JPH02226220A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えばレーザビームプリンタ、レーザビーム
複写機などの、像担持体を露光して画像を形成する画像
形成装置内に用いられる光走査装置に関し、特に、複数
の走査光束を用いて、多重、多色ないしカラー画像を形
成する画像形成装置内に用いられる光走査装置に関す゛
る。

［従来の技術１ 従来、像担持体ないし被照射体近（に副走査方向（光軸
と直交し走査光束の形成する走査線に垂直な方向）に屈
折力を有するアナモフィック集光走査レンズを備えて、
例えば、回転多面鏡である光偏向器の偏向反射面の倒れ
を補正している光走査装置において、被照射体上のレー
ザなどからのビームの副走査方向のスポット径ないしス
ポット幅を成る所定の大きさにする為に、上記アナモフ
ィックレンズから被照射体側に出射するビームの有効Ｆ
ナンバー（ＦＮＯ）ないし収束角を適当に設定する。従
って、上記アナモフィ）クレンズに入射するビームの副
走査方向のビーム幅も所定の大きさにする必要がある。

しかし、上記アナモフィックレンズは被照射体近（に配
設されている為、縮小系の光学配置（光偏向器の偏向反
射面が倒れても被照射体上の同一位置にビームを光走査
できるようにアナモクイックレンズの共役点は光偏向器
の偏向反射面近傍と被照射体上に設定されている）とな
り（倍率ｍ　；　Ｏ＜ｍ＜１）　、アナモフィックレン
ズに入射するビームの発散角すなわち光偏向器側のＦナ
ンバー（Ｆ　ｓｏ）はＦ、６７ｍとなって、非常に発散
角のゆるい光束でアナモフィックレンズに入射させな（
ではならない。つまり、光偏向器にレーザなどからのビ
ームを放射する光学系から、ＦナンバーがＦ　、４ｏ／
　ｍという収束角の非常にゆるい光束を光偏向器に入射
させることとなる。

以上に対し、従来一般に用いられるレーザ発振器と回転
多面鏡開の光学系、すなわちコリメータレンズと副走査
方向にのみ屈折力を有するシリンドリカルレンズから成
る光学系では、コリメータ絞り（レーザビームの絞り）
を副走査方向に非常に狭いものとするか、シリンドリカ
ルレンズを回転多面鏡から非常に遠く離してこのレンズ
の焦点距離を非常に長くしなければならない。

すなわち、・次の式のように関係づけられるｆ’　／ｄ
＝Ｆｓａ−（１＋ｍ）ｆＡ／Ｄ−１／ｍｄ＝ｍ／ｌ＋ｍ
−Ｄ−ｆ０／ｆＡ ここにおいて、 Ｆｌｌｏ：ンリンドリカルレンズから出射するレーザビ
ームの有効Ｆナンバー ｆｃニジリントリカルレンズの焦点距離、ｆＡ：アナモ
フィックレンズの焦点距離、ｄ　：レーザビームの絞り
幅 Ｄ　＝アナモフィックレンズの主平面でのレーザビーム
の幅、 （１＋ｍ）ｆＡ　：アナモフィックレンズの被照射体側
主平面から被照射体まで の距離、 であり、すべて副走査方向の光学パラメータである。

ここで、例えば（１＋ｍ）ｆＡ＝５０ｍｍ、ｍ＝’ｄ、
Ｄ＝１ｍｍ、ｆ’　＝１００ｍｍとするとｄ＝０．５ｍ
ｍとなり、副走査方向に０．５ｍｍ幅の絞りを設けなけ
ればならないことになる。これに対し、主走査方向の被
照射体上スポット幅（ビームウェストの幅）を７０μｍ
程度とし、走査光路長を３００ｍｍと設定すると、主走
査方向のビーム幅は約６ｍｍとなる。よって、レーザ光
束の絞りの主走査方向と副走査方向のサイズが６ｍｍＸ
０５ｍｍとなり、レーザ発振器から発散放射される光エ
ネルギーをコリメータレンズにより有効に用いることが
不可能となる。

こうして、レーザパワーの利用効率が非常に悪（なって
しまうという問題点が発生するこの利用効率の向上に鑑
み、副走査方向のレーザビーム幅を縮小して収束角のゆ
るい光束を回転多面鏡に入射させるために、コリメータ
レンズと２つのビーム整形プリズムとシリンドリカルレ
ンズとの構成を採用する例が知られている。

また、マルチビームレーザに対する光学系として、ビー
ム各々に個別レンズを配設し走査用レンズの焦点をデフ
ォーカスさせてビームを分離し、そして走査用レンズの
瞳の一部を各レーザビームが通過するものが知られてい
る。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、前者の例に従えば、複数のビームを単一の光偏
向器により光走査する場合、個々のビームに対して個別
のプリズムを用いることになりビーム数の２倍のプリズ
ムが必要となって装置が複雑かつコスト高になってしま
う。また、複数のビームを１組の２つのプリズムにより
副走査方向の幅に関して縮小しようとすると、複数のビ
ーム間ピッチも縮小されてしまい、複数のビームを分離
して異なる被照射体または被照射域に導（ことが極めて
困難ないし不可能になる。

他方、後者の例に従えば、走査用レンズの実際に用いる
開口数が大きくなってしまうため、収差的に非常に不利
であり、また収差補正の為に走査用レンズが複雑なもの
となる。

更に、個々のビームに対して個別のレンズを用いるので
装置が複雑かつコスト高にもなってしまう。またこの場
合、ビーム毎にレンズを入れても装置は小さくならない
。

従って、本発明の目的は、上記の問題を解決すべく、光
源パワーの利用効率を向上させると共に構造も簡単であ
る複数ビーム用光走査装置を提供することにある。

［発明の概要］ 上記目的を達成する為の本発明による光走査装置によれ
ば、レーザ発振器などの複数ビーム光源と単一の光偏向
器間のビーム整形光学系が、光源からの複数ビームをコ
リメートするコリメータレンズと、コリメートされた光
束の主走査方向ビーム幅を拡大するビームエキスパンダ
ー光学系と、コリメートされた光束の副走査方向ビーム
幅を縮小するビームコンプレッサー光学系とにより構成
されている。

［実施例］ 第１図は、本発明の第１実施例の単一の回転多面鏡１番
境にしての被照射体５０〜５３例の光学系の概略構成を
示す。第１実施例では、４つの像担持体ないし被照射体
５０〜５３が４本のレーザビームで光走査され、そこに
４つの画像情報が記録されて４画像の多重、カラー画像
が形成される。

同図において、モータ２で回転している多面鏡１で偏向
走査された光源からの４本の光束は、主走査方向にのみ
ｆ・θ特性を有するシリンドリカルｆ・θレンズ３．４
を通った・後、光路折曲げミラー１０〜１３で４つの別
個の光路な辿るように分離される。分離された４つのビ
ームは、夫々、折曲げミラー２０と３０．２１と３１．
２２と３２．２３と３３、及び多面鏡１の反射鏡面の倒
れ補正機能を持つ主走査方向に長く伸びた長尺アナモフ
ィックレンズ４０〜４３を介して被照射体５０〜５３上
に集光される。

第２図には本実施例の主走査方向面における構成が示さ
れ、第３図には４ビームの光源である１チツプのモノリ
シックレーザダイオード１００から回転多面鏡１までの
光学系の副走査方向面における構成が示されている。

更に、第４図には第３図を拡大して示した構成が図示さ
れている。

レーザダイオード１００から発せられた４ビームレーザ
光は単一の短焦点（ｆ＝５ｍｍ）の非球面コリメータレ
ンズ１０１により平行光に変換される。コリメータレン
ズ１０１の出射側主平面より５　ｍ　ｍの位置（コリメ
ータレンズ１０１の焦点距離位置）には楕円絞り１０２
（主走査方向１．３５ｍｍ、副走査方向０．６６ｍｍ）
が配置され、光束規制を行って各レーザビームをコリメ
ートし且つ各ビームの主光線を絞り１０２の中心で交差
させる。

ここで、レーザダイオード１００の構成は第５図に示す
如く、レーザ発光部が副走査方向に一次元配列され発光
部ピッチは０．２ｍｍで、そして主走査方向にレーザ放
射角の大きい方向すを一致させ副走査方向にレーザ放射
角の小さな方向ａを一致させてる。これら両方向の放射
角の比と上記楕円絞り１０２の両方向の幅の比はほぼ一
致させられていて、楕円絞り１０２に対しレーザ放射光
量が効率良（伝達されるようになっている。

また、コリメータレンズ１０１の開口数（ＮＡ）は、主
走査方向について０．１３、副走査方向について０．−
０６５であり、これによってもレーザ発散光が高効率で
伝達される次に、楕円絞り１０２により光束規制された
４本のビームは、主走査方向に屈折力を持つ凹シリンド
リカルレンズ１０３と球面レンズ１０４から成る主走査
方向におけるビームエキスパンダー光学系により、主走
査方向において１．３５ｍｍのビーム幅から５．８ｍｍ
のビーム幅にコリメート光のまま拡大変換される。これ
ら拡大ビームは、次に、主走査方向に屈折力を持たない
凹シリンドリカルレンズ１２５ａ〜１２５ｄを通過し、
回転多面鏡１の反射鏡面に入射する。このとき、４本の
ビームは凹シリンドリカルレンズ１０３にスキューレイ
として入射するため、多少副走査方向に屈折力がこのレ
ンズ１０３により与えられるが、通常、設計許容範囲上
問題となるレベルのものではない。

他方、凹シリンドリカルレンズ１０３をスキューで通過
した４本のビームは、副走査方向において、球面レンズ
１０４とレーザ光束毎に設けられた凹シリンドリカルレ
ンズ１０５ａ−１０５ｄから成る副走査方向におけるビ
ームコンプレッサー光学系により、０．６６ｍｍのビー
ム幅から、凹シリンドリカルレンズ１０５ａ−１０５ｄ
のビーム出射側主平面上で０．１９ｍｍのビーム幅に縮
小変換される。そして多面鏡１の反射面にＦナンバー５
２０の非常にゆるい収束角で集光する。

このとき、光束絞り１０２は、上述の如くコリメータレ
ンズ１０１のビーム出射側主平面からこのレンズ１０１
の焦点距離相当の位置にあり、且つ球面レンズ１０４の
ビーム入射側主平面から光路長（空気換算距離）におい
てこのレンズ１０４の焦点距離相当の位置に配設しであ
る。従って、レーザダイオード１００の発光点ピッチ（
０，２ｍｍ）はｆ（球面レンズ）／ｆ（コリメータレン
ズ）倍に拡大される。即ち、ｆ（球面レンズ）＝ｌＯＯ
ｍｍ％　ｆ（コリメータレンズ）＝５ｍｍであるので、
２０倍に拡大されて、レーザ発光部ピッチ０．２ｍｍの
２０倍の４ｍｍピッチの平行光束（各ビームの主光線間
において）が回転多面鏡１の反射面に入射する。

以上の実施例においては、短焦点距離のコリメータレン
ズｌｏｔを用いるので出射レーザビーム径を大きくせず
にＮＡを大きくでき、更にコリメートされた光束を、主
走査方向ビームエキスパンダーと副走査方向有限焦点ビ
ームコンプレッサーによりビーム整形することで、光偏
向器に入射するレーザビーム径を所定の大きさにするこ
とが可能で且つレーザ発振エネルギーも効率良く利用で
きる。

また、一次元配列されたモノリシックレザダイオードか
らの複数ビームが、囃−光学系により、ビーム分離され
、主走査方向にコリメートされ、更に副走査方向にＦナ
ンバーを大きくされて（収束角を小さ（されて）、光偏
向器に入射させられ得て、コンパクトで低コストな光走
査装置が実現される。

次に、第６図乃至第８図に沿って第２実施例を説明する
。

第８図に示すモノリシック２ビームレーザダイオード１
１０から放射された２ビームは、第１実施例と同様に単
一の短焦点（ｆ＝５ｍ　ｍ　）の非球面コリメータレン
ズ１．１．１により、平行光にされ、コリメータレンズ
１１１のビーム出射側主平面より５ｍｍ　（コリメータ
レンズ１１１の焦点距離の位置）の位置で楕円絞り１１
２（主走査方向２．６９ｍｍ、副走査方向１．３１ｍｒ
ｔ＋）の光束規制を受けて、各々コリメートされ且つ各
主光線が交差させられる。ここにおいて、コリメータレ
ンズ１１１のＮＡは主走査方向に０．２６、副走査方向
に０．１３であり、レーザダイオード１１０からの発散
光を第１実施例と同様に高効率で伝達する。

続いて、絞り１１２で光束規制された２ビームは、第１
実施例と同様なエキスパンダー光学系１１３．１１４と
コンプレッサー光学系１１４．１１５ａ、１１５ｂによ
り、止定、・査方向に５．８ｍｍのビーム幅、副走査方
向に出射有効Ｆナンバー５２０で、光偏向器である多面
鏡ｌの鏡面に集光させられる。

本実施例においても、楕円絞り１１２は、上記の如きコ
リメータレンズ１１１の焦点距離相当位置で、且つ球面
レンズ１１４のビーム入射側主平面から空気換算光路長
においてこのレンズ１１４の焦点距離相当位置にある為
、レーザビームの光束ピッチはレーザダイオード１１０
の発光点ピッチ（０，２ｍｍ）のｆ（球面レンズ）／ｆ
（コリメータレンズ）倍に拡大される。即ち、本実施例
でもｆ（球面レンズ）＝ｌＯＯｍｍ、ｆ　（コリメータ
レンズ）＝５ｍｍであるので２０倍に拡大され、４ｍ’
ｍのレーザ光束ピッチとなって２本のビームが多面鏡１
に入射する。モノリシックな２ビームレーザを使用した
第２実施例でも、第１実施例と同様な効果が得られる。

次に、第３実施例を第８図乃至第１Ｏ図により説明する
。

第３実施例では、第８図に示すモノリシック２ビームレ
ーザダイオード１２０の発光点ピッチが０．４ｍｍに設
定され、球面レンズ１２４の焦点距離は５０ｍｍに設定
されている。他は第２実施例と同じであり、従って２本
のレーザ光束は、主走査方向に５．８ｍｍのビーム幅、
副走査方向に出射有効Ｆナンバー５２０で、光束ピッチ
４ｍｍでもって回転多面鏡１に入射する。

本実施例は第２実施例よりコンパクトに設計されている
が、その他は第１、第２実施例と同様な効果が得られる
。

尚、第８図乃至第１０図において、１２１は短焦点非球
面コリメータレンズ、１２３は球面レンズ１２４と共に
エキスパンダー光学系を形成する凹シリンドリカルレン
ズ、１２５ａと１２５ｂは球面レンズ１２４と共にコン
プレッサー光学系を形成する凹シリンドリカルレンズで
ある。

次に第４実施例を説明する。第４実施例で２・は、第１
実施例と同様に第５図に示すモノリシック４ビームレー
ザダイオード１３０が用いられているが、第１１図と第
１２図に示す如く、主走査方向に屈折力を持つ凸シリン
ドリカルレンズ１３３と凸球面レンズ１３４からビーム
エキスパンダー光学系が構成され、更に凸球面レンズ１
３４と副走査方向に屈折力を持つ凸シリンドリカルレン
ズ１３５ａ〜１３５ｄからビームコンプレッサー光学系
が構成されている。

この様に、主走査方向に正の屈折力を有するレンズと主
走査方向に正の屈折力を有するレンズの組合わせでエキ
スパンダー光学系を構成し、同じく副走査方向に正の屈
折力を有するレンズと副走査方向に正の屈折力を有する
レンズの組合わせでコンプレッサー光学系を構成しても
、第１、第２、第３実施例と同様な効果が得られる。

ところで、第１乃至第４実施例において、複数のビーム
が、主走査方向に屈折力を有すパるシリンドリカルレン
ズ１０３．１１３．１２３．１３３に対して、コリメー
トされた状態で副走査方向に画角（角度）をもつスキュ
ーレイにて入射する為、画角が大きく入射する程これら
のビームには主走査方向に大きな屈折力が与えられる。

換言すれば、こうしたシリンドリカルレンズ１０３〜１
３３への入射角度により、各光束の発散角または収束角
が微妙に異なることになる。

この対策として、主走査方向に屈折力を有するこれらの
シリンドリカルレンズ１０３〜１３３から成る光学系の
副走査方向にも、主走査方向と異なる。上記発散角また
は収束角の入射角に依る差を補正する様な屈折力を与え
ることがある。これにより、光学収差的に更に好ましい
ビームが光偏向器に入射させられ得る。

他の解決法としては、副走査方向に屈折力を有するシリ
ンドリカルレンズ１０５．１１５．１２５．１３５から
成る光学系において、副走査方向と異なる屈折力を主走
査方向にも設定することがある。具体的には、ンリンド
リカル曲率面を主、副詞走査方向に設けたり、トーリッ
ク曲率面を設けたりする。

更に、第１乃至第４実施例において、複数のビームを、
光軸を異ならせて単一の光学系により整形するので、光
学系を通過するビムの位置が、光学系を構成しているレ
ンズの各面で異なってくる。

その為、ビーム整形状況に収差上の異なりが生じる。こ
れを補正するには、第１乃至第４（特に第１と第４）実
施例において、複数ビーム各々に対して設けられた副走
査方向に屈折力を持つシリンドリカルレンズまたはアナ
モフィックレンズから成る光学系１０５．１１５．１２
５．１３５で、複数ビームの対称中心軸に関して対称な
位置にある光学系（例えば第１実施例において、レンズ
１０５ａと１０５ｄ、レンズ１０５ｂと１０５ｃ）を同
一形状とし、その取合せ間（上記例でレン２・ズ１０５
と１０５ｄ、及びレンズ１０５ｂと１０５ｃの間）の形
状を異ならせる（すなわち異なる屈折力を有せしめる）
。これにより、光偏向器に入射する複数のビームのスポ
ット形状を全て同一にでき、光走査系として複数走査ビ
ームを同一の性能にできる。また、レーザダイオードな
どの光源から光偏向器までの光学系の収差補正も容易に
なる。

［発明の効果］ 以上の構成を有する本発明により次の如き効果が奏され
る。

１、レーザ発振器などの光源と光偏向器間のビーム整形
光学系がコリメータレンズ、主走査方向におけるビーム
エキスパンダー光学系、副走査方向にビームコンプレッ
サー光学系により構成されることにより、光源から放射
される放射エネルギーの光偏向器への伝達、利用効率が
簡単で低コストな光学系によって向上させられる。

２、主走査方向におけるビームエキスパンダー光学系と
副走査方向におけるビームコンプレッサー光学系が光学
部材を一部共有することでビーム整形光学系が非常にコ
ンパクトで低コストになる。

３、複数ビームに対して、ビームコンプレッサー光学系
が全ビームに共通な光学系を含むことにより、複数ビー
ムを単一光学系で整形できることになり、ビーム整形光
学系がコンパクトで低コストになる。

４、ビーム毎に配設されたビームコンプレッサー光学系
ないしその一部を、複数のビームの対称中心軸に関して
対称な位置にある光学系を同一形状とし、この対称な取
合せ間のものを異形状とすることにより、光偏向器に入
射する複数ビームのスポットをほぼ同一にすることが可
能となり、更にビム整形光学系の収差補正も容易となる
。

５、主走査方向に屈折力を持つアナモフィック系と副走
査方向に屈折力を持つアナモフィックレンズ系のうちの
少なくとも一方を、主走査方向と副走査方向に異なる屈
折力を有する光学系にして収差補正することで、光偏向
器に入射する複数ビームをほぼ同等にすることができる
。

６、コリメータレンズの光束出射側焦点とエキスパンダ
ー光学系の球面レンズ系の光束入射側焦点を光束絞りの
位置に設定することで、例えば成る所定ピッチで一次元
に配列された発光部を持つモノリシックマルチレーザダ
イオードから放射されるビームの間隔を、所定の大きさ
に変換して、複数ビームを平行に光偏向器に入射させら
れる。

換言すれば、ビーム間隔を広げることでミラー等の簡単
な光学部材により複数ビームの光路を容易に分離できて
、異なる被照射域に導くことができる。この場合、光学
系は非常に単純なもので済みコスト的にも有利である。

７、レーザ光の放射角の小さい方向とビームコンプレス
方向を同一方向に設定することにより、レーザ故射光エ
ネルギーの伝達効率を向上させることができる。

８、レーザ放財部の一次元配列方向とレーザ光の放射角
の小さい方向とを同一方向に設定することで、良好なレ
ーザ放射光エネルギー伝達効率でもってレーザ光を所定
間隔で且つゆるい収束角で光偏向器に入射させることが
できる。この場合、ビーム整形光学系の全長もコンパク
ト化できる。

９、レーザ光の放射角の小さい方向とビームコンプレス
方向に楕円光束絞りの短辺方向を一致させ、レーザ光の
放射角の大きい方向とビームエキスパンド方向に上記絞
りの長辺方向を一致させることにより、ビームコンプレ
ス縮小率とビームエキスパンド倍率が小さく済み、ビー
ム整形光学系がコンパクトになり且つ光エネルギーを有
効に伝達できる。

１０、レーザ光の放射角の大きい方向と小さい方向の長
さの比及び楕円絞りの長辺と短辺の比をほぼ対応させる
と、整形されたビームは、そのスポットのピーク光量に
対する周辺光量の比（トランケート）が長い方向と短い
方向についてほぼ同等となり、光回折による被照射体上
でのビームスポットは良好な円形乃至楕円形として走査
されることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の一部の概略構成図、第２
図は第１実施例の主走査方向における図、第３図は第１
実施例の要部の副走査方向面における図、第４図は第３
図の拡大図、第５図は第１、第４実施例のレーザダイオ
ードと非球面コリメータレンズを示す図、第６図は第２
実施例の要部の副走査方向面における図、第７図は第２
実施例の要部の主走査方向面における図、第８図は第２
、第３実施例のレーザダイオードと非球面コリメータレ
ンズを示す図、第９図は第３実施例の要部の副走査方向
面における図、第１０図は第３実施例の要部の主走査方
向面における図、第１１図は第４実施例の要部の副走査
方向面における図、第１２は第４実施例の要部の主走査
方向面における図である。 １・・・・・回転多面鏡、３．４・・・・・シリンドリ
カルｆ・θレンズ、４０．４１．４２．４３・・・・・
長尺アナモフィックレンズ、５０．５１，５２．５３・
・・・・被照射体、−１ｏｏ、１１０．１２０．１３０
・・・・・モノリシックマルチレーザダイオード、１０
１．１１１．１２１．１３１・・・・・コリメータレン
ズ、１０２．１１２１２２．１３２・・・・・光束絞り
、１０３．１１３．１２３．１３３・　・　・　・・シ
リンドリカルレンズ、１０４．１１４．１２４１３４・
・・・・球面レンズ、１０５、ＩＩ５．１２５．１３５
・・・・・シリンドリカルレンズ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光源より放射された複数の光束を単一の光偏向器に
   より偏向し、被照射体近くに設けられた主走査方向（走
   査方向）と副走査方向（光軸に直交する２軸のうち、走
   査方向と直交する方向）に異なる屈折力を有するアナモ
   フィック集光レンズにより異なる被照射体ないし異なる
   被照射域に集光して光走査を行なう光走査装置において
   、光源から光偏向器までのビーム整形光学系が、光源よ
   り放射された複数の光束をコリメートするコリメータレ
   ンズと、該コリメータレンズでコリメートされた光束の
   主走査方向におけるビーム径を拡大するビームエキスパ
   ンダー光学系と、該コリメートされた光束の副走査方向
   におけるビーム径を縮小するビームコンプレッサー光学
   系により構成されている光走査装置。 ２、前記エキスパンダー光学系と前記コンプレッサー光
   学系は光学部材を一部共有している請求項１記載の光走
   査装置。 ３、前記エキスパンダー光学系は主走査方向に屈折力を
   もつアナモフィックレンズ系と球面レンズ系により構成
   され、前記コンプレッサー光学系は該球面レンズ系と副
   走査方向に屈折力を有するアナモフィック光学系により
   構成されている請求項２記載の光走査装置。４、前記コ
   ンプレッサー光学系は、複数の光束に対し共通な光学系
   と、各光束毎に配設され副走査方向に屈折力を有するア
   ナモフィックレンズ群により構成されている請求項１記
   載の光走査装置。 ５、前記コンプレッサー光学系は、各光束毎に配設され
   ている請求項１記載の光走査装置。 ６、前記コンプレッサー光学系の少なくとも一部は、複
   数の光束の対称中心軸に関して対称な位置にある光学系
   を同一形状とし、この対称な取合せ光学系間では形状を
   異ならせている請求項４または５記載の光走査装置。 ７、前記エキスパンダ光学系は主走査方向に屈折力を有
   すると共に副走査方向にも異なる屈折力を有するアナモ
   フィックレンズ系を含む請求項１記載の光走査装置。 ８、前記コンプレッサー光学系は副走査方向に屈折力を
   有すると共に主走査方向にも屈折力を有するアナモフィ
   ックレンズ系を含む請求項１記載の光走査装置。 ９、前記アナモフィック光学系にトーリック面が配設さ
   れている請求項７または８記載の光走査装置。 １０、前記エキスパンダー光学系は、主走査方向に負の
   屈折力を有するレンズ系と主走査方向に正の屈折力を有
   するレンズ系により構成されている請求項１または３記
   載の光走査装置。 １１、前記エキスパンダー光学系は、主走査方向に正の
   屈折力を有するレンズ系と主走査方向に正の屈折力を有
   するレンズ系により構成されている請求項１または３記
   載の光走査装置。 １２、前記コンプレッサー光学系は、副走査方向に正の
   屈折力を有するレンズ系と副走査方向に負の屈折力を有
   するレンズ系により構成されている請求項１または３記
   載の光走査装置。 １３、前記コンプレッサー光学系は、副走査方向に正の
   屈折力を有するレンズ系と副走査方向に正の屈折力を有
   するレンズ系により構成されている請求項１または３記
   載の光走査装置。 １４、前記コリメータレンズの光束出射側焦点位置と前
   記エキスパンダー光学系に含まれる球面レンズ系の光束
   入射側焦点位置とが一致させられ、そこに光束絞りが配
   設されている請求項１または３記載の光走査装置。 １５、ビームエキスパンド方向に長辺を、ビームコンプ
   レス方向に短辺を一致させた楕円光束絞りが設けられて
   いる請求項１または１４記載の光走査装置。 １６、前記光源はレーザ発振器である請求項１記載の光
   走査装置。 １７、前記レーザ発振器は複数ビームを単一チップから
   放射するモノリシックマルチレーザダイオードである請
   求項１６記載の光走査装置。 １８、前記レーザ発振器はレーザ放射部が一次元に配列
   されている請求項１６記載の光走査装置。 １９、前記レーザ放射部の一次元配列方向と副走査方向
   とが同じに設定されている請求項１８記載の光走査装置
   。 ２０、前記レーザ放射部の放射角の小さい方向とビーム
   コンプレス方向とが同じに設定されている請求項１６記
   載の光走査装置。 ２１、前記レーザ放射部は副走査方向に一次元に配列さ
   れ、この一次元配列方向と前記放射角の小さい方向とが
   同じに設定されている請求項２０記載の光走査装置。 ２２、前記楕円絞りの長辺と短辺の比を、光源から放射
   される光束の放射角の大きい方向と小さい方向の長さの
   比にほぼ対応させている請求項１４記載の光走査装置。 ２３、前記光束は副走査方向において光偏向器の偏向反
   射面近傍に集光させられる請求項１記載の光走査装置。 ２４、前記コンプレッサー光学系は光束を光偏向器の偏
   向反射面近傍に集光させる有限系の集光レンズである請
   求項１記載の光走査装置。