JPH05262787A - ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法 - Google Patents
ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法Info
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- C07F9/4883—Amides or esteramides thereof, e.g. RP(NR'2)2 or RP(XR')(NR''2) (X = O, S)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H21/00—Compounds containing two or more mononucleotide units having separate phosphate or polyphosphate groups linked by saccharide radicals of nucleoside groups, e.g. nucleic acids
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Landscapes
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- Silicon Polymers (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 次式
〔式中、Tはヒドロキシル基のための保護基を表わし、
Bは存在するエキソ−アミノ基が保護されているヌクレ
オシド塩基を表わし、Rは8個以下のC原子を有するア
ルキル、シクロヘキシル、ベンジル、(置換)フェニル
を表わし、そしてYは−NR1R2(式中R1およびR2は
8個以下の炭素原子を有するアルキルまたはシクロアル
キル基またはフェニル基を表わすか、またはR1および
R2は窒素と共に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得
る飽和または不飽和複素環を表わす)を表わす〕の化合
物、およびその製造方法。 【効果】 上記化合物は、デオキシリボヌクレオチド
(DNA)のホスホン酸エステルの有利な合成中間体で
ある。DNAのホスホン酸エステルはDNA−DNAお
よびDNA−タンパク相互作用の研究に有用である。
Bは存在するエキソ−アミノ基が保護されているヌクレ
オシド塩基を表わし、Rは8個以下のC原子を有するア
ルキル、シクロヘキシル、ベンジル、(置換)フェニル
を表わし、そしてYは−NR1R2(式中R1およびR2は
8個以下の炭素原子を有するアルキルまたはシクロアル
キル基またはフェニル基を表わすか、またはR1および
R2は窒素と共に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得
る飽和または不飽和複素環を表わす)を表わす〕の化合
物、およびその製造方法。 【効果】 上記化合物は、デオキシリボヌクレオチド
(DNA)のホスホン酸エステルの有利な合成中間体で
ある。DNAのホスホン酸エステルはDNA−DNAお
よびDNA−タンパク相互作用の研究に有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はヌクレオシドアルキル
−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよ
びその製法に関する。
−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよ
びその製法に関する。
【0002】デオキシリボ核酸(DNA)の非イオン性
アナローグは、DNA−DNAおよびDNA−タンパク
相互作用の研究に重要である。デオキシリボヌクレオチ
ドのホスホン酸エステルは、化学的に安定であり、細胞
中に入り込む能力がありそして細胞ヌクレアーゼに対し
高い抵抗性を有す結果、特に重要である。
アナローグは、DNA−DNAおよびDNA−タンパク
相互作用の研究に重要である。デオキシリボヌクレオチ
ドのホスホン酸エステルは、化学的に安定であり、細胞
中に入り込む能力がありそして細胞ヌクレアーゼに対し
高い抵抗性を有す結果、特に重要である。
【0003】
【従来の技術およびその問題点】これまでに、ヌクレオ
チドのメチルホスホネートアナローグの合成には4つの
異なる方法が記載されている。
チドのメチルホスホネートアナローグの合成には4つの
異なる方法が記載されている。
【0004】1.Ogilvieら〔M.J. Nemer および K.K.
Ogilvie, Tetrahedron Lett. 21, 4149頁(1980)参
照〕は相当するホスファイト中間体の Michaelis-Arbuz
ov 転位により完全に保護されたウリジル−3′,5′−
ウリジンメチルホスホネートを製造した。この反応(沃
化メチル使用、50℃で20時間)はその条件が過酷な
ため一般的には適用できない可能性がある。何故なら、
例えばプリン塩基のメチル化が起こり得るからである。
Ogilvie, Tetrahedron Lett. 21, 4149頁(1980)参
照〕は相当するホスファイト中間体の Michaelis-Arbuz
ov 転位により完全に保護されたウリジル−3′,5′−
ウリジンメチルホスホネートを製造した。この反応(沃
化メチル使用、50℃で20時間)はその条件が過酷な
ため一般的には適用できない可能性がある。何故なら、
例えばプリン塩基のメチル化が起こり得るからである。
【0005】2.Ts'O ら〔P.S. Miller, J. Yano, E.
Yano, C. Caroll, K. Jayaraman および P.O.P. Ts'O,
Biochemistry 18, 5134(1979);Proc. Natl. Acad. S
ci.USA 78, 1537(1981);P.S. Miller, N. Drean, S.
M. Pulford および K.B. McParland, J. Biol. Chem. 2
25, 9659(1980)参照〕はオリゴヌクレオチド合成にお
けるホスホトリエステル法に類似の合成方法を開発し
た。この場合、保護されたヌクレオチド3′−O−メチ
ルホスホン酸β−シアノエチルエステルが最重要中間体
として用いられる。この方法は、ホスホトリエステル法
について知られる長所および短所を有し、りん(V)化
合物の低反応性は特に短所として述べられている。
Yano, C. Caroll, K. Jayaraman および P.O.P. Ts'O,
Biochemistry 18, 5134(1979);Proc. Natl. Acad. S
ci.USA 78, 1537(1981);P.S. Miller, N. Drean, S.
M. Pulford および K.B. McParland, J. Biol. Chem. 2
25, 9659(1980)参照〕はオリゴヌクレオチド合成にお
けるホスホトリエステル法に類似の合成方法を開発し
た。この場合、保護されたヌクレオチド3′−O−メチ
ルホスホン酸β−シアノエチルエステルが最重要中間体
として用いられる。この方法は、ホスホトリエステル法
について知られる長所および短所を有し、りん(V)化
合物の低反応性は特に短所として述べられている。
【0006】3.Agarwal ら〔K.L. Agarwal および F.
Riftina, Nucl. Acid Res. 6, 3009(1979)参照〕は
メチルホスホン酸ジクロライドを二官能性ホスホニル化
剤として用いた。第2段階でそのクロライドをテトラゾ
ールにより活性化しなければならない。得られる粗製生
成物は効率的クロマトグラフィーにより精製され得るに
過ぎない。
Riftina, Nucl. Acid Res. 6, 3009(1979)参照〕は
メチルホスホン酸ジクロライドを二官能性ホスホニル化
剤として用いた。第2段階でそのクロライドをテトラゾ
ールにより活性化しなければならない。得られる粗製生
成物は効率的クロマトグラフィーにより精製され得るに
過ぎない。
【0007】4.J. Engels および A. Jaeger, Angew.
Chem. Suppl. 1982, 2010 およびN.D. Sinha, V. Gros
sbruchhaus および H. Koester, Tetrahedron Lett. 2
4, 887(1983)はメチルジクロロホスファンを出発物質
として用いた。後者の著者は重合体担体上でヌクレオチ
ドメチルホスホネートを合成した。得られた生成物は、
未だ特徴付けられていない。
Chem. Suppl. 1982, 2010 およびN.D. Sinha, V. Gros
sbruchhaus および H. Koester, Tetrahedron Lett. 2
4, 887(1983)はメチルジクロロホスファンを出発物質
として用いた。後者の著者は重合体担体上でヌクレオチ
ドメチルホスホネートを合成した。得られた生成物は、
未だ特徴付けられていない。
【0008】メチルホスホン酸ジクロライドの第2ハロ
ゲンの反応性は一般に低すぎて付加的な活性化が必要で
あるのに対し、ホスフィン酸ジクロライドの場合の活性
はどちらかというと高すぎる。すなわち、取り扱い上の
困難が生じ(極端に無水の媒質)、また加えて、対称亜
ホスホン酸エステルが不可避的に形成される。
ゲンの反応性は一般に低すぎて付加的な活性化が必要で
あるのに対し、ホスフィン酸ジクロライドの場合の活性
はどちらかというと高すぎる。すなわち、取り扱い上の
困難が生じ(極端に無水の媒質)、また加えて、対称亜
ホスホン酸エステルが不可避的に形成される。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば一般式
(IV)
(IV)
【化6】 〔式中、Tは第1級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、Bは存在するエキソ−アミノ基が保護されている
ヌクレオシド塩基を表わし、Rは8個以下のC原子を有
するアルキル、シクロヘキシル、ベンジル、または所望
により弗素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキ
シまたはトリフルオロメチルにより置換されたフェニル
を表わし、そしてYは式
わし、Bは存在するエキソ−アミノ基が保護されている
ヌクレオシド塩基を表わし、Rは8個以下のC原子を有
するアルキル、シクロヘキシル、ベンジル、または所望
により弗素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキ
シまたはトリフルオロメチルにより置換されたフェニル
を表わし、そしてYは式
【化7】 (式中R1およびR2は8個以下の炭素原子を有する同じ
かまたは異なるアルキルまたはシクロアルキル基または
フェニル基を表わすか、またはR1およびR2は窒素と共
に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得る飽和または不
飽和複素環を表わす)で表わされる基を表わす〕で表わ
されるヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−および
アリール−ホスホナイトおよびその製造法が提供され
る。
かまたは異なるアルキルまたはシクロアルキル基または
フェニル基を表わすか、またはR1およびR2は窒素と共
に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得る飽和または不
飽和複素環を表わす)で表わされる基を表わす〕で表わ
されるヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−および
アリール−ホスホナイトおよびその製造法が提供され
る。
【0010】本発明の上記化合物(IV)は、一般式
(I)
(I)
【化8】 〔式中、Tは第1級ヒドロキシル基のための保護基、好
ましくはトリフェニルメチル(=Tr)、p−アニソイ
ルジフェニルメチルまたはジ(p−アニソイル)フェニ
ルメチルを表わし、Bは存在するエキソ−アミノ基が保
護されているヌクレオシド塩基基、好ましくは1−チミ
ニル、1−(N−4−ベンゾイルシトシニル)、9−
(N−6−ベンゾイルアデニニル)または9−(N−2
−イソブチロイルグアニニル)を表わし、Gは第2級ヒ
ドロキシル基のための保護基を表わし、Zは酸素、硫黄
またはセレンを表わし、そしてRは8個以下のC原子を
有するアルキル、シクロヘキシル、ベンジル、または所
望により弗素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコ
キシまたはトリフルオロメチルにより置換されたフェニ
ルを表わしそして好ましくはメチル、エチル、フェニル
またはベンジル、特にメチルを表わす〕で表わされるデ
オキシリボヌクレオシドホスホネートの合成中間体とし
て有用であり、前記化合物(I)は、一般式(II)
ましくはトリフェニルメチル(=Tr)、p−アニソイ
ルジフェニルメチルまたはジ(p−アニソイル)フェニ
ルメチルを表わし、Bは存在するエキソ−アミノ基が保
護されているヌクレオシド塩基基、好ましくは1−チミ
ニル、1−(N−4−ベンゾイルシトシニル)、9−
(N−6−ベンゾイルアデニニル)または9−(N−2
−イソブチロイルグアニニル)を表わし、Gは第2級ヒ
ドロキシル基のための保護基を表わし、Zは酸素、硫黄
またはセレンを表わし、そしてRは8個以下のC原子を
有するアルキル、シクロヘキシル、ベンジル、または所
望により弗素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコ
キシまたはトリフルオロメチルにより置換されたフェニ
ルを表わしそして好ましくはメチル、エチル、フェニル
またはベンジル、特にメチルを表わす〕で表わされるデ
オキシリボヌクレオシドホスホネートの合成中間体とし
て有用であり、前記化合物(I)は、一般式(II)
【化9】 〔式中Xは塩素またはYを表わしそしてYは式
【化10】 (式中R1およびR2は8個以下の炭素原子を有する同じ
かまたは異なるアルキルまたはシクロアルキル基または
フェニル基を表わすか、またはR1およびR2は窒素と共
に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得る飽和または不
飽和複素環を表わす)で表わされる基を表わす〕で表わ
される二官能性ホスホニル化試薬を、一般式(III)
かまたは異なるアルキルまたはシクロアルキル基または
フェニル基を表わすか、またはR1およびR2は窒素と共
に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得る飽和または不
飽和複素環を表わす)で表わされる基を表わす〕で表わ
される二官能性ホスホニル化試薬を、一般式(III)
【化11】 (式中TおよびBは前述の意味を有する)で表わされる
ヌクレオシドと好ましくは−80〜+100℃、特に−
20〜0℃で反応させ、得られる一般式(IV)
ヌクレオシドと好ましくは−80〜+100℃、特に−
20〜0℃で反応させ、得られる一般式(IV)
【化12】 で表わされる化合物を一般式(V)
【化13】 (式中BおよびGは前述の意味を有する)で表わされる
化合物と好ましくは−20〜+100℃、特に室温で反
応させ、そして得られる一般式(VI)
化合物と好ましくは−20〜+100℃、特に室温で反
応させ、そして得られる一般式(VI)
【化14】 (式中T、R、BおよびGは前述の意味を有する)で表
わされる化合物を、好ましくは−80〜+100℃、特
に−20℃〜室温で、一般式(I)の化合物に酸化的に
変換することによって製造される。
わされる化合物を、好ましくは−80〜+100℃、特
に−20℃〜室温で、一般式(I)の化合物に酸化的に
変換することによって製造される。
【0011】Zが硫黄またはセレンを表わす一般式
(I)の化合物および一般式(IV)の中間体は新規であ
り、これもまた本発明の主題を形成する。
(I)の化合物および一般式(IV)の中間体は新規であ
り、これもまた本発明の主題を形成する。
【0012】原則的には、一般式(II)の二官能性ホス
ホニル化試薬の基Rは一般式(II)〜(VI)の化合物に
対して不活性であり、また反応を阻害しない任意の非細
胞毒性有機基であることができる。
ホニル化試薬の基Rは一般式(II)〜(VI)の化合物に
対して不活性であり、また反応を阻害しない任意の非細
胞毒性有機基であることができる。
【0013】一般式 −NR1R2 で表わされる可能な基
としては、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロ
ピルアミノ、メチルヘキシルアミノ、メチルシクロヘキ
シルアミノ、メチルベンジルアミノ、モルホリノ、ピロ
リジノ、ピペリジノ、メチルアニリノ、ジフェニルアミ
ノ、イミダゾロ、トリアゾロ、ベンゾトリアゾロおよび
テトラゾロなどがあげられる。
としては、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロ
ピルアミノ、メチルヘキシルアミノ、メチルシクロヘキ
シルアミノ、メチルベンジルアミノ、モルホリノ、ピロ
リジノ、ピペリジノ、メチルアニリノ、ジフェニルアミ
ノ、イミダゾロ、トリアゾロ、ベンゾトリアゾロおよび
テトラゾロなどがあげられる。
【0014】Xが塩素を表わす一般式(II)の出発物質
は相当するジクロロホスファン、好ましくはメチルジク
ロロホスファンを一般式(VII) H−NR1R2 (VII) (式中R1およびR2は前述の意味を有する)で表わされ
る第2級アミンと反応させることにより得ることができ
る。相対応して、Xが式Yの基を表わす一般式(II)で
表わされる化合物は、同じ第2級アミンまたは一般式
(VII)で表わされる異なる第2級アミンとさらに反応
させることにより得ることができる。式(II)の化合物
は真空蒸留により精製することができる。
は相当するジクロロホスファン、好ましくはメチルジク
ロロホスファンを一般式(VII) H−NR1R2 (VII) (式中R1およびR2は前述の意味を有する)で表わされ
る第2級アミンと反応させることにより得ることができ
る。相対応して、Xが式Yの基を表わす一般式(II)で
表わされる化合物は、同じ第2級アミンまたは一般式
(VII)で表わされる異なる第2級アミンとさらに反応
させることにより得ることができる。式(II)の化合物
は真空蒸留により精製することができる。
【0015】一般式(II)のホスホニル化剤と一般式
(III)の適切に保護されたヌクレオシドとの反応は中
程度に極性の溶媒中、好ましくはクロロホルム中、水分
を排除して行われる。この反応には第3級アミン、好ま
しくはエチルジイソプロピルアミン〔ヒューニッヒ塩基
(Huenig's base)〕を補助塩基として用いることがで
きる。後処理は、水により抽出しそして一般式(IV)の
生成物を非極性溶媒、例えば石油エーテルまたはペンタ
ンなどで沈殿させることにより行われる。このようにし
て得られた一般式(IV)の亜ホスホン酸エステル−アミ
ドは無色粉末として沈殿しまた 1H−NMR、31P−N
MRまたはUVなどの分光学的データおよび元素分析に
より特徴付けることができる。さらにまたそれらは、直
接酸化により一般式(VIII)
(III)の適切に保護されたヌクレオシドとの反応は中
程度に極性の溶媒中、好ましくはクロロホルム中、水分
を排除して行われる。この反応には第3級アミン、好ま
しくはエチルジイソプロピルアミン〔ヒューニッヒ塩基
(Huenig's base)〕を補助塩基として用いることがで
きる。後処理は、水により抽出しそして一般式(IV)の
生成物を非極性溶媒、例えば石油エーテルまたはペンタ
ンなどで沈殿させることにより行われる。このようにし
て得られた一般式(IV)の亜ホスホン酸エステル−アミ
ドは無色粉末として沈殿しまた 1H−NMR、31P−N
MRまたはUVなどの分光学的データおよび元素分析に
より特徴付けることができる。さらにまたそれらは、直
接酸化により一般式(VIII)
【化15】 (式中T、B、Z、RおよびYは前述の意味を有する)
で表わされる亜ホスホン酸エステル−アミドに転化する
こともでき、そしてそれを次いで単離しまた特徴付ける
ことができる。
で表わされる亜ホスホン酸エステル−アミドに転化する
こともでき、そしてそれを次いで単離しまた特徴付ける
ことができる。
【0016】驚くべきことに、検出限界内において対称
ジヌクレオシド3′,3′−ホスホナイトは全く形成さ
れない。
ジヌクレオシド3′,3′−ホスホナイトは全く形成さ
れない。
【0017】31P−NMRにより示されるように、一般
式(I)の化合物は乾燥状態および最高−20℃で貯蔵
した場合、粉末状態では少なくとも1ケ月安定である。
亜ホスホン酸エステル−アミドのこの大きな安定性は驚
くべきものであり、かつこの方法の価値を強調するもの
である。そのヌクレオシドのホスホン酸ジエステルの合
成における普遍的な適用可能性は、適切に3′−保護さ
れたヌクレオシドとの反応により示される。
式(I)の化合物は乾燥状態および最高−20℃で貯蔵
した場合、粉末状態では少なくとも1ケ月安定である。
亜ホスホン酸エステル−アミドのこの大きな安定性は驚
くべきものであり、かつこの方法の価値を強調するもの
である。そのヌクレオシドのホスホン酸ジエステルの合
成における普遍的な適用可能性は、適切に3′−保護さ
れたヌクレオシドとの反応により示される。
【0018】すなわち、この反応においては、一般式
(IV)の5′−保護されたヌクレオシドホスホナイトを
中程度に極性の溶媒、好ましくはアセトニトリル、クロ
ロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解し、そして一
般式V(3′−位が保護されている)のヌクレオシドと
混合する。一般式(V)の化合物における適切な保護基
Gはアシル基、例えばベンゾイル、アセチル、ピバロイ
ルまたはレブロニル、またはシリル基、例えば第3級ブ
チルジメチルシリルなどである。この反応は酸、好まし
くはアゾールまたはアミン塩酸塩により触媒される。ベ
ンゾトリアゾールが特に適している。生成物のHPLC
が対称5′,5′−異性体を全く示さず、またほんの微
量しか3′,3′−異性体ホスホネートを示さないこと
は驚くべきことである。
(IV)の5′−保護されたヌクレオシドホスホナイトを
中程度に極性の溶媒、好ましくはアセトニトリル、クロ
ロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解し、そして一
般式V(3′−位が保護されている)のヌクレオシドと
混合する。一般式(V)の化合物における適切な保護基
Gはアシル基、例えばベンゾイル、アセチル、ピバロイ
ルまたはレブロニル、またはシリル基、例えば第3級ブ
チルジメチルシリルなどである。この反応は酸、好まし
くはアゾールまたはアミン塩酸塩により触媒される。ベ
ンゾトリアゾールが特に適している。生成物のHPLC
が対称5′,5′−異性体を全く示さず、またほんの微
量しか3′,3′−異性体ホスホネートを示さないこと
は驚くべきことである。
【0019】不活性中間体、すなわち一般式(VI)の亜
ホスホン酸トリエステルは一般式(I)のホスホネート
に直接酸化される。この目的に通常用いられる酸化剤、
例えば四酸化二窒素または沃素などのほかに、パーオキ
サイド類、特に無水第3級ブチルハイドロパーオキサイ
ドが価値あるものであることがわかっている。この反応
は、中程度に極性の溶媒中で行うのが好ましく、特にア
セトニトリルまたはクロロホルムが好ましい。既知のジ
アシルアルキルホスホナイトの、酸により触媒されるエ
ステル交換反応を特に考慮すべきである〔F.W. Hoffman
n、R.G. Rothおよび T.C. Simmons, J. Amer. Chem. So
c. 80, 5937−40(1958)参照〕。
ホスホン酸トリエステルは一般式(I)のホスホネート
に直接酸化される。この目的に通常用いられる酸化剤、
例えば四酸化二窒素または沃素などのほかに、パーオキ
サイド類、特に無水第3級ブチルハイドロパーオキサイ
ドが価値あるものであることがわかっている。この反応
は、中程度に極性の溶媒中で行うのが好ましく、特にア
セトニトリルまたはクロロホルムが好ましい。既知のジ
アシルアルキルホスホナイトの、酸により触媒されるエ
ステル交換反応を特に考慮すべきである〔F.W. Hoffman
n、R.G. Rothおよび T.C. Simmons, J. Amer. Chem. So
c. 80, 5937−40(1958)参照〕。
【0020】それら化合物(それらの一部は既知であ
る)は 31P−NMR および 1H−NMRにより、そし
てまた基準物質とのクロマト比較により特徴付けられ
る。
る)は 31P−NMR および 1H−NMRにより、そし
てまた基準物質とのクロマト比較により特徴付けられ
る。
【0021】Zが硫黄またはセレンを表わす一般式
(I)の化合物は一般式(VI)の化合物を元素状硫黄ま
たはセレンと直接反応させることにより製造される。化
学量論量の硫黄またはセレンと共に極性溶媒、例えばテ
トラヒドロフラン中で撹拌すると一般式(I)の相当す
るチオホスホネートまたはセレノホスホネートが好収率
で得られる。特徴付けは、31P−NMRおよび 1H−N
MRならびに元素分析により行われる。
(I)の化合物は一般式(VI)の化合物を元素状硫黄ま
たはセレンと直接反応させることにより製造される。化
学量論量の硫黄またはセレンと共に極性溶媒、例えばテ
トラヒドロフラン中で撹拌すると一般式(I)の相当す
るチオホスホネートまたはセレノホスホネートが好収率
で得られる。特徴付けは、31P−NMRおよび 1H−N
MRならびに元素分析により行われる。
【0022】ヌクレオシド部分に不整中心が存在しそし
てりん上にもう1つ生成するため、一般式(I)のホス
フェートはジアステレオマーの混合物として存在する
(表6の異性体1および2参照)。
てりん上にもう1つ生成するため、一般式(I)のホス
フェートはジアステレオマーの混合物として存在する
(表6の異性体1および2参照)。
【0023】1:1の統計比に近い異性体比は溶媒、温
度および添加順序などのパラメータの変動により極めて
ほんのわずかしか影響を受けない。
度および添加順序などのパラメータの変動により極めて
ほんのわずかしか影響を受けない。
【0024】次に実施例をあげて、本発明をさらに詳細
に説明する。 実施例1 出発物質 H3C−P〔N(CH3)2〕2 滴下漏斗および機械撹拌器を設けた1000mlの三頸フ
ラスコ中で、125ml(1.9モル)のジメチルアミン
を400mlの無水ジエチルエーテルに導入しそして60
分間にわたって氷冷しながら、60ml(0.40モル)
のメチルジクロロホスファンの200mlの無水エーテル
中の溶液と反応させる。室温で2時間および50℃で1
時間撹拌後、沈殿を保護気体下に濾別しエーテル100
mlで2回すすぎそしてその濾液を約0.1バールで濃縮
する。残留物を0.5バール/124℃で迅速に蒸発さ
せる。ビグロー(Vigreux)カラム(50cm)を用いて
64〜65℃/65ミリバールで精密蒸留して36.6
g(理論値の66%)の無色液体が得られる。 分析:Cl(-)<0.2%31 P−NMR(THF) δ=87ppm1 H−NMR(CDCl3) δ=1.23ppm(d,7H
z,P−CH3) δ=2.66ppm(d,7Hz,N(CH3)2)
に説明する。 実施例1 出発物質 H3C−P〔N(CH3)2〕2 滴下漏斗および機械撹拌器を設けた1000mlの三頸フ
ラスコ中で、125ml(1.9モル)のジメチルアミン
を400mlの無水ジエチルエーテルに導入しそして60
分間にわたって氷冷しながら、60ml(0.40モル)
のメチルジクロロホスファンの200mlの無水エーテル
中の溶液と反応させる。室温で2時間および50℃で1
時間撹拌後、沈殿を保護気体下に濾別しエーテル100
mlで2回すすぎそしてその濾液を約0.1バールで濃縮
する。残留物を0.5バール/124℃で迅速に蒸発さ
せる。ビグロー(Vigreux)カラム(50cm)を用いて
64〜65℃/65ミリバールで精密蒸留して36.6
g(理論値の66%)の無色液体が得られる。 分析:Cl(-)<0.2%31 P−NMR(THF) δ=87ppm1 H−NMR(CDCl3) δ=1.23ppm(d,7H
z,P−CH3) δ=2.66ppm(d,7Hz,N(CH3)2)
【0025】実施例2 5′−トリチルヌクレオシド(III)(1ミリモル)を
不活性窒素雰囲気下に6mlの無水クロロホルムに溶解し
そしてH3CP〔N(CH3)2〕2(2ミリモル)を添加す
る。反応は室温(撹拌)で12時間後に完了し、あるい
は触媒量(0.1ミリモル)のコリジン塩酸塩を添加す
れば、わずか2時間後には完了する。
不活性窒素雰囲気下に6mlの無水クロロホルムに溶解し
そしてH3CP〔N(CH3)2〕2(2ミリモル)を添加す
る。反応は室温(撹拌)で12時間後に完了し、あるい
は触媒量(0.1ミリモル)のコリジン塩酸塩を添加す
れば、わずか2時間後には完了する。
【0026】その溶液を次いで100mlの塩化メチレン
と共に250mlの分液漏斗に移しそして50mlの飽和塩
化ナトリウム溶液(0.1mlのトリエチルアミンを含有
する)と共に振盪することにより2度抽出する。有機相
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濃縮して泡沫状
物質を得る。これを50mlのペンタンと共に2時間撹拌
する。残留物を濾別し2mlのジエチルエーテルに溶解し
そしてその溶液を50mlの十分撹拌されたペンタンに徐
々に滴加する。微細沈殿を濾別しそして乾燥して一般式
(IV)の化合物を85〜95%の収率で得る(表2およ
び表3参照)。
と共に250mlの分液漏斗に移しそして50mlの飽和塩
化ナトリウム溶液(0.1mlのトリエチルアミンを含有
する)と共に振盪することにより2度抽出する。有機相
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濃縮して泡沫状
物質を得る。これを50mlのペンタンと共に2時間撹拌
する。残留物を濾別し2mlのジエチルエーテルに溶解し
そしてその溶液を50mlの十分撹拌されたペンタンに徐
々に滴加する。微細沈殿を濾別しそして乾燥して一般式
(IV)の化合物を85〜95%の収率で得る(表2およ
び表3参照)。
【0027】それら化合物は31P核磁気共鳴分光学によ
り直接固定でき、あるいは第3級ブチルハイドロパーオ
キサイドで酸化後に、一般式(VIII)のホスホン酸エス
テル−アミドとして同定できる(表4および表5参
照)。
り直接固定でき、あるいは第3級ブチルハイドロパーオ
キサイドで酸化後に、一般式(VIII)のホスホン酸エス
テル−アミドとして同定できる(表4および表5参
照)。
【0028】31P−NMRスペクトルにおいて、これら
の物質は3%以下の加水分解生成物(ヌクレオシドメチ
ルホスフィネート)を示すが、検出し得る量の対称ジヌ
クレオシド3′,3′−ホスホナイトは全く示さない。
このことは、この方法がこれらの生成物を約5〜10%
常に生成していた従来の方法よりも優れていることを実
証している。−20℃で乾燥粉末として貯蔵した場合、
1ケ月以内に分解が観察されることはない。
の物質は3%以下の加水分解生成物(ヌクレオシドメチ
ルホスフィネート)を示すが、検出し得る量の対称ジヌ
クレオシド3′,3′−ホスホナイトは全く示さない。
このことは、この方法がこれらの生成物を約5〜10%
常に生成していた従来の方法よりも優れていることを実
証している。−20℃で乾燥粉末として貯蔵した場合、
1ケ月以内に分解が観察されることはない。
【0029】同様にして次の試薬を用いた。すなわち、
【化16】
【0030】実施例3 5′−トリチルヌクレオシド(III)(1.00ミリモル)
および1.71ml(10ミリモル)のN,N,N−エチル
ジイソプロピルアミンを6mlのTHFに導入しそして
2.00ミリモルのホスホニル化剤(II)を次いで徐々
に滴加する。室温で一夜撹拌後、反応溶液を氷冷水(5
0ml、NaClで飽和)に滴加する。20mlの塩化メチ
レンで2度抽出後有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそし
て溶媒を真空除去する。前述の如く沈殿させることによ
りさらに精製する(表2および表3)。
および1.71ml(10ミリモル)のN,N,N−エチル
ジイソプロピルアミンを6mlのTHFに導入しそして
2.00ミリモルのホスホニル化剤(II)を次いで徐々
に滴加する。室温で一夜撹拌後、反応溶液を氷冷水(5
0ml、NaClで飽和)に滴加する。20mlの塩化メチ
レンで2度抽出後有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそし
て溶媒を真空除去する。前述の如く沈殿させることによ
りさらに精製する(表2および表3)。
【0031】実施例4 3′−O−ベンゾイルチミジン(0.20ミリモル)お
よび1−H−ベンゾトリアゾール(0.80ミリモル)
を丸底フラスコ中で乾燥させ次いで1.0mlの乾燥アセ
トニトリルに溶解する。反応は1分以内に完了し極めて
空気に不安定で酸に不安定なホスホナイト(VI)が形成
される。これは、アセトニトリルまたはテトラヒドロフ
ランに溶解された無水第3級ブチルハイドロパーオキサ
イド(0.25ミリモル)で酸化することにより(H. La
nghals, E. Fritz および J. Mergelsberg, Chem. Ber.
113, 3662(1980)による)、80〜90%収率で直接
ホスホネート(I)に 転化される。
よび1−H−ベンゾトリアゾール(0.80ミリモル)
を丸底フラスコ中で乾燥させ次いで1.0mlの乾燥アセ
トニトリルに溶解する。反応は1分以内に完了し極めて
空気に不安定で酸に不安定なホスホナイト(VI)が形成
される。これは、アセトニトリルまたはテトラヒドロフ
ランに溶解された無水第3級ブチルハイドロパーオキサ
イド(0.25ミリモル)で酸化することにより(H. La
nghals, E. Fritz および J. Mergelsberg, Chem. Ber.
113, 3662(1980)による)、80〜90%収率で直接
ホスホネート(I)に 転化される。
【0032】あるいはまた30mg(0.95ミリモル)
の硫黄を−20℃で0.7ミリモルの化合物(VI)に添
加しそしてその混合物を室温で一夜撹拌する。反応は一
般に数時間後には完了している。次に20mlのクロロホ
ルムを次いで添加し、そして有機相を水と共に振盪する
ことにより3回抽出する。硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒
を除去後、得られる粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィーにより精製して化合物(I)を80〜90%の収
率で得る(表6参照)。
の硫黄を−20℃で0.7ミリモルの化合物(VI)に添
加しそしてその混合物を室温で一夜撹拌する。反応は一
般に数時間後には完了している。次に20mlのクロロホ
ルムを次いで添加し、そして有機相を水と共に振盪する
ことにより3回抽出する。硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒
を除去後、得られる粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィーにより精製して化合物(I)を80〜90%の収
率で得る(表6参照)。
【0033】あるいはまた、118mg(1.5ミリモ
ル)の黒色セレンを0.7ミリモルの化合物(VI)に添
加しそしてその混合物を一夜撹拌する。(前述と同様
の)後処理後、化合物(I)が60%の収率で得られる
(表6参照)。
ル)の黒色セレンを0.7ミリモルの化合物(VI)に添
加しそしてその混合物を一夜撹拌する。(前述と同様
の)後処理後、化合物(I)が60%の収率で得られる
(表6参照)。
【0034】反応混合物のHPLC分析〔Z=Oの場合
は基準物質と比較することによる。P.O.P. T'so ほか、
Biochemistry 18, 5134(1979)参照〕は約1%の3′,
3′−ホスホネートを示し、また5′,5′−異性体は
全く示さなかった。
は基準物質と比較することによる。P.O.P. T'so ほか、
Biochemistry 18, 5134(1979)参照〕は約1%の3′,
3′−ホスホネートを示し、また5′,5′−異性体は
全く示さなかった。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【表3】
【0038】
【表4】 a) 85% H3PO4に対して b) TMSに対して c) 1/2 H2O d) 無水 e) 異性体分離,TLC(酢酸エチル/メタノール 1
00:4)における相対易動度
00:4)における相対易動度
【0039】
【表5】
【0040】
【表6】
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(IV) 【化1】 〔式中、Tは第1級ヒドロキシル基のための保護基を表
わし、Bは存在するエキソ−アミノ基が保護されている
ヌクレオシド塩基を表わし、Rは8個以下のC原子を有
するアルキル、シクロヘキシル、ベンジル、または所望
により弗素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキ
シまたはトリフルオロメチルにより置換されたフェニル
を表わし、そしてYは式 【化2】 (式中R1およびR2は8個以下の炭素原子を有する同じ
かまたは異なるアルキルまたはシクロアルキル基または
フェニル基を表わすか、またはR1およびR2は窒素と共
に、それ以外にもヘテロ原子を含有し得る飽和または不
飽和複素環を表わす)で表わされる基を表わす〕で表わ
される化合物。 - 【請求項2】 一般式(IV) 【化3】 (式中、T、B、RおよびYは前述した意味を有する)
で表わされる化合物を製造するにあたり、一般式(II) 【化4】 (式中Xは塩素またはYを表わしそしてYおよびRは前
述した意味を有する)で表わされる二官能性ホスホニル
化試薬を、一般式(III) 【化5】 (式中TおよびBは前述の意味を有する)で表わされる
ヌクレオシドと反応させることを特徴とする製法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19833332068 DE3332068A1 (de) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | Verfahren zur herstellung von nukleosidalkyl-, aralkyl- und arylphosphoniten und -phosphonaten |
DE3332068:3 | 1983-09-06 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59184717A Division JPS6072899A (ja) | 1983-09-06 | 1984-09-05 | ヌクレオシドアルキル‐、アルアルキル‐およびアリール‐ホスホナイトおよび‐ホスホネートの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05262787A true JPH05262787A (ja) | 1993-10-12 |
JPH0662662B2 JPH0662662B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=6208339
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59184717A Granted JPS6072899A (ja) | 1983-09-06 | 1984-09-05 | ヌクレオシドアルキル‐、アルアルキル‐およびアリール‐ホスホナイトおよび‐ホスホネートの製造方法 |
JP4307481A Expired - Fee Related JPH0662662B2 (ja) | 1983-09-06 | 1992-11-18 | ヌクレオシドアルキル−、アルアルキル−およびアリール−ホスホナイトおよびその製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59184717A Granted JPS6072899A (ja) | 1983-09-06 | 1984-09-05 | ヌクレオシドアルキル‐、アルアルキル‐およびアリール‐ホスホナイトおよび‐ホスホネートの製造方法 |
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JP (2) | JPS6072899A (ja) |
AT (1) | ATE38839T1 (ja) |
AU (2) | AU570266B2 (ja) |
CA (1) | CA1235079A (ja) |
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DK (3) | DK162895C (ja) |
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US4959463A (en) * | 1985-10-15 | 1990-09-25 | Genentech, Inc. | Intermediates |
DE3916871A1 (de) * | 1989-05-24 | 1990-11-29 | Boehringer Mannheim Gmbh | Modifiziertes phosphoramidit-verfahren zur herstellung von modifizierten nukleinsaeuren |
DE59108644D1 (de) * | 1990-07-02 | 1997-05-07 | Hoechst Ag | Oligonucleotid-analoge mit terminalen 3'-3'-bzw. 5'-5'-Internucleotidverknüpfungen |
US5512668A (en) * | 1991-03-06 | 1996-04-30 | Polish Academy Of Sciences | Solid phase oligonucleotide synthesis using phospholane intermediates |
ATE162198T1 (de) * | 1992-07-27 | 1998-01-15 | Hybridon Inc | Oligonukleotid alkylphosphonothiate |
JPH08507752A (ja) * | 1993-01-08 | 1996-08-20 | ハイブライドン インコーポレイテッド | 二量体ブロックの合成と二量体ブロックを使ったオリゴヌクレオチド結合法 |
US6087491A (en) | 1993-01-08 | 2000-07-11 | Hybridon, Inc. | Extremely high purity oligonucleotides and methods of synthesizing them using dimer blocks |
EP0677056B1 (en) * | 1993-01-25 | 1996-05-22 | HYBRIDON, Inc. | Oligonucleotide alkylphosphonates and alkylphosphonothioates |
CN1088656C (zh) * | 1994-07-26 | 2002-08-07 | 索尼公司 | 图像转印方法 |
CA2222048A1 (en) * | 1995-05-26 | 1996-11-28 | Polska Akademia Nauk | Compositions and methods for the synthesis of organophosphorus derivatives |
DE69726276T2 (de) * | 1996-05-03 | 2004-11-18 | Avecia Biotechnology, Inc., Milford | In situ herstellung von nukleosid-phosphoramiditen und ihre verwendung in der oligonukleotidsynthese |
DE102004049339A1 (de) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung von phosphorhaltigen Chelat-Liganden |
DE102007038930B4 (de) * | 2007-08-13 | 2013-12-05 | Universität Leipzig | Neue chemische Verbindung und deren Verwendung in der Medizin, insbesondere für die Verwendung in der Tumortherapie |
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---|---|---|---|---|
IL62834A0 (en) * | 1980-05-14 | 1981-07-31 | Ens Bio Logicals Inc | Polynucleotide synthesis |
US4415732A (en) * | 1981-03-27 | 1983-11-15 | University Patents, Inc. | Phosphoramidite compounds and processes |
EP0090789A1 (en) * | 1982-03-26 | 1983-10-05 | Monsanto Company | Chemical DNA synthesis |
DE3239888A1 (de) * | 1982-10-28 | 1984-05-03 | Hubert Prof. Dr. 2000 Hamburg Köster | Verfahren zur herstellung von oligonucleosidphosphonaten |
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- 1983-09-06 DE DE19833332068 patent/DE3332068A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-08-30 AT AT84110314T patent/ATE38839T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-08-30 DE DE8484110314T patent/DE3475307D1/de not_active Expired
- 1984-08-30 EP EP84110314A patent/EP0136543B1/de not_active Expired
- 1984-09-04 PT PT79172A patent/PT79172B/pt active IP Right Revival
- 1984-09-04 ES ES535627A patent/ES535627A0/es active Granted
- 1984-09-04 GR GR80287A patent/GR80287B/el unknown
- 1984-09-05 CA CA000462469A patent/CA1235079A/en not_active Expired
- 1984-09-05 DK DK424784A patent/DK162895C/da active
- 1984-09-05 JP JP59184717A patent/JPS6072899A/ja active Granted
- 1984-09-05 AU AU32756/84A patent/AU570266B2/en not_active Expired
- 1984-09-05 IE IE2268/84A patent/IE57904B1/en not_active IP Right Cessation
-
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- 1988-02-08 AU AU11384/88A patent/AU601257B2/en not_active Expired
-
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- 1991-07-05 DK DK131691A patent/DK167359B1/da active IP Right Grant
- 1991-07-05 DK DK131591A patent/DK166585C/da active
-
1992
- 1992-11-18 JP JP4307481A patent/JPH0662662B2/ja not_active Expired - Fee Related
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