JPH0530022Y2 - - Google Patents
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- JPH0530022Y2 JPH0530022Y2 JP1948986U JP1948986U JPH0530022Y2 JP H0530022 Y2 JPH0530022 Y2 JP H0530022Y2 JP 1948986 U JP1948986 U JP 1948986U JP 1948986 U JP1948986 U JP 1948986U JP H0530022 Y2 JPH0530022 Y2 JP H0530022Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- guide
- transport path
- chuck
- tapered wall
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 108
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)
- Feeding Of Articles To Conveyors (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Registering Or Overturning Sheets (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、ウエハプローバ等の半導体製造装置
に用いられるウエハの搬送ガイド構造に関し、特
に、ウエハプローバにおいて直径の異なる測定後
のウエハを空ウエハカツセツト搬送する際にガイ
ドするガイド構造の改良に関するものである。
に用いられるウエハの搬送ガイド構造に関し、特
に、ウエハプローバにおいて直径の異なる測定後
のウエハを空ウエハカツセツト搬送する際にガイ
ドするガイド構造の改良に関するものである。
(従来の技術)
ウエハプローバは、ウエハ上に多数配列された
各チツプ内回路動作を自動的に試験するものであ
つて、実際には、第4図に示すように、ウエハカ
ツセツト1に載置されているウエハ2をベルト3
を介してチヤツク4上まで搬送した位置でウエハ
2がローダガイド5に当接してチヤツク4上に載
置される。次いで、ローダガイド5がやや浮き上
がるので、チヤツク4はウエハ2と共に測定位置
まで移動して測定が行われる。その後、測定後の
ウエハ2はチヤツク4上に載置されながらアンロ
ーダガイド6の端部位置まで移動し、ベルト7に
よつて、空ウエハカツセツト8まで搬送されて収
容される。
各チツプ内回路動作を自動的に試験するものであ
つて、実際には、第4図に示すように、ウエハカ
ツセツト1に載置されているウエハ2をベルト3
を介してチヤツク4上まで搬送した位置でウエハ
2がローダガイド5に当接してチヤツク4上に載
置される。次いで、ローダガイド5がやや浮き上
がるので、チヤツク4はウエハ2と共に測定位置
まで移動して測定が行われる。その後、測定後の
ウエハ2はチヤツク4上に載置されながらアンロ
ーダガイド6の端部位置まで移動し、ベルト7に
よつて、空ウエハカツセツト8まで搬送されて収
容される。
(考案が解決しようとする問題点)
しかしながら、上記の従来例によると、次のよ
うな問題点を有している。
うな問題点を有している。
即ち、ウエハ2は、例えば3乃至8インチのよ
うに直径の異なる各種のものがあるため、ウエハ
2のインチサイズを変更する場合、当該ウエハの
サイズに合致したローダガイド5並びにアンロー
ダガイド6をその都度交換する必要があるため、
人為的な作業を強いられて面倒であり、自動化の
面にも反する等の問題点を有していた。
うに直径の異なる各種のものがあるため、ウエハ
2のインチサイズを変更する場合、当該ウエハの
サイズに合致したローダガイド5並びにアンロー
ダガイド6をその都度交換する必要があるため、
人為的な作業を強いられて面倒であり、自動化の
面にも反する等の問題点を有していた。
本考案は、上記した従来の問題点に鑑み、直径
の異なるウエハであつても、搬送する際のガイド
を交換することなく共通したガイドでウエハを搬
送できるようにすることを目的とする。
の異なるウエハであつても、搬送する際のガイド
を交換することなく共通したガイドでウエハを搬
送できるようにすることを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
上記の目的を達成するため、本考案は、ウエハ
プローバ等の半導体製造装置におけるウエハの搬
送路において、当該搬送路に沿つてガイド部材を
設け、このガイド部材のガイド巾を搬送するウエ
ハの最大サイズに合致させて配設すると共にガイ
ド部材の搬送方向と反対側の端部に、収束するテ
ーパ壁を設け、このテーパ壁の収束位置を前記し
た搬送路の中心位置に設けた、搬送路を逆方向に
搬送させてウエハがテーパ壁の収束位置に位置し
たとき搬送路を搬送方向に切換可能にする構成を
採用した。
プローバ等の半導体製造装置におけるウエハの搬
送路において、当該搬送路に沿つてガイド部材を
設け、このガイド部材のガイド巾を搬送するウエ
ハの最大サイズに合致させて配設すると共にガイ
ド部材の搬送方向と反対側の端部に、収束するテ
ーパ壁を設け、このテーパ壁の収束位置を前記し
た搬送路の中心位置に設けた、搬送路を逆方向に
搬送させてウエハがテーパ壁の収束位置に位置し
たとき搬送路を搬送方向に切換可能にする構成を
採用した。
(作用)
依つて、本考案にあつては、ガイド部材のガイ
ド巾を搬送するウエハの最大サイズに合致させ、
ガイド部材の搬送方向と反対側の端部に収束する
テーパ壁を設け、このテーパ壁の収束位置を前記
した搬送路の中心に位置させたから、搬送路の任
意の位置にウエハを搬送させた状態において、搬
送路を搬送方向とは逆方向に駆動させると、ウエ
ハは、逆方向に移動してテーパ壁に当接しながら
収束位置に至り、ウエハは搬送路の中心に位置す
る状態になる。この状態において、搬送方向を切
り換えると、ウエハは、搬送路の中心位置に載置
された状態で順次搬送されて、次工程に確実に移
送される。
ド巾を搬送するウエハの最大サイズに合致させ、
ガイド部材の搬送方向と反対側の端部に収束する
テーパ壁を設け、このテーパ壁の収束位置を前記
した搬送路の中心に位置させたから、搬送路の任
意の位置にウエハを搬送させた状態において、搬
送路を搬送方向とは逆方向に駆動させると、ウエ
ハは、逆方向に移動してテーパ壁に当接しながら
収束位置に至り、ウエハは搬送路の中心に位置す
る状態になる。この状態において、搬送方向を切
り換えると、ウエハは、搬送路の中心位置に載置
された状態で順次搬送されて、次工程に確実に移
送される。
(実施例)
第1図は、本考案におけるウエハプローバの搬
送路の一実施例を示した平面図、第2図A乃至第
2図Dは、本考案におけるウエハの搬送工程の順
序を説明した平面説明図である。
送路の一実施例を示した平面図、第2図A乃至第
2図Dは、本考案におけるウエハの搬送工程の順
序を説明した平面説明図である。
図面において、ウエハプローバ等の半導体製造
装置10の機台11にベルト等からなるローダ用
の搬送路12Aとアンローダ用の搬送路12Bを
設ける。この搬送路12A,12Bは、その両側
に平行状態に、内周面にガイド面13aを有する
ガイド部材13を機台11と一体に又は別体に設
ける。ローダ用の搬送路12Aは従来と同様であ
つて、ウエハ14をベルト12Aを介してチヤツ
ク上まで搬送した位置でウエハ14がローダガイ
ド用のテーパ壁15に当接してチヤツク上に載置
される。次いで、ローダガイドがやや浮き上がる
ので、チヤツクはウエハ14と共に測定位置まで
移動して測定が行われる。その後、測定後のウエ
ハ14はチヤツク上に載置されながらアンローダ
ガイド用のガイド部材13の端部位置まで移動
し、ベルトによつて、空ウエハカツセツトまで搬
送されて収容される。
装置10の機台11にベルト等からなるローダ用
の搬送路12Aとアンローダ用の搬送路12Bを
設ける。この搬送路12A,12Bは、その両側
に平行状態に、内周面にガイド面13aを有する
ガイド部材13を機台11と一体に又は別体に設
ける。ローダ用の搬送路12Aは従来と同様であ
つて、ウエハ14をベルト12Aを介してチヤツ
ク上まで搬送した位置でウエハ14がローダガイ
ド用のテーパ壁15に当接してチヤツク上に載置
される。次いで、ローダガイドがやや浮き上がる
ので、チヤツクはウエハ14と共に測定位置まで
移動して測定が行われる。その後、測定後のウエ
ハ14はチヤツク上に載置されながらアンローダ
ガイド用のガイド部材13の端部位置まで移動
し、ベルトによつて、空ウエハカツセツトまで搬
送されて収容される。
また、ガイド部材13のガイド巾wは、搬送す
るウエハ14(例えば3乃至8インチ)の最大サ
イズに合せている。本例においては、8インチサ
イズのガイド巾wに設定しているが、これに限定
されるものではない。
るウエハ14(例えば3乃至8インチ)の最大サ
イズに合せている。本例においては、8インチサ
イズのガイド巾wに設定しているが、これに限定
されるものではない。
更に、ガイド部材13の搬送方向と反対側の端
部には、収束するテーパ壁15を設け、このテー
パ壁15の収束位置cを前記した搬送路12の中
心位置に設ける。
部には、収束するテーパ壁15を設け、このテー
パ壁15の収束位置cを前記した搬送路12の中
心位置に設ける。
次に上記した実施例の作用について説明する。
例えば3インチサイズのウエハ14を載せた状態
において、第2図Bに示すように搬送路12を搬
送方向とは逆方向に駆動させると、ウエハ14
は、逆方向に移動してテーパ壁15に当接しなが
ら収束位置cに至り、次いで、第2図Cに示すよ
うにウエハ14は搬送路12の中心に位置する状
態になる。この状態において、搬送路12の搬送
方向に切り換えると、ウエハ14は、第2図Dに
示すように搬送路12の中心位置に載置された状
態で順次搬送されて、空ウエハカツセツトに確実
に収容される。
例えば3インチサイズのウエハ14を載せた状態
において、第2図Bに示すように搬送路12を搬
送方向とは逆方向に駆動させると、ウエハ14
は、逆方向に移動してテーパ壁15に当接しなが
ら収束位置cに至り、次いで、第2図Cに示すよ
うにウエハ14は搬送路12の中心に位置する状
態になる。この状態において、搬送路12の搬送
方向に切り換えると、ウエハ14は、第2図Dに
示すように搬送路12の中心位置に載置された状
態で順次搬送されて、空ウエハカツセツトに確実
に収容される。
また、第3図A乃至第3図Hは、本考案におけ
るウエハプローバの他の実施例を示したもので、
同図は、搬送路の部分を示した平面図並びに断面
図である。
るウエハプローバの他の実施例を示したもので、
同図は、搬送路の部分を示した平面図並びに断面
図である。
本例におけるウエハプローバは、ウエハを測定
する半導体製造装置50と、ウエハをウエハカセ
ツトから引出し測定部機構に搬送する機台40と
が着脱可能な方式のものであつて、半導体製造装
置50側に配設された回転腕が、搬送する機台4
0の所定位置に到達したウエハを取上げてチヤツ
クに載置する構造である。
する半導体製造装置50と、ウエハをウエハカセ
ツトから引出し測定部機構に搬送する機台40と
が着脱可能な方式のものであつて、半導体製造装
置50側に配設された回転腕が、搬送する機台4
0の所定位置に到達したウエハを取上げてチヤツ
クに載置する構造である。
上記の図面において、半導体製造装置50の機
台にベルト等から成るローダ(ウエハカセツトか
らチヤツクまでウエハを運ぶ機能をいう)用の搬
送路25Aと、アンローダ(チヤツク上に載置し
た測定済みのウエハをウエハカセツトまで運ぶ機
能をいう)用の搬送路26B及びベルト上に搬送
されたウエハが回転腕に載置するために、ウエハ
を持ち上げるサブチヤツク28,28′が両方の
搬送路に配設されている。また、両方の搬送路の
ベルト等は、2分割されているが、それらは連動
構造に成つている。
台にベルト等から成るローダ(ウエハカセツトか
らチヤツクまでウエハを運ぶ機能をいう)用の搬
送路25Aと、アンローダ(チヤツク上に載置し
た測定済みのウエハをウエハカセツトまで運ぶ機
能をいう)用の搬送路26B及びベルト上に搬送
されたウエハが回転腕に載置するために、ウエハ
を持ち上げるサブチヤツク28,28′が両方の
搬送路に配設されている。また、両方の搬送路の
ベルト等は、2分割されているが、それらは連動
構造に成つている。
次に、上記のウエハプローバの動作について述
べると、先ず、第3図A,Bに示すように、被測
定物のウエハ2を収納しているウエハカセツト1
がウエハプローバの載置台に載置される。上記の
ように載置されたウエハは搬送路25Aのベルト
23でローダ側のテーパ壁13に当接して停止す
る。停止した上記ウエハは、サブチヤツクがベル
ト面より高く上昇するように設定されているた
め、同図に示すように、上記ウエハはサブチヤツ
クに持ち上げられる。上記サブチヤツクはソレノ
イドと連動しており、空圧手段等により上下運動
機構が内蔵されている。
べると、先ず、第3図A,Bに示すように、被測
定物のウエハ2を収納しているウエハカセツト1
がウエハプローバの載置台に載置される。上記の
ように載置されたウエハは搬送路25Aのベルト
23でローダ側のテーパ壁13に当接して停止す
る。停止した上記ウエハは、サブチヤツクがベル
ト面より高く上昇するように設定されているた
め、同図に示すように、上記ウエハはサブチヤツ
クに持ち上げられる。上記サブチヤツクはソレノ
イドと連動しており、空圧手段等により上下運動
機構が内蔵されている。
上記サブチヤツクに載置されたウエハは、必ず
しもサブチヤツクの中心がウエハの中心とは限ら
ず、上記サブチヤツクに載置されたウエハは、上
記サブチヤツクの回転により、上記ウエハの外殻
を抽出し、上記サブチヤツクの中心と、ウエハの
中心が演算され、上記の中心間のずれをX成分及
びY成分に分解し、再びベルト23にウエハを載
置し、ベルトの移動量は、X成分の移動量に合せ
て、パルスモータを駆動させる。再び上記サブチ
ヤツクでウエハを持ち上げ、サブチヤツクを90度
回転し、再びベルト23にウエハを載置し、ベル
トの移動量は、Y成分の移動量に合せてパルスモ
ータを駆動させる。
しもサブチヤツクの中心がウエハの中心とは限ら
ず、上記サブチヤツクに載置されたウエハは、上
記サブチヤツクの回転により、上記ウエハの外殻
を抽出し、上記サブチヤツクの中心と、ウエハの
中心が演算され、上記の中心間のずれをX成分及
びY成分に分解し、再びベルト23にウエハを載
置し、ベルトの移動量は、X成分の移動量に合せ
て、パルスモータを駆動させる。再び上記サブチ
ヤツクでウエハを持ち上げ、サブチヤツクを90度
回転し、再びベルト23にウエハを載置し、ベル
トの移動量は、Y成分の移動量に合せてパルスモ
ータを駆動させる。
以上の動作で上記ウエハのプリアライメントが
行われる。
行われる。
上記に述べた上記サブチヤツクとウエハのずれ
を抽出する技術は、例えば、特公昭55−39901号
公報に開示されている。よつて、ローダ側におい
てもウエハの大きさでウエハガイドを交換する必
要性はなくなつている。
を抽出する技術は、例えば、特公昭55−39901号
公報に開示されている。よつて、ローダ側におい
てもウエハの大きさでウエハガイドを交換する必
要性はなくなつている。
前に戻つて述べると、プリアライメントされた
ウエハは上記サブチヤツク28に載置されてい
る。
ウエハは上記サブチヤツク28に載置されてい
る。
上記ウエハとロータガイド25との空間部に一
点鎖線で示したように回転腕41を廻り込み、そ
の後、上記サブチヤツクは降下する。よつて、上
記ウエハは上記回転腕41に載置する。回転腕4
1は、チヤツク30の上方に回転して停止する。
点鎖線で示したように回転腕41を廻り込み、そ
の後、上記サブチヤツクは降下する。よつて、上
記ウエハは上記回転腕41に載置する。回転腕4
1は、チヤツク30の上方に回転して停止する。
第3図C,Dに示すように、チヤツク30に埋
設されたピン31が空気圧手段等で突設し、回転
腕41が所定の位置まで降下し、その結果ピン3
1上にウエハ2が載置する。
設されたピン31が空気圧手段等で突設し、回転
腕41が所定の位置まで降下し、その結果ピン3
1上にウエハ2が載置する。
第3図E,Fに示すように、上記ピン31にウ
エハ2が載置した後、ピン31がチヤツク30内
に降下し、再び埋設させる。依つて、ウエハ2が
吸着機構(図示しない)によつてチヤツクに吸着
固定される。このとき、回転腕41は所定位置に
戻つている。チヤツクに載置したウエハはX−Y
駆動手段29によつて、プローブカード60位置
まで移動し、ウエハの全チツプを測定した後、再
びチヤツクからウエハを回転腕41に引き渡す位
置まで戻る。
エハ2が載置した後、ピン31がチヤツク30内
に降下し、再び埋設させる。依つて、ウエハ2が
吸着機構(図示しない)によつてチヤツクに吸着
固定される。このとき、回転腕41は所定位置に
戻つている。チヤツクに載置したウエハはX−Y
駆動手段29によつて、プローブカード60位置
まで移動し、ウエハの全チツプを測定した後、再
びチヤツクからウエハを回転腕41に引き渡す位
置まで戻る。
次に、第3図G,Hに示すように、チヤツクに
埋設されたピン31を突出させ、そのピン31に
載置されたウエハとチヤツク表面との空間に回転
腕が廻り込み、上記回転腕が上昇し、ウエハを回
転腕に吸着し、同回転腕をアンロード側のサブチ
ヤツクに覆設するように回転し停止する。
埋設されたピン31を突出させ、そのピン31に
載置されたウエハとチヤツク表面との空間に回転
腕が廻り込み、上記回転腕が上昇し、ウエハを回
転腕に吸着し、同回転腕をアンロード側のサブチ
ヤツクに覆設するように回転し停止する。
次いで、上記サブチヤツクが上昇し、ウエハを
吸着し、回転腕より高い位置で停止する。次に、
回転腕は第3図Eに示す位置に戻り、サブチヤツ
クは所定位置まで降下する。降下する際に、上記
ウエハはベルト27の表面に載置される。
吸着し、回転腕より高い位置で停止する。次に、
回転腕は第3図Eに示す位置に戻り、サブチヤツ
クは所定位置まで降下する。降下する際に、上記
ウエハはベルト27の表面に載置される。
その後、アンローダ側のベルト27に載置した
後、ベルト27は、第3図Gにおいて左側矢印方
向32にウエハが移動するように駆動される。
後、ベルト27は、第3図Gにおいて左側矢印方
向32にウエハが移動するように駆動される。
そして、アンローダガイドのテーパ壁15に当
接することによりベルト27の略中心にウエハの
中心が位置し、その後、第3図Gの右側矢印方向
31にウエハが移動するように駆動する。
接することによりベルト27の略中心にウエハの
中心が位置し、その後、第3図Gの右側矢印方向
31にウエハが移動するように駆動する。
なお、本考案は、ウエハプローバについて説明
したが、これに限定されるものではなく、半導体
製造装置一般に適用されることは勿論である。
したが、これに限定されるものではなく、半導体
製造装置一般に適用されることは勿論である。
(考案の効果)
以上のことから明らかなように、本考案は、搬
送路に沿つてガイド部材を設け、このガイド部材
のガイド巾を搬送するウエハの最大サイズに合致
させて配設すると共にガイド部材の搬送方向と反
対側の端部に収束するテーパ壁を設け、このテー
パ壁の収束位置を前記した搬送路の中心位置に設
けた構成を採用したので、次のような優れた効果
を有する。
送路に沿つてガイド部材を設け、このガイド部材
のガイド巾を搬送するウエハの最大サイズに合致
させて配設すると共にガイド部材の搬送方向と反
対側の端部に収束するテーパ壁を設け、このテー
パ壁の収束位置を前記した搬送路の中心位置に設
けた構成を採用したので、次のような優れた効果
を有する。
即ち、直径の異なるウエハであつても、搬送す
る際のガイドを交換することなく共通したガイド
でウエハを搬送できため、従来のようなガイドを
ウエハのインチサイズの変更の際に交換する作業
がなくなり、自動化を図ることができるばかりで
なく効率的にウエハを搬送することが可能とな
り、また、ローダガイドとアンローダガイドを共
用することができる等、極めて使用価値の高いウ
エハのガイド構造を提供することができる。
る際のガイドを交換することなく共通したガイド
でウエハを搬送できため、従来のようなガイドを
ウエハのインチサイズの変更の際に交換する作業
がなくなり、自動化を図ることができるばかりで
なく効率的にウエハを搬送することが可能とな
り、また、ローダガイドとアンローダガイドを共
用することができる等、極めて使用価値の高いウ
エハのガイド構造を提供することができる。
第1図及び第2図は、本考案の一実施例を示し
たもので、第1図はウエハプローバの搬送路のガ
イド部分を示した平面図、第2図A乃至第2図D
は、ウエハの搬送工程の順序を説明した平面説明
図であり、第3図A,C,E,Gは本考案におけ
る他の実施例を示したウエハプローバにおける搬
送路を示した平面説明図、第3図B,D,F,H
は、上記第3図A,C,E,GのI−I,J−
J,K−K,L−L線の断面図であり、第4図
A,Bは、従来例を示したウエハプローバにおけ
る搬送路を示した平面説明図である。 10……半導体製造装置(ウエハプローバ)、
12A,12B……搬送路、13……ガイド部
材、14……ウエハ、15……テーパ壁、w……
ガイド巾、c……収束位置。
たもので、第1図はウエハプローバの搬送路のガ
イド部分を示した平面図、第2図A乃至第2図D
は、ウエハの搬送工程の順序を説明した平面説明
図であり、第3図A,C,E,Gは本考案におけ
る他の実施例を示したウエハプローバにおける搬
送路を示した平面説明図、第3図B,D,F,H
は、上記第3図A,C,E,GのI−I,J−
J,K−K,L−L線の断面図であり、第4図
A,Bは、従来例を示したウエハプローバにおけ
る搬送路を示した平面説明図である。 10……半導体製造装置(ウエハプローバ)、
12A,12B……搬送路、13……ガイド部
材、14……ウエハ、15……テーパ壁、w……
ガイド巾、c……収束位置。
Claims (1)
- ウエハプローバ等の半導体製造装置におけるウ
エハの搬送路において、当該搬送路に沿つてガイ
ド部材を設け、このガイド部材のガイド巾を搬送
するウエハの最大サイズに合致させて配設し、ガ
イド部材の搬送方向と反対側の端部に、収束する
テーパ壁を設け、このテーパ壁の収束位置を前記
した搬送路の中心位置に設けると共に、搬送路を
逆方向に搬送させてウエハが上記したテーパ壁の
収束位置に位置したとき上記搬送路を搬送方向に
切換可能に構成したことを特徴とするウエハの搬
送ガイド構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1948986U JPH0530022Y2 (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1948986U JPH0530022Y2 (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62133551U JPS62133551U (ja) | 1987-08-22 |
JPH0530022Y2 true JPH0530022Y2 (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=30814129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1948986U Expired - Lifetime JPH0530022Y2 (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0530022Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-15 JP JP1948986U patent/JPH0530022Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62133551U (ja) | 1987-08-22 |
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