JPH0517885Y2 - - Google Patents

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JPH0517885Y2
JPH0517885Y2 JP16133686U JP16133686U JPH0517885Y2 JP H0517885 Y2 JPH0517885 Y2 JP H0517885Y2 JP 16133686 U JP16133686 U JP 16133686U JP 16133686 U JP16133686 U JP 16133686U JP H0517885 Y2 JPH0517885 Y2 JP H0517885Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 考案の目的 産業上の利用分野 本考案は、ウエハプローバ等の半導体製造装置
に用いられているウエハの搬送構造に関し、特に
ウエハプローバにおいてウエハをウエハカセツト
からチヤツクに搬送し、処理後のウエハをチヤツ
クからウエハカセツトに搬送する際のウエハ搬送
構造の改良に関するものである。
従来の技術 ウエハを製造する過程では、前工程ですでにウ
エハを収容したウエハカセツトから一枚毎にウエ
ハを引き出し、引き出されたウエハは搬送路でウ
エハ処理部の位置、例えばウエハを測定する位置
まで搬送する。このウエハ処理部で必要な処理を
されたウエハは次の工程に運ぶために空のウエハ
カセツトに収容される。前記のウエハをウエハカ
セツトから処理部まで搬送する搬送工程を一般に
ローダと称している。また、後記のようにウエハ
を処理部、例えばウエハを載置するチヤツクから
空のウエハカセツトに収容するまで搬送する搬送
工程を一般にアンローダと称している。このロー
ダ及びアンローダは必ず対に配置しているのが多
い。
複数のウエハ処理工程において、これらの搬送
工程によつて一枚毎に確実に搬送することがウエ
ハを製造する過程の基本的重要性であり、ひいて
は全処理工程を全自動化にして安価な半導体チツ
プを提供しようとする社会的背景がある。
この種のウエハを搬送するウエハ搬送装置とし
て、特開昭57−66649号公報に示されているよう
なものがあり。この公報は第1のローダと第2の
ローダとの間を接続する第3のローダを設置した
ことを特徴とした発明として出願されている。こ
の従来例の説明ではベルヌーイチヤツクを用いて
第1のローダからチヤツクに載置して搬送してい
る。この従来例について第6図、第7図を用いて
説明する。
先ず構成を述べると、11はウエハカセツト1
2に収容したウエハ、14は昇降部14bとウエ
ハカセツト台14aとからなるエレベータ、39
は昇降部39bと空ウエハカセツト台39aとか
らなるエレベータ、53はウエハカセツトからウ
エハを引き出しベルヌーイチヤツク94に渡す所
定位置まで搬送する搬送路、91,92,93は
夫々ベルヌーイチヤツク94をY軸、X軸、Z軸
方向に駆動する駆動部、93aはベルヌーイチヤ
ツク94を反転させる駆動部、41aはウエハの
アライメントをするチヤツク位置、41bはヘツ
ドプレート26に内設したプローブカード40を
介して外部テスタと連絡して測定するチヤツク位
置、41cは測定後ウエハがアンローダ側に載置
するときのチヤツク位置、54は空ウエハカセツ
トに測定済のウエハを収容するアンローダ側の搬
送路である。
つぎに上記のウエハ搬送の動作について説明す
る。前行程終了のウエハをウエハカセツト12に
収容し、収容したウエハカセツト12をウエハカ
セツト台14aに載置し、エレベータ14の昇降
部14bでウエハカセツトを降下させ、ローダ用
の搬送路53のベルトに一枚目のウエハが接触す
ると、センサで接触を確認してエレベータ14の
降下を停止させる。搬送路53においては、搬送
路53のベルト等でウエハと接触してウエハを図
の矢印方向に搬送する。つぎにウエハが所定位
置、すなわちベルヌーイチヤツク94がウエハを
浮上させる位置決め機構の位置に到達したら搬送
路53の搬送を停止させる、もちろんこの確認に
もセンサを用いる。センサで確認後ベルヌーイチ
ヤツク94がウエハの頭上にX,Y駆動部92,
91及び、Z駆動部93を介して降下接近し、ベ
ルヌーイチヤツク94の中央孔より円錐形状の側
面に沿つて空気を噴出してウエハを浮かし、その
ウエハを浮かした状態でベルヌーイチヤツクを反
転し、チヤツク41上空に覆設し、降下させ、チ
ヤツク41に載置する。上記でのベルヌーイチヤ
ツク94とウエハの関係は、円錐形の中央上部に
より側壁に沿つて空気を噴出させることにより、
空気が側壁面に沿つて流れ出し、円錐形の中心部
分の空気圧が低下する。その空気圧の低下部分の
真下にウエハがあるので、周辺との圧力差によつ
てウエハが浮上する。しかし、ウエハはベルヌー
イチヤツク94に物理的に固定されるのではな
く、浮上している状態を保つているだけである。
チヤツク41に載置したウエハはアライメント
部41aを通つて測定位置41bにX−Y駆動装
置で移動し、その後アンローダ側のチヤツク41
cの位置に移動し、再びベルヌーイチヤツク94
がチヤツク41cからウエハを浮上させ、アンロ
ーダの搬送路54のベルト等に載置し、搬送路5
4の搬送で空ウエハカセツト13に収容する。
しかしながら上記の従来例のベルヌーイチヤツ
クを使用する搬送手段は、2つの手段で搬送して
いることになる。1つはウエハカセツト12から
所定位置にウエハを搬送するベルト搬送手段と停
止手段からなる。この構成は搬送路のベルト等を
モータで駆動してベルトの摩擦でウエハを所定位
置に搬送するものである。他の1つは所定位置す
なわち、搬送路のベルト上のウエハをベルヌーイ
チヤツク94で浮上させ、そのベルヌーイチヤツ
ク94自体を測定部と搬送部の約中間に配置さ
せ、ローダの所定位置からチヤツク41へ、ま
た、チヤツク41からアンローダの所定位置に搬
送するものである。その構成は、X軸、Y軸、Z
軸方向に自在に移動可能でかつ反転自在な機構に
ベルヌーイチヤツクを固着しこの機能でウエハを
所定位置に搬送する手段である。
考案が解決しようとする問題点 上記の従来例の問題点はベルヌーイチヤツクを
使用していることにあり、その理由はウエハの底
面を支持するものでなく、ウエハの上空部に大気
圧の濃薄を作り出しその気圧差で生じる浮力を使
用してウエハを浮かしてチヤツクに搬送するか
ら、ウエハを搬送中に落下させて破損させる問題
点があつた。この破損させる原因はベルヌーイチ
ヤツクの中央から吹き出す空気圧を連続して噴出
する困難性、例えば空気圧を噴出するノズルに水
滴、チリ、コム等の不純物の混合により噴出気流
の乱れ、搬送部における雰囲気により噴出気流が
負ける等による。他の問題点としてウエハを処理
する工程で空気流を嫌う処理装置には使用できな
い。例えば真空中での処理等は空気圧を使用でき
ないのは当然である。
したがつて、本考案は、上記した従来の問題に
鑑み、ウエハをウエハカセツト12から所定位置
まで搬送し、この所定位置からチヤツクまで搬送
する工程で、ウエハをウエハカセツト12から所
定位置まで搬送する際に、また、測定済のウエハ
を空ウエハカセツト13内に搬送する際にそのウ
エハを破損させることがなく、また真空雰囲気中
でも使用することができるウエハ搬送構造を提供
することを目的としている。
課題を解決しようとする手段 上記目的を達成するため本出願考案は、 ウエハ収納部から測定前のウエハを取り出して
搬送するローダ用の搬送路と、 このローダ用の搬送路より搬送されたウエハを
下から突き上げて上昇する第1の昇降部材と、 測定後のウエハをウエハ収納部に搬送するアン
ローダ用の搬送路と、 このアンローダ用の搬送路の上方位置にて、測
定後のウエハを突き上げて受け取り、当該搬送路
の下方側まで下降して当該ウエハをアンローダ用
の搬送路に載せる第2の昇降部材と、 前記第1の昇降部材のウエハの受け渡し位置と
第2の昇降部材のウエハの受け取り位置とを通る
円弧上に配置される処理用のウエハ保持台と、 前記第1の昇降部材及び第2の昇降部材が上下
に通過できるように切り欠き部を有すると共に、
第1の昇降部材から測定前のウエハを受け取つた
後水平面内で回転して当該ウエハを前記測定用の
ウエハ保持台に受け渡し、このウエハ保持台から
測定後のウエハを受け取つた後水平面内で回転し
て当該ウエハを第2の昇降部材に受け渡す回転部
材と、 を備え、 第1の昇降部材または第2の昇降部材は、回転
部材の通過領域を避けるように回転部材の回転中
心に対して外方に延伸し更に下方側に屈曲した構
造であることを特徴とする。
作 用 ローダ用の搬送路上の測定前のウエハは第1の
昇降部材により突き上げられて上昇し、その後第
1の昇降部材が回転部材の切り欠き部を通つて下
降することにより回転部材に受け渡される。次い
で回転部材は測定用のウエハ保持台まで回転して
当該ウエハをウエハ保持台に受け渡し、更に測定
後のウエハをウエハ保持台から受け取つて第2の
昇降部材の上方位置(受け取り位置)まで回転す
る。その後第2の昇降部材が回転部材の切り欠き
部を通つて上昇することにより回転部材上のウエ
ハを突き上げ、回転部材が第1の昇降部材上の測
定済のウエハを受け取りに行くと共に、第2の昇
降部材は下降してアンローダ用の搬送路に測定済
のウエハを載置する。ここで例えば第2の昇降部
材を、回転部材の通過領域を避け得る構成とすれ
ば、第2の昇降部材の降下前に回転部材が前記通
過領域を通つて第1の昇降部材側に移動できるの
でスループツトが向上する。
実施例 以下、本考案を半導体ウエハプローバに適用し
た一実施例を第1図〜第3図を用いて説明する。
第1図は本考案におけるウエハプローバ等の搬
送路の一実施例を示した平面図である。
第2図は第1図のローダ部側を示す断面図、第
3図A−Dは第1図のアンローダ部側を示す断面
図である。
本実施例におけるウエハプローバ90はウエハ
を処理する処理部例えばウエハ11を測定する測
定部89と、ウエハ11をウエハ収納部であるウ
エハカセツト12から所定位置まで搬送する搬送
部91と、上記所定位置から測定部89までウエ
ハ11を回転搬送する回転部23と、から構成さ
れている。
上記測定部89は、ヘツドプレート26に取り
付けられたプローブカード40や、このプローブ
カード40の下方位置と後述の回転部材23bと
の受け渡し位置との間で移動し、突出自在なピン
25aを有するウエハ保持台25などを備えてい
る。上記搬送部91は第1図に示すように、ロー
ダ部95とアンローダ部96とから構成されてお
り、基台25cには前記ローダ部95の搬送路1
5とアンローダ部96の搬送路20が並列に立設
されている。第2図に示すように、ローダ用の搬
送路15には、測定部89とウエハカセツト12
の載置部との途中に第1のウエハ昇降手段17を
設け、この第1のウエハ昇降手段71は、第1の
昇降部材17aを駆動部17bの空気圧などによ
り突出自在とする機能を有している。
第3図A〜Cに示すようにアンローダ用の搬送
路には測定部89(第1図参照)とウエハ収納部
である空ウエハカセツト13との途中に第2のウ
エハ昇降手段37が設けられている。この第2の
ウエハ昇降手段37は第2の昇降部材37aを上
記第1のウエハ昇降手段と同様に駆動部37bの
空気圧などにより突出自在とする機能を有してい
る。そして第2の昇降部材37aは、第3図Eに
示すように回転部材23bの通過領域37cを避
けるように、回転部材23bの回転中心に対して
外方側に延伸し、さらに下方側に屈曲したL字型
の構造とされている。なお第1の昇降部材17a
及び第2の昇降部材37aはウエハをチヤツクす
る機能をもつている。
また上記回転部23は、第1の昇降部材17a
あるいは第2の昇降部材37aが通過できるよう
に切り欠き部23cを備えた回転部材23bと、
この回転部材23bを駆動する駆動部23aとを
有しており、回転部材23bに対して、第1の昇
降部材17aのウエハの受け渡し位置と、第2の
昇降部材37aのウエハの受け取り位置とウエハ
保持台25とは、いずれも回転部材23bの移動
路である同一の円弧上に配置されている。なお図
中14はウエハカセツト台14aと昇降部14b
とからなるエレベータであり、39は空ウエハカ
セツト台39aと昇降部39bとからなるエレベ
ータである。
次に上記のウエハプローバ90にウエハ11を
搬送する動作について述べる。
先ず被測定物のウエハ11を収容したウエハカ
セツト12を上記ローダ側95のエレベータ14
に載置する。
上記載置されたウエハカセツト12内のウエハ
11を上記搬送路15のベルトで搬送し、ローダ
用の第1の昇降部材17aに設けられているセン
サでウエハ11aの到来を確認して、その信号で
ベルトの搬送が停止する。次にウエハ11aは第
1の昇降部材17aがベルト面よりも高く上昇す
ることにより、第2図で示すように持ち上げられ
る。
第4図に示すように、上記第1の昇降部材17
aに保持されたウエハ11aは、当初、必ずしも
その昇降部材17aの中心17acとウエハ11
aの中心11acとが一致しないが、上記第1の
昇降部材17aと保持されたウエハ17aは、上
記第1の昇降部材17aがプリアライメント機構
を有していて、回転可能になつていることによ
り、上記ウエハ11aの外殻を抽出し、上記第一
の昇降部材17aの中心17acとウエハの中心
11acがベクトル演算され、1回の位置合わせ
で補正されて一致するようになつている。
以上の動作で上記第1の昇降部材17aとウエ
ハ11aのずれ量を抽出する技術は、例えば特開
昭60−192345号公報に開示されている。
次に、このプリアライメントされたウエハ11
aは搬送路15のベルト等より低い位置にあつた
第1の昇降部材17aが所定位置まで上昇し、ウ
エハを第1の昇降部材17aに載置する。第2図
で示すように上昇した第1の昇降部材17aに載
置したウエハ11aと搬送路15の中間部に回転
部23の回転部材23bが廻り込み、その後、上
記第1の昇降部材17aの降下動作により、上記
ウエハ11aは、回転部材23b上に移し変えら
れる。次にこのウエハは回転部材23bの回転に
より、ウエハ保持台25の上空部に回転され停止
する。
そして、第2図で示すように、ウエハ保持台2
5に埋設されたピン25aが空気圧手段等で突出
した状態になつており、回転部材23bを所定位
置まで降下させると、その結果ピン25a上部に
ウエハ11bが移し変えられる。この状態で回転
部材23bは回避する。上記ピン25a上にウエ
ハが載置された後、そのピン25aがウエハ保持
台25内に埋設され、このピン動作によりウエハ
11bは吸着部(図示なし)によつて、ウエハ保
持台25表面に吸着固定される。
ウエハ保持台25に載置したウエハ11bはX
−Y駆動手段によつて、プロープカード40の位
置まで移動し、ウエハ11aを測定した後、プロ
ープカード40の位置からX−Y駆動手段によつ
て、ウエハ授受位置まで戻り、ウエハ保持台25
に埋設されているピン25aを突出させ、そのピ
ン25aに載置したウエハ11bとウエハ保持台
25表面との空間部に回転部材23bが廻り込
み、上記回転部材23bが上昇してウエハを授受
した後、ローデイング時とは逆方向に回転してア
ンローダ用の第2の昇降部材37aの位置の上ま
で来ると停止する。つぎに第3図Aで示すよう
に、回転部材23bの通過領域37cを設けた第
2の昇降部材37aが昇降部37bを介して上昇
され、回転部材23bよりウエハを受け取つて停
止する。
第3図Bに示すように、前記通過領域37cを
設けた第2の昇降部材37aは、回転部材23b
が通過できる形状となつているために、回転部材
23bは第2の昇降部材37aとそれに載せられ
たウエハの下をくぐつて回転して、即ちその前記
通過領域37cを通過してローダ側に回転移動す
ることが可能となる。
ここで通過領域37cを設けない場合には、衝
突を回避するために、第5図に示すように、回転
部材23bはウエハ11cの降下により接触しな
い程度まで回転移動して待機しなければならず、
例えばe点まで回転して待機して、第2の昇降部
材37aを降下させてウエハを搬送路20のベル
ト等に載置した後、その上空部を通過して、矢印
方向に回転部材23bが回転移動させなければな
らないから、大きな時間的ロスが生じる。
この前記通過領域37cは第2のウエハ昇降手
段37に設けて、回転部材23bをローダ用の第
1の昇降部材17a側に戻すとき、その回転部材
23bと接触しない程度のものであれば十分であ
り、例えばL字形であつても第3図Bおよび第3
図Dで示す形状であつても問題でなく、回転部材
23bが通過可能な形状であれば十分である。
また、第1の昇降部材17aの昇降部17bと
アンローダ用の第2の昇降部材37aの昇降部3
7bとは共通に使用しても良い。
アンローダの動作の説明に戻る。
回転部材23bの先端が前記通過領域37cを
通過した後第3図Cに示すようにアンローダ用の
第2の昇降部材37aを搬送路20のベルト面よ
り低い位置まで降下させると、ウエハ11cは上
記降下に伴い、搬送路20のベルト面に授受さ
れ、アンローダ側の搬送路20のベルト等の移動
により矢印方向に移動し、空ウエハカセツト13
に収容される。
尚本考案は、ウエハプローバについて説明した
がこれに限定されるものではなく、半導体製造装
置一般に適用されることは勿論である。
考案の効果 本考案によれば、ウエハをローダ用の搬送路か
ら処理用のウエハチヤツクを経由してアンローダ
用の搬送路まで搬送するにあたつてウエハの底面
を保持して搬送しているため、空気圧差で生じる
浮力を利用して搬送する場合に比べて確実に搬送
できる上、真空中での処理を行う場合にも適用で
きる。また昇降部材を回転部材の通過領域を避け
る構造としているので、昇降部材が回転部材より
も上方位置にあつても回転部材が昇降部材と衝突
することなく回動でき、従つて昇降部材の上昇ま
たは下降のタイミングと回転部材の移動のタイミ
ングとの順序の制限を緩和できるのでスループツ
トが向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図A〜Dは本考案の一
実施例を示したもので第1図はウエハプローバに
搬送部を用いた平面図、第2図は第1図のローダ
側を示す断面図、第3図A〜Dは第1図のアンロ
ーダ側を示す断面図、第4図はプリアライメント
の説明図、第5図は不効率な搬送の説明図、第6
図は従来例を示したウエハプローバの搬送部の平
面図、第7図は第6図のローダ側の断面図であ
る。 1……ウエハ、12……ウエハカセツト、14
……エレベータ、15……ローダ用搬送路、17
……第1のウエハ昇降手段、17a……第1のウ
エハ昇降部材、17b……昇降部(回転部分)、
20……アンローダ用搬送路、23……回転部、
23a……駆動部、23b……回転部材、25…
…ウエハ保持台、25a……ピン、25b,25
c……基台、26……ヘツドプレート、37……
第2の昇降手段、37a……第2の昇降部材、3
7b……第2の昇降部、37c……通過領域、3
9a……ウエハカセツト台、39b……昇降部、
40……プローブカード、90……ウエハプロー
バ、95……ローダ部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハ収納部から処理前のウエハを取り出して
    搬送するローダ用の搬送路と、 このローダ用の搬送路より搬送されたウエハを
    下から突き上げて上昇する第1の昇降部材と、 処理後のウエハをウエハ収納部に搬送するアン
    ローダ用の搬送路と、 このアンローダ用の搬送路の上方位置にて、処
    理後のウエハを突き上げて受け取り、当該搬送路
    の下方側まで下降して当該ウエハをアンローダ用
    の搬送路に載せる第2の昇降部材と、 前記第1の昇降部材のウエハの受け渡し位置と
    第2の昇降部材のウエハの受け取り位置とを通る
    円弧上に配置される処理用のウエハ保持台と、 前記第1の昇降部材及び第2の昇降部材が上下
    に通過できるように切り欠き部を有すると共に、
    第1の昇降部材から処理前のウエハを受け取つた
    後水平面内で回転して当該ウエハを前記処理用の
    ウエハ保持台に受け渡し、このウエハ保持台から
    処理後のウエハを受け取つた後水平面内で回転し
    て当該ウエハを第2の昇降部材に受け渡す回転部
    材と、 を備え、 第1の昇降部材または第2の昇降部材は、回転
    部材の通過領域を避けるように回転部材の回転中
    心に対して外方に延伸し更に下方側に屈曲した構
    造であることを特徴とするウエハ搬送構造。
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JP2013149703A (ja) * 2012-01-18 2013-08-01 Nippon Steel & Sumikin Fine Technology Co Ltd ウエハ搬送装置
CN102690052B (zh) * 2012-05-25 2015-07-15 熊进 一种玻璃下料装置

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