致する場合の倍率である。全体的な倍率は、ア ナモルフィック比率A1ならびに、コリメーティングレンズ10および集中用レ ンズ20の相対的焦点距離に左右される。像の厚みIyかある特定のターゲット 寸法Tyにとって大き過ぎるようになる点まで、すなわち、像がターゲットに対 して全面的には重ならない結果として実質的なエネルギ損失が生じる点まで、y 軸方向の倍率はX軸方向の倍率より大きくすることができる。許容可能な最大ビ ーム数は、ターゲットエリア上に集中される各ビームのy軸方向の開口数減少に よって決定される。
上記実施例において、平行化されたビームは、略円形断面を有するよう成形され る。もちろん、これに限らず、実施される多数のアセンブリにおいて、ビームは 、実際上、その長軸がX軸である楕円形に成形される。上記実施例において、こ れは、平行化されたビームをアナモルフィックにX軸方向に4倍拡張することに よって、実現されるのが好ましい。
さらに、上記実施例において、アナモルフィックプリズム対は、X軸ビーム断面 を大きくし、これにより、y軸方向の倍率に影響を与えることなく、前記レンズ 10.20によるX軸方向倍率を小さくするよう配置されている。他の実施例に おいては、反対に、アナモルフィックプリズム対は、y軸ビーム断面を小さくシ 、これにより、該X軸方向倍率を大きくするよう配置されている。このような構 成により、アナモルフィック比率およびターゲット寸法が図示例のものと同じで ある場合、前記集中用レンズの焦点距離は3分の1に減少され、これにより、タ ーゲット上に集中される各ビーム16の像の寸法および開口数は同一に維持され る。
図8および図9は、平行化されたビーム11のX軸号法か拡張され、y軸寸法が 減少されるようになった他の実施例を略示している。図8においては、3つのビ ームを結合するためアナモルフィック比率は9である。また、図9においては、 前記3つのビームの場合と同じサイズの集中用レンズを用いて5つのビームを結 合するため、アナモルフィック比率は15である。なお、これら2つの実施例に おいて、集中用レンズ20のサイズおよび焦点距離、ならびに、光ファイバの直 径は、上記第1の実施例とは異なるものである。
上記第1の実施例のように甲にX軸ビーム幅を大きくすることによって、図8お よび図9のような直径を有す。
る光フアイバ上に3つのビームを集中することが必要な場合、こねら3つのビー ムを適当に包囲するためには、集中用レンズ20のサイズを3倍にしなければな らない(ビームが一列に配置されていて、これよりコンパクトな形態に配置され ていないものと仮定する)。この場合、エネルギ損失を回避できるよう、結合さ れ、集中されたビームの開口数を一定、すなわち、光ファイバの受入れ角度以下 に維持するためには、前記レンズ20の焦点距離を3倍にすることか必要とな。
また、像のX軸方向における全体的な倍率が一定になるよう、前記ビーム成形手 段は、平行化されたビームのX軸輪をさらに3倍大きくするよう調節される必要 がある。
図10〜図14に示すさらに他の実施例において、16のビームが光ファイバの 端部に集中されるようになっている。これらのビームは、X軸を長軸とする楕円 断面のビームを成形するため、X軸方向に4倍アナモルフィックに拡張され、偏 光ビームコンバイナによって結合され、しかる後、1ノンズによって光フアイバ 端部に集中されるよう2×4のアレイに配置される。
図10〜図14に示す装置は、ベース部101にボルト止めされたハウジング1 00を備えている。レーザダイオードモジュール102の4×4のアレイは、ベ ース部101上のハウジング100内に取り付けられている。
各前記モジュール102は、対応するモニタ・センサおよび電力リード線を備え たレーザダイオード103と、レーザビームを平行化するコリメーティングレン ズ104とで構成されている。このレーザダイオード103とコリメーティング レンズ104とで構成されるモジュール102を設けたことにより、これら2つ の要素は、ベースプレートに取り付けられる前に正確に整列されることができ、 その後の整列ズレを防止できる。
レーザダイオード103は、200X1μmの縞寸法、0.17X0,5の開口 数および1ワツトのエネルギ出力を有するSDi、−2460(米国の5pec tra Di、odp Labs社)またはS L D 304 (Sony? t)である。また、フリメーーーアイングレンズ(4,047の開口数および0 46 m mの焦点距離を有するOlympus A V −4647−3であ る。
前記レーザモジュール〕、02は1対ずつグループ化されており、−L方の多対 は、支持手段106によってハウジング1−oOの側壁に取り付けられたビーム 成形結合ユニット105である。
各ユニッl−105は各ビームに1つずつの2一つのアナモルフィックプリズム 対107を含むものであり、これらのプリズムは、800nmの5F−11Li ttrOW プリズムであり、各ビームをX軸方向に4倍拡張するが、y軸方向 のビーム寸法には影響を与えない。各ユニット]−05は、さらに、Melle s Griot03PBSO62であって、ビームを結合させる偏光ビームコン バイナ手段108を含むものである。結合されたビームは、該ユニット105の 一部を構成するプリズム109によって、集中用lレンズ110」二に反射され る。図10および図11から理解されるように /)ウンング100の各側の4 つのユニット105は、直線的に整列しているが、ハウジング100の後部に近 いものはト、各々のレーザモジュール102からより高い位置に設けられている 。こうして、レンズ110によって出力ファイバ111上に集中される2X4の ビームアレイを作るため、ハウジング100の各側に一ヒ下方向に1×4の7[ /イか提供される。
l/レンズ10は、26mmの焦点距離、30mmの1宵径および0,35の開 口数を有する非球面シンブレ・ノドである。光ファイバは、400μmの直径お よび0.3’7 N Aの受入れ角度を有するEnsign Bickford  HC5先ファイバであり、)\ウジング】00中に挿入される時に、集中用レ ンズ110に対して正確に位置決めされる。安全のため、光ファイバが所定位置 にあるか否かを検出し1、光ファイバが存在(7ていないときにレーザダイオー ドのオン動作を素子するセンサ112が設けられている(図10および図13参 照)。
このような装置は、12.5ワツトのエネルギ出力および300X6μmの像寸 法を有する光源を提供する。
光ファイバ111を介して与えられるビームを照準できるよう、可視光を発射す るレーザダイオードからのビーム1j−3は、その他のビームによって占められ ないレンズ110の一部を通過する(図11参照)。
害−一籠−−−例 及籠L−犬 レーザダイオード源は、200μm X 1μmの縞寸法ならびに0.17およ び0.5のX軸およびy軸方向発射開口数を有する1ワツトのレーザダイオード 源を用いて、0.32NAの受入れ開口数をし300μmのコア径を有する光フ ァオノ・中に257・ソトの出力を接続するために必要とされる。80%の光効 率を仮定した場合、32個のレーザダイオードか必要であり、ケーブルの端部に 集中される結合ビームの数Nは16である。故に、発射立体角θは0.085で あり、ターゲ・ントの受入れ立体角φは約0.10である。選択された最大ビー ム比質量偏差δ=0.7、’ry=aoo、5y=1およびMx=1.5のため には、上述の等式を使用したアナモルフィック比率は、8.6〜200でなけれ ばならない。
8.6のA最小値のためには、光ファイバにお番プる縞の像は300μmX12 .9μmであり、各ビームは光ファイバの受入れ立体角の約4%を占めることと なる。
他方の極端な例において、A=200の場合、光ファイバにおける縞の像は30 0μm X 300μmであり、各ビームは光ファイバの受入れ立体角の約0. 2%を占めることとなる。この場合、正方形の縞の像は円形の光ファイバのコア に正確に一致せず、従って、エネルギ損失が生じる。しかしながら、これを無視 した場合、A=200であるとき、各ビームが80%の光効率および最大ビーム 比質量偏差δ=0.7と仮定した1つの結合ビームである場合理論的には、合計 370のビームが光ファイバに送られ、 580ワツトの最大エネルギを提供す る。
及ILIfiユ 眼科用の光凝固装置は、100μtn X 1μmの縞寸法ならびに0.17お よび0,5NAの発射開口数を有する0 5ワツトのレーザダイオード源からの 100μmのスポット中に2ワツトを与えるために必要とされる。
眼の最大受入れ角は0.2NAである。70%の光効率を仮定した場合、3つの ビームに偏光結合される(N=3)6つのダイオードが必要である。
100μmのスポット、Mx=1、発射立体角θ=0゜085、選択された最大 ビーム比質量偏差δ=0.7のためには、アナモルフィック比率Aは、10〜1 00とすることかできる。
A=10の場合、網膜におけるスポット寸法は100μmX10μmとなる。
FtG、11 要 約 書 高エネルギ光源を提供する光学システムは、長い寸法a (X軸)および短い寸 法b (y軸)を有する発射績(8)から光を発射するものであって、y軸方向 の開口数がX軸方向の開口数より高い多数のレーザダイオードまたはこれと同様 な光源によって構成される。レーザビーム(9)は、レンズ(10)によって平 行化され、他のレンズ(20)によって光フアイバ上に集中される。
このビーム集中の前に、平行ビーム(11)は、各ビーム(11)x軸方向の幅 がy軸方向の幅に対して増大するよう、ビーム成形手段(12)によってアナモ ルフィックに拡大または縮小される。こうして、光フアイバ上に作られる像(2 1)は、縞(8)のy軸方向の倍率とX軸方向の倍率との間のアナモルフィック 比率が1より大きくなるよう、アナモルフィックに拡大される。輝度原理により 、このアナモルフィック的な拡大は、y軸方向の開口数における相対的な減少を 生じ、ターゲットの立体角内に収ることができるビーム数の増加を実現する。
国際調査報告 PCT/GB 911013101m−AaeA−N・PCT/ GB 91101310国際調査報告

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.所定のターゲットエリアに対してある一定の受入れ立体角範囲内に光を送る ための光源であって、長い寸法方向(x軸)および短い寸法方向(y軸)を有す る、複数の縞状の光源と、 実質的に前記ターゲットエリアの範囲内において前記縞の像を作るアナモルフィ ック結像手段と、前記光源からビームを略平行化するコリメーティング手段と、 各平行化されたビームのX軸方向の幅をy軸方向の幅に対して大きくするアナモ ルフィックビーム成形手段と、前記ビーム成形手段とターゲットとの間に配置さ れていて、前記2つの軸方向に略共通の焦点距離を有する集中手段と、 を具備していて、前記結像手段が、各前記縞のy軸方向の倍率とx軸方向の倍率 との間のアナモルフィック比率が1より大きくなるよう配置されており、前記縞 の像が、前記ターゲットエリア上に集中するが、前記ターゲットエリアの受入れ 角内における実質的に異なる領域を占める光ビームによって作られることを特徴 とする光源。
  2. 2.前記縞の像が前記ターゲットエリア内において互いに重なるようになってい る請求の範囲第1項に記載の光源。
  3. 3.前記ビーム成形手段が、x軸を長軸とする略楕円断面のビームを作るため、 前記ビームをアナモルフィックに成形する請求の範囲第2項に記載の光源。
  4. 4.前記ビーム成形手段が、前記平行化されたビームのy軸方向の幅を減少する 請求の範囲第1項、第2項または第3項に記載の光源。
  5. 5.前記ビーム成形手段が、前記平行化されたビームのx軸方向の幅を増加する 請求の範囲第1項、第2項または第3項に記載の光源。
  6. 6.前記ターゲット上に作られた像の長さが前記ターゲットのX軸に沿う寸法に 略一致するよう、前記x軸方向の倍率Mxが選択されている請求の範囲第1項〜 第5項のいずれか一項に記載の光源。
  7. 7.前記ビームのうちの少なくともいくつかのアナモルフィック比率Aが概ね Nθ/δ.Mx2φ≦A≦Ty(MxSy)の範囲内であり、 ここで、Ty=像の厚み方向におけるターゲット寸法、Sy=前記厚み方向にお けるレーザ縞寸法、N=(必要なエネルギのために)結合すべきビーム数、 θ=レーザ縞の発射立体角、 φ=ターゲットの受入れ立体角、 δ=最大実質比質量偏差 であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第6項のいずれか一項に記載の光源 。
  8. 8.前記結像手段は、各レーザビームごとに設けられたコリメーティング手段と 、該コリメーティング手段の下流側に配置された1つ以上のアナモルフィックビ ーム成形手段と、レーザ縞の重なった像を作るため、略対称的な集中用レンズま たは略対称的な集中用レンズアレイとを備えている請求の範囲第1項〜第7項の いずれか一項に記載の光源。
  9. 9.前記アナモルフィックビーム成形手段がプリズム対からなる請求の範囲第8 項に記載の光源。
  10. 10.前記アナモルフィックビーム成形手段が、円筒状の望遠鏡からなる請求の 範囲第8項に記載の光源。
  11. 11.前記光源が、集中用レンズの上流側に設けられた手段であって、前記集中 用レンズと交差し該手段によってターゲットエリア上に手中されるビームの密で はあるが同一空間に位置していないビーム束を形成する手段を備え、前記ビーム 束が、前記集中手段によって前記ターゲットエリア上に集中される請求の範囲第 1項〜第10項のいずれか一項に記載の光源。
  12. 12.前記ビーム束形成手段が、前記集中用レンズの中心光軸に沿う方向に設け ることがてき、入射ビームをカートホイール式に取り込み、光軸に沿ってこれら のビームを反射する反射器の対称的なアレイからなる請求の範囲第11項に記載 の光源。
  13. 13.前記ビーム束形成手段が、1つ以上のリニアアレイを形成するよう段階的 に並べられた多数の反射器・プリズムからなる請求の範囲第11項に記載の光源 。
  14. 14.ターゲットエリア上に集中される各ビーム自体が、偏光および/または二 色ビームコンバイナによって結合された、2つ以上のレーザダイオードからの同 一空間を占めるビームからなる請求の範囲第1項〜第13項のいずれか一項に記 載の光源。
  15. 15.前記複数の光源の各々が、コリメーティングレンズを組込んだモジュール として設けられており、各前記ビーム成形手段が、結合すべき前記2つ以上の光 源のためのビームコンバイナを組込んだ分離したユニットとして設けられている 請求の範囲第14項に記載の光源。
  16. 16.可視光源が、ターゲットのビームによって占められていない前記集中手段 の一部分を通して、前記ターゲットエリア上に集中される請求の範囲第1項〜第 15項のいずれか一項に記載の光源。
JP03513223A 1990-08-01 1991-08-01 高エネルギ光源 Expired - Fee Related JP3078836B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9016857.6 1990-08-01
GB909016857A GB9016857D0 (en) 1990-08-01 1990-08-01 High power light source
GB909020904A GB9020904D0 (en) 1990-08-01 1990-09-26 High power light source
GB9020904.0 1990-09-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05509179A true JPH05509179A (ja) 1993-12-16
JP3078836B2 JP3078836B2 (ja) 2000-08-21

Family

ID=26297420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03513223A Expired - Fee Related JP3078836B2 (ja) 1990-08-01 1991-08-01 高エネルギ光源

Country Status (13)

Country Link
US (2) US5319528A (ja)
EP (1) EP0541658B2 (ja)
JP (1) JP3078836B2 (ja)
AT (1) ATE190733T1 (ja)
AU (1) AU649707B2 (ja)
BR (1) BR9106718A (ja)
CA (1) CA2088497C (ja)
DE (1) DE69132049T3 (ja)
DK (1) DK0541658T3 (ja)
ES (1) ES2142803T3 (ja)
GB (1) GB2261528B (ja)
GR (1) GR3033564T3 (ja)
WO (1) WO1992002844A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015072956A (ja) * 2013-10-02 2015-04-16 株式会社島津製作所 発光装置
WO2016203998A1 (ja) * 2015-06-19 2016-12-22 株式会社アマダミヤチ レーザユニット及びレーザ装置

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992002844A1 (en) * 1990-08-01 1992-02-20 Diomed Limited High power light source
GB9221104D0 (en) * 1992-10-07 1992-11-18 Diomed Ltd Laser diode drive circuit
GB9324589D0 (en) * 1993-11-30 1994-01-19 Univ Southampton Beam shaping device
EP0660157A1 (en) * 1993-12-20 1995-06-28 Agfa-Gevaert N.V. Device for combining laser beams in a common light spot
US5841797A (en) * 1994-06-28 1998-11-24 Ventrudo; Brian F. Apparatus for stabilizing multiple laser sources and their application
US5589684A (en) * 1994-06-28 1996-12-31 Sdl, Inc. Multiple diode lasers stabilized with a fiber grating
US5554153A (en) * 1994-08-29 1996-09-10 Cell Robotics, Inc. Laser skin perforator
US5665305A (en) * 1995-11-13 1997-09-09 Belliveau; Richard S. Lighting system with multiple beam shapes
JP3369404B2 (ja) * 1996-06-14 2003-01-20 三菱電機株式会社 光トリガサイリスタ
US6013025A (en) * 1996-07-11 2000-01-11 Micro Medical Devices, Inc. Integrated illumination and imaging system
US6331692B1 (en) * 1996-10-12 2001-12-18 Volker Krause Diode laser, laser optics, device for laser treatment of a workpiece, process for a laser treatment of workpiece
US5980066A (en) * 1997-06-04 1999-11-09 High End Systems, Inc. Lighting system with multiple beam shapes
US6365024B1 (en) * 1997-06-30 2002-04-02 Spectrumedix Corporation Motorized positioning apparatus having coaxial carrousels
AU1514399A (en) * 1998-11-04 2000-05-22 Laserlab Research Ltd Radiating adder
US7027691B1 (en) 1999-10-05 2006-04-11 Visteon Global Technologies, Inc. Light coupling and distribution system
RU2163048C1 (ru) * 2000-01-24 2001-02-10 РЕЙТЭК Лазер Индастрис Лтд. Источник излучения на основе лазерных диодов
RU2172972C1 (ru) * 2000-01-27 2001-08-27 РЕЙТЭК Лазер Индастрис Лтд. Излучающий сумматор
US6423925B1 (en) * 2000-02-17 2002-07-23 Universal Laser Systems, Inc. Apparatus and method for combining multiple laser beams in laser material processing systems
US6424670B1 (en) 2000-02-17 2002-07-23 Universal Laser Systems, Inc. Apparatus and method for making laser sources and laser platforms interchangeable and interfaceable
US6531681B1 (en) * 2000-03-27 2003-03-11 Ultratech Stepper, Inc. Apparatus having line source of radiant energy for exposing a substrate
US6485163B1 (en) * 2000-10-13 2002-11-26 Neville Hanchett Multi-position laser light projector
US6434284B1 (en) * 2000-12-07 2002-08-13 Corning Incorporated Beam converter for enhancing brightness of polarized light sources
US6646669B2 (en) * 2000-12-14 2003-11-11 Creo Inc. Multimode multi-track optical recording system
US6987240B2 (en) * 2002-04-18 2006-01-17 Applied Materials, Inc. Thermal flux processing by scanning
US7005601B2 (en) 2002-04-18 2006-02-28 Applied Materials, Inc. Thermal flux processing by scanning
JP2004047351A (ja) * 2002-07-15 2004-02-12 Koito Mfg Co Ltd 車両用灯具
KR101163682B1 (ko) 2002-12-20 2012-07-09 맷슨 테크날러지 캐나다 인코퍼레이티드 피가공물 지지 장치
KR100474430B1 (ko) * 2002-12-30 2005-03-10 삼성전자주식회사 멀티빔 레이져 스캐닝 유닛
US6870195B2 (en) * 2003-02-21 2005-03-22 Agilent Technologies, Inc. Array of discretely formed optical signal emitters for multi-channel communication
GB0312443D0 (en) 2003-05-30 2003-07-09 Newoptics Ltd Optical multiplexer
DE112005002605A5 (de) 2004-08-18 2007-08-09 Arctos Showlasertechnik E.Kfm. Laservorrichtungen zur Erzeugung von Laserstrahlen
DE102004040107A1 (de) * 2004-08-18 2006-02-23 Arctos Showlasertechnik E.Kfm. Laservorrichtung zur Erzeugung eines roten Laserstrahls
JP5967859B2 (ja) 2006-11-15 2016-08-10 マトソン テクノロジー、インコーポレイテッド 熱処理中の被加工物を支持するシステムおよび方法
EP2003484B1 (en) 2007-06-12 2018-04-11 Lumentum Operations LLC A Light Source
DE102007045845A1 (de) * 2007-09-26 2009-04-09 Arctos Showlasertechnik E.Kfm. Laservorrichtung
US7733932B2 (en) * 2008-03-28 2010-06-08 Victor Faybishenko Laser diode assemblies
KR101610269B1 (ko) 2008-05-16 2016-04-07 맷슨 테크놀로지, 인크. 워크피스 파손 방지 방법 및 장치
US7773655B2 (en) * 2008-06-26 2010-08-10 Vadim Chuyanov High brightness laser diode module
US9244235B2 (en) * 2008-10-17 2016-01-26 Foro Energy, Inc. Systems and assemblies for transferring high power laser energy through a rotating junction
DE102008056128B4 (de) * 2008-11-06 2010-10-07 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Optik zur Fokussierung von Diodenlaserstrahlung
US8000358B2 (en) * 2009-04-20 2011-08-16 Emcore Corporation Power monitoring system for a parallel optical transmitter
US8427749B2 (en) 2010-06-30 2013-04-23 Jds Uniphase Corporation Beam combining light source
US8437086B2 (en) 2010-06-30 2013-05-07 Jds Uniphase Corporation Beam combining light source
CN102255238B (zh) * 2010-09-17 2013-03-20 武汉高晟知光科技有限公司 一种半导体激光器的封装结构及其应用装置
US8432945B2 (en) 2010-09-30 2013-04-30 Victor Faybishenko Laser diode combiner modules
US8891579B1 (en) 2011-12-16 2014-11-18 Nlight Photonics Corporation Laser diode apparatus utilizing reflecting slow axis collimators
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films
US9647416B2 (en) 2013-12-23 2017-05-09 Lumentum Operations Llc Bidirectional long cavity semiconductor laser for improved power and efficiency
WO2015134931A1 (en) 2014-03-06 2015-09-11 Nlight Photonics Corporation High brightness multijunction diode stacking
US9705289B2 (en) 2014-03-06 2017-07-11 Nlight, Inc. High brightness multijunction diode stacking
JP6349792B2 (ja) * 2014-03-07 2018-07-04 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 光送信装置
CN106537899B (zh) 2014-05-15 2022-01-18 Mtt创新公司 优化用于多投影仪系统的驱动方案
JP6791840B2 (ja) 2014-08-14 2020-11-25 エムティティ イノベーション インコーポレイテッドMtt Innovation Incorporated 光源
US10761276B2 (en) 2015-05-15 2020-09-01 Nlight, Inc. Passively aligned crossed-cylinder objective assembly
WO2017122782A1 (ja) * 2016-01-13 2017-07-20 古河電気工業株式会社 半導体レーザ素子、チップオンサブマウント、および半導体レーザモジュール
EP3417340A1 (en) 2016-02-16 2018-12-26 NLIGHT, Inc. Passively aligned single element telescope for improved package brightness
WO2017161334A1 (en) 2016-03-18 2017-09-21 Nlight, Inc. Spectrally multiplexing diode pump modules to improve brightness
EP3560048B1 (en) 2016-12-23 2023-08-09 NLIGHT, Inc. Low cost optical pump laser package
US10763640B2 (en) 2017-04-24 2020-09-01 Nlight, Inc. Low swap two-phase cooled diode laser package
CN111919352B (zh) 2018-02-06 2024-04-26 恩耐公司 具有fac透镜面外波束转向的二极管激光设备

Family Cites Families (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB213787A (en) * 1923-05-01 1924-04-10 Alec John Gerrard Box strapping machine
US3273072A (en) * 1965-01-18 1966-09-13 American Optical Corp Laser amplifier with variable gain control
US3590248A (en) * 1965-04-13 1971-06-29 Massachusetts Inst Technology Laser arrays
US3736518A (en) * 1971-11-22 1973-05-29 Rca Corp Maser incorporating crystal having f-centers
JPS51139644U (ja) * 1975-04-30 1976-11-10
US4318594A (en) * 1977-02-15 1982-03-09 Canon Kabushiki Kaisha Beam shaping optical system
US4185891A (en) * 1977-11-30 1980-01-29 Grumman Aerospace Corporation Laser diode collimation optics
US4293827A (en) * 1979-09-14 1981-10-06 Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. Multiwavelength dye laser
GB2069176B (en) * 1980-02-06 1984-10-24 Canon Kk Optical mechanical scanning using several light beams
SE421568B (sv) * 1980-05-28 1982-01-04 Optisk Forskning Inst Anordning for uppdelning av en ljusstrale i ett flertal stralar eller omvent
IT1170643B (it) * 1981-01-22 1987-06-03 Selenia Ind Elettroniche Dispositivo perfezionato per l'accoppiamento di un fascio laser ad una fibra ottica
CA1208466A (en) * 1982-07-28 1986-07-29 Donald R. Scifres Beam collimation and focusing of multi-emitter or broad emitter lasers
JPS5985657A (ja) * 1982-11-06 1984-05-17 日本赤外線工業株式会社 レ−ザ照射装置
JPS5969979A (ja) * 1982-10-15 1984-04-20 Hitachi Ltd レ−ザ光源装置
US4609258A (en) * 1982-10-29 1986-09-02 Joseph W. Price Diode laser collimator
US4428647A (en) 1982-11-04 1984-01-31 Xerox Corporation Multi-beam optical system using lens array
US4520471A (en) * 1983-02-07 1985-05-28 Rca Corporation Multi-channel recording/playback optics for laser diode arrays
NL8402931A (nl) * 1983-08-12 1985-04-16 Mitsubishi Electric Corp Optisch koppelorgaan.
US4672969A (en) * 1983-10-06 1987-06-16 Sonomo Corporation Laser healing method
JPS60108802A (ja) * 1983-11-18 1985-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光ビ−ム合成方法及び装置
US4575194A (en) * 1984-03-26 1986-03-11 Xerox Corporation Semiconductor laser beam collimator
EP0165060B1 (en) * 1984-06-13 1991-09-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Semiconductor laser beam scanning device
US4643538A (en) * 1984-07-06 1987-02-17 Storage Technology Partners Ii Combined beam cross-section correcting, collimating and de-astigmatizing optical system
US4681396A (en) * 1984-10-09 1987-07-21 General Electric Company High power laser energy delivery system
US4732448A (en) * 1984-12-07 1988-03-22 Advanced Interventional Systems, Inc. Delivery system for high-energy pulsed ultraviolet laser light
US4641912A (en) * 1984-12-07 1987-02-10 Tsvi Goldenberg Excimer laser delivery system, angioscope and angioplasty system incorporating the delivery system and angioscope
JPS61137548A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 松下電器産業株式会社 半導体レ−ザ医療装置
US4673290A (en) * 1985-01-18 1987-06-16 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Diagnostic apparatus and method for use in the alignment of one or more laser means onto a fiber optics interface
JPS61188509A (ja) * 1985-02-16 1986-08-22 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 光結合装置
US4725131A (en) * 1985-03-11 1988-02-16 Trw Inc. Laser combiner
FR2580136B1 (ja) * 1985-04-05 1988-10-14 Radiotechnique Compelec
JPS61234877A (ja) * 1985-04-11 1986-10-20 松下電器産業株式会社 半導体レ−ザ医療装置
DE3686621T2 (de) * 1985-07-31 1993-02-25 Bard Inc C R Infrarot laser-kathetergeraet.
US4759616A (en) * 1985-08-26 1988-07-26 Eastman Kodak Company Method and apparatus for anamorphically shaping and deflecting electromagnetic beams
GB2182168B (en) * 1985-10-25 1989-10-25 Hitachi Ltd Phased-array semiconductor laser apparatus
US4826259A (en) 1985-11-06 1989-05-02 Thrall Car Manufacturing Company Railroad car with brake system which applies less braking when empty than when loaded
US4688884A (en) * 1985-11-12 1987-08-25 Spectra Diode Laboratories, Inc. Fiberoptic coupling system for phased-array semiconductor lasers
EP0272325A1 (en) 1986-06-30 1988-06-29 MEDICAL LASER RESEARCH Co., LTD. Semiconductor laser therapeutic apparatus
US4761059A (en) * 1986-07-28 1988-08-02 Rockwell International Corporation External beam combining of multiple lasers
AU588458B2 (en) * 1986-10-06 1989-09-14 Gv Medical Inc. Adjustable control apparatus for optical fibres
US4768184A (en) * 1987-01-23 1988-08-30 General Electric Company Apparatus and method for minimizing magnification distortion in multi-track optical recording
JPH0629915B2 (ja) * 1987-01-29 1994-04-20 インタ−ナショナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−ション 光通信用信号源パッケ−ジ
US4763975A (en) * 1987-04-28 1988-08-16 Spectra Diode Laboratories, Inc. Optical system with bright light output
JPS63272092A (ja) * 1987-04-30 1988-11-09 Yoshiaki Arata 超強力複合レ−ザ・ビ−ム造出法
US4794615A (en) * 1987-06-12 1988-12-27 Spectra Diode Laboratories, Inc. End and side pumped laser
US4770653A (en) * 1987-06-25 1988-09-13 Medilase, Inc. Laser angioplasty
JPH0671113B2 (ja) * 1987-06-30 1994-09-07 ホ−ヤ株式会社 固体レ−ザ装置
US4791631A (en) * 1987-08-31 1988-12-13 International Business Machines Corporation Wide tolerance, modulated blue laser source
DE3787282T2 (de) * 1987-10-05 1994-03-31 Philips Nv Optischer Aufbau mit einer phasenstarr gekoppelten Laserdiodenzeile.
DE3787285T2 (de) * 1987-10-19 1994-03-31 Philips Nv Optischer Aufbau mit einer phasenstarr gekoppelten Laserdiodenzeile.
US4813762A (en) * 1988-02-11 1989-03-21 Massachusetts Institute Of Technology Coherent beam combining of lasers using microlenses and diffractive coupling
GB2220501A (en) * 1988-07-06 1990-01-10 Plessey Co Plc Coupling waveguides using transverse cylindrical lenses
US4901330A (en) * 1988-07-20 1990-02-13 Amoco Corporation Optically pumped laser
US4986634A (en) 1988-08-26 1991-01-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Beam-combining laser beam source device
US5147349A (en) * 1988-10-07 1992-09-15 Spectra-Physics, Inc. Diode laser device for photocoagulation of the retina
US5048911A (en) * 1988-11-15 1991-09-17 Universiti Malaya Coupling of multiple laser beams to a single optical fiber
FR2647973B1 (fr) * 1989-05-30 1991-08-16 Thomson Csf Lasers de puissance pompes par diodes lasers
US5081637A (en) * 1989-11-28 1992-01-14 Massachusetts Institute Of Technology Multiple-laser pump optical system
WO1992002844A1 (en) * 1990-08-01 1992-02-20 Diomed Limited High power light source

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015072956A (ja) * 2013-10-02 2015-04-16 株式会社島津製作所 発光装置
WO2016203998A1 (ja) * 2015-06-19 2016-12-22 株式会社アマダミヤチ レーザユニット及びレーザ装置
JPWO2016203998A1 (ja) * 2015-06-19 2017-06-29 株式会社アマダミヤチ レーザユニット及びレーザ装置
US10170892B2 (en) 2015-06-19 2019-01-01 Amada Miyachi Co., Ltd. Laser unit and laser device

Also Published As

Publication number Publication date
DE69132049D1 (de) 2000-04-20
ATE190733T1 (de) 2000-04-15
EP0541658B2 (en) 2004-01-21
CA2088497C (en) 2001-10-16
GR3033564T3 (en) 2000-09-29
US5463534A (en) 1995-10-31
AU8311791A (en) 1992-03-02
GB2261528A (en) 1993-05-19
DK0541658T3 (da) 2000-06-05
US5319528A (en) 1994-06-07
GB9300237D0 (en) 1993-03-10
BR9106718A (pt) 1993-06-29
AU649707B2 (en) 1994-06-02
ES2142803T3 (es) 2000-05-01
GB2261528B (en) 1994-04-06
DE69132049T2 (de) 2000-09-21
CA2088497A1 (en) 1992-02-02
JP3078836B2 (ja) 2000-08-21
EP0541658B1 (en) 2000-03-15
EP0541658A1 (en) 1993-05-19
DE69132049T3 (de) 2004-09-02
WO1992002844A1 (en) 1992-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05509179A (ja) 高エネルギ光源
JP3378904B2 (ja) ソリッドステートレーザダイオード光源
US6700709B1 (en) Configuration of and method for optical beam shaping of diode laser bars
US6778732B1 (en) Generation of high-power, high brightness optical beams by optical cutting and beam-shaping of diode lasers
US6377410B1 (en) Optical coupling system for a high-power diode-pumped solid state laser
US5715270A (en) High efficiency, high power direct diode laser systems and methods therefor
US6552853B2 (en) Radiation beam combiner
US6324320B1 (en) Optical apparatus for producing a high-brightness multi-laser radiation source
US5557475A (en) Optical system for improving the symmetry of the beam emitted from a broad area laser diode
US9147990B2 (en) Two-dimensional laser system employing two dispersive elements
US5212710A (en) Laser light beam synthesizing apparatus
US6765725B1 (en) Fiber pigtailed high power laser diode module with high brightness
US7724437B2 (en) Brightness preserving laser beam shaper
US20110103409A1 (en) System and Method for Generating Intense Laser Light from Laser Diode Arrays
JP2001502818A (ja) レーザダイオードの放射を対称的とするための光学的配置
US20070019912A1 (en) Illuminateur laser
JP2005537643A (ja) 半導体レーザ装置
JP6476190B2 (ja) レーザビームを成形するための装置
JP4580236B2 (ja) 半導体レーザ装置
CN214899327U (zh) 一种多管半导体激光器
JP2001111147A (ja) 集光装置
JPH10261825A (ja) 半導体レーザ光整形光学系及び半導体レーザ励起固体レーザ装置
US5119394A (en) Technique for longitudinal optical pumping of a laser
JPH06268299A (ja) レーザ用励起光源
JPH0593880A (ja) 複数光源装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080616

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees