JP3825232B2 - ウエハ搬送システム及びその搬送方法 - Google Patents
ウエハ搬送システム及びその搬送方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3825232B2 JP3825232B2 JP2000228799A JP2000228799A JP3825232B2 JP 3825232 B2 JP3825232 B2 JP 3825232B2 JP 2000228799 A JP2000228799 A JP 2000228799A JP 2000228799 A JP2000228799 A JP 2000228799A JP 3825232 B2 JP3825232 B2 JP 3825232B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- aligner
- cassette
- transfer system
- intermediate cassette
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数段のウエハ支持部を有する中間カセット装置と、ウエハの搬送を行うアーム式ロボット装置と、ウェハのアライニングを行うアライナー装置と、ウエハの供給収納カセットとを有するウエハ搬送システム及びその搬送方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来は、図10に示すように、アーム式ロボット105により、ウェハカセット104からウエハ101を一旦アライナー装置102に持っていき、そこでアライニングが終わったウェハ101を中間カセット(シャトル)103に持っていく。
【0003】
すなわち、中間カセット103とは別の場所にあるアライナー装置102にて、オリフラ、ノッチ等の目印によるウェハ101の回転位置を適正にするためのにウェハ101に対してアライニングを行い、その後、中間カセット103に載せる。ここで、105は主カセット(バキュームカセット)であり、106はアンロード用カセット(シャトル)である。
【0004】
例えば、ウェハカセット104から中間カセット103にウェハ101を搬送する場合、ウェハカセット104→(アーム式ロボット105による搬送)→アライナー装置102→(アーム式ロボット装置105による搬送)→中間カセット103という流れになり、ロボット搬送が2回必要になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて成されたものであり、その目的は、ロボット装置による搬送をウェハ1枚につき1回で可能にすると共に、処理済みウエハと未処理ウエハの入れ替え時間の短縮を実現することを可能にしたウエハ搬送システム及びその搬送方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明では、複数段のウエハ支持部を有する中間カセット装置と、ウエハの搬送を行うアーム式ロボット装置と、ウェハのアライニングを行うアライナー装置と、ウエハの供給収納カセットとを有するウエハ搬送システムにおいて、前記中間カセット装置に対して、前記アーム式ロボット装置に保持されたウエハを、前記アライナー装置に載せ替えすると共にアライニングを実施した後、前記アライナー装置から、前記中間カセット装置のウエハ支持部へと直接ウエハの受渡しを行うよう構成した。
【0007】
また、前記アライナー装置にポジショナーを設け、ポジショナーによりウェハをセンタリングして、アライナー装置のウエハ保持回転部の上下動もしくはポジショナーの上下動により、該ウェハを該ウエハ保持回転部に載せ替えするようにした。
【0008】
また、ポジショナーを同軸上に設けた前記アライナー装置において、ポジショナーによりウェハをセンタリングして、該ウエハをアライナー装置のウエハ保持回転部に載せ替えし、アライナー装置全体の上下動により、前記中間カセット装置のウエハ支持部に受け渡すよう構成にした。
【0009】
また、前記アライナー装置の中心と前記中間カセット装置のウエハ載置の中心とがほぼ同軸上となるように配置するよう構成した。
【0010】
また、前記アライナー装置が前記中間カセット装置の方へ水平移動して、前記アライナー装置の中心と中間カセット装置のウエハ載置の中心とをほぼ同軸に位置できるよう構成した。
【0011】
また、前記中間カセット装置が前記アライナー装置の方へ水平移動して、前記アライナー装置の中心と前記中間カセット装置のウエハ載置の中心とをがほぼ同軸に位置できるよう構成した。
【0012】
また、前記アライナー装置のポジショナーの中心と前記アライナーのウエハ保持回転部の中心とを垂直な同軸上に位置するように設置した。
【0013】
また、前記アライナー装置を上下に昇降可能に構成し、アライナー装置の昇降により、前記中間カセット装置の複数段のウエハ支持部にウエハを順次上端の段から下端の段へと載置するよう構成した。
【0014】
また、前記アライナー装置を前記中間カセット装置のウエハ挿入経路上のウエハ載置中心軌道線上に配置し、アライナー装置を水平移動させて、ウエハを前記アーム式ロボット装置から受けるよう構成した。
【0015】
また、前記アライナー装置を水平移動させて、ウエハを前記アーム式ロボット装置から受け、前記中間カセット装置が上下動してウエハを渡すように構成した。
【0016】
また、前記中間カセット装置の複数段のウエハ支持部を、下方開放形状で空間部を有する構成とし、前記アライナー装置をこの空間部の中を上下昇降可能に構成した。
【0017】
また、前記アライナー装置のポジショナーとウエハ保持回転部を、中間カセット装置の複数段の下方開放形状のウエハ支持部の空間部の間を上下昇降可能に構成した。
【0018】
また、前記中間カセット装置を上下に昇降可能に構成し、中間カセット装置の昇降により、中間カセット装置の複数段のウエハ支持部に、アライナー装置からウエハを順次上の段から下の段へと載置するよう構成した。
【0019】
また、前記アライナー装置を、前記中間カセット装置の水平移動線上もしくはシャトル駆動による回転時のウエハ載置中心軌道線上に配置し、中間カセット装置を水平移動させてウエハを受け渡し、アライナー装置が上下動すように構成した。
【0020】
また、前記中間カセット装置を水平移動させてウエハを受け渡し、中間カセット装置が上下動するように構成した。
【0021】
また、前記アーム式ロボット装置から、上下動して位置が変更できる前記アライナー装置にウエハを渡し、アライナー装置または前記中間カセットが上下動して中間カセットのウエハ支持部にウエハを受け取り載置するよう構成した。
【0022】
また、前記中間カセット装置とのウエハの受け渡しを行うウエハ供給カセットからのウエハの搬送途中において、前記アーム式ロボット装置が上下動し、上下動して位置が変更できる前記アライナー装置に受け渡し、アライナー装置または中間カセットが上下動してウエハを受け取り載置するよう構成した。
【0023】
また、前記中間カセット装置の上段のウエハ支持部のスロット段より順に、搬送載置されたウェハをアライニングし、 同じウエハ支持部スロット段上に再載置するように構成した。
【0024】
また、前記ウェハの目印を検出するセンサーを、前記アライナー装置に斜めに設置したよう構成した。
【0025】
また、未処理のウエハを前記中間カセット装置のウエハ支持部から真空容器に備えられた主カセット装置へ受渡しを行うとともに、該真空容器から真空処理室内へ自動で搬入すると共に、処理済のウエハを真空処理室内から真空容器へ自動で搬出するよう構成した。
【0028】
また、前記主カセット装置の保持部をアライナー装置が進入できる構成とし、主カセット装置またはアライナー装置が上下動し、アライナー装置からウエハを受け取るよう構成した。
【0029】
また、前記アーム式ロボット装置は、複数の前記供給収納カセット間を水平移動自在に構成した。
【0030】
また、本発明では、真空室内処理装置に備えられた真空カセット装置における複数段のウエハ保持棚との間で複数のウエハを一括して受け渡しをするためのウエハ搬送装置であって、真空カセット装置の側方にウエハロード用のシャトル装置とウエハアンロード用のシャトル装置とを配置し、各シャトル装置は、真空カセット装置の複数段のウエハ保持棚に対応する複数のウエハ支持部を有するシャトルカセットを備え、各シャトルカセットは、カセット装置との間でウエハの受け渡しを行う受渡し位置とそこから離れた待機位置との間を移動可能に構成されており、複数段のウエハ保持棚はそれぞれウエハをその中央領域で保持し、複数のウエハ支持部はそれぞれウエハをその直径方向の両側であって中央領域から外れた箇所で支持したウエハ搬送システムにおいて、シャトル装置への搬送経路中にアライナー装置を配設するとともに、前記中間カセット装置であるシャトル装置に対して、アーム式ロボット装置に保持されたウエハをアライナー装置に載せ替えすると共に、アライニングを実施した後、前記アライナー装置から前記中間カセット装置であるシャトル装置のウエハ支持部へと直接ウエハの受渡しを行うよう構成した。
【0031】
さらに、本発明では、複数段のウエハ支持部を有する中間カセット装置と、ウエハ搬送を行うアーム式ロボット装置と、ウェハのアライニングを行うアライナー装置と、ウエハの供給収納カセットとを有し、ウエハをアライニングした後にウエハ支持部にウエハを受け渡すようにしたウエハ搬送方法において、
前記中間カセット装置に対して、供給収納カセットからウエハを前記アーム式ロボット装置により取り出して保持し、この保持されたされたウエハを、前記中間カセット装置のウエハ支持部に載せ替えするとともに、このウエハを前記アライナー装置に載せ換えてアライニングを実施し、アライニングを実施したウエハを、前記アライナー装置から前記中間カセット装置のウエハ支持部へと直接受渡しするようにした。
【0032】
【作用】
本発明は、イオン注入装置等の真空室内で被処理物(シリコンウエハ)の処理作業を行う装置において、処理済と未処理のシリコンウェハを真空容器から搬出搬入する装置において、バキュームカセットと称するシリコンウェハの載せ換え作業を一括で行うスイング式カセット(以下、シャトルと称する)に載せるウェハのノッチ(オリフラ)合わせ(以下、この動作をアライニングと称する)を、シヤトル内で昇降できるアライニング装置〈以下、昇降型アライナーと称す)にて行うようにした。
【0033】
これにより、シャトルヘのウェハの搬送時間を短縮し、時間当たりのウェハ処理能力の向上が図れる。例えば、ウェハカセットからシャトルにウェハを搬送する場合、カセット → (アーム式ロボット装置による搬送) → アライナー装置→ 中間カセットとなり、ロボット搬送を1回で行える。
【0034】
従来、シャトルとアライナーはそれそれ別の場所にあるが、上記のような配置にすることで、装置の省スペース化が図れる。
【0035】
【発明の実施の形態】
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態を図により説明する。
【0036】
まず、図1を参照して、本発明のウエハ搬送システムの全体構成を説明する。
【0037】
図1において、このウエハ搬送システムは、バッチ処理型のイオン注入装置における真空容器10に備えられた主カセット装置(バキュームカセット)20における、例えば13段のウエハ保持棚との間で13枚のウエハを一括して受け渡しをするためのものであり、主カセット20を間にして配置された中間カセット(ウエハロード用のシャトル装置)30とウエハアンロード用のカセット装置(シャトル装置)40、中間カセット装置とウエハの受け渡しを行うウエハ供給カセット60とを含む。なお、真空容器10はその一部のみを示している。
【0038】
中間カセット30、ウエハアンロード用カセット40はそれぞれ、13段のウエハ保持棚に対応する13段のウエハ支持部を有する。中間カセット30、ウエハアンロード用カセット40は、主カセット20との間でウエハの受け渡しを行う受渡し位置と、そこから離れた待機位置との間を回動可能に構成されている。
【0039】
第1の実施の形態では、さらに、ウエハ供給カセット60から13枚の未処理ウエハを1枚ずつ取り出して、前記待機位置にある中間カセット装置30に渡すと共に、前記待機位置にあるウエハアンロード用のカセット装置40から13枚の処理済みウエハを1枚ずつ受け取って、ウエハ供給カセット60に渡すためのハンドリング装置50を備えている。ハンドリング装置50は、レール70に沿って水平に移動自在に構成されている。
【0040】
主カセット装置20は、図2(a),(b)に示すように、13段のウエハ保持棚21を備え、各ウエハ保持棚21は、ウエハ22をその中央領域において複数点で保持するようになっている。主カセット装置20は、さらに、真空容器10の内外に出入り自在に設けられており、複数のウエハ22の受け渡しは、主カセット装置20を真空容器10の外に出した状態で行われる。
【0041】
図2に示すように、主カセット装置20における13段のウエハ保持棚21は、所定距離だけ上下動可能に構成されている。そして、13枚の未処理ウエハ22を一括して中間カセット装置30から主カセット装置20に渡す場合には、13段のウエハ保持棚21は前記所定距離だけ下動した位置にあって、13段のウエハ支持部が前記受渡し位置に来ると前記所定距離だけ上動して13枚の未処理ウエハを一括して受けることができる。
【0042】
このようにして、中間カセット装置30は主カセット装置20に対して13枚のウエハ(未処理)22を、一度に渡すことができるような構造になっている。ここで、23は、ウエハ処理室である。ウエハ処理室23では、ウエハ22に対してイオン注入装置(図示せず)を使用してイオンが注入される。
【0043】
上記の構造は、ウエハアンロード用のカセット装置40についてもまったく同じであるので、図示説明は省略するが、複数の処理済みウエハ22を一括して主カセット装置20からウエハアンロード用のカセット装置40に渡す場合には、13段のウエハ保持棚21は前記所定距離だけ上動した位置にあって、13段のウエハ支持部が前記受渡し位置に来ると前記所定距離だけ下動して13枚の処理済みウエハを一括して13段のウエハ支持部に渡すことができる。
【0044】
なお、ハンドリング装置50については公知のもの(例えば、特開平3−154791号)を利用するので、図示及び説明は省略する。
【0045】
次に、本搬送システムの一般的な動作について簡単に説明する。
【0046】
(1)13枚の未処理のウエハ22をハンドリング装置50で、中間カセット装置30に載せて待機させておく。
【0047】
(2)真空容器10においてイオン注入処理が完了すると、処理済のウエハ22を移し替えられた主カセット装置20が、真空容器10の上方にせり出してくる。
【0048】
(3)処理済のウエハ22を受け取るために、アンロード用のカセット装置40がウエハの受渡し位置に回動されてくる。
【0049】
(4)主カセット装置20が、所定距離(ここでは10mm)下がって処理済みのウエハ22をアンロード用のカセット装置40に渡す。
【0050】
(5)処理済みのウエハ22を受け取るとアンロード用のカセット装置40は、元の待機位置に回動する。このようにして処理済みのウエハ22は、一括して主カセット装置20から搬出される。
【0051】
(6)アンロード用のカセット装置40が待機位置に回動してから、(1)にて待機していた中間カセット装置30がウエハ22の受渡し位置に回動されてくる。
【0052】
(7)主カセット装置20が10mm上がって、未処理のウエハ22を中間カセット装置30から一括して受け取る。
【0053】
(8)中間カセット装置30が、元の待機位置に回動する。
【0054】
(9)未処理のウエハ22を受け取った主カセット装置20は真空容器10内に収納され、主カセット装置20からイオン注入位置に移し替えられてイオン注入が開始する。
【0055】
(10)ハンドリング装置50で、アンロード用のカセット装置40の処理済みウエハ22をウエハ供給カセット装置60に移し替え、新しいウエハ供給カセット60から未処理のウエハ22を中間カセット30に載せて待機させておく。
【0056】
次に、昇降型アライナー装置300の構成について、図3(a),(b)を用いて説明する。
【0057】
昇降型アライナー装置300は、ウェハ保持回転部31、ポジショナー32、ノッチ(オリフラ)検出部33、昇降駆動部34より構成される。
【0058】
ウエハ保持回転部31はウエハの裏面を保持し、ウエハを回転させる。ノッチ(オリフラ)検出のため、正転、逆転できるようになっている。この場合、ウェハは真空チャックにより保持される。
【0059】
ポジショナー32は、ウェハの中心とウェハ保持回転部31の回転中心とが同芯軸上にくるように配置されており、ウェハを載せるだけでウェハのセンタリングするとき、ロボットハンドと干渉しないような形状となっている。
【0060】
ノッチ(オリフラ)検出部33は、ウェハの回転中にノッチもしくはオリフラの位置を検出するアライニング中、中間カセット(シャトル)30にあるウェハと干渉しないように、透過型センサーを図3及び図4に示すように配置する。
【0061】
図(b)に示す昇降駆動部34は、上下に昇降自在に構成されている。また、ウェハカセット内のウェハが手許に出てきている場合、ロボットで搬送すると、手前にずれた(せり出した)位置に置いてしまことがある。このため、このせり出しを検知するセンサー(せり出しセンサー)35を取り付けてある。このせり出しセンサー35としては、透過型もしくは反射型、限定反射型の光学式センサー、あるいはその他の電気式・機械式等の精密位置決めセンサーなどが使用可能である。
【0062】
次に、図3を参照して、中間カセット装置(シャトル)30との位置関係を以下に説明する。
【0063】
中間カセット装置30は門型になっており、昇降型アライナー装置300は中間カセット装置(シャトル)30の間に位置する。昇降型アライナー装置300は、ポジショナー32の中心と中間カセット装置30のウェハの中心とが垂直な同軸上にあるように設置される。
【0064】
次に、図5を参照して、本発明のアライニング及びポジショニング動作を説明する。
【0065】
(1)昇降型アライナー31はポジショナー32を下げた状態で中間カセット装置(シャトル)30の最上段のウェハアライニング位置に待機する。(図5(a))。
【0066】
(2)中間カセット装置30にある未処理のウェハをハンドリングロボット50でウェハ保持回転部31に置く。ウェハを置いた後、ロボットハンド50は次のウェハをカセットに取りに行く。
【0067】
ここで、ポジショナー32を下げた状態で待機し、ウェハが搬送されたらポジショナー32を上げてウェハを受け取るなどできる。もしくは、中間カセット(シャトル)30のウェハ同士の間隔が広く、ウェハとポジショナー32との隙間が十分とれる場合は、ポジショナー32を上げた状態で待機し、ロボットハンド50から搬送されたウェハを直接ポジショナー32が受けとることも可能である。いずれの場合もこの後に(4)の動作に移る。(図5(b))。
【0068】
(3)ポジショナー32は上がり、ウェハをセンタリングする。(図5(c))。
【0069】
(4)ウェハ保持回転部31のポジショナー32が下がり、ウェハをウェハ回転保持部31で保持する。(図5(c))。
【0070】
(5)ウェハと共にウェハ保持回転部31が回転し、ノッチ(オリフラ)が検出され、必要な位置で回転を停止する。(図5(d))。
【0071】
(6)真空チャックをOFFする。アライナーユニット31が13mm下がり、真空チャック上にあるウェハは中間カセット(ロードシャトル)30に受け渡される。同時に、このアライナー31の停止位置が2枚目のウェハアライニング位置になる。(図5(e))。
【0072】
(7)2枚目のウェハがチャック上に置かれる。これの繰り返しで上段から順に処理を行う。
【0073】
(8)最下段のウェハのアライニングが終わると、アライナー31は中間カセット装置(シャトル)30の回転運動との干渉をさけるられる位置まで下降する。(図5(f))。
【0074】
(9)中間カセット装置(シャトル)30が主カセット装置(バキュームカセット)20に回転し、ウェハを受け渡す。
【0075】
(10)中間カセット装置(シャトル)30が空の状態で元の位置に帰ってくる。
【0076】
(11)(1)の動作から繰り返す。
【0077】
(第2の実施の形態)
次に、図6を参照して、本発明の第2の実施の形態を説明する。
【0078】
第2の実施の形態では、図6に示すように、アライナー装置600が、中間カセット装置30の方へ水平移動して、アライナー装置600の中心と中間カセット装置30のウエハ載置の中心とをほぼ同軸に位置できるようになっている。
【0079】
このアライナー装置600の水平移動は、水平移動用シリンダ610を介して行われる。アライニングの際には、ウエハは、アライナー装置600に真空チャックにより吸着された状態にある。
【0080】
(第3の実施の形態)
次に、図7を参照して、本発明の第3の実施の形態を説明する。
【0081】
第3の実施の形態では、図7に示すように、中間カセット装置30が、アライナー装置700の方へ水平移動して、アライナー装置700の中心と中間カセット装置30のウエハ載置の中心とをがほぼ同軸に位置できるようになっている。アライニングの際には、ウエハは、アライナー装置700に真空チャックにより吸着された状態にある。
【0082】
(第4の実施の形態)
次に、図8を参照して、本発明の第4の実施の形態を説明する。
【0083】
第4の実施の形態では、アライナー装置を中間カセット装置30のウエハ挿入経路上のウエハ載置中心軌道線上に配置し、アライナー装置を水平移動させて、ウエハをアーム式ロボット装置50から受けるようにした。
【0084】
そして、アライナー装置を水平移動させて、ウエハを前記アーム式ロボット装置50から受け、中間カセット装置30が上下動してウエハを受け渡す。
【0085】
(第5の実施の形態)
次に、図9を参照して、本発明の第5の実施の形態を説明する。
【0086】
第5の実施の形態では、主カセット装置20の保持部をアライナー装置900が進入できる構成とし、主カセット装置20またはアライナー装置900が上下動し、アライナー装置900からウエハを受け取るようする。
【0087】
第5の実施の形態では、中間カセット30は存在せずに、主カセット装置20は、ウエハをアームロボット装置50を介してアライナー装置900から直接受け取る。
【0088】
(その他の実施の形態)
また、他の実施の形態としては、アライナー装置を図1に示すウエハ供給カセット60に設置するようにしても良い。
【0089】
また、上記実施例では、アライナー装置にポジショナーが設けられており、このポジショナーでウエハのセンタリングが行われていた。
【0090】
しかし、その他の実施の形態として、アライナー装置自体にはポジショナーを設けないで、他の場所(例えば、シャトル棚等)にポジショナーを独立して設けることにより、ウエハのセンタリングを行うようにしても良い。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、12インチウェハ13枚を例にすると、従来の方式で数分(ウェハ13枚)かかっていたロード時間が約半分になる。
【0092】
また、シャトルヘウェハを搬送する場合、昇降型アライナーを使うと、ロボット搬送が一回で済む。
【0093】
また、ウェハをアライナーに搬送し終わったロボットは、アライニングの動作を待つことなく、次のウェハを取りに行くことができ、搬送能力を上げることができる。
【0094】
さらに、昇降できるアライナーによりシャトルの各位置でウェハのアライニングができる。
【0095】
さらに、ロボット装置による搬送をウェハ1枚につき1回でできる。
【0096】
さらに、処理済みウエハと未処理ウエハの入れ替え時間の短縮を実現することのできると共に、ウエハ搬送システムの省スペース化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるウエハ搬送システムの全体構成を示す図である。
【図2】主カセット(バキュームカセット)と中間カセットの構成及びウエハの受け渡し状態を示す図である。
【図3】中間カセットの詳細な構成を示す図であり、(a)は平面図、(b)は断面図である。
【図4】アライナー装置に取り付けられたオリフラセンサーを示す図である。
【図5】本発明のウエハ搬送システムのアライニング・ポジショニング動作を示す図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態によるウエハ搬送システムを示す図である。
【図7】本発明の第3の実施の形態によるウエハ搬送システムを示す図である。
【図8】本発明の第4の実施の形態によるウエハ搬送システムを示す図である。
【図9】本発明の第5の実施の形態によるウエハ搬送システムを示す図である。
【図10】従来のウエハ搬送システムを示す図である。
【符号の説明】
10 真空容器
20 主カセット装置(バキュームカセット)
21 ウエハ保持棚
30 中間カセット装置(ウエハロード用のカセット)
40 ウエハアンロード用のカセット(シャトル)装置
50 ハンドロボット装置
60 ウエハ供給カセット
Claims (24)
- 複数段のウエハ支持部を有する中間カセット装置と、ウエハの搬送を行うアーム式ロボット装置と、ウエハのアライニングを行うアライナー装置と、ウエハの供給収納カセットとを有するウエハ搬送システムにおいて、
前記中間カセット装置に対して、前記アーム式ロボット装置に保持されたウエハを、前記アライナー装置に載せ替えすると共にアライニングを実施した後、前記アライナー装置から、前記中間カセット装置のウエハ支持部へと直接ウエハの受渡しを行うよう構成したことを特徴とするウエハ搬送システム。 - 前記アライナー装置にポジショナーを設け、ポジショナーによりウエハをセンタリングして、アライナー装置のウエハ保持回転部の上下動もしくはポジショナーの上下動により、該ウエハを該ウエハ保持回転部に載せ替えするようにしたことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- ポジショナーを同軸上に設けた前記アライナー装置において、ポジショナーによりウエハをセンタリングして、該ウエハをアライナー装置のウエハ保持回転部に載せ替えし、アライナー装置全体の上下動により、前記中間カセット装置のウエハ支持部に受け渡すよう構成にしたことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置の中心と前記中間カセット装置のウエハ載置の中心とが同軸上となるように配置するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置が前記中間カセット装置の方へ水平移動して、前記アライナー装置の中心と中間カセット装置のウエハ載置の中心とを同軸に位置できるよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置が前記アライナー装置の方へ水平移動して、前記アライナー装置の中心と前記中間カセット装置のウエハ載置の中心とを同軸に位置できるよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置のポジショナーの中心と前記アライナーのウエハ保持回転部の中心とを垂直な同軸上に位置するように設置したことを特徴とする請求項2のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置を上下に昇降可能に構成し、アライナー装置の昇降により、前記中間カセット装置の複数段のウエハ支持部にウエハを順次上端の段から下端の段へと載置するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置を前記中間カセット装置のウエハ挿入経路上のウエハ載置中心軌道線上に配置し、アライナー装置を水平移動させて、ウエハを前記アーム式ロボット装置から受けるよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置を水平移動させて、ウエハを前記アーム式ロボット装置から受け、前記中間カセット装置が上下動してウエハを渡すように構成したことを特徴とする請求項8のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置の複数段のウエハ支持部を、下方開放形状で空間部を有する構成とし、前記アライナー装置をこの空間部の中を上下昇降可能に構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置のポジショナーとウエハ保持回転部を、前記中間カセット装置の複数段の下方開放形状のウエハ支持部の空間部の間を上下昇降可能に構成したことを特徴とする請求項2のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置を上下に昇降可能に構成し、中間カセット装置の昇降により、中間カセット装置の複数段のウエハ支持部に、前記アライナー装置からウエハを順次上の段から下の段へと載置するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記アライナー装置を、前記中間カセット装置の水平移動線上もしくはシャトル駆動による回転時のウエハ載置中心軌道線上に配置し、中間カセット装置を水平移動させてウエハを受け渡し、アライナー装置が上下動するように構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置を水平移動させてウエハを受け渡し、中間カセット装置が上下動するように構成したことを特徴とする請求項14のウエハ搬送システム。
- 前記アーム式ロボット装置から、上下動して位置が変更できる前記アライナー装置にウエハを渡し、アライナー装置または前記中間カセットが上下動して中間カセットのウエハ支持部にウエハを受け取り載置するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置とのウエハの受け渡しを行うウエハ供給カセットからのウエハの搬送途中において、前記アーム式ロボット装置が上下動し、上下動して位置が変更できる前記アライナー装置に受け渡し、アライナー装置または中間カセットが上下動してウエハを受け取り載置するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記中間カセット装置の上段のウエハ支持部のスロット段より順に、搬送載置されたウエハをアライニングし、 同じウエハ支持部スロット段上に再載置するように構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記ウェハの目印を検出するセンサーを、前記アライナー装置に斜めに設置したよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 未処理のウエハを前記中間カセット装置のウエハ支持部から真空容器に備えられた主カセット装置へ受渡しを行うとともに、該真空容器から真空処理室内へ自動で搬入すると共に、処理済のウエハを真空処理室内から真空容器へ自動で搬出するよう構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 前記主カセット装置の保持部を前記アライナー装置が進入できる構成とし、主カセット装置またはアライナー装置が上下動し、アライナー装置からウエハを受け取るよう構成したことを特徴とする請求項20のウエハ搬送システム。
- 前記アーム式ロボット装置は、複数の前記供給収納カセット間を水平移動自在に構成したことを特徴とする請求項1のウエハ搬送システム。
- 真空室内処理装置に備えられた真空カセット装置における複数段のウエハ保持棚との間で複数のウエハを一括して受け渡しをするためのウエハ搬送装置であって、真空カセット装置の側方にウエハロード用のシャトル装置とウエハアンロード用のシャトル装置とを配置し、各シャトル装置は、真空カセット装置の複数段のウエハ保持棚に対応する複数のウエハ支持部を有するシャトルカセットを備え、各シャトルカセットは、カセット装置との間でウエハの受け渡しを行う受渡し位置とそこから離れた待機位置との間を移動可能に構成されており、複数段のウエハ保持棚はそれぞれウエハをその中央領域で保持し、複数のウエハ支持部はそれぞれウエハをその直径方向の両側であって中央領域から外れた箇所で支持したウエハ搬送システムにおいて、
シャトル装置への搬送経路中にアライナー装置を配設するとともに、前記中間カセット装置であるシャトル装置に対して、アーム式ロボット装置に保持されたウエハをアライナー装置に載せ替えすると共に、アライニングを実施した後、前記アライナー装置から前記中間カセット装置であるシャトル装置のウエハ支持部へと直接ウエハの受渡しを行うよう構成したことを特徴とするウエハ搬送システム。 - 複数段のウエハ支持部を有する中間カセット装置と、ウエハ搬送を行うアーム式ロボット装置と、ウエハのアライニングを行うアライナー装置と、ウエハの供給収納カセットとを有し、ウエハをアライニングした後にウエハ支持部にウエハを受け渡すようにしたウエハ搬送方法において、
前記中間カセット装置に対して、供給収納カセットからウエハをアーム式ロボット装置により取り出して保持し、
この保持されたウエハを、前記中間カセット装置のウエハ支持部に載せ替えするとともに、
このウエハを前記アライナー装置に載せ換えてアライニングを実施し、
アライニングを実施したウエハを、前記アライナー装置から前記中間カセット装置のウエハ支持部へと直接受渡しするようにしたことを特徴とするウエハ搬送方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000228799A JP3825232B2 (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ウエハ搬送システム及びその搬送方法 |
US09/847,317 US6547504B2 (en) | 2000-07-28 | 2001-05-03 | Wafer carrying system and carrying method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000228799A JP3825232B2 (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ウエハ搬送システム及びその搬送方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002043395A JP2002043395A (ja) | 2002-02-08 |
JP3825232B2 true JP3825232B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=18722031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000228799A Expired - Fee Related JP3825232B2 (ja) | 2000-07-28 | 2000-07-28 | ウエハ搬送システム及びその搬送方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6547504B2 (ja) |
JP (1) | JP3825232B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE241459T1 (de) * | 1997-11-28 | 2003-06-15 | Pirelli | Verfahren zur herstellung von luftreifen für fahrzeugräder |
US20030056471A1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-03-27 | Linker Frank V. | Wafer jar loader method, system and apparatus |
US6647460B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-11-11 | Hitachi, Ltd. | Storage device with I/O counter for partial data reallocation |
JP4173309B2 (ja) * | 2002-01-28 | 2008-10-29 | 東京エレクトロン株式会社 | センタリング装置及び枚葉式検査装置 |
US6696367B1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-02-24 | Asm America, Inc. | System for the improved handling of wafers within a process tool |
US6916147B2 (en) * | 2002-10-25 | 2005-07-12 | Applied Materials, Inc. | Substrate storage cassette with substrate alignment feature |
JP2005167083A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Daifuku Co Ltd | ガラス基板用の搬送設備 |
US7680557B2 (en) * | 2004-09-22 | 2010-03-16 | Hantech Co., Ltd. | System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same |
CN100449724C (zh) * | 2006-02-20 | 2009-01-07 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种晶片检测装置和晶片检测方法 |
JP5187231B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2013-04-24 | 株式会社安川電機 | プリアライナ装置、ウェハ搬送システム、半導体製造装置、半導体検査装置およびウェハのアライメント方法 |
EP2638567A2 (de) * | 2010-11-11 | 2013-09-18 | Zimmermann & Schilp Handhabungstechnik GmbH | Belade- und entladeverfahren für eine prozesskassette |
CN102231050B (zh) * | 2011-08-01 | 2013-02-27 | 上海先进半导体制造股份有限公司 | 提高光刻机工艺效率的方法 |
CN111092039B (zh) * | 2019-12-30 | 2022-04-15 | 武汉大学 | 一种晶片传输系统 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4775281A (en) * | 1986-12-02 | 1988-10-04 | Teradyne, Inc. | Apparatus and method for loading and unloading wafers |
JPH03154791A (ja) | 1989-11-14 | 1991-07-02 | Sumitomo Eaton Noba Kk | ロボット用多関節アーム |
JP3671983B2 (ja) * | 1993-10-22 | 2005-07-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
JPH07297258A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Ltd | 板状体の搬送装置 |
US5789890A (en) * | 1996-03-22 | 1998-08-04 | Genmark Automation | Robot having multiple degrees of freedom |
US6164894A (en) * | 1997-11-04 | 2000-12-26 | Cheng; David | Method and apparatus for integrated wafer handling and testing |
JP2000058625A (ja) * | 1998-06-02 | 2000-02-25 | Mecs Corp | 基板搬送装置 |
JP2000174093A (ja) * | 1998-12-07 | 2000-06-23 | Kaijo Corp | ウエハ処理装置 |
US6166509A (en) * | 1999-07-07 | 2000-12-26 | Applied Materials, Inc. | Detection system for substrate clamp |
-
2000
- 2000-07-28 JP JP2000228799A patent/JP3825232B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-03 US US09/847,317 patent/US6547504B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020014390A1 (en) | 2002-02-07 |
US6547504B2 (en) | 2003-04-15 |
JP2002043395A (ja) | 2002-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6256706B2 (ja) | マテリアル取扱システム | |
JP3825232B2 (ja) | ウエハ搬送システム及びその搬送方法 | |
JP5323718B2 (ja) | 高生産性ウエハ連続処理末端装置 | |
US6848882B2 (en) | Apparatus and method for positioning a cassette pod onto a loadport by an overhead hoist transport system | |
KR20090097170A (ko) | 높은 처리량 웨이퍼 노치 정렬 기구 | |
CN107112264A (zh) | 晶片对准器 | |
KR20070116745A (ko) | 유리 기판의 픽업 및 전달 장치 및 이를 이용하는 유리기판의 픽업 및 전달 방법 | |
TWI668786B (zh) | 基板搬送裝置及基板搬送方法 | |
TWI719534B (zh) | 基板對準方法、基板對準裝置、基板處理方法、及基板處理裝置 | |
WO1987006566A1 (en) | Automatic wafer loading method and apparatus | |
TW200915470A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP5689096B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに基板搬送用記憶媒体 | |
TWI765319B (zh) | 基板處理裝置及基板搬送方法 | |
KR100729490B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 장치 | |
CN112207698B (zh) | 用于抛光半导体晶圆的设备和方法 | |
JP4820008B2 (ja) | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 | |
KR101163636B1 (ko) | 웨이퍼 이송장치 | |
JP3814159B2 (ja) | 無人搬送車 | |
KR102213105B1 (ko) | 층간 반송을 위한 대상물 준비 설비 및 방법 | |
JP2013165177A (ja) | ストッカー装置 | |
TWI559431B (zh) | 磁性退火裝置(二) | |
CN117153748A (zh) | 不依赖于任务传递的晶圆传输方法 | |
JPH0430549A (ja) | 基板搬送装置 | |
KR20060109183A (ko) | 웨이퍼 정렬 장치를 갖는 카세트 이송 컨베이어 | |
JPH06329209A (ja) | 半導体製造装置のウェーハカセット搬送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060405 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060621 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3825232 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110707 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120707 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130707 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311802 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |