JPS5969979A - レ−ザ光源装置 - Google Patents

レ−ザ光源装置

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JPS5969979A
JPS5969979A JP57179821A JP17982182A JPS5969979A JP S5969979 A JPS5969979 A JP S5969979A JP 57179821 A JP57179821 A JP 57179821A JP 17982182 A JP17982182 A JP 17982182A JP S5969979 A JPS5969979 A JP S5969979A
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克郎 水越
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザ光の出力を任意の出力に増大できるよ
うにしたレーザ光源装置に関する。
今日のレーザ加工の普及に従って、レーザ光の大出力化
の要を肯がますます高まりつつある。
先ず、詳細な説明をするに当って、レーザ光源装置の概
略を説、明する。第１図に最も一般的なレーザ光源装置
を示す。図において、レーザ発振器１から出たレーザ光
２はθの広がり角をもっており、加工用対物レンズ３の
焦点面においてスポット径ｄに絞られる。このようにし
てスポット径ｄに絞られたレーザ光によってレーザ加工
が行なわれる。
この時のスポット径ｄは、次式で表わされる。
ｄ＝ｆ・θ　　　・・・・・（１） ここでｆは、レンズ６の焦点距離である。
従来のレーザ発振器を用いてレーザ加工ヲ行なうに当っ
て、大出力のレーザ光を必要とする場合は、Ｃ０２レー
ザのよう々出力の大きなレーザ光を開発するか、或は、
ＹＡＧレーザのように結晶体から発生するレーザ光を光
増幅器を介して出力の」盲犬を計るかのいづれかであっ
た。
この光増幅器を使ったレーザ光の出力の増加は、第２図
に示すように、光増幅部１と共振器ミラー２を有するレ
ーザ発振器６の後に、レーザ発振器の光増幅部４のみを
有する増幅器５を１個乃至複数個並べて設け、大出力の
レーザ光を得るようにしていた。
併しなからレーザ発振器自体の出力が決っているので、
いくら光増幅器を使って増幅してもその出力には上限が
あり、特にＹＡＧレーザの場合は、通過するレーザ光の
パワー密度が、ＹＡＧ結晶の耐パワー限界を越えること
ができないため、連続出力がせいぜい１〜２ＫＷが成就
であった。
その結果、今日のような大出力を必要とするレーザ加工
は困難であり、更にます１す大出力のレーザ光を必要と
している時代の趨勢にそぐわ々いのが実情である。
本発明は上記実情を鑑みなされたものであって、要求に
応じた出力のレーザ光を自由に得られるレーザ光源装置
を従供せんとするものである。
即ち本発明は、従来のような光増幅器を用いないで、複
数のレーザ発振器から出るレーザ光を光変換器によって
環状のレーザ光に変換し、この変換さ・れたレーザ光を
円環状反射ミラーによって反射させ、レーザ光の光軸を
一致させて重ね合せる□ようにしたものであって、複数
個のレーザ発振器と、光変換器と、円環状反射ミラーと
を備え、１個のレーザ発振器から出るレーザ光を円環状
反射ミラーの中心を透過ぢぜ、他の複数のレーザ発振器
から出るレーザ光を光変換器を介して円環状反射ミラー
に反射させ、上記円環状反射ミラーの中心を透過してき
たレーザ光と円環状反射ミラーを反射してきた、円環状
の複数のレーザ光との光軸を一致させて重ね合せ、複数
のレーザ発振器の出力を調整することによって、重ね合
せられたレーザ光の総合出力を任意に調節するようにし
たものである。
父、円環状反射ミラーの反射面を曲面にすることによっ
て反射したレーザ光の集光点を一致させ、任意のスポッ
ト径を有する任意出力のレーザ光を得るようにすること
も可能である。
以下本発明の一実施例についてその詳細を説明する。先
ず詳細な説明に当って実施例の概略を第６図を用いて説
明する。図において１，２６．４はレーザ発振器である
。５，６．７は光変換器、８，９．１０は円環状ミラー
である。
レーザ発振器１から出たレーザ光ろ０は、円環状ミラー
８，９．１０の中心を透過する。一方他のレーザ発振器
２，３．４から出たレーザ光は、光変換器５，６．７に
よって円環状のｌ／　−ザ光に変換され、円環状反射ミ
ラー８　、９．１０の反射面に入射され、円環状ミラー
８，９．１０の中心を透過しているレーザ光と、円環状
反射ミラー８，９．１０によって反射された円環状１／
−ザ光の光軸を一致させ、それぞれのレーザ光は重ね合
せられ出力が増加する。又、第８図に示すように円環状
反射ミラー３０．４０．５０．６＋〕の反射面を曲面に
し、レーザ光の集光点を一致させ重ね合せる。
このようにして重ね合せられたレーザ光は、レーザ発振
器１〜４の出力を調節器１１によって調節することによ
り、その総合出力が調整される。
以下その・詳ａｆ３：さらに詳しく説明する。２個のレ
ーザ発振器を用いた最も基本的な実施例を第３図に示す
。図において、１及び４はレーザ発振器、５は円環状ミ
ラー、６は光変換器である。この発振器１及び４１円環
状ミラー３及び光変換器６は、それぞれ、レーザ発振器
１がらのレーザ光２が、円環状ミラーろの中心を透過し
、レーザ発振器４からのレーザ光５が光変換器乙によっ
て円環状レーザ光７に変換をれ、このレーザ光７が上記
円環状ミラー６によって反射され、レーザ光２と７が同
軸光８の単一ビームとして重ね合せられるように配設さ
れている。
このようにして同軸光８として重ね合せられだ単一ビー
ムは、レーザ発振器１と４の出力が同じである場合、レ
ーザ発振器の約２倍の出力となる。
第４図及び第５図に光変換器の各種実施例を示す。先ず
第４図（ａ）は、頂角の等しい２個の円錐プリズム１を
、それぞれ頂角を対向させて置き、この２個の円錐プリ
ズム１の距離を適当に選ぶことにより、入射してきたレ
ーザ光を、任意の直径の円環光に変換することができる
。この時の円環光の外径は、Ｄｏ＋ｐとなる。
（ｂ）は、（ａ）の変形であり、頂角の等しい２個の円
錐プリズム１の底面を対向させて置き、境界面に対する
レーザ光の入射角を小さくできるようにしたものである
。この時の円環光の直径は（ａ）の場合と同様に両者間
の距離を任意に選ぶことにより、任意直径の円環光に変
換することができる０（Ｃ）は、頂角の等しい円錐部を
両側に持つ一体プリズムであり、この場合は、円環光の
直径に応じて形造くられるので、（ａ）　、　（ｂ）の
ように調整することができない代りに、一定寸法の正確
な直径になる円環光が得られる。又（ｄ）は、頂角の等
しい円錐面プリズムと円錐部プリズムとを背中合せに付
けて、途中の円筒面で全反射させるようにしたものであ
り、上記（ａ）〜（ｃ）のように、光束の中心部と外周
部が入れ替るのに対し、これは入れ替らないのが特徴で
ある。又第５図に示す実施例において（ａＪは、光束の
中心部と外周部が入れ替らない場合を又（ｂ）は入れ替
る場合の実施例である。
第６図は本発明の他の実施例であり、第２図の実施例に
対してレーザ発振器を多数設け、それぞれのレーザ発振
器から出るレーザ光を重ね合せたものである。
この実施例の場合も、第２図に示したど同様レーザ発振
器１，２．３．４と光変換５５，６７及び円環状ミラー
８，９．１０の配置関係は、光変換器５，６．７によっ
て内径／外径がそれぞれＤ＋／　Ｄ２　、　Ｄ２　／Ｄ
　３　、　Ｄ３／］）ｑの円環光に変換されたレーザ発
振器２，６．４からのレーザ光が円環状ミラー８，９．
１０（４５°人全反射ミラー）によって、円環状ミラー
８，９．１０の中心を透過してきたレーザ発振器１から
のレーザ光６ｏの光軸と一致するように反射され、同軸
光１２の単一ビームとなるように配設されている。なお
１１は、１／−ザ発振器２，３．４の出力を調整するた
めの出力調整器である。
第８図は、円環状ミラー４０．５０．６０の反射面を曲
面にし、それぞれのレーザ光の集光点を一致させ、ビー
ム径を小さくするようにしたものである。図において、
レーザ発振器１がらのレーザ光２０を曲面ミラー６ｏに
入射し、その反射光は、円環状ミラー４０．５０．６０
の中心を透過し、ある位置で集光する。一方レーザ発振
器２，６４から出たレーザ光は、光変換器５，６．７に
よって円環光に変換されて円環状ミラー４０．５０６０
の反射面に入射し、この入射した円環光は、前記レーザ
光２０と同光軸に且つ同じ集光位置に反射され、同光軸
の単一ビームとなる。
以上のように構成した本実施例の作用を以下に説明する
。
第７図において、出力調整器（第６図参照）１１によっ
て各レーザ発振器の出力を調整する。
第７図に示すものは、第６図の実施例を適用したもので
あり、同軸光のビーム径がｌ）４の場合のレーザ出力２
０の出力分布を示す。
図中２１は、レーザ発振器１．．２．’３．４の出力を
そのままにした場合の出力分布であり、中央部の出力・
が最大となっている。又出力分布２２は、レーザ発振器
１，２．３の出力を適当に絞ることによって得られ、フ
ラットな出力分布になっていることが特徴である○ このように、出力調」に器１１によって、複数個設けた
レーザ発振器の出力を適当に調整することにより、中心
部の出力分布を低くした出力分布２己、又中央部の出力
のみを大きくした中高の出力分布２４、及び多重環状の
出力分布２５など任意に出力分布を変え、使用目的に応
じて調整される。
父上記２１〜２５の出力分布は、値数のレーザ発振器の
レーザ光が同軸光の単一ビームとＬテｍね合され、その
出力は、各レーザ発振器の出力が加算された総合出力と
なる。
以上詳述した通り本発明のレーザ光源装置１によれば、
複数のレーザ発振器から出るレーザ光を、光変換器と円
環状ミラーを利用して、同軸光に重ね合せて単一ビーム
にしたので、レーザ発振器の出力に制限されることなく
、複数のレーザ発振器出力が加算された大きな出力のレ
ーザビームとすることができ、工業用の適用分野が著し
るしく拡大された。又出力分布を使用目的に応じて変え
ることが可能となり、レーザ加工の新技術の開発にを与
するところ大なるものがあるー 又円環状ミラーの反射面全曲面にして、各レーザ光を集
光させ、ビ　ム径を小さくすることによって、レーザ発
振器の数を増大させることができ、より一増の出力増大
化が可能となり、まず１す大出力化が要求される時代の
趨勢に適合したレーザ光源装置とすることができるなど
後れた効果を誉する。
【図面の簡単な説明】
第１図は、レーザ光源装置−の一般的なものを例示し、
レーザ光源装置（の概略を説明するために示した説明用
図、第２図は従来例であり、光増幅器を用いて大出力化
を計っだレーザ光源装置、第６図乃至第８図は本発明の
実施例であり第６図はレーザ発振器を２個使用した場合
のレーザ光源装備を、第４図及び第５図は、光変換器の
実施例を、第６図は多数のレーザ発振器を用いたレーザ
光源装置を、第７図は出力分布図を、又第８図は円環状
ミラーの反射面を曲面に［７たレーザ光源装置を示す。 １．２，３．４・・・レーザ発振器 ５．６．７・・・光変換器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）複数のレーザ発振器と、レーザ発振器から出るレ
    ーザ光を円環状に変える光変換器と、光変換器によって
    円環状に変換されたレーザ光の光軸を一致させて重ね合
    せる円環状反射ミラーとより成り、１個のレーザ発振器
    から出るレーザ光を円環状反射ミラーの中心を透過させ
    、他の１個または複数のレーザ発振器から出るレーザ光
    を光変換器を介ｌ−で円環状反射ミラーに反射させ、前
    記円環状反射ミラーの中心を透過しているレーザ光と、
    円環状反射ミラーに反射した複数の円環状レーザ光の光
    軸を一致させ、レーザ光を重ね合せたことを特徴とする
    レーザ光源装置。 （２、特許請求の範囲第１項に記載の円環状反射ミラー
    において、該反射ミラーの反射面を曲面となし、該反射
    面によって反射されたレーザ光の集光点を一致させ、レ
    ーザ光を重ね合せたことを特徴とする特許請求の範囲琳
    １項におけるレーザ光源装置。
JP57179821A 1982-10-15 1982-10-15 レ−ザ光源装置 Granted JPS5969979A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63272092A (ja) * 1987-04-30 1988-11-09 Yoshiaki Arata 超強力複合レ−ザ・ビ−ム造出法
JPH05305463A (ja) * 1992-04-27 1993-11-19 Toshiba Corp 遠隔保全装置
JPH0875947A (ja) * 1994-07-06 1996-03-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 光ファイバの結合方法及びその結合系
JP2019509177A (ja) * 2016-02-24 2019-04-04 イェーノプティク アウトマティジールングステヒニーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 環形状の溶接シームのレーザー透過溶接のための装置

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1165499B (it) * 1983-12-20 1987-04-22 Alfa Romeo Auto Spa Sisteam per la composizione flessibile di fasci laser
US5196004A (en) * 1985-07-31 1993-03-23 C. R. Bard, Inc. Infrared laser catheter system
DE3686621T2 (de) * 1985-07-31 1993-02-25 Bard Inc C R Infrarot laser-kathetergeraet.
US4917084A (en) * 1985-07-31 1990-04-17 C. R. Bard, Inc. Infrared laser catheter system
CA1284823C (en) * 1985-10-22 1991-06-11 Kenneth K. York Systems and methods for creating rounded work surfaces by photoablation
US4678422A (en) * 1985-11-12 1987-07-07 York Kenneth K Systems and methods for precise, accurate formation of products by photoablation
GB8811532D0 (en) * 1988-05-16 1988-06-22 Lumonics Ltd Beam combining unit
US5173799A (en) * 1988-10-12 1992-12-22 Fuji Electric Co., Ltd. Wavelength conversion device
US5048911A (en) * 1988-11-15 1991-09-17 Universiti Malaya Coupling of multiple laser beams to a single optical fiber
US5073702A (en) * 1990-03-26 1991-12-17 Ncr Corporation Multiple beam bar code scanner
DE69132049T3 (de) * 1990-08-01 2004-09-02 Diomed Ltd. Hochleistungs-lichtquelle
US7656504B1 (en) 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5719704A (en) 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6710855B2 (en) 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5475197A (en) * 1992-06-17 1995-12-12 Carl-Zeiss-Stiftung Process and apparatus for the ablation of a surface
DE4230496A1 (de) * 1992-09-11 1994-03-17 Bergmann Hans Wilhelm Verfahren zum Feinabtrag mit gepulster Laserstrahlung
DE4412443A1 (de) * 1994-04-12 1995-10-19 Atz Evus Verfahren und Vorrichtung zur Materialbearbeitung mit einem Kupferdampflasersystem mit hohen Wiederholfrequenzen und hohem Wirkungsgrad
JP3531014B2 (ja) * 1994-06-22 2004-05-24 株式会社トプコン レーザ照準装置
US20050155956A1 (en) * 2002-08-30 2005-07-21 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Laser processing method and processing device
GB0312443D0 (en) * 2003-05-30 2003-07-09 Newoptics Ltd Optical multiplexer
US7023620B1 (en) * 2003-07-03 2006-04-04 Research Electro-Optics, Inc. Beam array pitch controller
FR2873606B1 (fr) * 2004-07-27 2008-10-10 Snecma Moteurs Sa Procede de soudage par laser d'au moins deux pieces metalliques et dispositifs associes pour la mise en oeuvre du procede
US20070238046A1 (en) * 2006-04-07 2007-10-11 The Domino Corporation Laser marking
US20080259284A1 (en) * 2007-04-19 2008-10-23 Sanyo Electric Co., Ltd. Illumination device and projection video display device
US8345724B2 (en) 2008-10-27 2013-01-01 Trumpf Photonics Inc. Laser beam interleaving
US8592768B1 (en) * 2009-04-06 2013-11-26 University Of South Florida Angularly partitioned evanescent wave absorption sensor
JP5658012B2 (ja) * 2010-11-25 2015-01-21 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
CN103399407B (zh) * 2013-08-13 2015-04-22 哈尔滨工业大学 一种用于实现圆形光束整形为点环形光束的方法
DE102015119737A1 (de) * 2015-11-16 2017-05-18 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Strahlformungseinrichtung
TWI599427B (zh) 2015-11-27 2017-09-21 財團法人工業技術研究院 加熱產生均勻熔池之裝置
JP2022077223A (ja) * 2020-11-11 2022-05-23 株式会社ディスコ レーザー加工装置
DE102021200021A1 (de) * 2021-01-05 2022-07-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Anordnung zur Ausrichtung, Rotation und/oder Formung eines Laserstrahls
DE102021121948B4 (de) 2021-08-24 2023-10-05 Holochrom Gmbh Systeme und Verfahren zur Erzeugung von hohlzylinderförmigen Lichteffekten mittels Laserlicht

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3453425A (en) * 1965-10-21 1969-07-01 Sidney L Whitaker Structure for concentrating radiant energy
US3588440A (en) * 1969-06-26 1971-06-28 Hughes Aircraft Co Laser combination energy system
US3892488A (en) * 1974-02-22 1975-07-01 Us Air Force Laser site marking system
US4174150A (en) * 1976-02-23 1979-11-13 Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. System for combining laser beams of diverse frequencies
GB1553582A (en) * 1977-04-14 1979-09-26 Boc Ltd Laser beam splitting apparatus
FR2402187A1 (fr) * 1977-09-02 1979-03-30 Ind Automation Gmbh Et Co Dispositif pour la mise en parallele de plusieurs axes optiques
US4289378A (en) * 1978-06-21 1981-09-15 Ernst Remy Apparatus for adjusting the focal point of an operating laser beam focused by an objective
DE2937352C2 (de) * 1979-09-13 1982-03-11 Müller, Gerhard, Prof. Dr.-Ing., 7080 Aalen Multipass-Anordnung
US4344671A (en) * 1979-12-17 1982-08-17 Raymus K. Payton Multiple pulse laser assemblies
IE53138B1 (en) * 1981-03-06 1988-07-20 Perkin Elmer Corp Optical beam splitter

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63272092A (ja) * 1987-04-30 1988-11-09 Yoshiaki Arata 超強力複合レ−ザ・ビ−ム造出法
JPH05305463A (ja) * 1992-04-27 1993-11-19 Toshiba Corp 遠隔保全装置
JPH0875947A (ja) * 1994-07-06 1996-03-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 光ファイバの結合方法及びその結合系
JP2019509177A (ja) * 2016-02-24 2019-04-04 イェーノプティク アウトマティジールングステヒニーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 環形状の溶接シームのレーザー透過溶接のための装置

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Publication number Publication date
JPH0412039B2 (ja) 1992-03-03
US4566765A (en) 1986-01-28
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DE3379553D1 (en) 1989-05-11
EP0106336A2 (en) 1984-04-25
EP0106336A3 (en) 1986-03-26

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