JPH05344425A - Ccd映像素子 - Google Patents
Ccd映像素子Info
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Abstract
検出器を含み、CCDを信号読み取りの走査手段として
使用するCCD映像素子において、各VCCD領域の左
右両側に前記光検出器が連続的に接続された形態が、前
記VCCD領域のない部分に形成されたチャンネルスト
ップ領域を介して互いに平行に反復して配列されている
構成を含む 【効果】CCD映像素子のチップ面積中のVCCDの面
積を最小化できるので、相対的に光検出器の面積を増大
することができ、すなわち、フィルファクターの数を増
加することができ、画面の解像度を向上させることがで
きる。また、CCD映像素子は各々4フィールドで構成
された4相のクロック信号によって動作させるから、走
査速度は遅いが、画面の解像度を向上することができ
る。
Description
り、特に、画面の解像度を向上させるのに好適なCCD
映像素子に関する。
バイス(Charge Coupled Device):電荷結合デバイス)
は、固体撮像素子(ソリッド ステイト イメージ セン
サ(Solid State image Sensor))またはCCD映像素子
を製造するのに主として使用される。
基板上に複数の光検出器と走査手段とを設けたものであ
り、光検出器として適切なものを選択すれば、可視領域
から赤外線領域まで撮影が可能になる。前記固体撮像素
子の走査手段としては、主にMOS(メタル オキサイ
ド セミコンダクタ(Metal Oxide Semiconductor))スイ
ッチやCCDが使用されたが、前記MOSスイッチを使
用する場合には、該MOSスイッチの動作時発生するス
パーク雑音によって信号対雑音比(SN比)が低下する
から高い信号対雑音比が要求される微弱の信号の検出に
は使用できなかった。
チは現在あまり使用されない。CCDを使用する場合
も、前記MOSスイッチのように光検出器を自由に選択
することができる。この場合、光検出器の有効面積を大
きくするために、CCD部(特にVCCD:バーティカ
ル チャージ カプルド デバイス(Vertical Charge Coup
led Device))の面積をなるべく小さく設計するのがよ
い。特に、光検出器列の間にCCDが配置されるインタ
レース方式においてはこのことはさらに重要である。前
記光検出器としては、PN接合、MIS(メタル イン
シュレイタ セミコンダクタ(Metal Insulater Semicond
uctor))構造、ショットキー接合等の検出が使用され
る。また、前記CCDのような走査手段を利用した走査
方式としてはインタレース方式と非インタレース方式と
がある。前記非インタレース方式は、1個のフレームが
複数のフィールドで構成され、図9に示すように、最初
入力されるフィールドのデータから順に画面に走査され
る。図9の数字1、2、3…は、走査される各フィール
ドが入力される順番とおりに表示されるのを示したもの
である。前記インタレース方式は、1個のフレームが偶
数フィールドと奇数フィールドとで構成され、図10に
示すように、まず奇数フィールドのデータが画面に走査
され、次いで、偶数フィールドが画面に走査される。図
10で、数字1は各奇数フィールドを示したものであ
り、数字2は偶数フィールドを示したものである。
走査速度が速いので速く動作する物体の実際画像を正確
に捕捉することができるので、ミサイルのような軍事用
装備で使用される。しかし、これの短所は画像が震える
ことである。
に比べて走査速度がおそいから画像が安定感はあるが、
速い速度で動作する物体はふたつの画像として現わす。
したがって、軍事用には不適当であり、主にNTSC方
式、PAL方式のTV放送において画面走査に使用され
る。上記の従来技術中、インタレース方式のCCD映像
素子の構造を図11〜14を参照して説明する。
目の水平ラインを奇数水平ラインとし、偶数番目の水平
ラインを偶数水平ラインとする。
映像素子の構成図であり、1個のホトダイオードPDが
1個のVCCD領域VCCDに対応して連続接続され、
各ホトダイオードPDは出力する映像信号電荷が一方向
にのみVCCD領域VCCDに転送されるようにVCC
D領域VCCDに接続され、各VCCD領域VCCDは
各ホトダイオードPDにより移動された4相(Phase)
信号電荷となされる第1〜第4のVCCDクロック信号
Vφ1〜Vφ4によって同時にHCCD領域HCCDに転
送されるようにしたものである。
子のレイアウト図、図13は図12のa−a′線に沿う
断面図、図14は図12のb−b′線に沿う断面図であ
る。各VCCD領域VCCDとホトダイオードPD間に
は、チャンネルストップ領域STを形成し、第1、第2
VCCDクロック信号Vφ1、Vφ2が印加される奇数ゲ
ート電極PG1を奇数水平ライン上に配列された各ホト
ダイオードPDの各トランスファゲートTG1に接続さ
れるようにVCCD領域VCCDとチャンネルストップ
領域ST上にわたって形成し、第3、第4VCCDクロ
ック信号Vφ3、Vφ4が印加される偶数ゲート電極PG
2は偶数水平ライン上に配列されたホトダイオードPD
の各トランスファゲートTG2に接続されるようにチャ
ンネルストップ領域STおよびホトダイオードPD上に
形成したものである。
極PG2は、同一の形態で反復形成することができ、こ
れらの奇数ゲート電極PG1と偶数ゲート電極PG2は、
図示しないが、絶縁物質で電気的に絶縁されている。ま
た、トランスファゲートTG1、TG2、奇数ゲート電極P
G1、偶数ゲート電極PG2の物質としては多結晶シリコ
ンが使用される。
のホトダイオードPDの下方(図12において)に形成
され、かつ第2VCCDクロック信号Vφ2が印加する
第1奇数ゲート電極PG1aと、奇数水平ラインのホトダ
イオードPDの上方(図12において)に形成され、第
1VCCDクロック信号Vφ1が印加され、かつ奇数水
平ラインに形成されたホトダイオードPDの各トランス
ファゲートTG1に接続された第2奇数ゲート電極PG
1bとにより構成される。
のホトダイオードPDの下方に形成され、かつ第4VC
CDクロック信号Vφ4が印加される第1偶数ゲート電
極PG2aと、偶数水平ラインのホトダイオードPDの下
方に形成され、第3VCCDクロック信号Vφ3が印加
され、かつ偶数水平ラインに形成されたホトダイオード
PDの各トランスファゲートTG2に接続された第2偶
数ゲート電極PG2bにより構成される。
ク信号Vφ1〜Vφ4は、偶数フィールドと奇数フィール
ドとの2個のフィールドで構成される。なお、VCCD
クロッキングについては後で詳細に説明する。
に、p型ウェル200が形成され、偶数水平ラインに形
成されたn型ホトダイオードPDとn型VCCD領域V
CCDがチャンネルストップ領域STを介して所定の間
隔をおいて連続接続され、各ホトダイオードPDと各V
CCD領域VCCDと間の上部には、これらを相互接続
するための各トランスファゲートTG2が形成され、各
VCCD領域VCCDの表面上部には、第3VCCDク
ロック信号Vφ3が印加される偶数ゲート電極PG2の第
2偶数ゲート電極PG2bが偶数水平ラインのホトダイオ
ードPDの各トランスファゲートTG2に接続されるよ
うにしたものである。ここで、p型ウェル200は、O
FD(オーバー フロー ドレイン(Over Flow Drain))
の電圧制御のための浅いp型ウェル200aと深い型ウ
ェル200bとの2個で構成される。各ホトダイオード
PDの表面には、通常、初期バイアス印加のための高濃
度p型薄膜300が形成されている。チャンネルストッ
プ領域STの下部に記載された文字p+は、高濃度p型
のチャンネルストップイオンを示す。
p型ウェル200が形成され、偶数水平ラインのn型ホ
トダイオードPDとn型VCCD領域VCCDとがチャ
ンネルストップ領域STを介して所定の間隔をおいて接
続された形態が連続配列され、各VCCD領域VCCD
の表面上部には、第4VCCDクロック信号Vφ4が印
加される偶数ゲート電極PG2の第1偶数ゲート電極P
G2aが形成されている。
ードPDの表面には通常の高濃度p型薄膜300が形成
され、チャンネルストップ領域ST下部に記載された文
字p+は、高濃度p型のチャンネルストップイオンを示
す。p型ウェル200はOFD電圧を制御するために浅
いp型ウェル200aと深いp型ウェル200bからな
る。
ホトダイオードPDのトランスファゲートTG1は、奇
数ゲート電極PG1の第2奇数ゲート電極PG1bに印加
され第1VCCDクロック信号Vφ1のみよって駆動さ
れ、偶数水平ラインに形成されたホトダイオードPDの
各トランスファゲートTG2は、偶数ゲート電極PG2の
第2偶数ゲート電極PG2bに供給される第3VCCDク
ロック信号Vφ3のみによって駆動される。
極PG1aに印加される第2VCCDクロック信号Vφ2
と、偶数ゲート電極PG2の第1偶数ゲート電極PG2a
に印加される第4VCCDクロック信号Vφ4は、偶数
および奇数水平ラインに形成された各ホトダイオードP
Dから転送される映像信号電荷をHCCD(ホリゾンタ
ル チャージ カプルド デバイス(Horizontol Charge Co
upled Device))領域(HCCD)に移動させる機能の
みをする。
5〜17を用いて説明する。
ク信号Vφ1〜Vφ4のタイミング図であり、各クロック
信号は、偶数フィールドと奇数フィールドとからなる2
フィールドで構成される。
電極PG1の第2奇数ゲート電極PG1bに供給される第
1VCCDクロック信号Vφ1には、ハイレベル状態
(15V)のトランスファゲートTG2の駆動電圧V1が
含まれている。偶数フィールドで、偶数ゲート電極PG
2の第2偶数ゲート電極PG2bに印加される第3VCC
Dクロック信号Vφ3にはハイレベル状態15Vのトラ
ンスファゲートTG2の駆動電圧V2が含まれている。
第4VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4が同時に供給さ
れると、各奇数水平ラインに形成されたホトダイオード
PDの各第1VCCDクロック信号Vφ1に含まれた各
トランスファゲート駆動電圧V1により同時にオンされ
る。したがって、ホトダイオードPDで生成された映像
信号電荷はVCCD領域VCCDに転送され、VCCD
クロッキング動作によりHCCD領域HCCDに移動す
る。ここで、図16は図15の単位部分Kにおいての第
1〜第4VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4として印加
されるパルス波形図である。図16に示すように、一連
のクロッキング動作によりホトダイオードPDから転送
された映像信号は、HCCD領域HCCDの方へ移動す
る。この場合、奇数水平ラインの下方に形成された奇数
ゲート電極PG1の第1奇数ゲート電極PG1aを介して
供給される第2VCCDクロック信号Vφ2は単に、第
1VCCDクロック信号Vφ1によって奇数水平ライン
のホトダイオードPDから転送される映像信号電荷を第
1VCCDクロック信号Vφ1と共にHCCD領域HC
CDに移動させる機能のみをする。図15の偶数フィー
ルドで、第1〜第4のVCCDクロック信号Vφ1〜V
φ4が同時に印加されると、第3VCCDクロック信号
Vφ3に含まれるトランスファゲート駆動電圧V2により
各偶数水平ラインに形成されたホトダイオードPDの各
トランスファゲートTG2はオンされる。結局、偶数水
平ラインのホトダイオードPDで生成された映像信号電
荷は、奇数フィールドの図16に示すようなクロッキン
グ動作によってHCCD領域HCCDへ垂直方向に移動
する。この場合、偶数水平ラインの下方に形成される偶
数ゲート電極PG2の第1偶数ゲート電極PG2aを介し
て供給される第4VCCDクロック信号Vφ4は、第3
VCCDクロック信号Vφ3と共に単に第3VCCDク
ロック信号Vφ3により偶数水平ラインのホトダイオー
ドPDから転送される映像信号電荷をHCCD領域HC
CDに転送する機能のみをする。上記のように、4相の
VCCDクロック信号を使用すると、2相のVCCDク
ロック信号を使用する場合よりますます多くの量の映像
信号電荷量を転送することができる。
示すような4相のクロッキング信号である第1〜第4V
CCDクロック信号Vφ1〜Vφ4によって、奇数水平ラ
インに配列されたホトダイオードPDの映像信号電荷が
VCCD領域VCCDおよびHCCD領域HCCDを介
して順に画面に走査される。次いで、偶数水平ラインに
配置されたホトダイオードの映像信号電荷がVCCD領
域VCCDおよびHCCD領域HCCDを介して順に画
面に走査される。前述のように、このような走査方式を
インタレース方式とする。図11に示すように、奇数水
平ラインに配列されたホトダイオードPDの信号電荷を
「1」とし、偶数水平ラインに配列されたホトダイオー
ドPDの信号電荷を「2」とするとき、映像信号電荷
1、2によって表示される各ピクセルからなる1つの画
面(フレーム)の状態を図17のように示すことができ
る。
術は次のような問題がある。
は、NTSCまたはPAL方式のTV放送で広く使用さ
れるが、光検出器の間毎にVCCDが位置するので、C
CD映像素子の総チップ面積中、映像信号の受光とは関
係ないVCCD領域の比率が非常に大きい。
度を高くするためには、光検出器の個数を多くする必要
があるが、これには一定の限界があるので、高解像度の
画面を得ることが難しい。
のであり、本発明の目的は、CCD領域の面積を減ら
し、同一のチップの大きさで映像信号の光を受光する光
検出器の部品数を増加することができるので、高解像度
を要求するシステムで使用することができるCCD映像
素子を提供することにある。
に、本発明のCCD映像素子は、それぞれトランスファ
ゲートを有する複数の光検出器を含み、CCDを信号読
み取りの走査手段として使用するCCD映像素子におい
て、各VCCD領域の左右両側に前記光検出器が連続的
に接続された形態が、前記VCCD領域のない部分に形
成されたチャンネルストップ領域を介して互いに平行に
反復して配列されている構成を含むことを特徴とする。
1〜第4ゲート電極が前記VCCD領域上に反復して形
成され、前記各ゲート電極は絶縁膜によって互いに電気
的に絶縁されていることを特徴とする。
ラインと偶数水平ラインとの各中央点を基準点として左
右上下に形成された前記光検出器を第1〜第4光検出器
とし、VCCDクロック信号を供給する前記第1〜第4
ゲート電極が前記第1〜第4光検出器の1個のみに応じ
るトランスファゲートにそれぞれ接続されるように形成
され、前記第1〜第4の光検出器のトランスファゲート
は、供給されるVCCDクロック信号によって順にオン
されて1個のピクセルに応じる信号電荷のみがVCCD
領域に転送されることを特徴とする。
記VCCD領域、前記光検出器、前記チャネルストップ
領域上にわたって反復して形成され、VCCDクロック
信号が第1〜第4フィールドからなり、前記第1の光検
出器のトランスファゲートが前記第1フィールドのクロ
ック信号によってオンされ、前記第2の光検出器のトラ
ンスファゲートが前記第2フィールドのクロック信号に
よってオンされ、前記第3の光検出器のトランスファゲ
ートが前記第3フィールドのクロック信号によってオン
され、前記第4の光検出器のトランスファゲートが前記
第4フィールドのクロック信号によってオンされること
を特徴とする。
ゲートの少なくとも一方が、多結晶シリコン膜からなる
ことを特徴とする。
たホトダイオードからなることを特徴とする。
D領域の幅とが同じであることを特徴とする。
光検出器が連続的に接続された形態が互いに平行に反復
して配列されている構成により、CCD映像素子のチッ
プ面積中のVCCDの面積を最小化できるので、相対的
に光検出器の面積を増大することができ、すなわち、フ
ィルファクター数を増加することができ、画面の解像度
を向上させることができる。また、CCD映像素子は各
々4フィールドで構成された4相のクロック信号によっ
て動作させるから、走査速度はおそいが、画面の解像度
を向上することができる。
面図1〜4を用いて詳述する。
の構成図で、各VCCD領域VCCDの左右両側には、
複数のホトダイオードPDが接続され、各VCCD領域
VCCDの下方にはHCCD領域HCCDを形成し、V
CCD領域VCCDが存在しない部分に形成されたチャ
ンネルストップ領域STを介してホトダイオードPDが
互いに平行に反復して配列されている。
ウト図で、2個のホトダイオードは、チャンネルストッ
プ領域STを介して相互に電気的に絶縁され、VCCD
領域VCCDの間で連続的に相互に平行に配列され、ホ
トダイオードPDが配列された奇数水平ラインには、第
1、第2VCCDクロック信号Vφ1、Vφ2を供給する
ための奇数ゲート電極PG1をホトダイオードPD、チ
ャンネルストップ領域STおよびVCCD領域VCCD
上にわたって形成し、ホトダイオードPDが配列された
偶数水平ラインには、第3、第4VCCDクロック信号
Vφ3、Vφ4を供給するための偶数ゲート電極PG2を
ホトダイオードPD、チャンネルストップ領域STおよ
びVCCD領域VCCD上にわたって形成したものであ
る。
平ラインに配列されたホトダイオードPDの下方に形成
され、VCCD領域VCCDの右側に形成されたホトダ
イオードPDの各トランスファゲートTG3に接続さ
れ、かつ第2VCCDクロック信号Vφ2が供給される
第1奇数ゲート電極PG1aと、奇数水平ラインに配列さ
れたホトダイオードPDの上方に形成され、VCCD領
域VCCDの左側に形成されたホトダイオードPDの各
トランスファゲートTG1に接続され、かつ第1VCC
Dクロック信号Vφ1が供給される第2奇数ゲート電極
PG1bとからなる。
ラインに配列されたホトダイオードPDの下方に形成さ
れ、VCCD領域VCCDの左側に形成されたホトダイ
オードPDの各トランスファゲートTG4に接続され、
第4VCCDクロック信号Vφ4が供給される第1偶数
ゲート電極PG2aと、偶数水平ラインに配列されたホト
ダイオードPDの上方に形成され、VCCD領域VCC
Dの右側に形成されたホトダイオードPDのトランスフ
ァゲートTG2に接続され、第3VCCDクロック信号
Vφ3が供給される第2偶数ゲート電極PG2bとからな
る。また、奇数ゲート電極と偶数ゲート電極は、図示し
ない絶縁膜を介して相互に電気的に絶縁されている。
り、n型基板100上にp型ウェル200が形成され、
このp型ウェル200の表面にはn型ホトダイオードP
Dとn型VCCD領域VCCDが、チャンネルストップ
領域STから少し離れて連続的に形成され、VCCD領
域VCCDの左側に形成されたホトダイオードPDとV
CCD領域VCCDとを接続するためのトランスファゲ
ートTG1がそれらの間の空間の上部領域に形成され、
VCCD領域VCCDの上部領域には、第1VCCDク
ロック信号Vφ1を供給するための奇数ゲート電極PG1
の第2奇数ゲート電極PG1bが形成されている。ここ
で、p型ウェル200は、OFD電圧を制御するための
浅いp型ウェル200aと深いp型ウェル200bとか
らなる。
の断面図で、図3の各トランスファゲートTG1と第2
奇数ゲート電極PG1bの代わりに、VCCD領域VCC
DとこのVCCD領域VCCDの右側に形成されたフォ
トダイオードPDとを接続するためのトランスファゲー
トTG3がそれらの間の空間の上部領域に形成され、第
2VCCDクロック信号Vφ2が供給される奇数ゲート
電極PG1の第1奇数ゲート電極PG1aがVCCD領域
VCCDの上部領域に形成されている。
て説明する。
CDクロック信号Vφ1〜Vφ4のタイミング図で、各ク
ロック信号はずべて4フィールドで構成される。
信号Vφ1は、第1フィールドに15Vのトランスファ
ゲート駆動電圧V1を有し、第2VCCDクロック信号
Vφ2は、第3フィールドに15Vのトランスファゲー
ト駆動電圧V2を有し、第3VCCDクロック信号Vφ3
は、第2フィールドに15Vのトランスファゲート駆動
電圧V3を有し、第4VCCDクロック信号Vφ4は、第
4フィールドに15Vのトランスファゲート駆動電圧V
4を有する。
CDクロック信号Vφ1〜Vφ4のパルス波形図であり、
ホトダイオードPDから転送された映像信号は、このよ
うなパルス波形により図1および図2に示すHCCD領
域HCCDの方へ垂直に移動する。
〜第4VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4が、奇数ゲー
ト電極PG1および偶数ゲート電極PG2に同時に供給さ
れると、奇数ゲート電極PG1の第2奇数ゲート電極P
G1bを介して供給される第1VCCDクロック信号Vφ
1に含まれたトランスファゲート駆動電圧V1によって、
図2の基準点Pを中心として左側上部領域に形成された
ホトダイオードPDのトランスファゲートTG1がオン
される。ここで、図2の各基準点Pは、VCCD領域V
CCD中、奇数水平ラインと偶数水平ラインの中央に位
置された点をいう。
成された映像信号電荷は、VCCD領域VCCDに移動
され、図6に示すような第1〜第4VCCDクロック信
号Vφ1〜Vφ4のクロッキング動作によって、HCCD
領域HCCDの方に垂直方向に移動する。
〜第4VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4が、奇数ゲー
ト電極PG1および偶数ゲート電極PG2に同時に供給さ
れると、偶数ゲート電極PG2の第2偶数ゲート電極P
G2bを介して供給される第3VCCDクロック信号Vφ
3に含まれるトランスファゲート駆動電圧V3によって、
図2の基準点Pを中心として右側下部領域に形成された
ホトダイオードPDの各トランスファゲートTG2がオ
ンされる。
成された映像信号電荷は、VCCD領域VCCDに移動
され、図6に示すような第1〜第4VCCDクロック信
号Vφ1〜Vφ4のクロッキング動作によって、HCCD
領域HCCDの方に垂直方向に移動される。
1〜第4VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4が同時に供
給されると、奇数ゲート電極PG1の第1奇数ゲート電
極PG1aを介して供給される第2VCCDクロック信号
Vφ2に含まれたトランスファゲート駆動電圧V2によ
り、図2の各基準点Pを中心として右側上部領域に形成
されたホトダイオードPDの各トランスファゲートTG
3がオンされる。
成された映像信号電荷は、VCCD領域VCCDに移動
され、図6に示すような第1〜第4VCCDクロック信
号Vφ1〜Vφ4のクロッキング動作によってHCCD領
域HCCDの方に移動する。
VCCDクロック信号Vφ1〜Vφ4が奇数ゲート電極P
G1および偶数ゲート電極PG2に供給されると、偶数ゲ
ート電極PG2の第1偶数ゲート電極PG2aを介して供
給される第4VCCDクロック信号Vφ4に含まれたト
ランスファゲート駆動電圧V4によって、図2の各基準
点Pを中心として左側下部領域に形成されたホトダイオ
ードPDの各トランスファゲートTG4がオンされる。
成された映像信号電荷は、各VCCD領域VCCDに移
動され、図6に示すような第1〜第4VCCDクロック
信号Vφ1〜Vφ4のクロッキング動作によってHCCD
領域HCCDの方に垂直方向に移動する。
画面(すなわち、フレーム)の状態を図7に示す。ここ
で、1は図2で基準点Pを中心として左側上部領域に位
置されたホトダイオードPDで生成された映像信号電荷
が1個のピクセルとして表示された状態を示したもので
あり、2は図2で基準点Pを中心として右側下部領域に
位置されたホトダイオードPDで生成された映像信号電
荷が1個のピクセルとして表示された状態を示したもの
であり、3は図2で基準点Pを中心として右側上部領域
に位置されたホトダイオードPDで生成された映像信号
電荷が1個のピクセルとして表示された状態を示したも
のであり、4は図2で基準点を中心として左側下部領域
に位置されたホトダイオードPDで生成された映像信号
電荷が1個のピクセルとして表示された状態を示したも
のである。
ホトダイオード領域とする場合、前記動作により表示さ
れた画面(フレーム)の状態を示したものである。
は、演算手段を用いることにより基準点Pを中心として
図2の左右両側上部領域のそれぞれに位置された2個の
ホトダイオードで生成された映像信号電荷を加算し、2
で割ることにより得られた値が1個のピクセルとして表
示された状態を示したものである。また、2+4/2
は、前記演算手段によって図2の基準点Pを中心として
左右両側下部領域にそれぞれ位置されたホトダイオード
PDで生成された映像信号電荷を加算し、2で割ること
により得られた値により1個のピクセルが表示された状
態を示したものである。
CCD映像素子のチップ面積中のVCCDの面積を最小
化できるので、相対的に光検出器の面積を増大すること
ができ、すなわち、フィルファクターの数を増加するこ
とができ、画面の解像度を向上させることができる。ま
た、CCD映像素子は各々4フィールドで構成された4
相のクロック信号によって動作させるから、走査速度は
遅いが、画面の解像度を向上することができる。したが
って、高解像度が要求される製造自動化システム(CA
M)のコーダー、スチルカメラ等に適用することができ
る。
ある。
ミング図である。
ある。
ルの構成図である。
ある。
ある。
構成図である。
信号のタイミング図である。
ムのピクセルの構成図である。
ート、VCCD…VCCD領域、HCCD…HCCD領
域、Vφ1〜Vφ4…VCCDクロック信号、PG1…奇
数ゲート電極、PG2…偶数ゲート電極、ST…チャン
ネルストップ領域、100…n型基板、200…p型ウ
ェル、300…高濃度p型薄膜。
Claims (7)
- 【請求項1】それぞれトランスファゲートを有する複数
の光検出器を含み、CCDを信号読み取りの走査手段と
して使用するCCD映像素子において、各VCCD領域
の左右両側に前記光検出器が連続的に接続された形態
が、前記VCCD領域のない部分に形成されたチャンネ
ルストップ領域を介して互いに平行に反復して配列され
ている構成を含むことを特徴とするCCD映像素子。 - 【請求項2】VCCDクロック信号を供給する第1〜第
4ゲート電極が前記VCCD領域上に反復して形成さ
れ、前記各ゲート電極は絶縁膜によって互いに電気的に
絶縁されていることを特徴とする請求項1記載のCCD
映像素子。 - 【請求項3】前記光検出器が配列された奇数水平ライン
と偶数水平ラインとの各中央点を基準点として左右上下
に形成された前記光検出器を第1〜第4光検出器とし、
VCCDクロック信号を供給する前記第1〜第4ゲート
電極が前記第1〜第4光検出器の1個のみに応じるトラ
ンスファゲートにそれぞれ接続されるように形成され、
前記第1〜第4の光検出器のトランスファゲートは、供
給されるVCCDクロック信号によって順にオンされて
1個のピクセルに応じる信号電荷のみがVCCD領域に
転送されることを特徴とする請求項1または2記載のC
CD映像素子。 - 【請求項4】前記第1〜第4のゲート電極が、前記VC
CD領域、前記光検出器、前記チャネルストップ領域上
にわたって反復して形成され、VCCDクロック信号が
第1〜第4フィールドからなり、前記第1の光検出器の
トランスファゲートが前記第1フィールドのクロック信
号によってオンされ、前記第2の光検出器のトランスフ
ァゲートが前記第2フィールドのクロック信号によって
オンされ、前記第3の光検出器のトランスファゲートが
前記第3フィールドのクロック信号によってオンされ、
前記第4の光検出器のトランスファゲートが前記第4フ
ィールドのクロック信号によってオンされることを特徴
とする請求項1、2または3記載のCCD映像素子。 - 【請求項5】前記ゲート電極、前記トランスファゲート
の少なくとも一方が、多結晶シリコン膜からなることを
特徴とする請求項1、2、3または4記載のCCD映像
素子。 - 【請求項6】前記光検出器が、PN接合を利用したホト
ダイオードからなることを特徴とする請求項1、2、
3、4または5記載のCCD映像素子。 - 【請求項7】前記各光検出器の幅と前記VCCD領域の
幅とが同じであることを特徴とする請求項1記載のCC
D映像素子。
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