JPH02156415A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH02156415A JPH02156415A JP30967288A JP30967288A JPH02156415A JP H02156415 A JPH02156415 A JP H02156415A JP 30967288 A JP30967288 A JP 30967288A JP 30967288 A JP30967288 A JP 30967288A JP H02156415 A JPH02156415 A JP H02156415A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- zirconium oxide
- magnetic disk
- disk
- silicon oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 25
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 2
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク
に関するものである。
に関するものである。
コンピュータの外部記憶装置の一つである固定磁気ディ
スク装置は主に磁気ディスクと磁気へラドスライダで構
成されているが、第2図にその概念図を示す。これは1
例えば文献(柳沢雅広「めっき形磁気ディスク媒体のト
ライボロジ」日本応用磁気学会誌、 VOI、、 If
、 NOI、 +987)1.1m詳しく示されている
。図において、(6)は基板に形成された磁気記録媒体
層に情報が記録される磁気ディスク2(7)は磁気ディ
スク(6)に情報を書き込んだり読み出したりする磁気
へラドスライダ、(8)は磁気ヘッドスライダ(7)を
磁気ディスク(6)に押し付けるサスペンション、(9
)は磁気ディスク(6)を図中矢印方向に回転させるス
ピンドルである。
スク装置は主に磁気ディスクと磁気へラドスライダで構
成されているが、第2図にその概念図を示す。これは1
例えば文献(柳沢雅広「めっき形磁気ディスク媒体のト
ライボロジ」日本応用磁気学会誌、 VOI、、 If
、 NOI、 +987)1.1m詳しく示されている
。図において、(6)は基板に形成された磁気記録媒体
層に情報が記録される磁気ディスク2(7)は磁気ディ
スク(6)に情報を書き込んだり読み出したりする磁気
へラドスライダ、(8)は磁気ヘッドスライダ(7)を
磁気ディスク(6)に押し付けるサスペンション、(9
)は磁気ディスク(6)を図中矢印方向に回転させるス
ピンドルである。
このように構成された磁気ディスク装置において、磁気
ディスク(6)に情報を書き込んだり読み出したりする
場合は、磁気ディスク(6)を矢印方向に高速回転(例
えば3600rpm)させる。 この回転により生じる
空気流で、磁気へラドスライダ(7)は空気軸受の原理
で、磁気ディスク(6)表面よりサブミクロンの隙間を
保って浮−ヒする。すなわち、サスペンション(8)の
押付力と空気流の押上力が釣り合って、磁気へラドスラ
イダ(7)は安定浮−ヒする。
ディスク(6)に情報を書き込んだり読み出したりする
場合は、磁気ディスク(6)を矢印方向に高速回転(例
えば3600rpm)させる。 この回転により生じる
空気流で、磁気へラドスライダ(7)は空気軸受の原理
で、磁気ディスク(6)表面よりサブミクロンの隙間を
保って浮−ヒする。すなわち、サスペンション(8)の
押付力と空気流の押上力が釣り合って、磁気へラドスラ
イダ(7)は安定浮−ヒする。
一方、磁気ディスク装置を使用しないときは、スピンド
ル(9)の回転は停ThL、磁気へラドスライダ(7)
はサスペンション(8)により押し付けられて磁気ディ
スク(6)上に接触した状態となる。
ル(9)の回転は停ThL、磁気へラドスライダ(7)
はサスペンション(8)により押し付けられて磁気ディ
スク(6)上に接触した状態となる。
第3図、第4図は第2図における磁気へ1トスライダ付
近の拡大図であり、第3図は磁気ディスク装置の稼働時
(磁気ディスクは回転している)第4図は磁気ディスク
装置の停止時(磁気ディスクは静止している)をそれぞ
れ示す。
近の拡大図であり、第3図は磁気ディスク装置の稼働時
(磁気ディスクは回転している)第4図は磁気ディスク
装置の停止時(磁気ディスクは静止している)をそれぞ
れ示す。
磁気ディスク装置は以−ヒのような機構を有するため、
磁気ディスクの始動時には磁気へラドスライダは磁気デ
ィスク表面をこすりながら浮上する同様に停止ト時には
こすりながら着陸する。この動作をコンタクト・スター
ト・ストップ(C55)というこのC3S時における磁
気ディスク(6)の表面の摩耗や傷付きを防1卜するた
め2通常は磁気ディスクの最表面には潤滑剤の塗布膜や
、カーボン、ロジウム、酸化ケイ素等の保護層が設けら
れている。これらの内で酸化ケイ素の塗布膜はよく用い
られる保護膜の一つである(日本応用磁気学会誌、 V
OL、 I INo+ ’87 P、13〜21参照)
。 これはゾルゲル膜といわれるもので2通常はケイ素
のアルコキシドを加水分解して得られた酸化ケイ素のコ
ロイド溶液を塗布し、熱処理して得られる。また、この
酸化ケイ素塗布膜の上に通常は薄く潤滑剤が塗布される
この構成の保護・潤滑膜は下地の磁性体1例えばγ−F
et03+ Co−N i等のスパッタ膜や、Co−P
のメツキ膜七密青がよ<、CSSの際の剥離等が起こり
にくい。
磁気ディスクの始動時には磁気へラドスライダは磁気デ
ィスク表面をこすりながら浮上する同様に停止ト時には
こすりながら着陸する。この動作をコンタクト・スター
ト・ストップ(C55)というこのC3S時における磁
気ディスク(6)の表面の摩耗や傷付きを防1卜するた
め2通常は磁気ディスクの最表面には潤滑剤の塗布膜や
、カーボン、ロジウム、酸化ケイ素等の保護層が設けら
れている。これらの内で酸化ケイ素の塗布膜はよく用い
られる保護膜の一つである(日本応用磁気学会誌、 V
OL、 I INo+ ’87 P、13〜21参照)
。 これはゾルゲル膜といわれるもので2通常はケイ素
のアルコキシドを加水分解して得られた酸化ケイ素のコ
ロイド溶液を塗布し、熱処理して得られる。また、この
酸化ケイ素塗布膜の上に通常は薄く潤滑剤が塗布される
この構成の保護・潤滑膜は下地の磁性体1例えばγ−F
et03+ Co−N i等のスパッタ膜や、Co−P
のメツキ膜七密青がよ<、CSSの際の剥離等が起こり
にくい。
また、高価な成膜設備を必要とせず、比較的容易成膜で
きるという利点がある。
きるという利点がある。
しかしながら上記構成の保護・潤滑膜による磁気ディス
クは2回転停W時にヘッドスライダとの間で吸着を起こ
しやすい。吸着が起こると、吸着力のために磁気ディス
クが回転しなくなったり。
クは2回転停W時にヘッドスライダとの間で吸着を起こ
しやすい。吸着が起こると、吸着力のために磁気ディス
クが回転しなくなったり。
無理に回転してスライダのサスペンションを破損したり
、ディスクに傷・圧痕をつけたりするという問題点があ
った。
、ディスクに傷・圧痕をつけたりするという問題点があ
った。
吸着はへラドスライダ浮り面とディスク表面が静IF、
状態で接触していると、この隙間に水が凝縮し、水の表
面張力により生じると言われている。
状態で接触していると、この隙間に水が凝縮し、水の表
面張力により生じると言われている。
特に、スライダ浮り面、ディスク表面が平滑に仕りげら
れている程隙間が狭くなり、水の凝縮が起こりやすくな
り、吸着しやすくなる。ヘッドスライダ浮上面はアブレ
シブ摩耗を小さくするためにディスク表面は浮上スペー
シングを低(するために、それぞれ極めて平滑であるた
め吸着が起こりやすい。
れている程隙間が狭くなり、水の凝縮が起こりやすくな
り、吸着しやすくなる。ヘッドスライダ浮上面はアブレ
シブ摩耗を小さくするためにディスク表面は浮上スペー
シングを低(するために、それぞれ極めて平滑であるた
め吸着が起こりやすい。
従来より使用されている酸化ケイ素は、水と結合し水和
物を作るため、特に空気中の水分を集めやすい。従って
何かの原因で潤滑膜がはがれるとそこに酸化ケイ素が露
出し、スライダと吸青しやすくなるという問題点。
物を作るため、特に空気中の水分を集めやすい。従って
何かの原因で潤滑膜がはがれるとそこに酸化ケイ素が露
出し、スライダと吸青しやすくなるという問題点。
この発明は上記の様な問題点を解消するためになされた
もので、 CSSに対する耐久性に優れ、かつヘッドス
ライダとの吸着を起こしにくい信頼性の高い磁気ディス
クを得ることを目的とする。
もので、 CSSに対する耐久性に優れ、かつヘッドス
ライダとの吸着を起こしにくい信頼性の高い磁気ディス
クを得ることを目的とする。
この発明の磁気ディスクは、基材、この基材に形成した
磁性体層、酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジル
コニウムの混合物の塗布膜からなり上記磁性体層を覆う
保護膜、及びこの保護膜ヒに形成した潤滑膜を備えたも
のである。
磁性体層、酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジル
コニウムの混合物の塗布膜からなり上記磁性体層を覆う
保護膜、及びこの保護膜ヒに形成した潤滑膜を備えたも
のである。
この発明における酸化ジルコニウム塗布F3 及び酸化
ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜は酸化ケイ素塗
布膜に比べ、水の吸着が起こりにくいこのため、ヘッド
スライダを接触させた時に水の凝果が起こりにくい。従
って、ヘッドスライダとディスク表面の間に水が介在す
ることにより起こる吸着を防1トできる。又、酸化ジル
コニウムは潤滑剤を保持する能力も高く9表面の潤滑膜
が剥離しにくいため、耐摩耗性も高い。CSSに対する
耐久性に優れる。
ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜は酸化ケイ素塗
布膜に比べ、水の吸着が起こりにくいこのため、ヘッド
スライダを接触させた時に水の凝果が起こりにくい。従
って、ヘッドスライダとディスク表面の間に水が介在す
ることにより起こる吸着を防1トできる。又、酸化ジル
コニウムは潤滑剤を保持する能力も高く9表面の潤滑膜
が剥離しにくいため、耐摩耗性も高い。CSSに対する
耐久性に優れる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図で
ある。この場合は5.25インチディスクを示すもので
、基材の表裏両面に磁性層が形成される構成となってい
る。図において、 (10)は基材で、この場合は^(
−Mg合金基板(1)と下地硬化層(2)のにi−Pメ
ツキ膜からなる。(3)は磁性層でこの場合はスパッタ
Co−Ni膜、(4)は保護膜で、この場合は膜厚50
0人程度の酸化ジルコニウム塗布膜又は酸化ケイ素と酸
化ジルコニウムの混合塗布膜である。(5)は潤滑膜で
、この場合は厚さIO人程度のフッ素系極性潤滑剤の塗
布膜である。
図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図で
ある。この場合は5.25インチディスクを示すもので
、基材の表裏両面に磁性層が形成される構成となってい
る。図において、 (10)は基材で、この場合は^(
−Mg合金基板(1)と下地硬化層(2)のにi−Pメ
ツキ膜からなる。(3)は磁性層でこの場合はスパッタ
Co−Ni膜、(4)は保護膜で、この場合は膜厚50
0人程度の酸化ジルコニウム塗布膜又は酸化ケイ素と酸
化ジルコニウムの混合塗布膜である。(5)は潤滑膜で
、この場合は厚さIO人程度のフッ素系極性潤滑剤の塗
布膜である。
実施例1゜
」−記構酸で酸化ジルコニウム塗布膜を保護膜とする磁
気ディスクを作製した。
気ディスクを作製した。
酸化ジルコニウムの塗布液としてジルコニアブトキシド
のエチルアルコール溶液を用い、これを磁性層をスパッ
タした基材に塗布した。ジルコニアブトキシドはわずか
な水分で加水分解するためそのまま低湿度に調整した室
内に塗布基材を数時間放置し、空気中の水分により加水
分解させた。
のエチルアルコール溶液を用い、これを磁性層をスパッ
タした基材に塗布した。ジルコニアブトキシドはわずか
な水分で加水分解するためそのまま低湿度に調整した室
内に塗布基材を数時間放置し、空気中の水分により加水
分解させた。
数時間放置後、250°C2時間の熱処理を施し、酸化
ジルフニウム塗布膜を形成した。さらに、そのにに潤滑
材をスピンコードにより塗布して潤滑膜を形成した。
ジルフニウム塗布膜を形成した。さらに、そのにに潤滑
材をスピンコードにより塗布して潤滑膜を形成した。
実施例2゜
酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜を保護膜と
して実施例1と同様の磁気ディスクを作製した。
して実施例1と同様の磁気ディスクを作製した。
酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜を形成する
には、まず、上記酸化ジルコニウムの塗布液に酸化ケイ
素の塗布液を混合する。
には、まず、上記酸化ジルコニウムの塗布液に酸化ケイ
素の塗布液を混合する。
酸化ケイ素の塗布液は、シリコンブトキシドのエチルア
ルコール溶液中に水を混合し、数時間撹拌して得られる
。混合比は、酸化ケイ素/酸化ジルコニウムのモル比を
約100とした。塗布方法及び塗布後のプロセスは実施
例1と同様である。
ルコール溶液中に水を混合し、数時間撹拌して得られる
。混合比は、酸化ケイ素/酸化ジルコニウムのモル比を
約100とした。塗布方法及び塗布後のプロセスは実施
例1と同様である。
比較例
酸化ケイ素塗布膜を保護膜として、実施例1,2と同様
の構成の磁気ディスクを作成した。
の構成の磁気ディスクを作成した。
実施例1,2と比較例の磁気ディスクとの比較試験を行
った。
った。
まず上記ディスクにスライダを24時間接触放置し吸着
力を調べた。
力を調べた。
スライダは八ha3TiCを材質とするミニウィンチエ
スタタイプで荷重9.5gである。
スタタイプで荷重9.5gである。
表に測定された動摩擦力と吸着力を示す。
いずれのディスクも動摩擦力は0.3であったが、吸着
力は比較例では14gと大きくなったのに対し。
力は比較例では14gと大きくなったのに対し。
実施例1では4gと小さな値を示した。実施例2のディ
スクについても実施例jと同様3gと吸着力は小さかっ
た。
スクについても実施例jと同様3gと吸着力は小さかっ
た。
次に表面への水の凝縮のしやすさを調べるため潤滑剤塗
布前の実施例Iと比較例のディスクについて接触角を調
べた。接触角は大きい方が水の凝縮はしにくいと考えら
れる。吸着はスライダ・ディスク接触界面に凝集した水
に起因すると考えると接触角は大きい方が吸着しにくい
ことになる。
布前の実施例Iと比較例のディスクについて接触角を調
べた。接触角は大きい方が水の凝縮はしにくいと考えら
れる。吸着はスライダ・ディスク接触界面に凝集した水
に起因すると考えると接触角は大きい方が吸着しにくい
ことになる。
潤滑剤塗布前の実施例1の水に対する接触角は54で、
同比較例の30より大きく、上記の考え方から言っても
、実施例1の方が比較例よりも吸着しにくいことが確か
められた。
同比較例の30より大きく、上記の考え方から言っても
、実施例1の方が比較例よりも吸着しにくいことが確か
められた。
また、酸化ジルコニウムは潤滑剤保持能力が高く2表面
の潤滑膜が剥離しらくく耐摩耗性が高くCSS特性も良
好であった。
の潤滑膜が剥離しらくく耐摩耗性が高くCSS特性も良
好であった。
なお、上記実施例では2円板径が5.25インチのもの
について示したが、14インチ、8インチ3.5インチ
でもよい。
について示したが、14インチ、8インチ3.5インチ
でもよい。
また、磁性体としてはGo−Niのスパッタ膜について
示したが、その他の合金膜、γ−PeyOsのスパッタ
膜でもよい。さらにド地硬化層としてN1−Pについて
示したが、アルマイトでもよい。
示したが、その他の合金膜、γ−PeyOsのスパッタ
膜でもよい。さらにド地硬化層としてN1−Pについて
示したが、アルマイトでもよい。
以上のように、この発明によれば、磁気ディスクの保護
膜を酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジルコニウ
ムの混合物の塗布膜とすることにより、ヘッドスライダ
との吸着を防1トでき、 CSS特性に優れ、信頼性の
高い磁気ディスクが得られる効果がある。
膜を酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジルコニウ
ムの混合物の塗布膜とすることにより、ヘッドスライダ
との吸着を防1トでき、 CSS特性に優れ、信頼性の
高い磁気ディスクが得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面
図、第2図は一般的な磁気ディスク装置を示す概念図、
第3図及び第4図は第2図における要部拡大図で、第3
図は磁気ディスク装置の稼働時を、第4図は開停止ヒ時
を示している。 図において、 (10)は基板(りと下地硬化層(2)
からなる基材、(3)は磁性層、(4)は保護膜、(5
)は潤滑膜、(6)は磁気ディスクである。
図、第2図は一般的な磁気ディスク装置を示す概念図、
第3図及び第4図は第2図における要部拡大図で、第3
図は磁気ディスク装置の稼働時を、第4図は開停止ヒ時
を示している。 図において、 (10)は基板(りと下地硬化層(2)
からなる基材、(3)は磁性層、(4)は保護膜、(5
)は潤滑膜、(6)は磁気ディスクである。
Claims (1)
- 基材、この基材に形成した磁性体層、酸化ジルコニウム
又は酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合物の塗布膜か
らなり、上記磁性体層を覆う保護膜、及びこの保護膜上
に形成した潤滑膜を備えた磁気ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30967288A JPH02156415A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30967288A JPH02156415A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 磁気ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02156415A true JPH02156415A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=17995885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30967288A Pending JPH02156415A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02156415A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02168419A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP30967288A patent/JPH02156415A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02168419A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02156415A (ja) | 磁気ディスク | |
US6103339A (en) | Light texture process of fabricating a magnetic recording media | |
JPS59227065A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS63152022A (ja) | 磁気デイスク用ガラス基板 | |
JP2743991B2 (ja) | 磁気記録再生装置 | |
JP3226307B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッド | |
JPH02156417A (ja) | 磁気ディスク | |
JPH0568771B2 (ja) | ||
JPH01146103A (ja) | 磁気記録装置 | |
JP2638228B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0322218A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
JPH0388189A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
JPS5939809B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
JP3429530B2 (ja) | 磁気記録再生方法及びその装置並びに磁気ディスク固定用クランプ | |
JP2621358B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH02198028A (ja) | 磁気ディスク | |
JPS62134826A (ja) | 磁気記憶体の製造方法 | |
JPH04212714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH06119634A (ja) | 磁気ディスク及び磁気ヘッド | |
JPS6173227A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62291724A (ja) | 磁気デイスク | |
JPH0544890Y2 (ja) | ||
JPH04109427A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH05217159A (ja) | 磁気ディスク | |
JPS62177723A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 |