JPH0531560B2 - - Google Patents
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Description
デオキシリボ核酸（DNA）の非イオン性アナ
ローグは、DNA−DNAおよびDNA−タンパク
相互作用の研究に重要である。デオキシリボヌク
レオチドのホスホン酸エステルは、化学的に安定
であり、細胞中に入り込む能力がありそして細胞
ヌクレアーゼに対し高い抵抗性を有す結果、特に
重要である。これまでに、ヌクレオチドのメチル
ホスホネートアナローグの合成には４つの異なる
方法が記載されている。 １ ogilvieら〔M.J.NemerおよびK.K.Ogilvie、
Tetrahedron Lett.21、4149ペーシ（1980）参
照〕は相当するホスフアイト中間体のMich−
aelis−Arbuzov転位により完全に保護された
ウリジル−3′，5′−ウリジンメチルホスホネー
トを製造した。この反応（沃化メチル使用、50
℃で20時間）はその条件が過酷なため一般的に
は適用できない可能性がある。何故なら、例え
ばプリン塩基のメチル化が起こり得るからであ
る。 ２ Ts′Oら〔P.S.Miller、J.Yano、E.Yano、C.
Caroll、K.JayaramanおよびP.O.P.Ts′O、
Biochemistry18、5134（1979）；Proc.Natl.
Acad.Sci.USA78、1537（1981）；P.S.Miller、
N.Drean、S.M.PulfordおよびK.B.
McParland、J.Biol.Chem.225、9659（1980）
参照〕はオリゴヌクレオチド合成におけるホス
ホトリエステル法に類似の合成方法を開発し
た。この場合、保護されたヌクレオチド3′−Ｏ
−メチルホスホン酸β−シアノエチルエステル
が最重要中間体として用いられる。この方法
は、ホスホトリエステル法について知られる長
所および短所を有し、りん(V)化合物の低反応性
は特に短所として述べられている。 ３ Agarwalら〔K.L.AgarwalおよびF.Riftina、
Nucl.Acid Res.６、3009（1979）参照〕はメチ
ルホスホン酸ジクロライドを二官能性ホスホニ
ル化剤として用いた。第２段階でそのクロライ
ドをテトラゾールにより活性化しなければなら
ない。得られる粗製生成物は効率的クロマトグ
ラフイーにより精製され得るに過ぎない。 ４ J.EngelsおよびA.Ja¨ger、Angew、Chem.
Suppl.1982、2010およびN.D.Sinha、V.
GrossbruchhausおよびH.Ko¨ster、
Tetrahedron Lett.24、887（1983）はメチルジ
クロロホスフアンを出発物質として用いた。後
者の著者は重合体担体上でヌクレオチドメチル
ホスホネートを合成した。得られた生成物は、
未だ特徴付けられていない。 メチルスルホン酸ジクロライドの第２ハロゲ
ンの反応性は一般に低すぎて付加的な活性化が
必要であるのに対し、ホスフイン酸ジクロライ
ドの場合の活性はどちらかというと高すぎる。
すなわち、取扱い上の困難が生じ（極端に無水
の媒質）、また加えて、対称亜ホスホン酸エス
テルが不可避的に形成される。 これに対し、本発明は、一般式 〔式中 Ｔは第１級ヒドロキシル基のための保護基、好
ましくはトリフエニルメチル（＝Tr）、ｐ−アニ
ソイルジフエニルメチルまたはジ（ｐ−アニソイ
ル）フエニルメチルを表わし、 Ｂは存在するエキソ−アミノ基が保護されてい
るヌクレオシド塩基基、好ましくは、１−チミニ
ル、１−（Ｎ−４−ベンゾイルシトシニル）、９−
（Ｎ−６−ベンゾイルアデニニル）または９−（Ｎ
−２−イソブチロイルグアニニル）を表わし、 Ｇは第２級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、 Ｚは酸素、硫黄またはセレンを表わし、そして Ｒは８個以下のＣ原子を有するアルキル、シク
ロヘキシル、ベンジル、または所望により弗素、
塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシまた
はトリフルオロメチルにより置換されたフエニル
を表わしそして好ましくはメチル、エチル、フエ
ニルまたはベンジル、特にメチルを表わす〕 で表わされるデオキシリボヌクレオシドホスホネ
ートの製造方法であつて、一般式 〔式中Ｘは塩素またはＹを表わしそしてＹは式 （式中R1およびR2は８個以下の炭素原子を有す
る同じかまたは異なるアルキルまたはシクロアル
キル基またはフエニル基を表わすか、またはR1
およびR2は窒素と共に、それ以外にもヘテロ原
子を含有し得る飽和または不飽和複素環を表わ
す） で表わされる基を表わす） で表わされる二官能性ホスホニル化試薬を一般式
（式中ＴおよびＢは前述の意味を有する） で表わされるヌクレオシドと好ましくは−80〜＋
100℃、特に−20〜０℃で反応させ、得られる一
般式 で表わされる化合物を一般式 （式中ＢおよびＧは前述の意味を有する） で表わされる化合物と好ましくは−20〜＋100℃、
特に室温で反応させ、そして得られる一般式 （式中Ｔ、Ｒ、ＢおよびＧは前述の意味を有す
る） で表わされる化合物を、好ましくは−80〜＋100
℃、特に−20℃〜室温で、一般式の化合物に酸
化的に変換することから成る前記製造方法に関す
る。 Ｚは硫黄またはセレンを表わす一般式の化合
物および一般式の中間体は新規であり、これも
また本発明の主題を形成する。 原則的には、一般式の二官能性ホスホニル化
試薬の基Ｒは一般式〜の化合物に対して不活
性であり、また反応を阻害しない任意の非細胞毒
性有機基であることができる。 一般式−NR1R2で表わされる可能な基として
は、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチ
ルプロピルアミノ、メチルヘキシルアミノ、メチ
ルシクロヘキシルアミノ、メチルベンジルアミ
ノ、モルホリノ、ピロリジノ、ピペリジノ、メチ
ルアニリノ、ジフエニルアミノ、イミダゾロ、ト
リアゾロ、ベンドトリアゾロおよびテトラゾロな
どがあげられる。 Ｘが塩素を表わす一般式の出発物質は相当す
るジクロロホスフアン、好ましくはメチルジクロ
ロホスフアンを一般式 Ｈ−NR1R2 （） （式中R1およびR2は前述の意味を有する） で表わされる第２級アミンと反応させることによ
り得ることができる。相対応して、Ｘが式Ｙの基
を表わす一般式で表わされる化合物は、同じ第
２級アミンまたは一般式で表わされる異なる第
２級アミンとさらに反応させることにより得るこ
とができる。式の化合物は真空蒸留により精製
することができる。 一般式のホスホニル化剤と一般式の適切に
保護されたヌクレオシドとの反応は中程度に極性
の溶媒中、好ましくはクロロホルム中、水分を排
除して行なわれる。この反応には第３級アミン、
好ましくはエチルジイソプロピルアミン〔ヒユー
ニツヒ塩基（Hu¨nig′s base）〕を補助塩基として
用いることができる。後処理は、水により抽出し
そして一般式の生成物を非極性溶媒、例えば石
油エーテルまたはペンタンなどで沈殿させること
により行なわれる。このようにして得られた一般
式の亜ホスホン酸エステル−アミドは無色粉末
として沈殿しまた1H−NMR、31P−NMRまたは
UVなどの分光学的データおよび元素分析により
特徴付けることができる。さらにまたそれらは、
直接酸化により一般式 （式中Ｔ、Ｂ、Ｚ、ＲおよびＹは前述の意味を有
する） で表わされる亜ホスホン酸エステル−アミドに転
化することもでき、そしてそれを次いで単離しま
た特徴付けることができる。 驚くべきことに、検出限界内において対称ジヌ
クレオシド3′，3′−ホスホナイトは全く形成され
ない。 31P−NMRにより示されるように、一般式
の化合物は乾燥状態および最高−20℃で貯蔵した
場合、粉末状態では少なくとも１ケ月安定であ
る。亜ホスホン酸エステル−アミドのこの大きな
安定性は驚くべきものであり、かつこの方法を価
値を強調するものである。そのヌクレオシドのホ
スホン酸ジエステルの合成における普遍的な適用
可能性は、適切に3′−保護されたヌクレオシドと
の反応により示される。 すなわち、この反応においては、一般式の
5′−保護されたヌクレオシドホスホナイトを中程
度に極性の溶媒、好ましくはアセトニトリル、ク
ロロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解し、
そして一般式（3′−位が保護されている）のヌ
クレオシドと混合する。一般式の化合物におけ
る適切な保護基Ｇはアシル基、例えばベンゾイ
ル、アセチル、ピバロイルまたはレブロニル、ま
たはシリル基、例えば第３級ブチルジメチルシリ
ルなどである。この反応は酸、好ましくはアゾー
ルまたはアミン塩酸塩により触媒される。ベンゾ
トリアゾールが特に適している。生成物のHPLC
が対称5′，5′−異性体を全く示さず、またほんの
微量しか3′，3′−異性体ホスホネートを示さない
ことは驚くべきことである。 不活性中間体、すなわち、一般式の亜ホスホ
ン酸トリエステルは一般式のホスホネートに直
接酸化される。この目的に通常用いられる酸化
剤、例えば四酸化二窒素または沃素などのほか
に、パーオキサイド類、特に無水第３級ブチルハ
イドロパーオキサイドが価値あるものであること
がわかつている。この反応は、中程度に極性の溶
媒中で行なうのが好ましく、特にアセトニトリル
またはクロロホルムが好ましい。既知のジアシル
アルキルホスホナイトの、酸により触媒されるエ
ステル交換反応を特に考慮すべきである〔F.W.
Hoffmann、R.G.RothおよびT.C.Simmons、J.
Amer.Chem.Soc.80、5937−40（1958）参照〕。 それら化合物（それらの一部は既知である）は
31P−NMRおよび1H−NMRにより、そしてま
た、基準物質とのクロマト比較により特徴付けら
れる。 Ｚが硫黄またはセレンを表わす一般式の化合
物は一般式の化合物を元素状硫黄またはセレン
と直接反応させることにより製造される。化学量
論量の硫黄またはセレンと共に極性溶媒、例えば
テトラヒドロフラン中で撹拌すると一般式の相
当するチオホスホネートまたはセレノホスホネー
トが好収率で得られる。特徴付けは、31P−NMR
および1H−NMRならびに元素分析により行なわ
れる。 ヌクレオシド部分に不整中心が存在しそしてり
ん上にもう１つ生成するため、一般式のホスフ
エートはジアステレオマーの混合物として存在す
る（第６表の異性体１および２参照）。 １：１の統計比に近い異性体比は溶媒、温度お
よび添加順序などのパラメータの変動により極め
てほんのわずかしか影響を受けない。 次に実施例をあげて、本発明をさらに詳細に説
明する。 実施例 １ 出発物質H3C−Ｐ〔Ｎ（CH3）2〕2 滴下漏斗および機械撹拌器を設けた1000mlの三
頚フラスコ中で、125ml（1.9モル）のジメチルア
ミンを400mlの無水ジエチルエーテルに導入しそ
して60分間にわたつて氷冷しながら、60ml（0.40
モル）のメチルジクロロホスフアンの200mlの無
水エーテル中の溶液と反応させる。室温で２時間
および50℃で１時間撹拌後、沈殿を保護気体下に
別しエーテル100mlで２回すすぎそしてその
液を約0.1バールで濃縮する。残留物を0.5バー
ル／124℃で迅速に蒸発させる。ビグロー
（Vigreux）カラム（50cm）を用いて64〜65℃／
65ミリバールで精密蒸留して36.6ｇ（理論値の66
％）の無色液体が得られる。 分析：Cl(-)＜0.2％31 P−NMR（THF） δ＝87ppm1 H−NMR（CDCl3） δ＝1.23ppm（ｄ、７Hz、
Ｐ−CH3） δ＝2.66ppm（ｄ、７Hz、Ｎ（CH3）2） 実施例 ２ 5′−トリチルヌクレオシド（１ミリモル）を
不活性窒素雰囲気下に６mlの無水クロロホルムに
溶解しそしてH3CP〔Ｎ（CH3）2〕2（２ミリモル）を
添加する。反応は室温（撹拌）で12時間後に完了
し、あるいは、触媒量（0.1ミリモル）のコリジ
ン塩酸塩を添加すれば、わずか２時間後には完了
する。 その溶液を次いで100mlの塩化メチレンと共に
250mlの分液漏斗に移しそして50mlの飽和塩化ナ
トリウム溶液（0.1mlのトリエチルアミンを含有
する）と共に振盪することにより２度抽出する。
有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濃
縮して泡末状物質を得る。これを50mlのペンタン
と共に２時間撹拌する。残留物を別し２mlのジ
エチルエーテルに溶解しそしてその溶液を50mlの
十分撹拌されたペンタンに徐々に滴加する。微細
沈殿を別しそして乾燥して一般式の化合物を
85〜95％の収率で得る（第２表、および第３表参
照）。 それら化合物は31P核磁気共鳴分光学により直
接固定でき、あるいは第３級ブチルハイドロパー
オキサイドで酸化後に、一般式のホスホン酸エ
ステル−アミドとして同定できる（第４表および
第５表参照）。 31P−NMRスペクトルにおいて、これらの物
質は３％以下の加水分解生成物（ヌクレオシドメ
チルホスフイネート）を示すが、検出し得る量の
対称ジヌクレオシド3′，3′−ホスホナイトは全く
示さない。このことは、この方法がこれらの生成
物を約５〜10％常に生成していた従来の方法より
も優れていることを実証している。−20℃で乾燥
粉末として貯蔵した場合、１ケ月以内に分解が観
察されることはない。 同様にして次の試薬を用いた。すなわち、
ローグは、DNA−DNAおよびDNA−タンパク
相互作用の研究に重要である。デオキシリボヌク
レオチドのホスホン酸エステルは、化学的に安定
であり、細胞中に入り込む能力がありそして細胞
ヌクレアーゼに対し高い抵抗性を有す結果、特に
重要である。これまでに、ヌクレオチドのメチル
ホスホネートアナローグの合成には４つの異なる
方法が記載されている。 １ ogilvieら〔M.J.NemerおよびK.K.Ogilvie、
Tetrahedron Lett.21、4149ペーシ（1980）参
照〕は相当するホスフアイト中間体のMich−
aelis−Arbuzov転位により完全に保護された
ウリジル−3′，5′−ウリジンメチルホスホネー
トを製造した。この反応（沃化メチル使用、50
℃で20時間）はその条件が過酷なため一般的に
は適用できない可能性がある。何故なら、例え
ばプリン塩基のメチル化が起こり得るからであ
る。 ２ Ts′Oら〔P.S.Miller、J.Yano、E.Yano、C.
Caroll、K.JayaramanおよびP.O.P.Ts′O、
Biochemistry18、5134（1979）；Proc.Natl.
Acad.Sci.USA78、1537（1981）；P.S.Miller、
N.Drean、S.M.PulfordおよびK.B.
McParland、J.Biol.Chem.225、9659（1980）
参照〕はオリゴヌクレオチド合成におけるホス
ホトリエステル法に類似の合成方法を開発し
た。この場合、保護されたヌクレオチド3′−Ｏ
−メチルホスホン酸β−シアノエチルエステル
が最重要中間体として用いられる。この方法
は、ホスホトリエステル法について知られる長
所および短所を有し、りん(V)化合物の低反応性
は特に短所として述べられている。 ３ Agarwalら〔K.L.AgarwalおよびF.Riftina、
Nucl.Acid Res.６、3009（1979）参照〕はメチ
ルホスホン酸ジクロライドを二官能性ホスホニ
ル化剤として用いた。第２段階でそのクロライ
ドをテトラゾールにより活性化しなければなら
ない。得られる粗製生成物は効率的クロマトグ
ラフイーにより精製され得るに過ぎない。 ４ J.EngelsおよびA.Ja¨ger、Angew、Chem.
Suppl.1982、2010およびN.D.Sinha、V.
GrossbruchhausおよびH.Ko¨ster、
Tetrahedron Lett.24、887（1983）はメチルジ
クロロホスフアンを出発物質として用いた。後
者の著者は重合体担体上でヌクレオチドメチル
ホスホネートを合成した。得られた生成物は、
未だ特徴付けられていない。 メチルスルホン酸ジクロライドの第２ハロゲ
ンの反応性は一般に低すぎて付加的な活性化が
必要であるのに対し、ホスフイン酸ジクロライ
ドの場合の活性はどちらかというと高すぎる。
すなわち、取扱い上の困難が生じ（極端に無水
の媒質）、また加えて、対称亜ホスホン酸エス
テルが不可避的に形成される。 これに対し、本発明は、一般式 〔式中 Ｔは第１級ヒドロキシル基のための保護基、好
ましくはトリフエニルメチル（＝Tr）、ｐ−アニ
ソイルジフエニルメチルまたはジ（ｐ−アニソイ
ル）フエニルメチルを表わし、 Ｂは存在するエキソ−アミノ基が保護されてい
るヌクレオシド塩基基、好ましくは、１−チミニ
ル、１−（Ｎ−４−ベンゾイルシトシニル）、９−
（Ｎ−６−ベンゾイルアデニニル）または９−（Ｎ
−２−イソブチロイルグアニニル）を表わし、 Ｇは第２級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、 Ｚは酸素、硫黄またはセレンを表わし、そして Ｒは８個以下のＣ原子を有するアルキル、シク
ロヘキシル、ベンジル、または所望により弗素、
塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシまた
はトリフルオロメチルにより置換されたフエニル
を表わしそして好ましくはメチル、エチル、フエ
ニルまたはベンジル、特にメチルを表わす〕 で表わされるデオキシリボヌクレオシドホスホネ
ートの製造方法であつて、一般式 〔式中Ｘは塩素またはＹを表わしそしてＹは式 （式中R1およびR2は８個以下の炭素原子を有す
る同じかまたは異なるアルキルまたはシクロアル
キル基またはフエニル基を表わすか、またはR1
およびR2は窒素と共に、それ以外にもヘテロ原
子を含有し得る飽和または不飽和複素環を表わ
す） で表わされる基を表わす） で表わされる二官能性ホスホニル化試薬を一般式
（式中ＴおよびＢは前述の意味を有する） で表わされるヌクレオシドと好ましくは−80〜＋
100℃、特に−20〜０℃で反応させ、得られる一
般式 で表わされる化合物を一般式 （式中ＢおよびＧは前述の意味を有する） で表わされる化合物と好ましくは−20〜＋100℃、
特に室温で反応させ、そして得られる一般式 （式中Ｔ、Ｒ、ＢおよびＧは前述の意味を有す
る） で表わされる化合物を、好ましくは−80〜＋100
℃、特に−20℃〜室温で、一般式の化合物に酸
化的に変換することから成る前記製造方法に関す
る。 Ｚは硫黄またはセレンを表わす一般式の化合
物および一般式の中間体は新規であり、これも
また本発明の主題を形成する。 原則的には、一般式の二官能性ホスホニル化
試薬の基Ｒは一般式〜の化合物に対して不活
性であり、また反応を阻害しない任意の非細胞毒
性有機基であることができる。 一般式−NR1R2で表わされる可能な基として
は、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチ
ルプロピルアミノ、メチルヘキシルアミノ、メチ
ルシクロヘキシルアミノ、メチルベンジルアミ
ノ、モルホリノ、ピロリジノ、ピペリジノ、メチ
ルアニリノ、ジフエニルアミノ、イミダゾロ、ト
リアゾロ、ベンドトリアゾロおよびテトラゾロな
どがあげられる。 Ｘが塩素を表わす一般式の出発物質は相当す
るジクロロホスフアン、好ましくはメチルジクロ
ロホスフアンを一般式 Ｈ−NR1R2 （） （式中R1およびR2は前述の意味を有する） で表わされる第２級アミンと反応させることによ
り得ることができる。相対応して、Ｘが式Ｙの基
を表わす一般式で表わされる化合物は、同じ第
２級アミンまたは一般式で表わされる異なる第
２級アミンとさらに反応させることにより得るこ
とができる。式の化合物は真空蒸留により精製
することができる。 一般式のホスホニル化剤と一般式の適切に
保護されたヌクレオシドとの反応は中程度に極性
の溶媒中、好ましくはクロロホルム中、水分を排
除して行なわれる。この反応には第３級アミン、
好ましくはエチルジイソプロピルアミン〔ヒユー
ニツヒ塩基（Hu¨nig′s base）〕を補助塩基として
用いることができる。後処理は、水により抽出し
そして一般式の生成物を非極性溶媒、例えば石
油エーテルまたはペンタンなどで沈殿させること
により行なわれる。このようにして得られた一般
式の亜ホスホン酸エステル−アミドは無色粉末
として沈殿しまた1H−NMR、31P−NMRまたは
UVなどの分光学的データおよび元素分析により
特徴付けることができる。さらにまたそれらは、
直接酸化により一般式 （式中Ｔ、Ｂ、Ｚ、ＲおよびＹは前述の意味を有
する） で表わされる亜ホスホン酸エステル−アミドに転
化することもでき、そしてそれを次いで単離しま
た特徴付けることができる。 驚くべきことに、検出限界内において対称ジヌ
クレオシド3′，3′−ホスホナイトは全く形成され
ない。 31P−NMRにより示されるように、一般式
の化合物は乾燥状態および最高−20℃で貯蔵した
場合、粉末状態では少なくとも１ケ月安定であ
る。亜ホスホン酸エステル−アミドのこの大きな
安定性は驚くべきものであり、かつこの方法を価
値を強調するものである。そのヌクレオシドのホ
スホン酸ジエステルの合成における普遍的な適用
可能性は、適切に3′−保護されたヌクレオシドと
の反応により示される。 すなわち、この反応においては、一般式の
5′−保護されたヌクレオシドホスホナイトを中程
度に極性の溶媒、好ましくはアセトニトリル、ク
ロロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解し、
そして一般式（3′−位が保護されている）のヌ
クレオシドと混合する。一般式の化合物におけ
る適切な保護基Ｇはアシル基、例えばベンゾイ
ル、アセチル、ピバロイルまたはレブロニル、ま
たはシリル基、例えば第３級ブチルジメチルシリ
ルなどである。この反応は酸、好ましくはアゾー
ルまたはアミン塩酸塩により触媒される。ベンゾ
トリアゾールが特に適している。生成物のHPLC
が対称5′，5′−異性体を全く示さず、またほんの
微量しか3′，3′−異性体ホスホネートを示さない
ことは驚くべきことである。 不活性中間体、すなわち、一般式の亜ホスホ
ン酸トリエステルは一般式のホスホネートに直
接酸化される。この目的に通常用いられる酸化
剤、例えば四酸化二窒素または沃素などのほか
に、パーオキサイド類、特に無水第３級ブチルハ
イドロパーオキサイドが価値あるものであること
がわかつている。この反応は、中程度に極性の溶
媒中で行なうのが好ましく、特にアセトニトリル
またはクロロホルムが好ましい。既知のジアシル
アルキルホスホナイトの、酸により触媒されるエ
ステル交換反応を特に考慮すべきである〔F.W.
Hoffmann、R.G.RothおよびT.C.Simmons、J.
Amer.Chem.Soc.80、5937−40（1958）参照〕。 それら化合物（それらの一部は既知である）は
31P−NMRおよび1H−NMRにより、そしてま
た、基準物質とのクロマト比較により特徴付けら
れる。 Ｚが硫黄またはセレンを表わす一般式の化合
物は一般式の化合物を元素状硫黄またはセレン
と直接反応させることにより製造される。化学量
論量の硫黄またはセレンと共に極性溶媒、例えば
テトラヒドロフラン中で撹拌すると一般式の相
当するチオホスホネートまたはセレノホスホネー
トが好収率で得られる。特徴付けは、31P−NMR
および1H−NMRならびに元素分析により行なわ
れる。 ヌクレオシド部分に不整中心が存在しそしてり
ん上にもう１つ生成するため、一般式のホスフ
エートはジアステレオマーの混合物として存在す
る（第６表の異性体１および２参照）。 １：１の統計比に近い異性体比は溶媒、温度お
よび添加順序などのパラメータの変動により極め
てほんのわずかしか影響を受けない。 次に実施例をあげて、本発明をさらに詳細に説
明する。 実施例 １ 出発物質H3C−Ｐ〔Ｎ（CH3）2〕2 滴下漏斗および機械撹拌器を設けた1000mlの三
頚フラスコ中で、125ml（1.9モル）のジメチルア
ミンを400mlの無水ジエチルエーテルに導入しそ
して60分間にわたつて氷冷しながら、60ml（0.40
モル）のメチルジクロロホスフアンの200mlの無
水エーテル中の溶液と反応させる。室温で２時間
および50℃で１時間撹拌後、沈殿を保護気体下に
別しエーテル100mlで２回すすぎそしてその
液を約0.1バールで濃縮する。残留物を0.5バー
ル／124℃で迅速に蒸発させる。ビグロー
（Vigreux）カラム（50cm）を用いて64〜65℃／
65ミリバールで精密蒸留して36.6ｇ（理論値の66
％）の無色液体が得られる。 分析：Cl(-)＜0.2％31 P−NMR（THF） δ＝87ppm1 H−NMR（CDCl3） δ＝1.23ppm（ｄ、７Hz、
Ｐ−CH3） δ＝2.66ppm（ｄ、７Hz、Ｎ（CH3）2） 実施例 ２ 5′−トリチルヌクレオシド（１ミリモル）を
不活性窒素雰囲気下に６mlの無水クロロホルムに
溶解しそしてH3CP〔Ｎ（CH3）2〕2（２ミリモル）を
添加する。反応は室温（撹拌）で12時間後に完了
し、あるいは、触媒量（0.1ミリモル）のコリジ
ン塩酸塩を添加すれば、わずか２時間後には完了
する。 その溶液を次いで100mlの塩化メチレンと共に
250mlの分液漏斗に移しそして50mlの飽和塩化ナ
トリウム溶液（0.1mlのトリエチルアミンを含有
する）と共に振盪することにより２度抽出する。
有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濃
縮して泡末状物質を得る。これを50mlのペンタン
と共に２時間撹拌する。残留物を別し２mlのジ
エチルエーテルに溶解しそしてその溶液を50mlの
十分撹拌されたペンタンに徐々に滴加する。微細
沈殿を別しそして乾燥して一般式の化合物を
85〜95％の収率で得る（第２表、および第３表参
照）。 それら化合物は31P核磁気共鳴分光学により直
接固定でき、あるいは第３級ブチルハイドロパー
オキサイドで酸化後に、一般式のホスホン酸エ
ステル−アミドとして同定できる（第４表および
第５表参照）。 31P−NMRスペクトルにおいて、これらの物
質は３％以下の加水分解生成物（ヌクレオシドメ
チルホスフイネート）を示すが、検出し得る量の
対称ジヌクレオシド3′，3′−ホスホナイトは全く
示さない。このことは、この方法がこれらの生成
物を約５〜10％常に生成していた従来の方法より
も優れていることを実証している。−20℃で乾燥
粉末として貯蔵した場合、１ケ月以内に分解が観
察されることはない。 同様にして次の試薬を用いた。すなわち、
【式】
【式】
【式】
実施例 ３
5′−トリチルヌクレオシド（1.00ミリモル）
および1.71ml（10ミリモル）のＮ，Ｎ，Ｎ−エチ
ルジイソプロピルアミンを６mlのTHFに導入し
そして2.00ミリモルのホスホニル化剤を次いで
徐々に滴化する。室温で一夜撹拌後、反応溶液を
氷冷水（50ml、NaClで飽和）に滴加する。20ml
の塩化メチレンで２度抽出後有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥しそして溶媒を真空除去する。前述の
如く沈殿させることによりさらに精製する（第２
表および第３表）。 実施例 ４ 3′−Ｏ−ベンゾイルチミジン（0.20ミリモル）
および１−Ｈ−ベンゾトリアゾール（0.80ミリモ
ル）を丸底フラスコ中で乾燥させ次いで1.0mlの
乾燥アセトニトリルに溶解する。反応は１分以内
に完了し極めて空気に不安定で酸に不安定なホス
ホナイトが形成される。これは、アセトニトリ
ルまたはテトラヒドロフランに溶解された無水第
３級ブチルハイドロパーオキサイド（0.25ミリモ
ル）で酸化することにより（H.Langhals、E.
FritzおよびJ.Mergelsberg、Chem.Ber.113、
3662（1980）による）、80〜90％収率で直接ホスホ
ネートに転化される。 あるいはまた30mg（0.95ミリモル）の硫黄を−
20℃で0.7ミリモルの化合物に添加しそしてそ
の混合物を室温で一夜撹拌する。反応は一般に数
時間後には完了している。次に20mlのクロロホル
ムを次いで添加し、そして有機相を水と共に振盪
することにより３回抽出する。硫酸ナトリウムで
乾燥し溶媒を除去後、得られる粗生成物をシリカ
ゲルクロマトグラフイーにより精製して化合物
を80〜90％の収率で得る（第６表参照）。 あるいはまた、118mg（1.5ミリモル）の黒色セ
レンを0.7ミリモルの化合物に添加しそしてそ
の混合物を一夜撹拌する。（前述と同様の）後処
理後、化合物が60％の収率で得られる（第６表
参照）。 反応混合物のHPLC分析〔Ｚ＝Ｏの場合は基準
物質と比較することによる。P.O.P.T′soほか、
Biochemistry18、5134（1979）参照〕は約１％の
3′，3′−ホスホネートを示し、また5′，5′−異性
体は全く示さなかつた。
および1.71ml（10ミリモル）のＮ，Ｎ，Ｎ−エチ
ルジイソプロピルアミンを６mlのTHFに導入し
そして2.00ミリモルのホスホニル化剤を次いで
徐々に滴化する。室温で一夜撹拌後、反応溶液を
氷冷水（50ml、NaClで飽和）に滴加する。20ml
の塩化メチレンで２度抽出後有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥しそして溶媒を真空除去する。前述の
如く沈殿させることによりさらに精製する（第２
表および第３表）。 実施例 ４ 3′−Ｏ−ベンゾイルチミジン（0.20ミリモル）
および１−Ｈ−ベンゾトリアゾール（0.80ミリモ
ル）を丸底フラスコ中で乾燥させ次いで1.0mlの
乾燥アセトニトリルに溶解する。反応は１分以内
に完了し極めて空気に不安定で酸に不安定なホス
ホナイトが形成される。これは、アセトニトリ
ルまたはテトラヒドロフランに溶解された無水第
３級ブチルハイドロパーオキサイド（0.25ミリモ
ル）で酸化することにより（H.Langhals、E.
FritzおよびJ.Mergelsberg、Chem.Ber.113、
3662（1980）による）、80〜90％収率で直接ホスホ
ネートに転化される。 あるいはまた30mg（0.95ミリモル）の硫黄を−
20℃で0.7ミリモルの化合物に添加しそしてそ
の混合物を室温で一夜撹拌する。反応は一般に数
時間後には完了している。次に20mlのクロロホル
ムを次いで添加し、そして有機相を水と共に振盪
することにより３回抽出する。硫酸ナトリウムで
乾燥し溶媒を除去後、得られる粗生成物をシリカ
ゲルクロマトグラフイーにより精製して化合物
を80〜90％の収率で得る（第６表参照）。 あるいはまた、118mg（1.5ミリモル）の黒色セ
レンを0.7ミリモルの化合物に添加しそしてそ
の混合物を一夜撹拌する。（前述と同様の）後処
理後、化合物が60％の収率で得られる（第６表
参照）。 反応混合物のHPLC分析〔Ｚ＝Ｏの場合は基準
物質と比較することによる。P.O.P.T′soほか、
Biochemistry18、5134（1979）参照〕は約１％の
3′，3′−ホスホネートを示し、また5′，5′−異性
体は全く示さなかつた。
【表】
ｄ）ジオキサン
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、Ｔは第１級ヒドロキシル基のための保護
基を表わし、 Ｂは存在するエキソ−アミノ基が保護されてい
るヌクレオシド塩基を表わし、 Ｇは第２級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、 Ｚは酸素、硫黄またはセレンを表わし、そして Ｒは８個以下のＣ原子を有するアルキル、シク
ロヘキシル、ベンジル、または所望により弗素、
塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシまた
はトリフルオロメチルにより置換されたフエニル
を表わす〕 で表わされるデオキシリボヌクレオシドホスホネ
ートの製造方法であつて、一般式 〔式中Ｘは塩素またはＹを表わしそしてＹは式 （式中R1およびR2は８個以下の炭素原子を有す
る同じかまたは異なるアルキルまたはシクロアル
キル基またはフエニル基を表わすか、またはR1
およびR2は窒素と共に、それ以外にもヘテロ原
子を含有し得る飽和または不飽和複素環を表わ
す）で表わされる基を表わす〕 で表わされる二官能性ホスホニル化試薬を、一般
式 （式中ＴおよびＢは前述の意味を有する） で表わされるヌクレオシドと反応させ、得られる
一般式 で表わされる化合物を、一般式 （式中ＢおよびＧは前述の意味を有する） で表わされる化合物と反応させ、そして得られる
一般式 （式中Ｔ、Ｒ、ＢおよびＧは前述の意味を有す
る） で表わされる化合物を一般式の化合物に酸化的
に変換することから成る、前記製造方法。 ２ Ｔがトリフエニルメチル、ｐ−アニソイルジ
フエニルメチルまたはジ（ｐ−アニソイル）フエ
ニルメチルを表わし、 Ｂが１−チミニル、１−（Ｎ−４−ベンゾイル
シトシニル）、９−（Ｎ−６−ベンゾイルアデニニ
ル）または９−（Ｎ−２−イソブチロイルグアニ
ニルを表わし、そして Ｒがメチル、エチル、フエニルまたはベンジル
を表わす、式〜の化合物を用いる特許請求の
範囲第１項に記載の方法。 ３ 式およびの化合物を−80〜＋100℃で反
応させる特許特許の範囲第１項または第２項に記
載の方法。 ４ 反応を−20〜０℃で行なう特許請求の範囲第
３項に記載の方法。 ５ 式およびの化合物を−20〜＋100℃で反
応させる特許請求の範囲第１〜４項のいずれか一
に記載の方法。 ６ 反応を室温で行なう特許請求の範囲第５項に
記載の方法。 ７ 式の化合物を−80〜＋100℃で式の化合
物に酸化的に転化する特許請求の範囲第１〜６項
のいずれか一に記載の方法。 ８ 酸化を−20℃〜室温で行なう特許請求の範囲
第７項に記載の方法。 ９ 一般式 〔式中、Ｔは第１級ヒドロキシル基のための保護
基を表わし、 Ｂは存在するエキソ−アミノ基が保護されてい
るヌクレオシド塩基を表わし、 Ｇは第２級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、 Ｚは硫黄またはセレンを表わし、そして Ｒは８個以下のＣ原子を有するアルキル、シク
ロヘキシル、ベンジル、または所望により弗素、
塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシまた
はトリフルオロメチルにより置換されたフエニル
を表わす〕 で表わされるデオキシリボヌクレオシドホスホネ
ート。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833332068 DE3332068A1 (de) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | Verfahren zur herstellung von nukleosidalkyl-, aralkyl- und arylphosphoniten und -phosphonaten |
| DE3332068.3 | 1983-09-06 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4307481A Division JPH0662662B2 (ja) | 1983-09-06 | 1992-11-18 | ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6072899A JPS6072899A (ja) | 1985-04-24 |
| JPH0531560B2 true JPH0531560B2 (ja) | 1993-05-12 |
Family
ID=6208339
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59184717A Granted JPS6072899A (ja) | 1983-09-06 | 1984-09-05 | ヌクレオシドアルキル‐、アルアルキル‐およびアリール‐ホスホナイトおよび‐ホスホネートの製造方法 |
| JP4307481A Expired - Fee Related JPH0662662B2 (ja) | 1983-09-06 | 1992-11-18 | ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4307481A Expired - Fee Related JPH0662662B2 (ja) | 1983-09-06 | 1992-11-18 | ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0136543B1 (ja) |
| JP (2) | JPS6072899A (ja) |
| AT (1) | ATE38839T1 (ja) |
| AU (2) | AU570266B2 (ja) |
| CA (1) | CA1235079A (ja) |
| DE (2) | DE3332068A1 (ja) |
| DK (3) | DK162895C (ja) |
| ES (1) | ES535627A0 (ja) |
| GR (1) | GR80287B (ja) |
| IE (1) | IE57904B1 (ja) |
| PT (1) | PT79172B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4959463A (en) * | 1985-10-15 | 1990-09-25 | Genentech, Inc. | Intermediates |
| DE3916871A1 (de) * | 1989-05-24 | 1990-11-29 | Boehringer Mannheim Gmbh | Modifiziertes phosphoramidit-verfahren zur herstellung von modifizierten nukleinsaeuren |
| ATE151076T1 (de) * | 1990-07-02 | 1997-04-15 | Hoechst Ag | Oligonucleotid-analoge mit terminalen 3'-3'-bzw. 5'-5'-internucleotidverknüpfungen |
| US5512668A (en) * | 1991-03-06 | 1996-04-30 | Polish Academy Of Sciences | Solid phase oligonucleotide synthesis using phospholane intermediates |
| CA2140542A1 (en) * | 1992-07-27 | 1994-02-03 | Abeysingle Padmapriya | Oligonucleotide alkylphosphonothioates |
| DE69402177T2 (de) * | 1993-01-08 | 1997-06-26 | Hybridon Inc | Synthese von dimer-blöcken und ihre verwendung bei der zusammensetzung von oligonukleotiden |
| US6087491A (en) * | 1993-01-08 | 2000-07-11 | Hybridon, Inc. | Extremely high purity oligonucleotides and methods of synthesizing them using dimer blocks |
| JPH08508714A (ja) * | 1993-01-25 | 1996-09-17 | ハイブライドン インコーポレイテッド | オリゴヌクレオチド・アルキルホスホネートおよびアルキルホスホノチオエート |
| KR100378965B1 (ko) * | 1994-07-26 | 2003-08-21 | 소니 가부시끼 가이샤 | 화상전사방법및이것에사용하는피전사체,잉크리본 |
| EP1323727A3 (en) * | 1995-05-26 | 2003-09-10 | Genta Incorporated | Composition and methods for the synthesis of organophosphorus derivatives |
| CA2226111C (en) * | 1996-05-03 | 2005-09-20 | Hybridon, Inc. | In situ preparation of nucleoside phosphoramidites and their use in synthesis of oligonucleotides |
| DE102004049339A1 (de) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung von phosphorhaltigen Chelat-Liganden |
| DE102007038930B4 (de) * | 2007-08-13 | 2013-12-05 | Universität Leipzig | Neue chemische Verbindung und deren Verwendung in der Medizin, insbesondere für die Verwendung in der Tumortherapie |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4415732A (en) * | 1981-03-27 | 1983-11-15 | University Patents, Inc. | Phosphoramidite compounds and processes |
| EP0090789A1 (en) * | 1982-03-26 | 1983-10-05 | Monsanto Company | Chemical DNA synthesis |
| DE3239888A1 (de) * | 1982-10-28 | 1984-05-03 | Hubert Prof. Dr. 2000 Hamburg Köster | Verfahren zur herstellung von oligonucleosidphosphonaten |
-
1983
- 1983-09-06 DE DE19833332068 patent/DE3332068A1/de not_active Withdrawn
-
1984
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- 1984-08-30 DE DE8484110314T patent/DE3475307D1/de not_active Expired
- 1984-08-30 EP EP84110314A patent/EP0136543B1/de not_active Expired
- 1984-09-04 GR GR80287A patent/GR80287B/el unknown
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- 1984-09-04 PT PT79172A patent/PT79172B/pt active IP Right Revival
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- 1984-09-05 DK DK424784A patent/DK162895C/da active
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- 1984-09-05 IE IE2268/84A patent/IE57904B1/en not_active IP Right Cessation
- 1984-09-05 CA CA000462469A patent/CA1235079A/en not_active Expired
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- 1988-02-08 AU AU11384/88A patent/AU601257B2/en not_active Expired
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1991
- 1991-07-05 DK DK131691A patent/DK167359B1/da active IP Right Grant
- 1991-07-05 DK DK131591A patent/DK166585C/da active
-
1992
- 1992-11-18 JP JP4307481A patent/JPH0662662B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| DE3332068A1 (de) | 1985-03-21 |
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| DK167359B1 (da) | 1993-10-18 |
| CA1235079A (en) | 1988-04-12 |
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