JPH0544890Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0544890Y2 JPH0544890Y2 JP1985137816U JP13781685U JPH0544890Y2 JP H0544890 Y2 JPH0544890 Y2 JP H0544890Y2 JP 1985137816 U JP1985137816 U JP 1985137816U JP 13781685 U JP13781685 U JP 13781685U JP H0544890 Y2 JPH0544890 Y2 JP H0544890Y2
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- alloy
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- liquid lubricant
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本考案は、アルミニウム基板上にNi−Ｐ合金
めつきを施したのちCo合金磁性層を設けた磁気
記録媒体に関する。
めつきを施したのちCo合金磁性層を設けた磁気
記録媒体に関する。
一般にCo合金磁性層を設けた磁気記録媒体は、
装置の起動、停止時における磁気ヘツドの接触走
行が支障なく行われるために耐ヘツドクラツシユ
性を具える必要がある。このため、磁性層の上に
液体潤滑剤を塗布している。一方Co合金磁性薄
膜を用いた磁気記録媒体は、連続薄膜であるため
高密度記録に適している。しかし高密度記録のた
めには情報を記録、再生する磁気ヘツドの浮上量
を小さくする必要があり、それに対応して磁気記
録媒体表面は、従来は粗度Ra0.005〜0.01μm程度
の鏡面状に平滑化されている。このような表面平
滑な磁気記録媒体を高速回転させると、液体潤滑
剤が媒体表面より飛散してしまう問題が生ずる。
また装置停止時に磁気ヘツドが媒体表面に停止す
ると、潤滑剤や水分などが媒体と磁気ヘツドの間
に薄く広がり、表面張力により磁気ヘツドと媒体
との間の吸着力が増加し、潤滑作用が生ぜず、媒
体の起動時に磁気ヘツドの損傷、すなわちヘツド
クラツシユを起こすことがしばしばある。
装置の起動、停止時における磁気ヘツドの接触走
行が支障なく行われるために耐ヘツドクラツシユ
性を具える必要がある。このため、磁性層の上に
液体潤滑剤を塗布している。一方Co合金磁性薄
膜を用いた磁気記録媒体は、連続薄膜であるため
高密度記録に適している。しかし高密度記録のた
めには情報を記録、再生する磁気ヘツドの浮上量
を小さくする必要があり、それに対応して磁気記
録媒体表面は、従来は粗度Ra0.005〜0.01μm程度
の鏡面状に平滑化されている。このような表面平
滑な磁気記録媒体を高速回転させると、液体潤滑
剤が媒体表面より飛散してしまう問題が生ずる。
また装置停止時に磁気ヘツドが媒体表面に停止す
ると、潤滑剤や水分などが媒体と磁気ヘツドの間
に薄く広がり、表面張力により磁気ヘツドと媒体
との間の吸着力が増加し、潤滑作用が生ぜず、媒
体の起動時に磁気ヘツドの損傷、すなわちヘツド
クラツシユを起こすことがしばしばある。
本考案は、上記の欠点を除いて液体潤滑剤が表
面に保持され、良好な潤滑作用が行われる磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
面に保持され、良好な潤滑作用が行われる磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
本考案による磁気記録媒体はAl基板上にめつ
きされたNi−Ｐ合金層が表面粗さRa0.01〜
0.015μmで深さ0.02〜0.03μm、幅0.2〜0.5μmの微
細な凹部が形成された表面を有し、その上にCo
合金磁性層が設けられることにより、塗布された
液体潤滑剤が凹部に良好に保持されて上記の目的
が達成される。
きされたNi−Ｐ合金層が表面粗さRa0.01〜
0.015μmで深さ0.02〜0.03μm、幅0.2〜0.5μmの微
細な凹部が形成された表面を有し、その上にCo
合金磁性層が設けられることにより、塗布された
液体潤滑剤が凹部に良好に保持されて上記の目的
が達成される。
第１図は本考案の一実施例の磁気記録媒体の断
面を概念的に示したもので、Al合金基板１の上
に無電解Ni−Ｐ合金めつき膜２が15〜20μmの厚
さに形成される。このNi−Ｐ合金層合金膜２の
表面は図示のように微細な凹部５を有する。この
ような表面は、例えば液体研摩剤を用いて従来の
ようにRa0.005〜0.01μmの表面粗さに鏡面研摩さ
れたNi−Ｐ合金面を回転数500rpm、面圧1.5Kg／
cm2、研摩時間10秒の加工条件で、先ずWA＃ 4000
の研摩テープを用い、次いでWA＃ 8000の研摩テ
ープを用いてテープ研摩することによつて得られ
る。Ni−Ｐ合金膜の表面は、表面粗さRa0.01〜
0.015μmで深さ0.02〜0.03μm、幅0.2〜0.5μmの微
細な凹部を有するのが有効である。このNi−Ｐ
合金膜の上にCo−Ｐの組成を有するCo合金磁性
薄膜３が600Åの厚さに積層されるが、磁性層の
表面もNi−Ｐ合金膜の表面に対応した凹凸を有
する。その磁性層３の面上に厚さ80Åの厚さに液
体潤滑剤が塗布され、潤滑層４が形成されてい
る。 このような本考案の実施例の磁気記録媒体と、
従来の平滑なNi−Ｐ合金膜表面をもつ比較例の
磁気記録媒体とを、耐ヘツドクラツシユ性を表わ
すコンタクト・スタート・ストツプ（CSS）試験
にかけた結果を第１表に示す。
面を概念的に示したもので、Al合金基板１の上
に無電解Ni−Ｐ合金めつき膜２が15〜20μmの厚
さに形成される。このNi−Ｐ合金層合金膜２の
表面は図示のように微細な凹部５を有する。この
ような表面は、例えば液体研摩剤を用いて従来の
ようにRa0.005〜0.01μmの表面粗さに鏡面研摩さ
れたNi−Ｐ合金面を回転数500rpm、面圧1.5Kg／
cm2、研摩時間10秒の加工条件で、先ずWA＃ 4000
の研摩テープを用い、次いでWA＃ 8000の研摩テ
ープを用いてテープ研摩することによつて得られ
る。Ni−Ｐ合金膜の表面は、表面粗さRa0.01〜
0.015μmで深さ0.02〜0.03μm、幅0.2〜0.5μmの微
細な凹部を有するのが有効である。このNi−Ｐ
合金膜の上にCo−Ｐの組成を有するCo合金磁性
薄膜３が600Åの厚さに積層されるが、磁性層の
表面もNi−Ｐ合金膜の表面に対応した凹凸を有
する。その磁性層３の面上に厚さ80Åの厚さに液
体潤滑剤が塗布され、潤滑層４が形成されてい
る。 このような本考案の実施例の磁気記録媒体と、
従来の平滑なNi−Ｐ合金膜表面をもつ比較例の
磁気記録媒体とを、耐ヘツドクラツシユ性を表わ
すコンタクト・スタート・ストツプ（CSS）試験
にかけた結果を第１表に示す。
【表】
第１表から明らかなように、Ni−Ｐ合金膜の
表面に微細な凹部を有する本考案の実施例の媒体
は、従来の媒体にくらべて格別に多くのCSSに耐
える。
表面に微細な凹部を有する本考案の実施例の媒体
は、従来の媒体にくらべて格別に多くのCSSに耐
える。
本考案は、Al合金基板上に形成されるNi−Ｐ
合金めつき層の表面にテープ研摩などにより微細
な凹部を有する面とすることにより、その上に設
けられるCo合金磁性層の表面にも凹部を生ぜし
め、この凹部に液体潤滑剤を保持させることによ
り、媒体高速回転時の潤滑剤の飛散がなく、媒体
表面と磁気ヘツドとの間への潤滑剤あるいは水分
の広がりも防止されるため潤滑性が良好に維持さ
れる。従つて磁気ヘツドと磁気記録媒体との接触
走行時における両者の損傷を軽減し、磁気記録装
置の信頼性が高まるという効果が得られる。
合金めつき層の表面にテープ研摩などにより微細
な凹部を有する面とすることにより、その上に設
けられるCo合金磁性層の表面にも凹部を生ぜし
め、この凹部に液体潤滑剤を保持させることによ
り、媒体高速回転時の潤滑剤の飛散がなく、媒体
表面と磁気ヘツドとの間への潤滑剤あるいは水分
の広がりも防止されるため潤滑性が良好に維持さ
れる。従つて磁気ヘツドと磁気記録媒体との接触
走行時における両者の損傷を軽減し、磁気記録装
置の信頼性が高まるという効果が得られる。
第１図は本考案の一実施例の概念的断面図であ
る。 １……Al合金基板、２……Ni−Ｐ合金膜、３
……Co合金磁性薄膜、４……潤滑層、５……凹
部。
る。 １……Al合金基板、２……Ni−Ｐ合金膜、３
……Co合金磁性薄膜、４……潤滑層、５……凹
部。
Claims (1)
- アルミニウム合金基板を被覆するNi−Ｐ合金
膜上にCo合金磁性薄膜を有し、表面に液体潤滑
剤が塗布されてなる潤滑層を有する磁気記録媒体
において、前記Ni−Ｐ合金膜は、深さ0.02〜
0.03μm、幅0.2〜0.5μmの微細な凹部が形成され
た粗さRa0.01〜0.015μmの表面を有し、このNi−
Ｐ合金膜の表面形状は、前記液体潤滑剤が塗布さ
れる表面に反映されており、前記液体潤滑剤は、
この反映された凹部に保持されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985137816U JPH0544890Y2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985137816U JPH0544890Y2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245716U JPS6245716U (ja) | 1987-03-19 |
| JPH0544890Y2 true JPH0544890Y2 (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=31042221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985137816U Expired - Lifetime JPH0544890Y2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0544890Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52112804U (ja) * | 1976-02-21 | 1977-08-27 |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP1985137816U patent/JPH0544890Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6245716U (ja) | 1987-03-19 |
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