JPH02156415A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク
に関するものである。

〔従来の技術〕

コンピュータの外部記憶装置の一つである固定磁気ディ
スク装置は主に磁気ディスクと磁気へラドスライダで構
成されているが、第２図にその概念図を示す。これは１
例えば文献（柳沢雅広「めっき形磁気ディスク媒体のト
ライボロジ」日本応用磁気学会誌、　ＶＯＩ、、　Ｉｆ
、　ＮＯＩ、　＋９８７）１．１ｍ詳しく示されている
。図において、（６）は基板に形成された磁気記録媒体
層に情報が記録される磁気ディスク２（７）は磁気ディ
スク（６）に情報を書き込んだり読み出したりする磁気
へラドスライダ、（８）は磁気ヘッドスライダ（７）を
磁気ディスク（６）に押し付けるサスペンション、（９
）は磁気ディスク（６）を図中矢印方向に回転させるス
ピンドルである。

このように構成された磁気ディスク装置において、磁気
ディスク（６）に情報を書き込んだり読み出したりする
場合は、磁気ディスク（６）を矢印方向に高速回転（例
えば３６００ｒｐｍ）させる。　この回転により生じる
空気流で、磁気へラドスライダ（７）は空気軸受の原理
で、磁気ディスク（６）表面よりサブミクロンの隙間を
保って浮−ヒする。すなわち、サスペンション（８）の
押付力と空気流の押上力が釣り合って、磁気へラドスラ
イダ（７）は安定浮−ヒする。

一方、磁気ディスク装置を使用しないときは、スピンド
ル（９）の回転は停ＴｈＬ、磁気へラドスライダ（７）
はサスペンション（８）により押し付けられて磁気ディ
スク（６）上に接触した状態となる。

第３図、第４図は第２図における磁気へ１トスライダ付
近の拡大図であり、第３図は磁気ディスク装置の稼働時
（磁気ディスクは回転している）第４図は磁気ディスク
装置の停止時（磁気ディスクは静止している）をそれぞ
れ示す。

磁気ディスク装置は以−ヒのような機構を有するため、
磁気ディスクの始動時には磁気へラドスライダは磁気デ
ィスク表面をこすりながら浮上する同様に停止ト時には
こすりながら着陸する。この動作をコンタクト・スター
ト・ストップ（Ｃ５５）というこのＣ３Ｓ時における磁
気ディスク（６）の表面の摩耗や傷付きを防１卜するた
め２通常は磁気ディスクの最表面には潤滑剤の塗布膜や
、カーボン、ロジウム、酸化ケイ素等の保護層が設けら
れている。これらの内で酸化ケイ素の塗布膜はよく用い
られる保護膜の一つである（日本応用磁気学会誌、　Ｖ
ＯＬ、　Ｉ　ＩＮｏ＋　’８７　Ｐ、１３〜２１参照）
。　これはゾルゲル膜といわれるもので２通常はケイ素
のアルコキシドを加水分解して得られた酸化ケイ素のコ
ロイド溶液を塗布し、熱処理して得られる。また、この
酸化ケイ素塗布膜の上に通常は薄く潤滑剤が塗布される
この構成の保護・潤滑膜は下地の磁性体１例えばγ−Ｆ
ｅｔ０３＋　Ｃｏ−Ｎ　ｉ等のスパッタ膜や、Ｃｏ−Ｐ
のメツキ膜七密青がよ＜、ＣＳＳの際の剥離等が起こり
にくい。

また、高価な成膜設備を必要とせず、比較的容易成膜で
きるという利点がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら上記構成の保護・潤滑膜による磁気ディス
クは２回転停Ｗ時にヘッドスライダとの間で吸着を起こ
しやすい。吸着が起こると、吸着力のために磁気ディス
クが回転しなくなったり。

無理に回転してスライダのサスペンションを破損したり
、ディスクに傷・圧痕をつけたりするという問題点があ
った。

吸着はへラドスライダ浮り面とディスク表面が静ＩＦ、
状態で接触していると、この隙間に水が凝縮し、水の表
面張力により生じると言われている。

特に、スライダ浮り面、ディスク表面が平滑に仕りげら
れている程隙間が狭くなり、水の凝縮が起こりやすくな
り、吸着しやすくなる。ヘッドスライダ浮上面はアブレ
シブ摩耗を小さくするためにディスク表面は浮上スペー
シングを低（するために、それぞれ極めて平滑であるた
め吸着が起こりやすい。

従来より使用されている酸化ケイ素は、水と結合し水和
物を作るため、特に空気中の水分を集めやすい。従って
何かの原因で潤滑膜がはがれるとそこに酸化ケイ素が露
出し、スライダと吸青しやすくなるという問題点。

この発明は上記の様な問題点を解消するためになされた
もので、　ＣＳＳに対する耐久性に優れ、かつヘッドス
ライダとの吸着を起こしにくい信頼性の高い磁気ディス
クを得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明の磁気ディスクは、基材、この基材に形成した
磁性体層、酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジル
コニウムの混合物の塗布膜からなり上記磁性体層を覆う
保護膜、及びこの保護膜ヒに形成した潤滑膜を備えたも
のである。

〔作用〕

この発明における酸化ジルコニウム塗布Ｆ３　及び酸化
ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜は酸化ケイ素塗
布膜に比べ、水の吸着が起こりにくいこのため、ヘッド
スライダを接触させた時に水の凝果が起こりにくい。従
って、ヘッドスライダとディスク表面の間に水が介在す
ることにより起こる吸着を防１トできる。又、酸化ジル
コニウムは潤滑剤を保持する能力も高く９表面の潤滑膜
が剥離しにくいため、耐摩耗性も高い。ＣＳＳに対する
耐久性に優れる。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図で
ある。この場合は５．２５インチディスクを示すもので
、基材の表裏両面に磁性層が形成される構成となってい
る。図において、　（１０）は基材で、この場合は＾（
−Ｍｇ合金基板（１）と下地硬化層（２）のにｉ−Ｐメ
ツキ膜からなる。（３）は磁性層でこの場合はスパッタ
Ｃｏ−Ｎｉ膜、（４）は保護膜で、この場合は膜厚５０
０人程度の酸化ジルコニウム塗布膜又は酸化ケイ素と酸
化ジルコニウムの混合塗布膜である。（５）は潤滑膜で
、この場合は厚さＩＯ人程度のフッ素系極性潤滑剤の塗
布膜である。

実施例１゜ 」−記構酸で酸化ジルコニウム塗布膜を保護膜とする磁
気ディスクを作製した。

酸化ジルコニウムの塗布液としてジルコニアブトキシド
のエチルアルコール溶液を用い、これを磁性層をスパッ
タした基材に塗布した。ジルコニアブトキシドはわずか
な水分で加水分解するためそのまま低湿度に調整した室
内に塗布基材を数時間放置し、空気中の水分により加水
分解させた。

数時間放置後、２５０°Ｃ２時間の熱処理を施し、酸化
ジルフニウム塗布膜を形成した。さらに、そのにに潤滑
材をスピンコードにより塗布して潤滑膜を形成した。

実施例２゜ 酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜を保護膜と
して実施例１と同様の磁気ディスクを作製した。

酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合塗布膜を形成する
には、まず、上記酸化ジルコニウムの塗布液に酸化ケイ
素の塗布液を混合する。

酸化ケイ素の塗布液は、シリコンブトキシドのエチルア
ルコール溶液中に水を混合し、数時間撹拌して得られる
。混合比は、酸化ケイ素／酸化ジルコニウムのモル比を
約１００とした。塗布方法及び塗布後のプロセスは実施
例１と同様である。

比較例 酸化ケイ素塗布膜を保護膜として、実施例１，２と同様
の構成の磁気ディスクを作成した。

実施例１，２と比較例の磁気ディスクとの比較試験を行
った。

まず上記ディスクにスライダを２４時間接触放置し吸着
力を調べた。

スライダは八ｈａ３ＴｉＣを材質とするミニウィンチエ
スタタイプで荷重９．５ｇである。

表に測定された動摩擦力と吸着力を示す。

いずれのディスクも動摩擦力は０．３であったが、吸着
力は比較例では１４ｇと大きくなったのに対し。

実施例１では４ｇと小さな値を示した。実施例２のディ
スクについても実施例ｊと同様３ｇと吸着力は小さかっ
た。

次に表面への水の凝縮のしやすさを調べるため潤滑剤塗
布前の実施例Ｉと比較例のディスクについて接触角を調
べた。接触角は大きい方が水の凝縮はしにくいと考えら
れる。吸着はスライダ・ディスク接触界面に凝集した水
に起因すると考えると接触角は大きい方が吸着しにくい
ことになる。

潤滑剤塗布前の実施例１の水に対する接触角は５４で、
同比較例の３０より大きく、上記の考え方から言っても
、実施例１の方が比較例よりも吸着しにくいことが確か
められた。

また、酸化ジルコニウムは潤滑剤保持能力が高く２表面
の潤滑膜が剥離しらくく耐摩耗性が高くＣＳＳ特性も良
好であった。

なお、上記実施例では２円板径が５．２５インチのもの
について示したが、１４インチ、８インチ３．５インチ
でもよい。

また、磁性体としてはＧｏ−Ｎｉのスパッタ膜について
示したが、その他の合金膜、γ−ＰｅｙＯｓのスパッタ
膜でもよい。さらにド地硬化層としてＮ１−Ｐについて
示したが、アルマイトでもよい。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、磁気ディスクの保護
膜を酸化ジルコニウム又は酸化ケイ素と酸化ジルコニウ
ムの混合物の塗布膜とすることにより、ヘッドスライダ
との吸着を防１トでき、　ＣＳＳ特性に優れ、信頼性の
高い磁気ディスクが得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面
図、第２図は一般的な磁気ディスク装置を示す概念図、
第３図及び第４図は第２図における要部拡大図で、第３
図は磁気ディスク装置の稼働時を、第４図は開停止ヒ時
を示している。 図において、　（１０）は基板（りと下地硬化層（２）
からなる基材、（３）は磁性層、（４）は保護膜、（５
）は潤滑膜、（６）は磁気ディスクである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基材、この基材に形成した磁性体層、酸化ジルコニウム
   又は酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの混合物の塗布膜か
   らなり、上記磁性体層を覆う保護膜、及びこの保護膜上
   に形成した潤滑膜を備えた磁気ディスク。