JP3527385B2

JP3527385B2 - マルチビーム走査装置

Info

Publication number: JP3527385B2
Application number: JP10045497A
Authority: JP
Inventors: 真金青木
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1997-04-17
Filing date: 1997-04-17
Publication date: 2004-05-17
Anticipated expiration: 2017-04-17
Also published as: JPH10293260A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光プリンタ等の画像形成装置に関連して
従来から広く知られた光走査装置は、単一の光束による
走査で画像の書込みを行なうシングルビーム方式である
が、近来、書込み速度の向上を目して、複数光束により
一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査装
置」の実現が意図されている。

【０００３】シングルビーム走査方式では、光源から放
射された光束は、その主光線が光学系の光軸に合致する
ようにして光偏向器に導かれ、光偏向器で偏向された光
束の主光線は、ｆθレンズ等の走査結像光学系の光軸を
含む面内で偏向する。このようなシングルビーム走査方
式では、光スポットの移動軌跡である走査線には「曲が
り」は殆ど生じない。

【０００４】しかるにマルチビーム走査装置では、光源
からの複数光束の一部は、光源から被走査面に到る光路
が、光学系の光軸に対して副走査対応方向（光源から被
走査面に到る光路を直線的に展開した仮想的な光路上で
副走査方向に平行的に対応する方向、上記仮想的な光路
上で主走査方向に平行的に対応する方向を主走査対応方
向という）へずれ、このように光軸に対してずれた光束
による光スポットが走査する走査線は直線にならず、僅
かながら湾曲する。

【０００５】図２(ａ)，(ｂ)は、４つの光源からの光束
により４つの光スポットを得、４本の走査線を同時に走
査する場合が例示されている。Ｓ１〜Ｓ４がそれぞれ走
査線を示す。破線で示す線Ａは、「偏向光束の主光線
が、走査結像光学系の光軸を含み主走査対応方向に平行
な面内で偏向して走査を行なった場合の理想的な走査線
（シングルビーム走査方式の場合の走査線に相当し、曲
がりがない）」を示し、これを基準線Ａ０と称する。

【０００６】図２(ａ)に示す例では、走査線Ｓ１，Ｓ２
はそれぞれ基準線Ａ０に対し、副走査方向(図の上下方
向)において走査線Ｓ３，Ｓ４と対称的である。走査線
Ｓ１，Ｓ２は図の上方へ向かって「単純に凸」に湾曲し
ており、走査線Ｓ３，Ｓ４は、図の下方に向かって「単
純に凸」に湾曲している。図２(ａ)は「４つの光スポッ
トによる同時の走査」が、相続いて２回行なわれたとき
の走査線の状態を示している。これら２回の走査のう
ち、先に行なわれたのが走査Ｂ１で、後に行なわれたの
が走査Ｂ２である。従って、光書込みは、走査Ｂ１，Ｂ
２のような走査が交互に繰り返されることにより行なわ
れる。

【０００７】すると、走査線Ｓ１〜Ｓ４の湾曲のため、
図に「イ」で示す部分では、走査Ｂ１における走査線Ｓ
４と、走査Ｂ２における走査線Ｓ１との間隔（走査線の
ピッチ）が狭くなり、「ロ」で示す部分では、走査線Ｓ
２とＳ３とのピッチが広くなる。換言すれば、走査によ
り書き込まれる記録画像の、主走査方向中央部近傍の画
像密度が副走査方向に周期的に変動し、記録画像の像質
低下の原因になる。

【０００８】図２(ｂ)には、４つの光スポットＳ１〜Ｓ
４による同時の走査Ｃ１とこれに続く走査Ｃ２が描かれ
ている。走査線Ｓ１とＳ４、走査線Ｓ２とＳ３は、それ
ぞれ基準線Ａ０に対して副走査方向に対称的である。走
査線Ｓ１，Ｓ２には、主走査方向（図の左右方向）にお
いて「なだらかな山」が２つあり、中央部に「緩やかな
谷」があるような湾曲であり、湾曲の程度は走査線Ｓ１
のほうが走査線Ｓ２より大きい。走査線Ｓ３，Ｓ４は、
主走査方向において「緩やかな谷」が２つあり、中央部
に「なだらかな山」があるような湾曲であり、湾曲の程
度は走査線Ｓ４のほうが走査線Ｓ３より大きい。

【０００９】この場合は、走査Ｃ１における走査線Ｓ４
と、走査Ｃ２における走査線Ｓ１の「湾曲の向き」が逆
になるため、「ハ」で示す部分では走査線間のピッチが
大きく、「ニ」で示す部分ではピッチが小さくなる。従
って、記録画像における画像密度が「連続する２走査Ｃ
１，Ｃ２の境界部」で主走査方向に変動して画質を低下
させる原因となる。

【００１０】このように、マルチビーム走査装置におい
て、走査線の湾曲に起因して生じる走査線間のピッチの
変動を「ピッチ偏差」とよぶ。ピッチ偏差は上記のよう
に、記録画像の像質を低下させる原因となる。

【００１１】上記の如き「ピッチ偏差」を軽減させる方
法として、特開平７−１９９１０９号公報記載の方法の
ように、走査結像光学系により「像面湾曲を意図的に発
生させる」方法が知られている。この方法ではピッチ偏
差自体は軽減されるものの、像面湾曲を意図的に発生さ
せたことに伴い、被走査面上における光スポットのスポ
ット径が像高とともに大きく変動し、特に像高の大きい
ところでスポット径が大きくなりやすく、やはり、記録
画像の像質を低下させる原因になる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】この発明は、光スポッ
トのスポット径の大きな変動を伴うこと無く、ピッチ偏
差を有効に軽減できるマルチビーム走査装置の実現を課
題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】この発明のマルチビーム
走査装置は「複数の光源からの複数の光束を、共通のカ
ップリングレンズにより平行光束化し、共通のシリンダ
レンズによりそれぞれ副走査対応方向に集束し、共通の
光偏向器であるポリゴンミラーの偏向反射面近傍に主走
査対応方向に長い線像として結像させ、共通の光偏向器
で偏向させ、複数の偏向光束を共通の走査結像光学系に
より、被走査面上に、副走査方向に互いに分離した複数
の光スポットとして集光させ、複数走査線を同時に走査
するマルチビーム走査装置」であって、走査結像光学系
が反射型結像素子を有する。「反射型結像素子」は、
結像機能を持ち、共通の光偏向器により偏向された複数
の偏向光束は、上記反射型結像素子に入射して反射され
る。反射型結像素子は、反射光束の光路が入射光束の
光路と重ならず、且つ、複数の光スポットの同時の走査
による複数の走査線の曲がりが、同じ向きとなるように
配備態位を定められる（請求項１）。

【００１４】「複数の走査線の曲がりが同じ向きとな
る」とは、例えば、図２(ａ)の走査線Ｓ１とＳ２や、図
２(ｂ)の走査線Ｓ１とＳ２のように、「各光スポットの
像高が同じ部分では、走査線が同じ向きに曲がってい
る」ことを意味する。この意味からすると、例えば図２
(ａ)の走査線Ｓ２とＳ３とは、走査線の曲がりが互いに
逆向きである。即ち、図２(ａ)の例では、４本の走査線
Ｓ１〜Ｓ４のうち、走査線Ｓ１，Ｓ２の曲がりが同じ向
きであり、走査線Ｓ３，Ｓ４の曲がりが同じ向きである
が、走査線Ｓ１，Ｓ２における曲がりの向きと、走査線
Ｓ３，Ｓ４における曲がりの向きは互いに逆である。

【００１５】この発明においては、同時に走査される走
査線の本数がｎ（＞１）本であるとすれば、これらｎ本
の走査線の曲がりが「全て同じ向きになる」ようにす
る。

【００１６】図２に即して説明したように、走査線のピ
ッチ偏差は「隣接する走査線における曲がりの向きが逆
になる」ことにより発生するから、この発明におけるよ
うに「一度に走査されるｎ本の走査線の曲がりの向きを
揃える」ことにより、走査線のピッチ偏差を有効に軽減
させることができる。

【００１７】また、この発明においては、走査線のピッ
チ偏差を軽減させるのに、意図的に像面湾曲を発生させ
ることがないから、光スポットのスポット径が像高によ
り大きく変動することもない。

【００１８】反射型結像素子の「配備態位」は上記のご
とく、反射光束の光路が入射光束の光路と重ならず、且
つ、複数の光スポットの同時の走査による複数の走査線
の曲がりが同じ向きとなるように定められるが、このよ
うな配備態位は、反射型結像素子を主走査対応方向に平
行な軸の回りに回転させて、反射面を入射光束の入射方
向に対して副走査対応方向や主走査対応方向に傾けたり
(所謂「ティルト」)、反射型結像素子を副走査対応方向
へ平行移動させたり(所謂「シフト」)することであり、
このように反射型結像素子をティルトやシフトを持たせ
て配備することにより同時に、複数の走査線の曲がりを
「同じ向き」に揃え、且つ、ティルト量やシフト量を調
整することによって、走査線間のピッチ偏差を有効に軽
減することができる。

【００１９】上記請求項１記載のマルチビーム走査装置
においては「反射型結像素子と被走査面との間に、少な
くとも副走査対応方向にパワーを持つ光学素子を有す
る」ことができる（請求項２）。「少なくとも副走査対
応方向にパワーを持つ光学素子」は、例えば、副走査対
応方向にパワーを有するシリンダレンズ、あるいはトロ
イダルレンズやその変形（樽型の面を持つ変形トロイダ
ルレンズ等）である。

【００２０】上記請求項１または２記載のマルチビーム
走査装置において、走査結像光学系により被走査面上に
集光された複数の光スポットは、互いに隣接する走査線
を同時に走査するようにすることができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１(ａ)は請求項１記載の発明の
実施の１形態を示している。図１(ａ)に示すように、光
源部１００から放射された４本の光束は共通のカップリ
ングレンズ２００により平行光束化され、シリンダレン
ズ２５０によりそれぞれ副走査対応方向に集束され、共
通の光偏向器であるポリゴンミラー３０の偏向反射面近
傍に主走査対応方向に長い線像として結像され、ポリゴ
ンミラー３０により同時に偏向され、「走査結像光学
系」をなす結像機能を持つ反射型結像素子である凹面鏡
４１（主走査を等速化する機能を有するので、以下、ｆ
θミラー４１と呼ぶ）に反射され、ｆθミラー４１の作
用により被走査面に周面を合致させた光導電性の感光体
５００上に「副走査方向に互いに分離した４つの光スポ
ット」として集光し、４本の走査線Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，
Ｓ４を同時に走査する。

【００２２】図１(ｂ)は、ポリゴンミラー３０から感光
体５００に到る光路状態を、主走査対応方向から見た状
態を示している。この図に示すように、反射型結像素子
であるｆθミラー４１は、反射光束ＣＦの光路が入射光
束ＢＦの光路と重ならないように、副走査対応方向のテ
ィルト角：βやシフト量：ΔＺを与えられており、この
配備態位により、４本の走査線Ｓ１〜Ｓ４の曲がりを同
じ向きに揃え、ピッチ偏差を有効に軽減させている。

【００２３】図３は請求項１，２記載の発明の実施の１
形態を示す図である。図３(ａ)に示すように、光源部１
００から放射された４本の光束は共通のカップリングレ
ンズ２００により平行光束化され、シリンダレンズ２５
０により副走査対応方向に集光され、共通の光偏向器で
あるポリゴンミラー３０の偏向反射面近傍の位置に主走
査対応方向に長い線像として結像し、ポリゴンミラー３
０により同時に偏向されてｆθミラー４２に入射する。
ｆθミラー４２に反射された各光束は、長尺トロイダル
レンズ４５（請求項２記載の発明における「少なくとも
副走査対応方向にパワーを持つ光学素子」）を介して、
感光体５００上に集光する。集光作用はｆθミラー４２
と長尺トロイダルレンズ４５により行なわれる。集光さ
れた４光束は感光体５００上に「副走査方向に互いに分
離した４つの光スポット」を形成し、４本の走査線Ｓ
１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を同時に走査する。

【００２４】図１(ｂ)に倣って図３(ｂ)に示すように、
ｆθミラー４２は、反射光束ＣＦ’の光路が入射光束Ｂ
Ｆ’の光路と重ならないように、副走査対応方向のティ
ルト角：βやシフト量：ΔＺを与えられており、この配
備態位により、４本の走査線Ｓ１〜Ｓ４の曲がりを同じ
向きに揃え、ピッチ偏差を有効に軽減させている。

【００２５】図１に示した実施の形態では、走査線Ｓ１
〜Ｓ４の曲がりは図３(ｃ−１)に示すように「副走査方
向の一方に凸の単純な湾曲」であるが、図３(ａ)に示す
実施の形態では、長尺トロイダルレンズ４５の作用によ
り、走査線Ｓ１〜Ｓ４の曲がりの形態は図３(ｃ−２)に
示す如く「主走査中央部が谷状」になり、湾曲量も、
(ｃ−１)の湾曲量：Ｗ₁から(ｃ−２)の湾曲量：Ｗ₂に減
少する。

【００２６】図１、図３の実施の形態において、カップ
リングレンズ２００の作用をコリメート作用に換え、光
源部１００からの４光束をそれぞれ「弱い発散性の光
束」や「弱い集束性の光束」にすることもできる。

【００２７】図１，図３に即して説明した上記実施の形
態で、同時に走査される走査線Ｓ１〜Ｓ４は「記録画像
において互いに隣接する走査線」となっている。しか
し、マルチビームにより同時に走査される複数の走査線
は、記録画像上において必ずしも隣接しなくてもよい。
例えば、図１や図３において、走査線Ｓ１とＳ２の間、
走査線Ｓ２とＳ３の間、走査線Ｓ３とＳ４の間は、記録
画像を形成する走査線ピッチの整数倍となっていてもよ
い。しかし、走査線間の間隔が開きすぎると、各偏光光
束に対する反射型結像素子の結像作用がかなり異なるも
のとなり、各走査線の曲がりの向きは揃っても、曲がり
の程度が走査線ごとに異なる状況に成り、このようにな
ると、走査線間のピッチ偏差が大きくなるので、上記整
数倍における整数としては１０以下程度の小さい値が適
当である。

【００２８】

【実施例】以下、図３に即して説明した実施の形態に類
する具体的な実施例を２例説明する。図４は、以下に説
明する「実施例に関する光学配置」を説明するための図
である。繁雑を避けるため、混同の虞れがないと思われ
るものに就いては図３におけると同一の符号を用いた。

【００２９】図４は、光源部１００から被走査面５００
（感光体の周面）に至る光路を直線的に展開し、これを
ｆθミラー４２による反射位置で折り返した状態を示
す。実際の光学系配置は図３(ａ)に示す如くである。図
３の実施の形態では、光源部１００として４つの光源を
有するものを説明したが、以下に説明する実施例１では
光源（発光部）が３個であり、実施例２では光源は２個
である。以下の説明において「長さの次元を持つ量」の
単位は、特にことわらない限り「ｍｍ」である。

【００３０】図４において、カップリングレンズ２００
は、光源側面が曲率半径：ｒ_cp1＝∞の平面で、アパー
チュア側の面が曲率半径：ｒ_cp2＝−１０．２９８７の
球面、肉厚：ｄ_cp＝３、材質の屈折率ｎ_cp＝１．７１２
２０５で、焦点距離：ｆ_cp＝１４．４６の「平凸レン
ズ」であり、光源部１００からの光束を平行光束に近い
弱い発散性の光束にする。

【００３１】シリンダレンズ２５０は、アパーチュア側
の面が曲率半径：ｒ_cy1＝２９．５のシリンドリカル
面、ポリゴンミラー側の面が曲率半径：ｒ_cp2＝∞の平
面で、肉厚：ｄ_cy＝３、材質の屈折率：ｎ_cy＝１．５１
１１７６の「平凸レンズ」である。光源１００からシリ
ンダレンズ２５０に至る部分は光源側光学系ユニットＡ
１としてユニット化されている。

【００３２】ｆθミラー４２の鏡面は、光軸方向にＸ
軸、光軸直交方向にＹ軸を取るとき、Ｒを近軸曲率半
径、Ｋ，Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，．．を定数として、Ｘ＝Ｙ²／［Ｒ＋Ｒ√{１−(１＋Ｋ_i)(Ｙ／Ｒ)²}］＋Ａ
・Ｙ⁴＋Ｂ・Ｙ⁶＋Ｃ・Ｙ⁸＋Ｄ・Ｙ¹⁰＋．．．なる式で表される「非円弧形状」を、対称軸の回りに回
転して得られる共軸非球面であって、上記非円弧形状
は、Ｒ＝−４０５．０４６，Ｋ＝−１．４６６６１，Ａ＝３．１２２６９×１０~¹⁰，Ｂ＝−９．１９７５
６×１０~¹⁵，Ｃ＝−１．１４４３１×１０~¹⁸，Ｄ＝−１．３９０９
５×１０~²³ により特定される。

【００３３】長尺トロイダルレンズ４５は、ｆθミラー
４２側の面が「樽型トロイダル面」で、被走査面側の面
が「ノーマルトロイダル面」である。「樽型トロイダル
面」は、「光軸と長手方向（光軸に直交する長手方向）
を含む平面内の形状」が、光軸方向にｘ軸、長手方向に
ｙ軸を取るとき、ｒ_M1を上記平面内における近軸曲率半
径、ｋ，ａ，ｂ，ｃ，ｄ，．．を定数として、ｘ＝ｙ²／［ｒ_M1＋ｒ_M1√{１−(１＋ｋ)(Ｙ／ｒ_M1)²}］
＋ａ・ｙ⁴＋ｂ・ｙ⁶＋ｃ・ｙ⁸＋ｄ・ｙ¹⁰＋．．．なる式で表される「非円弧形状」で、この非円弧形状
を、光軸上でこの非円弧形状からｆθミラー側に
「ｒ_S1」だけ離れ「上記長手方向に平行な軸」の回りに
回転して得られる形状である。

【００３４】「ノーマルトロイダル面」は、光軸と上記
長手方向とを含む面内の曲率半径が「ｒ_M2」で、光軸を
含み長手方向に直交する面内の曲率半径が「ｒ_S2」であ
るトロイダル面である。

【００３５】長尺トロイダルレンズ４５に関する上記各
量および、肉厚：ｄ_TR、材質の屈折率：ｎ_TRは以下の如
くである。

【００３６】ｒ_M1＝６９２．５２２，ｋ＝−１．７１７１，ａ＝−８．４５７９２×１０~¹⁰，ｂ＝１．０９８７９×１０~¹⁴，ｃ＝１．４７４２２×１０~¹⁸，ｄ＝２．９２３１２×１０~²³ ｒ_S1＝６９．２，ｒ_M2＝６６７．０８７，ｒ_S2＝３０．８，ｄ_TR＝３．２５４，ｎ_TR＝１．５７２１。

【００３７】図４に示す間隔：ｄ₁〜ｄ₅、Ｌ₀，Ｌ、ｆ
θミラー４２の主走査対応方向のティルト角：α₄₁、副
走査対応方向のシフト量：Ｚ₄₁、長尺トロイダルレンズ
４５の副走査対応方向のシフト量：Ｚ₄₅およびティルト
角：α₄₅，β₄₅は以下の値である。ｄ₁＝１２．５６９，ｄ₂＝１４．４６，ｄ₃＝２０，ｄ₄
＝５７．８，ｄ₅＝１２２．２７，Ｌ₀＝１２４．１７
９，Ｌ＝１０５．５３、α₄₁＝０．２度、Ｚ₄₁＝１４，
Ｚ₄₅＝７．６，α₄₅＝０．０５度，β₄₅＝１．２８度。

【００３８】図４に示す「実施例１」において、光源部
１００は、発光波長：７８０ｎｍの３つの光源ＬＤ１，
ＬＤ２，ＬＤ３を、副走査対応方向に間隔：Ｐ₀＝１４
μｍで配列したモノリシックな半導体レーザアレイであ
り、真中の光源ＬＤ２の発光部はカップリングレンズ２
００の光軸上に位置する。

【００３９】このとき、同時に走査される３本の走査
線：Ｓ１〜Ｓ３を、相続く２回の走査にＤ１，Ｄ２就
き、図５に示す。図のように、３本の走査線は「同じ像
高で同じ向き」に曲がっている。走査幅：２９７ｍｍに
対し、走査線の湾曲量（図２における「ｗ₂」）は２５
〜２７μｍと微少であり、隣接する走査線のピッチ偏差
は１．３〜１．６μｍと僅少である。また、走査がくり
返されるとき、先の走査：Ｄ１の走査線：Ｓ３と後の走
査：Ｄ２の走査線：Ｓ１とのピッチ偏差も２μｍのオー
ダーで小さい。

【００４０】図６は「実施例２」の特徴部分のみを示し
ている。実施例２は、図４に示した実施例１における光
源側光学系ユニットＡ１を、光源側光学系ユニットＡ２
に換えたものであり、シリンダレンズ２５０から被走査
面に至る光路上の光学系配置は、実施例１と全く同じで
ある。

【００４１】光源部は光源として、独立した半導体レー
ザＬＤ１’，ＬＤ２’を有する。これら半導体レーザＬ
Ｄ１’，ＬＤ２’からの光束は、対応するカップリング
レンズ１５−１，１５−２により「弱い発散性の光束」
にされ、アパーチュア２０−１，２０−２によりそれぞ
れ光束周辺部の光を遮断される。半導体レーザＬＤ１か
らの光束はＰ偏光状態にあり、アパーチュア２０−１を
通過後、ビーム合成プリズムＰＬの偏光反射膜６２を透
過する。半導体レーザＬＤ２’からの光束は当初Ｐ偏光
状態にあるが、アパーチュア２０−２を通過後、１／２
波長板６０を透過してＳ偏光状態となり、ビーム合成プ
リズムＰＬのプリズム面６１で内部反射され偏光反射膜
６２により反射されてビーム合成プリズムＰＬから射出
する。

【００４２】カップリングレンズ１５−１，１５−２は
光軸が互いに平行であり、これらの光軸はシリンダレン
ズ２５０以下の光学系の光軸Ａｘに合致する。半導体レ
ーザＬＤ１’は、副走査対応方向（図７の上下方向）に
おいて、カップリングレンズ１５−１の光軸上に発光部
を有するが、半導体レーザＬＤ２’の発光部は、副走査
対応方向においてカップリングレンズ１５−２の光軸か
ら微少距離：δＺだけずれている。このため、半導体レ
ーザＬＤ２’からの光束は、ビーム合成プリズムＰＬか
ら射出するとき、半導体レーザＬＤ１’からの光束に対
し副走査対応方向に対して微少角傾いており、これによ
り各光束は被走査面上で副走査方向に分離した光スポッ
トとなる。

【００４３】図６に示す距離：ｄ₁，ｄ₂（半導体レーザ
ＬＤ１’，ＬＤ２’からの光束に共通である）、ｄ
₃（＝ｄ₃₁＋ｄ₃₂＋ｄ₃₃）およびδＺの値はそれぞれ、
ｄ₁＝１２．５６９，ｄ₂＝６．０，ｄ₃＝２９，δＺ＝
０．０１４１である。

【００４４】実施例２において、同時に光走査される２
本の走査線：Ｓ１，Ｓ２の様子を相続く２回の光走査：
Ｅ１，Ｅ２に就き図６に示す。図のように、２本の走査
線：Ｓ１，Ｓ２は「同じ像高で同じ向き」に曲がってい
る。光走査幅：２９７ｍｍに対し、走査線の湾曲量（図
２の「ｗ₂」）は２５〜２７μｍと微少であり、隣接す
る走査線のピッチ偏差は１．２μｍと僅少である。ま
た、走査がくり返されるとき、先の走査：Ｅ１の走査
線：Ｓ２と後の光走査：Ｅ２の走査線：Ｓ１とのピッチ
偏差も１μｍのオーダーと小さい。

【００４５】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。この発明
においては、上記のように、複数の光スポットにより同
時に走査される走査線の曲がりが同じ向きに揃っている
ので、ピッチ偏差を有効に軽減して「見た目に良好」な
記録画像を形成することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の１形態を説明するための図で
ある。

【図２】この発明の解決課題であるマルチビーム走査に
特有のピッチ偏差を説明するための図である。

【図３】この発明の実施の別の形態を説明するための図
である。

【図４】この発明の実施例を説明するための図である。

【図５】図４の実施例による走査線の状態を示す図であ
る。

【図６】この発明の別実施例を特徴部分のみ説明するた
めの図である。

【図７】図６の実施例による走査線の状態を示す図であ
る。

【符号の説明】Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４４つの光スポットにより
同時に走査される走査線５０被走査面

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光源からの複数の光束を、共通のカ
ップリングレンズにより平行光束化し、共通のシリンダ
レンズによりそれぞれ副走査対応方向に集束し、共通の
光偏向器であるポリゴンミラーの偏向反射面近傍に主走
査対応方向に長い線像として結像させ、上記共通の光偏
向器で偏向させ、複数の偏向光束を共通の走査結像光学
系により、被走査面上に、副走査方向に互いに分離した
複数の光スポットとして集光させ、複数走査線を同時に
走査するマルチビーム走査装置において、走査結像光学系が、結像機能を持つ反射型結像素子を有
し、共通の光偏向器により偏向された複数の偏向光束が、上
記反射型結像素子に入射して反射され、上記反射型結像素子は、反射光束の光路が入射光束の光
路と重ならず、且つ、複数の光スポットの同時の走査に
よる複数の走査線の曲がりが同じ向きとなるように、配
備態位を定められていることを特徴とするマルチビーム
走査装置。
【請求項２】請求項１記載のマルチビーム走査装置にお
いて、反射型結像素子と被走査面との間に、少なくとも副走査
対応方向にパワーを持つ光学素子を有することを特徴と
するマルチビーム走査装置。