JP2002248592A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JP2002248592A JP2001046962A JP2001046962A JP2002248592A JP 2002248592 A JP2002248592 A JP 2002248592A JP 2001046962 A JP2001046962 A JP 2001046962A JP 2001046962 A JP2001046962 A JP 2001046962A JP 2002248592 A JP2002248592 A JP 2002248592A
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Makoto Tani
誠 谷
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0652Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B23K26/0648Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】加工対象物からの反射光を利用することによ
り、エネルギ利用効率を高めたレーザ加工装置を提供す
る。 【解決手段】 レーザビーム源10が、環状のビーム断
面を有するレーザビームを生成する。レーザビームの伝
搬する経路内に第1の光学部材16Aが配置されてい
る。第1の光学部材16Aに、レーザビームの環状のビ
ーム断面の中空部に内包される内周面で画定された穴が
設けられている。第2の光学部材17が、第1の光学部
材16Aに設けられている穴に挿入されている。第2の
光学部材17は、レーザビームの伝搬方向とは反対向き
に伝搬する光を反射させる反射面を有する。第3の光学
部材16Bが、第1の光学部材16Aに重なるように配
置されている。第3の光学部材16Bは、レーザビーム
の伝搬方向に関して第2の光学部材17の位置を拘束す
る。第1の光学部材16A及び第3の光学部材16Bの
うち少なくとも一方が集光レンズである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工装置に
関し、特にエネルギ利用効率を高めたレーザ加工装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ発振器で発生させたレーザ光を加
工対象物に照射して、穴あけ、切断、溶接等を行なうレ
ーザ加工装置にレーザ出射光学部が使用される。通常、
レーザ出射光学部は、レーザ発振器に接続された光ファ
イバの先端に取り付けられる。レーザ出射光学部は、光
ファイバの先端から所定の広がり角を持って出射するレ
ーザ光を平行光に変換するコリメートレンズと、コリメ
ートレンズからの平行光を集光する集光レンズとを有し
ている。集光レンズで集光されたレーザ光が、加工対象
物の表面の被加工点に入射する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】加工対象物が金属等の
場合、その表面に照射されたレーザ光の大部分が、加工
対象物の表面で反射する。加工対象物の表面で反射した
レーザ光は、無駄に捨てられることになる。具体的に
は、加工対象物に入射したレーザ光の全エネルギのう
ち、実際に加工に寄与するのは、その加工対象物の材質
にもよるが、高々10%程度である。即ち、加工対象物
に入射したレーザ光の全エネルギの約90%以上は無駄
になっている。特に、加工対象物がステンレスの場合、
加工に寄与するエネルギは、全エネルギの6〜9%、ア
ルミニウムの場合は、さらにその半分程度であり、エネ
ルギの利用効率が著しく悪い。
【0004】本発明の目的は、加工対象物からの反射光
を利用することにより、エネルギ利用効率を高めたレー
ザ加工装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、中心に中空部が配された環状のビーム断面を有する
加工用レーザビームを生成するレーザビーム源と、前記
加工用レーザビームの伝搬する経路内に配置され、前記
レーザビーム源で生成された加工用レーザビームを透過
させる光学材料で形成され、前記加工用レーザビームの
環状のビーム断面の中空部に内包される内周面で画定さ
れた穴が設けられている第1の光学部材と、前記第1の光
学部材に設けられている穴に挿入され、前記加工用レー
ザビームの伝搬方向とは反対向きに伝搬する光を反射さ
せる反射面を有する第2の光学部材と、前記第1の光学
部材に重なるように配置され、前記加工用レーザビーム
を透過させる光学材料で形成され、前記加工用レーザビ
ームの伝搬方向に関して前記第2の光学部材の位置を拘
束する第3の光学部材とを有し、前記第1の光学部材及
び第3の光学部材のうち少なくとも一方が、前記加工用
レーザビームを収束させる集光レンズであるレーザ加工
装置が提供される。
【0006】加工対象物の表面で反射した加工用レーザ
ビームが、第2の光学部材の反射面で反射し、加工対象
物の表面に再入射する。このため、レーザビームのエネ
ルギ利用効率を高めることができる。また、第2の光学
部材は、加工用レーザビームの環状断面の中空部に配置
されているため、加工用レーザビームの伝搬に支障はな
い。第2の光学部材が、接着剤等を用いることなく、他
の光学部材により位置決めされる。このため、接着剤か
ら発生するガス等により光学部材が損傷を受けることを
防止することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1に、本発明の実施例によるレ
ーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源10から出射
した加工用レーザビームが、光ファイバ11内を伝搬
し、その出射端面から出射する。光ファイバ11の先端
から出射した加工用レーザビームがコリメートレンズ1
2に入射し、コリメートされる。
【0008】コリメートされた加工用レーザビームが、
第1の円錐プリズム13に入射し、さらに第2の円錐プ
リズム14に入射する。第1の円錐プリズム13及び第
2の円錐プリズム14は、それらの円錐面の回転軸が加
工用レーザビームの中心軸と一致するように配置されて
いる。一対の円錐プリズム13及び14は、加工用レー
ザビームのビーム断面を円環状に変換する。
【0009】円環状のビーム断面を有する加工用レーザ
ビームが、折返しミラー21及び22で反射し、集光部
20に入射する。集光部20は、凸レンズ16A及び1
6B、凹面鏡15及び17を含んで構成される。集光部
20の詳細な構成については、図2を参照して後述す
る。集光部20は、加工用レーザビームを収束させる。
【0010】ステージ31が、加工対象物32のその保
持面上に保持する。集光部20の焦点が、加工対象物3
2の表面上に位置するように、ステージ31と集光部2
0との相対位置が調節されている。
【0011】図2(A)に、集光部20の断面図を示
す。円筒状の鏡筒30の先端(図1に示した加工対象物
32側の端部)に平板状の保護ガラス板18が配置され
ている。保護ガラス板18は、鏡筒30の内周面の先端
に設けられた段差により保持されている。保護ガラス板
18は、加工用レーザビームを透過させる光学材料で形
成されている。
【0012】保護ガラス板18の上に、スペーサ31を
介して円環状の凸レンズ16Aが配置されている。凸レ
ンズ16Aの透過領域は、加工用レーザビームの円環状
のビーム断面に対応する。これにより、加工用レーザビ
ームは、凸レンズ16Aの円環状の透過領域を透過す
る。
【0013】凸レンズ16Aの中心に形成されている貫
通孔16C内に、円柱状の凹面鏡17が挿入されてい
る。凹面鏡17は、貫通孔16Cの内周面に接すること
により、その中心軸に直交する方向の位置が拘束され
る。凹面鏡17は、その下面(図1に示した加工対象物
32側を向く面)に、部分球面状の反射面17Aを有す
る。
【0014】凸レンズ16Aの上に、スペーサ32を介
して他の凸レンズ16Bが配置されている。押えリング
33が凸レンズ16Bの縁を鏡筒30の先端側に押えつ
けることにより、保護ガラス板18、凸レンズ16A、
及び16Bの位置が固定される。保護ガラス板18と凸
レンズ16Bとが凹面鏡17を挟むことにより、凹面鏡
17の中心軸方向の位置が拘束される。
【0015】鏡筒30の外周面上に、凹面鏡15が取付
けられている。凹面鏡15は、その下面(図1に示した
加工対象物32側を向く面)に、部分球面状の反射面1
5Aを有する。反射面15A及び17Aの曲率中心は、
凸レンズ16Aと16Bとの合成焦点の位置に一致す
る。
【0016】凹面鏡15は、銅または真鍮などの金属部
材の凹面に金メッキ等を施すことにより作製される。或
いは、銅や真鍮の金属部材あるいはセラミックスの凹面
に鏡面加工を施して作製される。 凹面鏡17は、円柱
状のガラス材の一方の端面を凹面にし、その凹面に全反
射ミラーコーティングを施すことにより作製される。
【0017】図1に戻って説明を続ける。照明用光源3
5が、加工対象物32の表面を照明する。図1では、外
部照明方法が採用されている場合を示しているが、同軸
照明方法を採用してもよい。加工対象物32の表面で散
乱した照明光が、集光部20に入射する。折返しミラー
22は、加工用レーザビームを全反射させ、可視光を透
過させる。このため、集光部20でコリメートされた照
明光が、折返しミラー22を透過する。
【0018】折返しミラー22を透過した光は、結像レ
ンズ23に入射する。結像レンズ23は、加工対象物3
2の表面を、撮像装置24の撮像面上に結像させる。撮
像装置24は、例えばCCDカメラ等で構成される。撮
像装置24により、加工対象物32の表面の加工状態を
観測することができる。
【0019】加工対象物32が金属等の場合には、入射
する加工用レーザビームの多くが反射する。この反射
は、通常、乱反射(拡散反射)となる。これは、レーザ
加工の対象となる金属材の表面が、通常、鏡面加工され
ていないからである。但し、乱反射とはいえ、全ての方
向に均一に光が反射するわけではない。即ち、入射点に
おける反射が正反射(鏡面反射)であると仮定した場合
の、反射の法則に従う方向及びそれに近い方向に、それ
以外の方向へ反射する光よりも多くの光が反射する。
【0020】凹面鏡15及び17は、加工対象物32の
表面で生じた乱反射による戻り光のうち反射面に入射す
る光を反射させる。上述のように、凹面鏡15及び17
は、各々の曲率中心が集光部20の焦点に一致するよう
に設置されているので、凹面鏡15及び17で反射した
光は、加工対象物の被加工点に再入射する。
【0021】凹面鏡15または17で反射し、加工対象
物32の表面に再入射した光も、その多くが加工対象物
32の表面で反射する。そのうち、凹面鏡15及び17
に入射する反射光は、その反射面で反射し、再度、加工
対象物32の表面に入射する。光の一部は、加工対象物
32と凹面鏡15または17との間を往復する。
【0022】上述のように、加工対象物32に光線束が
繰り返し入射すると、従来、加工に寄与していなかった
光が加工に寄与することになり、従来よりも高いエネル
ギ利用効率を実現できる。例えば、加工対象物32に入
射するレーザ光のうち10%が加工に寄与し、残り90
%が反射し、加工対象物32で反射したレーザ光のうち
の1/3が、凹面鏡15及び17で反射して加工対象物
へ再入射すると仮定する。凹面鏡15及び17で2度反
射した光までが加工に寄与すると仮定すると、従来に比
べ1.4倍以上のエネルギ利用効率を実現できる。
【0023】例えば、レーザパワー2000Wでイニシ
ャルレーザ照射(集光部20からの照射)を行なうもの
とすると、そのうち加工に寄与するのは200Wであ
る。残りの1800Wは、加工対象物の表面で反射す
る。反射光のうちの1/3(即ち、600W)が凹面鏡
15及び17で反射し、加工対象物32に再入射する。
凹面鏡15及び17で反射した加工用レーザ光(第1次
反射光)の10%にあたる60Wが加工に寄与する。
【0024】凹面鏡15及び17で反射した加工用レー
ザ光(600W)のうちの90%(540W)が、再度
加工対象物の表面で反射する。その1/3(540/3
=180W)が、再び凹面鏡15及び17で反射し、加
工対象物32に再入射する。加工対象物32に入射する
180Wの第2次反射光のうち10%、即ち18Wが加
工に寄与する。このように、2000Wの加工用レーザ
光を照射すると200W+60W+18W=278W
が、加工に寄与することとなり、凹面鏡15及び17を
取り付けない場合に比べて約1.4倍のエネルギ利用効
率を実現できる。
【0025】従来、加工に寄与するパワーを278Wと
するためには、出力3kWクラスのレーザ発振器が必要
であった。本実例によるレーザ出射光学部を用いること
により、2kWクラスのレーザ発振器で上記パワーを実
現することができる。
【0026】凹面鏡15の反射面を半球に近付けるほど
(反射面を広くするほど)、加工対象物へ向けて反射す
るレーザ光の割合は多くなる。しかしながら、凹面鏡1
5の縁部に近い位置(加工対象物の近く)で反射した光
は、加工対象物32へ大きな入射角で入射する。大きな
入射角で入射する光は、加工品質に悪影響を与える。ま
た、反射面を大きくすると、加工装置全体が大きくなっ
てしまう。そこで、凹面鏡15は、その縁部で反射され
たレーザ光の加工対象物への入射角が約25°以下とな
るような形状及び大きさとすることが望ましい。
【0027】凸レンズ16Aの円環状の透過領域の内径
は15mm、外径は65mm、凸レンズ16Aと16B
との合成焦点距離は100mmである。結像レンズ23
の外径は50mm、有効口径は47mm、焦点距離は1
20mmである。集光部20と結像レンズ23とを含む
レンズ系の光学倍率は1.2倍になる。上記構成を採用
した場合、十分な解像度で加工対象物32の表面を観察
することができた。
【0028】上記実施例では、凹面鏡17が、接着剤を
用いることなく鏡筒30内に固定される。このため、接
着剤から発生するがガス等によるレンズの損傷を防止す
ることができる。
【0029】また、上記実施例では、集光部20が、円
環状の凸レンズ16Aと通常の凸レンズ16Bとを含ん
で構成される。凸レンズ16A及び16Bの焦点距離を
それぞれfA及びfB、2枚の凸レンズの間隔をDとする
と、集光部20の合成焦点距離fは、
【0030】
【数1】1/f=1/fA+1/fB−D/(fA・fB) から求めることができる。すなわち、凸レンズ16Bの
焦点距離を変えれば、集光部20の合成焦点距離が変わ
る。
【0031】円環状の凸レンズ16Aは、一般的に市販
されているものではない。このため、凸レンズ16Aに
求められる焦点距離が変わると、凸レンズ16Aを個別
に作製しなければならない。ところが、凸レンズ16B
については、市販されているものから所望の性能のもの
を容易に選択することができる。上記実施例の場合に
は、凸レンズ16Aの焦点距離を固定しておき、凸レン
ズ16Bの焦点距離のみを変えることにより、集光部2
0の焦点距離を調節することができる。
【0032】図2(B)に、図2(A)に示した集光部
の変形例を示す。図2(A)では、凸レンズ16Aに貫
通孔16Cが設けられていたが、図2(B)の集光部に
おいては、凸レンズ16Aに凹部16Cが設けられてい
る。円柱状の凹面鏡17は、この凹部16C内に挿入さ
れている。凹面鏡17は、凹部16Cの底面と凸レンズ
16Bとで挟まれて、その位置が固定される。このよう
な構成の場合には、図2(A)に示した保護ガラス板1
8を配置する必要がない。
【0033】上記実施例では、2枚の凸レンズで集光部
20を構成したが、2枚の凸レンズ16Aと16Bとの
うち一方を平板としてもよいし、凹レンズとしてもよ
い。
【0034】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
加工対象物に入射し、その表面で反射した加工用レーザ
ビームを、再度加工対象物に入射させることにより、エ
ネルギ利用効率を高めることができる。加工用レーザビ
ームのビーム断面を環状にすることにより、加工対象物
の表面で反射した戻り光を加工対象物に向けて反射させ
るための反射鏡を、環状のビーム断面の中央に画定され
た中空部に配置することができる。これにより、加工対
象物からの反射光を効率的に再利用することができる。
また、中空部に配置される反射鏡が、接着剤等を用いる
ことなく固定されるため、接着剤から発生するガス等に
よるレンズの損傷を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例によるレーザ加工装置の概略図
である。
【図2】本発明の実施例によるレーザ加工装置の集光部
の断面図である。
【符号の説明】
10 レーザ発振器 11 光ファイバ 12 コリメーションレンズ 13、14 円錐プリズム 15、17 凹面鏡 16A 円環状凸レンズ 16B 凸レンズ 18 保護ガラス板 20 集光部 23 結像レンズ 24 撮像装置 30 鏡筒 31 ステージ 32 加工対象物 35 照明装置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心に中空部が配された環状のビーム断
    面を有する加工用レーザビームを生成するレーザビーム
    源と、 前記加工用レーザビームの伝搬する経路内に配置され、
    前記レーザビーム源で生成された加工用レーザビームを
    透過させる光学材料で形成され、前記加工用レーザビー
    ムの環状のビーム断面の中空部に内包される内周面で画
    定された穴が設けられている第1の光学部材と、 前記第1の光学部材に設けられている穴に挿入され、前
    記加工用レーザビームの伝搬方向とは反対向きに伝搬す
    る光を反射させる反射面を有する第2の光学部材と、 前記第1の光学部材に重なるように配置され、前記加工
    用レーザビームを透過させる光学材料で形成され、前記
    加工用レーザビームの伝搬方向に関して前記第2の光学
    部材の位置を拘束する第3の光学部材とを有し、 前記第1の光学部材及び第3の光学部材のうち少なくと
    も一方が、前記加工用レーザビームを収束させる集光レ
    ンズであるレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の光学部材に設けられた穴が底
    面を有する凹部であり、前記第2の光学部材が該凹部の
    側面に接することにより、ビーム軸方向に直交する方向
    に関して、該第2の光学部材の位置が拘束され、該第2
    の光学部材が該凹部の底面と前記第3の光学部材との間
    に挟まれることにより、そのビーム軸方向の位置が拘束
    されている請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の光学部材に設けられた穴が貫
    通孔であり、前記第2の光学部材が該貫通孔の側面に接
    することにより、ビーム軸方向に直交する方向に関し
    て、該第2の光学部材の位置が拘束されており、 さらに、前記加工用レーザビームを透過させる光学材料
    で形成された第4の光学部材であって、該第4の光学部
    材と前記第3の光学部材とが前記第1の光学部材を挟む
    ように配置された前記第4の光学部材を有し、 前記第2の光学部材が、前記第3の光学部材と前記第4
    の光学部材とに挟まれて、そのビーム軸方向の位置が拘
    束されている請求項1に記載のレーザ加工装置。
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