JPH05290358A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH05290358A JPH05290358A JP4092948A JP9294892A JPH05290358A JP H05290358 A JPH05290358 A JP H05290358A JP 4092948 A JP4092948 A JP 4092948A JP 9294892 A JP9294892 A JP 9294892A JP H05290358 A JPH05290358 A JP H05290358A
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- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電磁変換特性、構成層物性に優れた磁気記録
媒体の提供。 【構成】 非磁性支持体上に、複数の構成層からなる磁
気記録層を形成し、その磁気記録層の構成層上層が磁性
層であり、磁性層に平均粒径45〜300nmの導電性微粉末
を含有し、かつ最上層磁気層の膜厚が0.8μm以下であ
り、磁性層以外の少くとも1層に平均粒径5〜50nmの導
電性微粉末を含有し、更に磁性層以外の少くとも1層に
非磁性粉末又は高透磁率物質を含む磁気記録層を形成す
る。
媒体の提供。 【構成】 非磁性支持体上に、複数の構成層からなる磁
気記録層を形成し、その磁気記録層の構成層上層が磁性
層であり、磁性層に平均粒径45〜300nmの導電性微粉末
を含有し、かつ最上層磁気層の膜厚が0.8μm以下であ
り、磁性層以外の少くとも1層に平均粒径5〜50nmの導
電性微粉末を含有し、更に磁性層以外の少くとも1層に
非磁性粉末又は高透磁率物質を含む磁気記録層を形成す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体に関し、磁
気記録層の層組成、層構成及び層塗設に関する。
気記録層の層組成、層構成及び層塗設に関する。
【0002】
【発明の背景】磁気記録媒体の機能が高度化し、用途が
広汎、繁用化するにつれて、磁気記録層にも磁性層の複
層化、組成構成の改良、特性補助層の設置等多様な改良
が試みられて来ている。
広汎、繁用化するにつれて、磁気記録層にも磁性層の複
層化、組成構成の改良、特性補助層の設置等多様な改良
が試みられて来ている。
【0003】しかしながら、特に高密度記録(デジタル
記録)においては、まだ十分な特性はえられておらず、
また下層に非磁性層を設けた場合でも高域での充分な特
性向上は見込まれない。
記録)においては、まだ十分な特性はえられておらず、
また下層に非磁性層を設けた場合でも高域での充分な特
性向上は見込まれない。
【0004】一方、下層に磁性層を設けると、下層の残
留磁化により再生時に、再生信号の波形の歪みが起こる
(波形間干渉)。その結果、出力ピーク値の低下とピー
ク位置のずれが生じ、エラーレート等が増加する。
留磁化により再生時に、再生信号の波形の歪みが起こる
(波形間干渉)。その結果、出力ピーク値の低下とピー
ク位置のずれが生じ、エラーレート等が増加する。
【0005】また更に、下層に残留磁化が存在すると信
号をその上に再記録する、所謂オーバーライト特性が劣
化する。
号をその上に再記録する、所謂オーバーライト特性が劣
化する。
【0006】一方、垂直方向に磁化容易軸を有する板状
六方晶フェライトを最上層に設けると共に、下層として
高透磁率層を設けることにより、記録時に磁気ヘッド-
磁気記録層-高透磁率磁性層を通る閉磁路(馬蹄形のル
ープ)を形成することにより、それぞれの磁化が安定に
存在し、出力が向上し、高効率の磁気記録媒体を得るこ
とが見いだされている(特開昭56-98718号及び特開昭54
-59108号、同56-34号、同61-131233号、同61-192032
号)。
六方晶フェライトを最上層に設けると共に、下層として
高透磁率層を設けることにより、記録時に磁気ヘッド-
磁気記録層-高透磁率磁性層を通る閉磁路(馬蹄形のル
ープ)を形成することにより、それぞれの磁化が安定に
存在し、出力が向上し、高効率の磁気記録媒体を得るこ
とが見いだされている(特開昭56-98718号及び特開昭54
-59108号、同56-34号、同61-131233号、同61-192032
号)。
【0007】しかしながら、8mmビデオカセット、DA
T、ディジタルVTR等の高密度記録媒体を想定して記
録波長、ヘッド電流等を考慮すると上層の六方晶系フェ
ライト微粉末を含む磁性層がある厚み以上あるとその下
層の高透磁率層の効果を著しく低下させてしまい、その
膜厚は薄い方へ厳しく制約される。更に上層面の平滑性
が良好であることが必要であるが、上層厚みに関する許
容範囲は不明のままであり、かつ上層平滑塗布に関する
技術手法が明かではない。
T、ディジタルVTR等の高密度記録媒体を想定して記
録波長、ヘッド電流等を考慮すると上層の六方晶系フェ
ライト微粉末を含む磁性層がある厚み以上あるとその下
層の高透磁率層の効果を著しく低下させてしまい、その
膜厚は薄い方へ厳しく制約される。更に上層面の平滑性
が良好であることが必要であるが、上層厚みに関する許
容範囲は不明のままであり、かつ上層平滑塗布に関する
技術手法が明かではない。
【0008】また磁気記録媒体を構成する素材に非磁性
絶縁性支持体、電気抵抗の高いバインダ或いは近時にお
いては垂直磁化性はよいが高電気抵抗のバリウムフェラ
イト等の強磁性体が用いられるので、摺擦部位の多い磁
気テープ等において静電帯電の機会が多く、帯電に起因
する支障が多発する。例えばヘッドの目詰り、静電的貼
付きによる走行不良、塵埃の付着による記録再生故障、
放電ノイズの発生、或いは製造工程中ガイドロール、カ
レンダロールへの貼付きによる生産性の低下等数多くの
支障を生ずる。
絶縁性支持体、電気抵抗の高いバインダ或いは近時にお
いては垂直磁化性はよいが高電気抵抗のバリウムフェラ
イト等の強磁性体が用いられるので、摺擦部位の多い磁
気テープ等において静電帯電の機会が多く、帯電に起因
する支障が多発する。例えばヘッドの目詰り、静電的貼
付きによる走行不良、塵埃の付着による記録再生故障、
放電ノイズの発生、或いは製造工程中ガイドロール、カ
レンダロールへの貼付きによる生産性の低下等数多くの
支障を生ずる。
【0009】磁気記録媒体の帯電を防止する方法として
は、従来より、帯電防止塗料を塗布する方法やベースポ
リマーに帯電防止剤を練込む方法が知られている。そし
て、帯電防止剤としては界面活性剤等のイオン伝導型の
もの、カーボンブラック、SnO2等の電子伝導型のものが
あるが、カーボンブラックのような粒子状のものを使用
すると媒体表面で突起物を形成し、欠陥を生ずる場合が
多い。
は、従来より、帯電防止塗料を塗布する方法やベースポ
リマーに帯電防止剤を練込む方法が知られている。そし
て、帯電防止剤としては界面活性剤等のイオン伝導型の
もの、カーボンブラック、SnO2等の電子伝導型のものが
あるが、カーボンブラックのような粒子状のものを使用
すると媒体表面で突起物を形成し、欠陥を生ずる場合が
多い。
【0010】更に磁気記録媒体の構成層として導電性を
有する層を設ける技術も開示されている。
有する層を設ける技術も開示されている。
【0011】例えばカーボンブラックの下層中間層を設
ける方法(特開昭61-220125号、特開平2-254621 号)、
スルホン化ポリスチレン及び/又はその塩を含有するア
クリル系ポリマーを用いる方法(特開平1-185831号、同
1-185832号)、導電性下引層として高分子電荷移動錯体
を含む導電層を設ける方法(特開平1-232610号)等が知
られている。
ける方法(特開昭61-220125号、特開平2-254621 号)、
スルホン化ポリスチレン及び/又はその塩を含有するア
クリル系ポリマーを用いる方法(特開平1-185831号、同
1-185832号)、導電性下引層として高分子電荷移動錯体
を含む導電層を設ける方法(特開平1-232610号)等が知
られている。
【0012】しかしながらカーボンブラック下層をwet
on wet(特開昭61-220125号)で塗布した場合、面粗れ
を起し電磁変換特性が低下する。
on wet(特開昭61-220125号)で塗布した場合、面粗れ
を起し電磁変換特性が低下する。
【0013】また上層の磁性層と下層のカーボンブラッ
ク層をwet on dryで塗布する際、下層を塗布後カレンダ
処理してから上層を塗布すれば、ある程度面粗れを押え
られるが、生産性は著しく低下する。又この方法では上
層を薄膜化すると塗布性が悪化する。
ク層をwet on dryで塗布する際、下層を塗布後カレンダ
処理してから上層を塗布すれば、ある程度面粗れを押え
られるが、生産性は著しく低下する。又この方法では上
層を薄膜化すると塗布性が悪化する。
【0014】例えば特開昭64-13225号、特開平3-8113号
において上、下層に用いられるカーボンブラックの平均
粒径を規定した重層記録媒体が公開されている。しかし
いずれにおいても最上層の磁性層の膜厚が1.0〜1.5μm
と比較的厚いために厚み損失が大きく、デジタル記録用
媒体としては不適であった。特に特開昭64-13225号にお
いては、下層を乾燥し、カレンダ処理後、上層を塗布す
るwet on dry法によっているため、上層の薄膜化は困難
であった。又いずれの技術においても下層は磁性層にな
っているため、自己減磁によるCN比の劣化や、オーバ
ーライト特性の悪化が問題となった。下層に非磁性粉末
又は高透磁率物質を含む層を設け、最上層の膜厚を0.8
μm以下、好ましくは0.5μm以下とすることでこの点
は改良されるが、デジタル媒体用として超平滑な表面性
が必要なため、低温(0℃)におけるヘッドクロッグ特
性が悪化したり、高温多湿下(40℃,80%RH)で貼付き
によるテープストップが発生する問題があった。
において上、下層に用いられるカーボンブラックの平均
粒径を規定した重層記録媒体が公開されている。しかし
いずれにおいても最上層の磁性層の膜厚が1.0〜1.5μm
と比較的厚いために厚み損失が大きく、デジタル記録用
媒体としては不適であった。特に特開昭64-13225号にお
いては、下層を乾燥し、カレンダ処理後、上層を塗布す
るwet on dry法によっているため、上層の薄膜化は困難
であった。又いずれの技術においても下層は磁性層にな
っているため、自己減磁によるCN比の劣化や、オーバ
ーライト特性の悪化が問題となった。下層に非磁性粉末
又は高透磁率物質を含む層を設け、最上層の膜厚を0.8
μm以下、好ましくは0.5μm以下とすることでこの点
は改良されるが、デジタル媒体用として超平滑な表面性
が必要なため、低温(0℃)におけるヘッドクロッグ特
性が悪化したり、高温多湿下(40℃,80%RH)で貼付き
によるテープストップが発生する問題があった。
【0015】
【発明の目的】本発明の目的は磁気記録媒体に対する高
機能性の要求に応じ、媒体表面の平滑性がよく電磁変換
特性、デジタル記録性、信号の重ね書き特性に優れ、帯
電故障のない支持体の接着性、カレンダビリティ、ドロ
ップアウト、耐候性、走行性が良好な磁気記録媒体の提
供にある。
機能性の要求に応じ、媒体表面の平滑性がよく電磁変換
特性、デジタル記録性、信号の重ね書き特性に優れ、帯
電故障のない支持体の接着性、カレンダビリティ、ドロ
ップアウト、耐候性、走行性が良好な磁気記録媒体の提
供にある。
【0016】
【発明の構成】前記本発明の目的は;非磁性支持体上
に、複数の構成層からなる磁気記録層を形成し、その磁
気記録層の構成層上層が磁性層であり、磁性層に平均粒
径45〜300nmの導電性微粉末を含有し、かつ最上層磁気
層の膜厚が0.8μm以下であり、磁性層以外の少くとも
1層に平均粒径5〜50nmの導電性微粉末を含有し、更に
磁性層以外の少くとも1層に非磁性粉末又は高透磁率物
質を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体によって達成
される。
に、複数の構成層からなる磁気記録層を形成し、その磁
気記録層の構成層上層が磁性層であり、磁性層に平均粒
径45〜300nmの導電性微粉末を含有し、かつ最上層磁気
層の膜厚が0.8μm以下であり、磁性層以外の少くとも
1層に平均粒径5〜50nmの導電性微粉末を含有し、更に
磁性層以外の少くとも1層に非磁性粉末又は高透磁率物
質を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体によって達成
される。
【0017】尚本発明の態様にあっては前記導電性微粉
末がカーボンブラックであることが好ましい。
末がカーボンブラックであることが好ましい。
【0018】また構成層の塗設は下層構成層が未だ湿潤
状態のときに上層構成層を重層塗布する所謂ウェット・
オン・ウェット塗布方法が好ましい。
状態のときに上層構成層を重層塗布する所謂ウェット・
オン・ウェット塗布方法が好ましい。
【0019】以下に本発明の磁気記録媒体について詳述
する。
する。
【0020】−非磁性支持体− 前記非磁性支持体を形成する材料としては、たとえばポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダ
イアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチックなどを挙げることができ
る。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダ
イアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリ
カーボネート等のプラスチックなどを挙げることができ
る。
【0021】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。
【0022】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常3〜10
0μm、好ましくは5〜50μmであり、ディスクやカー
ド状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状の場合はレコ
ーダ等に応じて適宜に選択される。
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常3〜10
0μm、好ましくは5〜50μmであり、ディスクやカー
ド状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状の場合はレコ
ーダ等に応じて適宜に選択される。
【0023】なお、この非磁性支持体は単層構造のもの
であっても多層構造のものであってもよい。また、この
非磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理
を施されたものであってもよい。
であっても多層構造のものであってもよい。また、この
非磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理
を施されたものであってもよい。
【0024】なお、非磁性支持体上の上記磁性層が設け
られていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走行性の
向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バッ
クコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性
支持体との間には、下引き層を設けることもできる。
られていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走行性の
向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バッ
クコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性
支持体との間には、下引き層を設けることもできる。
【0025】−磁性層− 本発明に係る磁気記録層の最上層となる磁性層の膜厚は
0.8μm以下、好ましくは0.5μm以下更に好ましくは0.
1〜0.4μmである。
0.8μm以下、好ましくは0.5μm以下更に好ましくは0.
1〜0.4μmである。
【0026】また本発明に用いられる強磁性粉末として
は、磁気記録媒体の強磁性粉末として通常使用されてい
るものを用いることができる。強磁性粉末の例として
は、γ-Fe2O3、Co含有γ-Fe2O3、Co被着γ-Fe2O3、CrO2
等の酸化物磁性体、マグネタイトに代表されるフェライ
ト類、即ちFe3O4、Co含有Fe3O4、Co被着Fe3O4等の磁性
体が挙げられる。
は、磁気記録媒体の強磁性粉末として通常使用されてい
るものを用いることができる。強磁性粉末の例として
は、γ-Fe2O3、Co含有γ-Fe2O3、Co被着γ-Fe2O3、CrO2
等の酸化物磁性体、マグネタイトに代表されるフェライ
ト類、即ちFe3O4、Co含有Fe3O4、Co被着Fe3O4等の磁性
体が挙げられる。
【0027】前記フェライト中、板状で板面に垂直な方
向に磁化容易軸を有するものは好適な強磁性粉末として
使用することができる。このような強磁性粉末として
は、たとえば、六方晶系フェライトを挙げることができ
る。
向に磁化容易軸を有するものは好適な強磁性粉末として
使用することができる。このような強磁性粉末として
は、たとえば、六方晶系フェライトを挙げることができ
る。
【0028】このような六方晶系フェライトは、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等からなり、
鉄元素の一部が他の元素(たとえば、Ti、Co、Zn、In、
Mn、Ge、Nbなど)で置換されていても良い。このフェラ
イト磁性体については、IEEETrans.on MAG-18 16(1982)
に詳しく述べられている。
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等からなり、
鉄元素の一部が他の元素(たとえば、Ti、Co、Zn、In、
Mn、Ge、Nbなど)で置換されていても良い。このフェラ
イト磁性体については、IEEETrans.on MAG-18 16(1982)
に詳しく述べられている。
【0029】本発明において、特に好ましい「板状であ
って板面に垂直な磁化容易軸を有する強磁性粉末」とし
ては、バリウムフェライト(以下、Ba-フェライトと記
す)磁性粉を挙げることができる。
って板面に垂直な磁化容易軸を有する強磁性粉末」とし
ては、バリウムフェライト(以下、Ba-フェライトと記
す)磁性粉を挙げることができる。
【0030】本発明で用いることのできる好ましいBa-
フェライト磁性粉は、Ba-フェライト粉の、Feの一部が
少なくともCoおよびZnで置換された平均粒径(六方晶系
フェライトの板面の対角線の長さ)300〜900Å、板状比
(六方晶系フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除
した値)2.0〜10.0、保磁力450〜1500 OeのBa-フェライ
トである。
フェライト磁性粉は、Ba-フェライト粉の、Feの一部が
少なくともCoおよびZnで置換された平均粒径(六方晶系
フェライトの板面の対角線の長さ)300〜900Å、板状比
(六方晶系フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除
した値)2.0〜10.0、保磁力450〜1500 OeのBa-フェライ
トである。
【0031】Ba-フェライト粉は、FeをCoで一部置換す
ることにより、保磁力が適正な値に制御されており、さ
らにZnで一部置換することにより、Co置換のみでは得ら
れない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力を有する電
磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
また、さらにFeの一部をNbで置換することにより、
より高い再生出力を有する電磁変換特性に優れた磁気記
録媒体を得ることができる。また、本発明のBa-フェラ
イトは、さらにFeの一部がTi、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の
遷移金属で置換されていても差支えない。
ることにより、保磁力が適正な値に制御されており、さ
らにZnで一部置換することにより、Co置換のみでは得ら
れない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力を有する電
磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
また、さらにFeの一部をNbで置換することにより、
より高い再生出力を有する電磁変換特性に優れた磁気記
録媒体を得ることができる。また、本発明のBa-フェラ
イトは、さらにFeの一部がTi、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の
遷移金属で置換されていても差支えない。
【0032】なお、Ba-フェライトは次の一般式で表さ
れる。
れる。
【0033】BaO・n((Fe1-m Mm )2 O3 ) ただし、m>0.36(但し、Co+Zn=0.08〜0.3、Co/Zn
=0.5〜10) であり、nは5.4〜11.0であり、好ましくは
5.4〜6.0であり、Mは置換金属を表し、平均個数が3と
なる2種以上の元素の組合せになる磁性粒子が好まし
い。
=0.5〜10) であり、nは5.4〜11.0であり、好ましくは
5.4〜6.0であり、Mは置換金属を表し、平均個数が3と
なる2種以上の元素の組合せになる磁性粒子が好まし
い。
【0034】本発明において、Ba-フェライトの平均粒
径、板状比、保磁力が前記範囲内にあると好ましいとす
るその理由は、次のようである。すなわち、平均粒径0.
04μm未満の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出
力が不十分となり、逆に0.1μmを越えると、磁気記録媒
体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベ
ルが高くなりすぎることがあり、また、板状比が2.0未
満では、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した
垂直配向率が得られず、逆に板状比が6.0を越えると磁
気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノ
イズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350 Oe未
満の場合には、記録信号の保持が困難になり、2000 Oe
を越えると、ヘッドが飽和現象を起こし記録が困難にな
ることがあるからである。
径、板状比、保磁力が前記範囲内にあると好ましいとす
るその理由は、次のようである。すなわち、平均粒径0.
04μm未満の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出
力が不十分となり、逆に0.1μmを越えると、磁気記録媒
体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベ
ルが高くなりすぎることがあり、また、板状比が2.0未
満では、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した
垂直配向率が得られず、逆に板状比が6.0を越えると磁
気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノ
イズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350 Oe未
満の場合には、記録信号の保持が困難になり、2000 Oe
を越えると、ヘッドが飽和現象を起こし記録が困難にな
ることがあるからである。
【0035】本発明に用いられるバリウムフェライト磁
性粉は、磁気特性である飽和磁化量(σS )が通常、50
emu/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
るからである。
性粉は、磁気特性である飽和磁化量(σS )が通常、50
emu/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
るからである。
【0036】さらに本発明においては、記録の高密度化
に応じて、BET法による比表面積が30m2/g以上のBa-
フェライト磁性粉を用いることが望ましい。
に応じて、BET法による比表面積が30m2/g以上のBa-
フェライト磁性粉を用いることが望ましい。
【0037】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉を製
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえば硼酸のようなガラス形成物質とともに熔融
し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、ついでこ
のガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フェ
ライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処理
によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシド
法、プラズマジェット法等が適用可能である。
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえば硼酸のようなガラス形成物質とともに熔融
し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、ついでこ
のガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フェ
ライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処理
によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシド
法、プラズマジェット法等が適用可能である。
【0038】本発明においては、前記六方晶系フェライ
トの磁性層中の含有量は、通常50〜99重量%であり、好
ましくは60〜90重量%である。
トの磁性層中の含有量は、通常50〜99重量%であり、好
ましくは60〜90重量%である。
【0039】磁気記録媒体としたときの再生出力を十分
とするには前記Ba-フェライトの平均粒径が300Å以上で
あるのが好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイズレベ
ルを低くするには900Å以下であるのが好ましい。また
板状比を2.0以上とすることで、磁気記録媒体としたと
きに高密度記録に適した垂直配向率が得られ、表面平滑
性を向上させ、ノイズレベルを低くするには、板状比が
10.0以下であるのが好ましい。さらに記録信号の保持の
ためには保磁力が450 Oe以上が好ましく、ヘッドが飽和
してしまうのを防ぐには1500 Oe以下が好ましい。
とするには前記Ba-フェライトの平均粒径が300Å以上で
あるのが好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイズレベ
ルを低くするには900Å以下であるのが好ましい。また
板状比を2.0以上とすることで、磁気記録媒体としたと
きに高密度記録に適した垂直配向率が得られ、表面平滑
性を向上させ、ノイズレベルを低くするには、板状比が
10.0以下であるのが好ましい。さらに記録信号の保持の
ためには保磁力が450 Oe以上が好ましく、ヘッドが飽和
してしまうのを防ぐには1500 Oe以下が好ましい。
【0040】更に磁性層に用いられる強磁性金属粉末と
して、Fe、Coをはじめ、Fe-Al系、Fe-Al-Ni系、Fe-Al-Z
n系、Fe-Al-Co系、Fe-Al-Ca系、Fe-Ni系、Fe-Ni-Al系、
Fe-Ni-Co系、Fe-Ni-Si-Al-Mn系、Fe-Ni-Si-Al-Zn系、Fe
-Al-Si系、Fe-Ni-Zn系、Fe-Ni-Mn系、Fe-Ni-Si系、Fe-M
n-Zn系、Fe-Co-Ni-P系、Ni-Co系、Fe、Ni、Co等を主成
分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。中で
も、Fe系金属粉が電気的特性に優れる。
して、Fe、Coをはじめ、Fe-Al系、Fe-Al-Ni系、Fe-Al-Z
n系、Fe-Al-Co系、Fe-Al-Ca系、Fe-Ni系、Fe-Ni-Al系、
Fe-Ni-Co系、Fe-Ni-Si-Al-Mn系、Fe-Ni-Si-Al-Zn系、Fe
-Al-Si系、Fe-Ni-Zn系、Fe-Ni-Mn系、Fe-Ni-Si系、Fe-M
n-Zn系、Fe-Co-Ni-P系、Ni-Co系、Fe、Ni、Co等を主成
分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。中で
も、Fe系金属粉が電気的特性に優れる。
【0041】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Fe-Al系、Fe-Al-Ca系、Fe−Al−Ni系、Fe
−Al−Zn系、Fe-Al-Co系、Fe-Ni-Si-Al-Zn系、Fe-N
i-Si-Al-Mn系のFe-Al系金属粉が好ましい。
と、Fe-Al系、Fe-Al-Ca系、Fe−Al−Ni系、Fe
−Al−Zn系、Fe-Al-Co系、Fe-Ni-Si-Al-Zn系、Fe-N
i-Si-Al-Mn系のFe-Al系金属粉が好ましい。
【0042】特に、本発明の目的に好ましい強磁性金属
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、AlまたはAl
及びCaを、Alについては重量比でFe:Al=100:0.5〜10
0:20、Caについては重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:
10の範囲で含有するのが望ましい。Fe:Alの比率をこの
ような範囲にすることで耐蝕性が著しく改良され、また
Fe:Caの比率をこのような範囲にすることで電磁変換特
性を向上させ、ドロップアウトを減少させることができ
る。電磁変換特性の向上やドロップアウトの減少がもた
らされる理由は明らかでないが、分散性が向上すること
による保磁力のアップや凝集物の減少等が理由として考
えられる。
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、AlまたはAl
及びCaを、Alについては重量比でFe:Al=100:0.5〜10
0:20、Caについては重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:
10の範囲で含有するのが望ましい。Fe:Alの比率をこの
ような範囲にすることで耐蝕性が著しく改良され、また
Fe:Caの比率をこのような範囲にすることで電磁変換特
性を向上させ、ドロップアウトを減少させることができ
る。電磁変換特性の向上やドロップアウトの減少がもた
らされる理由は明らかでないが、分散性が向上すること
による保磁力のアップや凝集物の減少等が理由として考
えられる。
【0043】本発明に用いられる好適な強磁性金属粉末
は、透過型電子顕微鏡により観測されるその平均長軸長
が0.25μm以下、好ましくは0.10〜0.22μm、更に好ま
しくは0.10〜0.17μmで、かつ、軸比(平均長軸長/平
均短軸長)が12以下、好ましくは10以下、更に好ましく
は6〜9である。また前記強磁性金属粉末のX線粒径
(結晶子サイズ)は200Å未満、特に100〜180Åである
のが好ましい。平均長軸長が前記値以下であると共にX
線粒径、軸比が前記範囲内にある強磁性金属粉末を使用
することにより、高域特性特に垂直記録成分の出力を高
めることができるようになる。
は、透過型電子顕微鏡により観測されるその平均長軸長
が0.25μm以下、好ましくは0.10〜0.22μm、更に好ま
しくは0.10〜0.17μmで、かつ、軸比(平均長軸長/平
均短軸長)が12以下、好ましくは10以下、更に好ましく
は6〜9である。また前記強磁性金属粉末のX線粒径
(結晶子サイズ)は200Å未満、特に100〜180Åである
のが好ましい。平均長軸長が前記値以下であると共にX
線粒径、軸比が前記範囲内にある強磁性金属粉末を使用
することにより、高域特性特に垂直記録成分の出力を高
めることができるようになる。
【0044】また、本発明に用いられる前記強磁性金属
粉末は、その保磁力(Hc)が通常600〜5,000 Oeの範囲
にあることが好ましい。この保磁力が600 Oe未満である
と、電磁変換特性が劣化することがあり、また保磁力が
5,000 Oeを超えると、通常のヘッドでは記録不能になる
ことがあるので好ましくない。
粉末は、その保磁力(Hc)が通常600〜5,000 Oeの範囲
にあることが好ましい。この保磁力が600 Oe未満である
と、電磁変換特性が劣化することがあり、また保磁力が
5,000 Oeを超えると、通常のヘッドでは記録不能になる
ことがあるので好ましくない。
【0045】本発明に用いられる強磁性金属粉末の好ま
しい具体例としては、Fe-Al系強磁性金属粉末(Fe:Al
重量比=100:5、平均長軸長0.16μm,Hc:1580 Oe、
σS:120emu/g)を挙げることができる。
しい具体例としては、Fe-Al系強磁性金属粉末(Fe:Al
重量比=100:5、平均長軸長0.16μm,Hc:1580 Oe、
σS:120emu/g)を挙げることができる。
【0046】前述した平均長軸長、結晶子サイズ及び軸
比が特定の範囲にある強磁性金属粉末及び板状であって
板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する強磁性合金粉末
(たとえばCo:Ni=99:1〜70:30のCo合金)のいずれ
においても、その強磁性金属粉末は、磁気特性である飽
和磁化量(σs)が通常、70emu/g以上であることが好ま
しい。この飽和磁化量が70emu/g未満であると、電磁変
換特性が劣化することがある。
比が特定の範囲にある強磁性金属粉末及び板状であって
板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する強磁性合金粉末
(たとえばCo:Ni=99:1〜70:30のCo合金)のいずれ
においても、その強磁性金属粉末は、磁気特性である飽
和磁化量(σs)が通常、70emu/g以上であることが好ま
しい。この飽和磁化量が70emu/g未満であると、電磁変
換特性が劣化することがある。
【0047】さらに本発明においては、記録の高密度化
に応じて、BET法による比表面積で30m2/g以上、特に
45m2/g以上の強磁性金属粉末が好ましく用いられる。
に応じて、BET法による比表面積で30m2/g以上、特に
45m2/g以上の強磁性金属粉末が好ましく用いられる。
【0048】さらに、好ましい強磁性金属粉末の構造と
しては、該強磁性金属粉末に含有されているFe原子とAl
原子との含有量比が原子数比でFe:Al=100 :1〜100
:20であり、かつ該強磁性金属粉末のESCAによる
分析深度で100 Å以下の表面域に存在するFe原子とAl原
子との含有量比が原子数比でFe:Al=30:70〜70:30で
ある構造を有するものである。或は、Fe原子とNi原子と
Al原子とSi原子とが強磁性金属粉末に含有され、更にZn
原子とMn原子との少なくとも一方が該強磁性金属粉末に
含有され、Fe原子の含有量が90原子%以上、Ni原子の含
有量が1原子%以上、10原子%未満、Al原子の含有量が
0.1 原子%以上、5原子%未満、Si原子の含有量が0.1
原子%以上、5原子%未満、Zn原子の含有量及び/又は
Mn原子の含有量(但し、Zn原子とMn原子との両方を含有
する場合はこの合計量)が0.1 原子%以上、5原子%未
満であり、上記強磁性金属粉末のESCAによる分析深
度で100 Å以下の表面域に存在するFe原子とNi原子Al原
子とSi原子とZn原子及び/又はMn原子の含有量比が原子
数比でFe:Ni:Al:Si(Zn及び又はMn)=100 :(4以
下):(10〜60):(10〜70):(20〜80)である構造
を有する強磁性金属粉末等が挙げられる。
しては、該強磁性金属粉末に含有されているFe原子とAl
原子との含有量比が原子数比でFe:Al=100 :1〜100
:20であり、かつ該強磁性金属粉末のESCAによる
分析深度で100 Å以下の表面域に存在するFe原子とAl原
子との含有量比が原子数比でFe:Al=30:70〜70:30で
ある構造を有するものである。或は、Fe原子とNi原子と
Al原子とSi原子とが強磁性金属粉末に含有され、更にZn
原子とMn原子との少なくとも一方が該強磁性金属粉末に
含有され、Fe原子の含有量が90原子%以上、Ni原子の含
有量が1原子%以上、10原子%未満、Al原子の含有量が
0.1 原子%以上、5原子%未満、Si原子の含有量が0.1
原子%以上、5原子%未満、Zn原子の含有量及び/又は
Mn原子の含有量(但し、Zn原子とMn原子との両方を含有
する場合はこの合計量)が0.1 原子%以上、5原子%未
満であり、上記強磁性金属粉末のESCAによる分析深
度で100 Å以下の表面域に存在するFe原子とNi原子Al原
子とSi原子とZn原子及び/又はMn原子の含有量比が原子
数比でFe:Ni:Al:Si(Zn及び又はMn)=100 :(4以
下):(10〜60):(10〜70):(20〜80)である構造
を有する強磁性金属粉末等が挙げられる。
【0049】−非磁性粉末を含有する層(非磁層)又は高
透磁率物質を含有する層(高透磁層)− 本発明の態様の磁気記録層においては、非磁性支持体の
上に複数の構成層が形成されており、少なくとも一層設
けられる磁性層の下に位する構成層は、非磁層又は高透
磁層となっている。該層は表面平滑性の保持及び潤滑剤
を補給する素地層としても機能する。
透磁率物質を含有する層(高透磁層)− 本発明の態様の磁気記録層においては、非磁性支持体の
上に複数の構成層が形成されており、少なくとも一層設
けられる磁性層の下に位する構成層は、非磁層又は高透
磁層となっている。該層は表面平滑性の保持及び潤滑剤
を補給する素地層としても機能する。
【0050】本発明に用いる高透磁率物質としては、そ
の保磁力Hcが0<Hc≦1.0×104(A/m)、好まし
くは0<Hc≦5.0×103(A/m)である。保磁力が前
記範囲内にあると、高透磁率物質として磁性層の磁化領
域の安定化の効果が発揮される。保磁力が前記範囲にあ
ると、磁性材料としての特性が発現することになり好ま
しい。
の保磁力Hcが0<Hc≦1.0×104(A/m)、好まし
くは0<Hc≦5.0×103(A/m)である。保磁力が前
記範囲内にあると、高透磁率物質として磁性層の磁化領
域の安定化の効果が発揮される。保磁力が前記範囲にあ
ると、磁性材料としての特性が発現することになり好ま
しい。
【0051】高透磁率物質として、前記保磁力の範囲内
にある素材が適宜に選択される。そのような高透磁率物
質として軟質磁性合金、酸化物軟質磁性材を挙げること
ができる。
にある素材が適宜に選択される。そのような高透磁率物
質として軟質磁性合金、酸化物軟質磁性材を挙げること
ができる。
【0052】前記軟質磁性合金としては、Fe-Si合金、F
e-Al合金(Alperm,Alfenol,Alfer)、パーマロイ(Ni-F
e系二元合金、およびこれにMo、Cu、Crなどを添加した
多元系合金)、センダスト(Fe-Si-Al:9.6重量%のS
i、5.4%のAl、残りがFeである組成)、Fe-Co合金Fe-Si
-B-Cu-Nb合金、Fe-Ru-Ga合金、ドーピングSi、ドーピン
グFe或はアモルファス形態のFe-Si-合金、Co-Si-B合
金、Co-Nb-Zr合金、ドーピングCo等を挙げることができ
る。これらの中でも好ましい軟質磁性合金としてはパー
マロイが挙げられる。なお、高透磁率合金としての軟質
磁性合金としては以上に例示したものに限定されず、そ
の他の軟質磁性合金を使用することができる。高透磁率
合金は、その一種を単独で使用することもできるし、又
その二種以上を併用することもできる。
e-Al合金(Alperm,Alfenol,Alfer)、パーマロイ(Ni-F
e系二元合金、およびこれにMo、Cu、Crなどを添加した
多元系合金)、センダスト(Fe-Si-Al:9.6重量%のS
i、5.4%のAl、残りがFeである組成)、Fe-Co合金Fe-Si
-B-Cu-Nb合金、Fe-Ru-Ga合金、ドーピングSi、ドーピン
グFe或はアモルファス形態のFe-Si-合金、Co-Si-B合
金、Co-Nb-Zr合金、ドーピングCo等を挙げることができ
る。これらの中でも好ましい軟質磁性合金としてはパー
マロイが挙げられる。なお、高透磁率合金としての軟質
磁性合金としては以上に例示したものに限定されず、そ
の他の軟質磁性合金を使用することができる。高透磁率
合金は、その一種を単独で使用することもできるし、又
その二種以上を併用することもできる。
【0053】前記酸化物軟質磁性材としては、スピネル
型フェライトであるMnFe2O4、Fe3O4、CoFe2O4、NiFe
2O4、MgFe2O4、MgFe2O4、Li0.5Fe2.5O4や、Mn-Zn系フェ
ライト、Ni-Zu系フェライト、Ni-Cu系フェライト、Cu-Z
n系フェライト、Mg-Zn系フェライト、Li-Zn系フェライ
ト等を挙げることができる。これらの中でも、Mn-Zn系
フェライトおよびNi-Zn系フェライトが好ましい。な
お、これらの酸化物軟質磁性材料はその一種を単独で使
用することもできるが、その二種以上を併用することも
できる。
型フェライトであるMnFe2O4、Fe3O4、CoFe2O4、NiFe
2O4、MgFe2O4、MgFe2O4、Li0.5Fe2.5O4や、Mn-Zn系フェ
ライト、Ni-Zu系フェライト、Ni-Cu系フェライト、Cu-Z
n系フェライト、Mg-Zn系フェライト、Li-Zn系フェライ
ト等を挙げることができる。これらの中でも、Mn-Zn系
フェライトおよびNi-Zn系フェライトが好ましい。な
お、これらの酸化物軟質磁性材料はその一種を単独で使
用することもできるが、その二種以上を併用することも
できる。
【0054】この高透磁率物質はボールミルやその他の
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径は1〜300n
m、好ましくは1 〜100nm、より好ましくは1〜50nmとさ
れる。このような微細な粉末を得るために、軟質磁性合
金においては、熔融した合金を真空雰囲気下に噴霧する
ことにより得ることができる。又、酸化物軟質磁性材に
おいては、ガラス結晶化法、共沈焼成法、水熱合成法、
フラックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等
により微細粉末にすることができる。
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径は1〜300n
m、好ましくは1 〜100nm、より好ましくは1〜50nmとさ
れる。このような微細な粉末を得るために、軟質磁性合
金においては、熔融した合金を真空雰囲気下に噴霧する
ことにより得ることができる。又、酸化物軟質磁性材に
おいては、ガラス結晶化法、共沈焼成法、水熱合成法、
フラックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等
により微細粉末にすることができる。
【0055】非磁層に用いられる非磁性粉末としては、
有機質粉末或は無機質粉末を夫々に或は混合して用いら
れる。
有機質粉末或は無機質粉末を夫々に或は混合して用いら
れる。
【0056】本発明に用いられる有機質粉末としては、
アクリルスチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が好ま
しいが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹
脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉
末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等も使用でき、無機質粉
末としてはグラファイト、酸化チタン、硫酸バリウム、
ZnS、MgCO3、CaCO3、ZnO、CaO、二硫化タングステン、
二硫化モリブデン、窒化硼素、MgO、SnO2、SiO2、Cr
2O3、α-Al2O3、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造
ダイヤモンド、α-酸化鉄、ざくろ石、ガーネット、蛍
石、窒化珪素、窒化硼素、炭化珪素、炭化モリブデン、
炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリ
ボリ、珪藻土、ドロマイド等を挙げることができる。
アクリルスチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が好ま
しいが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹
脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉
末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等も使用でき、無機質粉
末としてはグラファイト、酸化チタン、硫酸バリウム、
ZnS、MgCO3、CaCO3、ZnO、CaO、二硫化タングステン、
二硫化モリブデン、窒化硼素、MgO、SnO2、SiO2、Cr
2O3、α-Al2O3、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造
ダイヤモンド、α-酸化鉄、ざくろ石、ガーネット、蛍
石、窒化珪素、窒化硼素、炭化珪素、炭化モリブデン、
炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリ
ボリ、珪藻土、ドロマイド等を挙げることができる。
【0057】これらの中でも好ましいのはCaCO3、酸化
チタン、硫酸バリウム、α-Al2O3、α-酸化鉄等の無機
粉末やポリエチレン等のポリマー粉末等である。
チタン、硫酸バリウム、α-Al2O3、α-酸化鉄等の無機
粉末やポリエチレン等のポリマー粉末等である。
【0058】磁性層に隣接する層は、高密度記録を達成
するために非磁性粉末又は高透磁率物質をフィラーとし
て含有する層である必要がある。また最上層の表面性を
良好に保つためにはそれに下接する層の表面が平滑であ
る必要があり、その理由から用いられるフィラーは微粒
子である必要がある。用いられるフィラーの平均粒径は
通常1〜300nm、好ましくは1〜100nmであり、より好ま
しくは1〜50nmである。
するために非磁性粉末又は高透磁率物質をフィラーとし
て含有する層である必要がある。また最上層の表面性を
良好に保つためにはそれに下接する層の表面が平滑であ
る必要があり、その理由から用いられるフィラーは微粒
子である必要がある。用いられるフィラーの平均粒径は
通常1〜300nm、好ましくは1〜100nmであり、より好ま
しくは1〜50nmである。
【0059】又カレンダビリティを良好にするために
は、異なる平均粒径の大小フィラーを2種類以上併用す
ることが好ましい。大小フィラーの平均粒径の差は10nm
以上であることが好ましく、より好ましくは50nm以上で
ある。又上記フィラーは、Si,Al等で表面処理され
たものであることが分散性向上の面から好ましい。
は、異なる平均粒径の大小フィラーを2種類以上併用す
ることが好ましい。大小フィラーの平均粒径の差は10nm
以上であることが好ましく、より好ましくは50nm以上で
ある。又上記フィラーは、Si,Al等で表面処理され
たものであることが分散性向上の面から好ましい。
【0060】ところで、最上層である磁性層以外の、非
磁性粉末を含有する層は、磁性層の膜厚が0.8μm以下で
あるので、最上層である磁性層に対して潤滑剤を補給す
る層として機能する。磁性層に対して下層となる層が潤
滑剤補給層として良く機能するために、磁性層の下の層
に含まれる非磁性粉末は、その吸油量ができるだけ少な
いことが好ましく、通常200ml/100g以下、好ましくは1
00ml/100g以下である。
磁性粉末を含有する層は、磁性層の膜厚が0.8μm以下で
あるので、最上層である磁性層に対して潤滑剤を補給す
る層として機能する。磁性層に対して下層となる層が潤
滑剤補給層として良く機能するために、磁性層の下の層
に含まれる非磁性粉末は、その吸油量ができるだけ少な
いことが好ましく、通常200ml/100g以下、好ましくは1
00ml/100g以下である。
【0061】前記非磁層又は高透磁層中のフィラーの含
有量は、5〜99wt%、好ましくしは50〜95wt%、更に好
ましくは60〜90wt%である。フィラーの含有量が前記範
囲内にあると、磁性層の磁化の安定化の効果が十分に得
られる。又、フィラーが5wt%未満であると、非磁層又
は高透磁層としての効果が得られなくなることがあるの
で好ましくない。
有量は、5〜99wt%、好ましくしは50〜95wt%、更に好
ましくは60〜90wt%である。フィラーの含有量が前記範
囲内にあると、磁性層の磁化の安定化の効果が十分に得
られる。又、フィラーが5wt%未満であると、非磁層又
は高透磁層としての効果が得られなくなることがあるの
で好ましくない。
【0062】非磁層又は高透磁層の膜厚は2.5μm以
下、好ましくは0.5〜2.0μmである。
下、好ましくは0.5〜2.0μmである。
【0063】また本発明の磁気記録層の塗設方法を鋭意
検討した結果、磁性層と非磁層又は高透磁層との間に中
間層を設けることが好ましく、これによって、塗布後の
表面の平滑性が更に良好となる。
検討した結果、磁性層と非磁層又は高透磁層との間に中
間層を設けることが好ましく、これによって、塗布後の
表面の平滑性が更に良好となる。
【0064】この中間層の塗布後の厚みは、充分薄くす
ることが肝要であるが極く希薄な樹脂溶液を用いて塗布
することで可能となる。また、この磁性層と中間層と
は、ウェット・オン・ウェット押出し方式塗布で同時重
層塗布によって塗設することで両塗布層の更なる薄膜化
が可能となり、又表面の平滑性も良好となる。
ることが肝要であるが極く希薄な樹脂溶液を用いて塗布
することで可能となる。また、この磁性層と中間層と
は、ウェット・オン・ウェット押出し方式塗布で同時重
層塗布によって塗設することで両塗布層の更なる薄膜化
が可能となり、又表面の平滑性も良好となる。
【0065】本発明において用いられる導電性微粉末は
磁性層に含ませるものは平均粒径45〜300nm好ましくは5
0〜150nm、より好ましくは50〜100nmの粉末であり、磁
性粉100(wt)に対し好ましくは0.1〜1.0(wt)で含有
され、また磁性層以外の少くとも1層に含ませるもので
平均粒径5〜50nm好ましくは10〜40nm、より好ましくは
10〜30nmの粉末であり、該層のフィラー100(wt)に対
し好ましくは1.0(wt)以上、好ましくは3.0(wt)以
上、より好ましくは5.0(wt)以上で含有される。
磁性層に含ませるものは平均粒径45〜300nm好ましくは5
0〜150nm、より好ましくは50〜100nmの粉末であり、磁
性粉100(wt)に対し好ましくは0.1〜1.0(wt)で含有
され、また磁性層以外の少くとも1層に含ませるもので
平均粒径5〜50nm好ましくは10〜40nm、より好ましくは
10〜30nmの粉末であり、該層のフィラー100(wt)に対
し好ましくは1.0(wt)以上、好ましくは3.0(wt)以
上、より好ましくは5.0(wt)以上で含有される。
【0066】前記導電微粉末としては、カーボンブラッ
ク、或はSnO2等の他に次のような導電性顔料が挙げられ
る。
ク、或はSnO2等の他に次のような導電性顔料が挙げられ
る。
【0067】即ち;銀粉、酸化銀、硝酸銀、銀の有機化
合物、銅粉等の金属粒子等;酸化亜鉛、硫酸バリウム、
酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫被膜、又は
アンチモン固溶酸化錫被膜等の導電性物質でコーティン
グ処理したもの等があるが、導電性物質でコーティング
処理を施した顔料を使用することが好ましい。
合物、銅粉等の金属粒子等;酸化亜鉛、硫酸バリウム、
酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫被膜、又は
アンチモン固溶酸化錫被膜等の導電性物質でコーティン
グ処理したもの等があるが、導電性物質でコーティング
処理を施した顔料を使用することが好ましい。
【0068】これらの内、好ましくはカーボンブラック
である。
である。
【0069】磁性層に含有されるカーボンブラックの平
均粒径を300nmより大きくすると、電磁変換特性が劣化
する。また、磁性層以外の磁性層に含有されるカーボン
ブラックの平均粒径を5nm未満とすると、カーボンブラ
ックの分散が不良となり、かつこの磁性層表面が粗れる
ことにより電磁変換特性が劣化する。
均粒径を300nmより大きくすると、電磁変換特性が劣化
する。また、磁性層以外の磁性層に含有されるカーボン
ブラックの平均粒径を5nm未満とすると、カーボンブラ
ックの分散が不良となり、かつこの磁性層表面が粗れる
ことにより電磁変換特性が劣化する。
【0070】磁性層に含有させるカーボンブラックとし
ては、例えば旭カーボンブラック製旭#60(51nm)、旭
#55(77nm)、旭サーマル(90nm)、旭#50(94nm)、
旭#35(115nm)、三菱化成製ダイアブラックG(84n
m)、カボット(Cabot )製レーガル(REGAL)SRF-S(6
0nm)、#22B、#20、#3500(以上、40nm)、スター
リング(STERLING)NS(75nm)、電気化学社製のHS 100
(53nm)等がある。これらのうち二種類以上を併用して
もよい。
ては、例えば旭カーボンブラック製旭#60(51nm)、旭
#55(77nm)、旭サーマル(90nm)、旭#50(94nm)、
旭#35(115nm)、三菱化成製ダイアブラックG(84n
m)、カボット(Cabot )製レーガル(REGAL)SRF-S(6
0nm)、#22B、#20、#3500(以上、40nm)、スター
リング(STERLING)NS(75nm)、電気化学社製のHS 100
(53nm)等がある。これらのうち二種類以上を併用して
もよい。
【0071】磁性層以外の層に含有させるカーボンブラ
ックとしては、東海電極製シーガル600(23nm)、シー
スト6H(24nm)、シースト6H(28nm)、シースト11
6(30nm)、旭カーボンブラック製旭#80(23nm)、コ
ロンビヤンカーボン製コンダクテックスSC(17nm)、コ
ンダクテックス975(20nm)、コンダクテックス950(21
nm)、コンダクテックス900(27nm)、コンダクテック
ス40-220(20nm)、三菱化成製ダイアブラックA(18n
m)、ダイアブラックI(21nm)、ダイアブラックH(3
0nm)昭和電工製ショウブラックO(30nm)、カボット
製モナーク(MONARCH)1300(13nm)、レーガル(REGA
L)400(25nm)、バルカン(VULCAN)XC-72(30nm)バ
ルカンP(20nm)バルカン9(19nm)、ブラックパール
ズ2000(15nm)等を例示できる。これらのうち二種類以
上を併用してもよい。
ックとしては、東海電極製シーガル600(23nm)、シー
スト6H(24nm)、シースト6H(28nm)、シースト11
6(30nm)、旭カーボンブラック製旭#80(23nm)、コ
ロンビヤンカーボン製コンダクテックスSC(17nm)、コ
ンダクテックス975(20nm)、コンダクテックス950(21
nm)、コンダクテックス900(27nm)、コンダクテック
ス40-220(20nm)、三菱化成製ダイアブラックA(18n
m)、ダイアブラックI(21nm)、ダイアブラックH(3
0nm)昭和電工製ショウブラックO(30nm)、カボット
製モナーク(MONARCH)1300(13nm)、レーガル(REGA
L)400(25nm)、バルカン(VULCAN)XC-72(30nm)バ
ルカンP(20nm)バルカン9(19nm)、ブラックパール
ズ2000(15nm)等を例示できる。これらのうち二種類以
上を併用してもよい。
【0072】カーボンブラックの添加法は種々変更でき
る。例えば、カーボンブラックの微粒子、粗粒子を同時
に分散機に投入して混合してもよく、その一部のみを先
に投入し、分散がある程度進んだ時点で残量を投入する
方法を採ってもよい。カーボンブラックの分散を特に重
視する場合には、カーボンブラックを磁性体或はフィラ
ーとバインダと共に三本ロールミル、バンバリミキサ等
によって混練し、この後に分散機で分散して塗料とする
こともできる。磁性層以外の層のように、導電性をより
重視するときは、できるだけ分散工程、調液工程の後半
でカーボンブラックを加えるようにすると、カーボンブ
ラックのストラクチャー構造が切断されにくい。
る。例えば、カーボンブラックの微粒子、粗粒子を同時
に分散機に投入して混合してもよく、その一部のみを先
に投入し、分散がある程度進んだ時点で残量を投入する
方法を採ってもよい。カーボンブラックの分散を特に重
視する場合には、カーボンブラックを磁性体或はフィラ
ーとバインダと共に三本ロールミル、バンバリミキサ等
によって混練し、この後に分散機で分散して塗料とする
こともできる。磁性層以外の層のように、導電性をより
重視するときは、できるだけ分散工程、調液工程の後半
でカーボンブラックを加えるようにすると、カーボンブ
ラックのストラクチャー構造が切断されにくい。
【0073】カーボンブラックを予めバインダと共に混
練しておいたいわゆる“カーボンマスターパッチ”を利
用してもよい。
練しておいたいわゆる“カーボンマスターパッチ”を利
用してもよい。
【0074】ここで、上記のカーボンブラックの粒径は
電子顕微鏡により目視で直接測定する。即ち、磁気記録
媒体、例えばテープを長手方向に厚さ約700Åに切断
し、得られた断面を透過型電子顕微鏡で観察する(印加
電圧200KV、倍率60,000)。この場合、カーボンブラ
ックを1個ずつ粒子の直径を測定し、N=100個の数平
均粒径を「平均粒径」とする。
電子顕微鏡により目視で直接測定する。即ち、磁気記録
媒体、例えばテープを長手方向に厚さ約700Åに切断
し、得られた断面を透過型電子顕微鏡で観察する(印加
電圧200KV、倍率60,000)。この場合、カーボンブラ
ックを1個ずつ粒子の直径を測定し、N=100個の数平
均粒径を「平均粒径」とする。
【0075】−本発明に使用されるバインダ− この発明に用いるバインダとしては、例えば、ポリウレ
タン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビ
ニル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は-S
O3M、-OSO3M、-COOMおよび-OPO(OM1)2、-PO(OM1)2 から
選ばれた少なくとも一種の極性基を有する繰返し単位を
含むことが好ましい。
タン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビ
ニル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は-S
O3M、-OSO3M、-COOMおよび-OPO(OM1)2、-PO(OM1)2 から
選ばれた少なくとも一種の極性基を有する繰返し単位を
含むことが好ましい。
【0076】ただし、上記極性基において、Mは水素原
子あるいはNa、K、Li等のアルカリ金属を表し、またM
1は水素原子、Na、K、Li等のアルカリ原子あるいはア
ルキル基を表す。
子あるいはNa、K、Li等のアルカリ金属を表し、またM
1は水素原子、Na、K、Li等のアルカリ原子あるいはア
ルキル基を表す。
【0077】上記極性基は強磁性粉末の分散性を向上さ
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モル%、
好ましくは0.5〜6.0モル%である。この含有率が0.1モ
ル%未満であると、強磁性粉末の分散性が低下し、また
含有率が8.0モル%を超えると、磁性塗料がゲル化し易
くなる。なお、前記各樹脂の重量平均分子量は、15,000
〜50,000の範囲が好ましい。
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モル%、
好ましくは0.5〜6.0モル%である。この含有率が0.1モ
ル%未満であると、強磁性粉末の分散性が低下し、また
含有率が8.0モル%を超えると、磁性塗料がゲル化し易
くなる。なお、前記各樹脂の重量平均分子量は、15,000
〜50,000の範囲が好ましい。
【0078】バインダの磁性層における含有率は、強磁
性粉末100重量部に対して通常、10〜40重量部、好まし
くは15〜30重量部である。
性粉末100重量部に対して通常、10〜40重量部、好まし
くは15〜30重量部である。
【0079】バインダは一種単独に限らず、二種以上を
組合せて用いることができるが、この場合、ポリウレタ
ンおよび/またはポリエステルと塩化ビニル系樹脂との
比は、重量比で通常、90:10〜10:90であり、好ましく
は70:30〜30:70の範囲である。
組合せて用いることができるが、この場合、ポリウレタ
ンおよび/またはポリエステルと塩化ビニル系樹脂との
比は、重量比で通常、90:10〜10:90であり、好ましく
は70:30〜30:70の範囲である。
【0080】バインダとして用いられる極性基含有塩化
ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−ビニルアル
コール共重合体など、水酸基を有する共重合体と極性基
および塩素原子を有する化合物との付加反応により合成
することができる。
ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−ビニルアル
コール共重合体など、水酸基を有する共重合体と極性基
および塩素原子を有する化合物との付加反応により合成
することができる。
【0081】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
【0082】エポキシ基を導入する場合、エポキシ基を
有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、1〜
30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好ましい。
有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、1〜
30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好ましい。
【0083】エポキシ基を導入するためのモノマーとし
ては、たとえばグリシジルアクリレートが好ましい。
ては、たとえばグリシジルアクリレートが好ましい。
【0084】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭57-44227号、同58-108052
号、同59-8127号、同60-101161号、同60-235814号、同6
0-238306号、同60-238371号、同62-121923号、同62-146
432号、同62-146433号等に記載があり、この発明におい
てもこれらを利用することができる。
導入技術に関しては、特開昭57-44227号、同58-108052
号、同59-8127号、同60-101161号、同60-235814号、同6
0-238306号、同60-238371号、同62-121923号、同62-146
432号、同62-146433号等に記載があり、この発明におい
てもこれらを利用することができる。
【0085】次に、ポリエステルについては、一般にポ
リオールと多塩基酸との反応により得られる。
リオールと多塩基酸との反応により得られる。
【0086】この公知の方法を用いて、ポリオールと一
部に極性基を有する多塩基酸から、極性基を有するポリ
エステル(ポリオール)を合成することができる。
部に極性基を有する多塩基酸から、極性基を有するポリ
エステル(ポリオール)を合成することができる。
【0087】極性基を有する多塩基酸の例としては、5-
スルホイソフタル酸、2-スルホイソフタル酸、4-スルホ
イソフタル酸、3-スルホフタル酸、5-スルホイソフタル
酸ジアルキル、2-スルホイソフタル酸ジアルキル、4-ス
ルホイソフタル酸ジアルキル、3-スルホイソフタル酸ジ
アルキルおよびこれらのナトリウム塩、カリウム塩を挙
げることができる。
スルホイソフタル酸、2-スルホイソフタル酸、4-スルホ
イソフタル酸、3-スルホフタル酸、5-スルホイソフタル
酸ジアルキル、2-スルホイソフタル酸ジアルキル、4-ス
ルホイソフタル酸ジアルキル、3-スルホイソフタル酸ジ
アルキルおよびこれらのナトリウム塩、カリウム塩を挙
げることができる。
【0088】ポリオールの例としては、トリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサ
ンジメタノール等を挙げることができる。
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサ
ンジメタノール等を挙げることができる。
【0089】なお、他の極性基を導入したポリエステル
も公知の方法で合成することができる。
も公知の方法で合成することができる。
【0090】次に、ポリウレタンに付いては、ポリオー
ルとポリイソシアネートとの反応から得られる。
ルとポリイソシアネートとの反応から得られる。
【0091】ポリオールとしては、一般にポリオールと
多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオ
ールが使用されている。
多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオ
ールが使用されている。
【0092】したがって、極性基を有するポリエステル
ポリオールを原料として用いれば、極性基を有するポリ
ウレタンを合成することができる。
ポリオールを原料として用いれば、極性基を有するポリ
ウレタンを合成することができる。
【0093】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン-4-4′-ジイソシアネート(MDI)、ヘキ
サメチレンジイソシアネート(HMDI)、トリレンジ
イソシアネート(TDI)、1,5-ナフタレンジイソシア
ネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TOD
I)、リジンイソシアネートメチルエステル(LDI)
等が挙げられる。
ニルメタン-4-4′-ジイソシアネート(MDI)、ヘキ
サメチレンジイソシアネート(HMDI)、トリレンジ
イソシアネート(TDI)、1,5-ナフタレンジイソシア
ネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TOD
I)、リジンイソシアネートメチルエステル(LDI)
等が挙げられる。
【0094】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する化合物との付加反応も有効であ
る。
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する化合物との付加反応も有効であ
る。
【0095】なお、ポリウレタンへの極性基導入に関す
る技術としては、特公昭58-41565号、特開昭57-92422
号、同57-92423号、同59-8127号、同59-5423号、同59-5
424号、同62-121923号等に記載があり、本発明において
もこれらを利用することができる。
る技術としては、特公昭58-41565号、特開昭57-92422
号、同57-92423号、同59-8127号、同59-5423号、同59-5
424号、同62-121923号等に記載があり、本発明において
もこれらを利用することができる。
【0096】本発明においては、バインダとして下記の
樹脂を全バインダの20wt%以下の使用量で併用すること
ができる。
樹脂を全バインダの20wt%以下の使用量で併用すること
ができる。
【0097】その樹脂としては、重量平均分子量が10,0
00〜200,000の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(ニトロセルロース等)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹
脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合
成ゴム系樹脂等が挙げられる。
00〜200,000の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(ニトロセルロース等)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹
脂、アクリル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合
成ゴム系樹脂等が挙げられる。
【0098】−その他の成分− 本発明では磁性層の品質の向上を図るため、耐久性向上
剤、分散剤、潤滑剤、研磨剤などの添加剤をその他の成
分として含有させることができる。
剤、分散剤、潤滑剤、研磨剤などの添加剤をその他の成
分として含有させることができる。
【0099】耐久性向上剤としては、ポリイソシアネー
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート(TDI)等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。なお、前記ポリイソシアネートの重量平均
分子量は、100〜3,000の範囲にあることが望ましい。
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート(TDI)等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。なお、前記ポリイソシアネートの重量平均
分子量は、100〜3,000の範囲にあることが望ましい。
【0100】分散剤としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数12〜18の脂肪酸;これ
らのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属の塩ある
いはこれらのアミド;ポリアルキレンオキサイドアルキ
ルリン酸エステル;レシチン;トリアルキルポリオレフ
ィンオキシ第四アンモニウム塩;カルボキシル基および
スルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げることが
できる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対して0.
5〜5wt%の範囲で用いられる。
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数12〜18の脂肪酸;これ
らのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属の塩ある
いはこれらのアミド;ポリアルキレンオキサイドアルキ
ルリン酸エステル;レシチン;トリアルキルポリオレフ
ィンオキシ第四アンモニウム塩;カルボキシル基および
スルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げることが
できる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対して0.
5〜5wt%の範囲で用いられる。
【0101】潤滑剤としては、脂肪酸および/または脂
肪酸エステルを使用することができる。この場合、脂肪
酸の添加量は強磁性粉に対し0.2〜10wt%が好ましく、
0.5〜5wt%がより好ましい。添加量が0.2wt%未満であ
ると、走行性が低下し易く、また10wt%を超えると、脂
肪酸が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易
くなる。また、脂肪酸エステルの添加量も強磁性粉に対
して0.2〜10wt%が好ましく、0.5〜5wt%がより好まし
い。その添加量が0.2wt%未満であると、スチル耐久性
が劣化し易く、また10wt%を超えると、脂肪酸エステル
が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易くな
る。脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑効果をよ
り高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステルは重量比
で10:90〜90:10が好ましい。
肪酸エステルを使用することができる。この場合、脂肪
酸の添加量は強磁性粉に対し0.2〜10wt%が好ましく、
0.5〜5wt%がより好ましい。添加量が0.2wt%未満であ
ると、走行性が低下し易く、また10wt%を超えると、脂
肪酸が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易
くなる。また、脂肪酸エステルの添加量も強磁性粉に対
して0.2〜10wt%が好ましく、0.5〜5wt%がより好まし
い。その添加量が0.2wt%未満であると、スチル耐久性
が劣化し易く、また10wt%を超えると、脂肪酸エステル
が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易くな
る。脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑効果をよ
り高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステルは重量比
で10:90〜90:10が好ましい。
【0102】脂肪酸としては一塩基酸であっても二塩基
酸であってもよく、炭素数は6〜30が好ましく、12〜22
の範囲がより好ましい。脂肪酸の具体例としては、カプ
ロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン
酸、リノレン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン
酸、マロン酸、琥珀酸、マレイン酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,
12-ドデカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸など
が挙げられる。
酸であってもよく、炭素数は6〜30が好ましく、12〜22
の範囲がより好ましい。脂肪酸の具体例としては、カプ
ロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン
酸、リノレン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン
酸、マロン酸、琥珀酸、マレイン酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,
12-ドデカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸など
が挙げられる。
【0103】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2-エチルヘキシルステアレート、2-エチルヘキシ
ルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソプロ
ピルミリステート、ブチルラウレート、セチル-2-エチ
ルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチルアジ
ペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシルアジペ
ート、オレイルステアレート、2-エチルヘキシルミリス
テート、イソペンチルパルミテート、イソペンチルステ
アレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチルエーテ
ルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ−ブチル
エーテルパルミテートなどが挙げられる。
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2-エチルヘキシルステアレート、2-エチルヘキシ
ルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソプロ
ピルミリステート、ブチルラウレート、セチル-2-エチ
ルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチルアジ
ペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシルアジペ
ート、オレイルステアレート、2-エチルヘキシルミリス
テート、イソペンチルパルミテート、イソペンチルステ
アレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチルエーテ
ルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ−ブチル
エーテルパルミテートなどが挙げられる。
【0104】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、たとえばシリコーンオイル、グラファイ
ト、弗化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、脂肪酸アミド、α-オレフィンオキサイドなども
使用することができる。
潤滑剤として、たとえばシリコーンオイル、グラファイ
ト、弗化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、脂肪酸アミド、α-オレフィンオキサイドなども
使用することができる。
【0105】次に、研磨剤の具体例としては、α-アル
ミナ、熔融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α-酸
化鉄、酸化珪素、窒化珪素、炭化タングステン、炭化モ
リブデン、炭化硼素、コランダム、酸化亜鉛、酸化セリ
ウム、酸化マグネシウム、窒化硼素などが挙げられる。
研磨剤としては、平均粒子径が0.05〜0.6μmのものが好
ましく、0.1〜0.3μmのものがより好ましい。
ミナ、熔融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α-酸
化鉄、酸化珪素、窒化珪素、炭化タングステン、炭化モ
リブデン、炭化硼素、コランダム、酸化亜鉛、酸化セリ
ウム、酸化マグネシウム、窒化硼素などが挙げられる。
研磨剤としては、平均粒子径が0.05〜0.6μmのものが好
ましく、0.1〜0.3μmのものがより好ましい。
【0106】また本発明においては補助的に帯電防止剤
を使用することができる。即ち前記カーボンブラック、
グラファイト等の導電性粉末の他に、第四級アミン等の
カチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、燐酸、燐酸エ
ステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活性
剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポニン等
の天然界面活性剤などを挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、バインダに対して0.01〜40wt%の
範囲で添加される。
を使用することができる。即ち前記カーボンブラック、
グラファイト等の導電性粉末の他に、第四級アミン等の
カチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、燐酸、燐酸エ
ステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活性
剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポニン等
の天然界面活性剤などを挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、バインダに対して0.01〜40wt%の
範囲で添加される。
【0107】−磁気記録媒体の製造− この発明の磁気記録媒体は、磁性層を、下層が湿潤状態
にあるときに塗設する所謂ウェット・オン・ウェット方
式が好ましい。このウェット・オン・ウェット方式は、
公知の重層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方
法を適宜に採用することができる。
にあるときに塗設する所謂ウェット・オン・ウェット方
式が好ましい。このウェット・オン・ウェット方式は、
公知の重層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方
法を適宜に採用することができる。
【0108】たとえば、一般的には強磁性粉、高透磁率
物質、非磁性粉末、バインダ、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤等と溶媒とを混練して高濃度磁性層塗料
及びその他の構成層塗料を調製し、次いでこれら塗料を
希釈して塗料を調製した後、この塗料を非磁性支持体の
表面に塗布する。
物質、非磁性粉末、バインダ、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤等と溶媒とを混練して高濃度磁性層塗料
及びその他の構成層塗料を調製し、次いでこれら塗料を
希釈して塗料を調製した後、この塗料を非磁性支持体の
表面に塗布する。
【0109】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン
(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素などを用
いることができる。
チルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン
(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素などを用
いることができる。
【0110】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。
各種の混練分散機を使用することができる。
【0111】この混練分散機としては、たとえば二本ロ
ールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、
コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグライン
ダ、Sqegvariアトライタ、高速インペラ分散機、高速ス
トーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパ、高速ミキサ、
ホモジナイザ、超音波分散機、オープンニーダ、連続ニ
ーダ、加圧ニーダ等が挙げられる。上記混練分散機のう
ち、0.05〜0.5KW(磁性粉1Kg当たり)の消費電力負荷
を提供することのできる混練分散機は、加圧ニーダ、オ
ープンニーダ、連続ニーダ、二本ロールミル、三本ロー
ルミルである。
ールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、
コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグライン
ダ、Sqegvariアトライタ、高速インペラ分散機、高速ス
トーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパ、高速ミキサ、
ホモジナイザ、超音波分散機、オープンニーダ、連続ニ
ーダ、加圧ニーダ等が挙げられる。上記混練分散機のう
ち、0.05〜0.5KW(磁性粉1Kg当たり)の消費電力負荷
を提供することのできる混練分散機は、加圧ニーダ、オ
ープンニーダ、連続ニーダ、二本ロールミル、三本ロー
ルミルである。
【0112】非磁性支持体上に、構成層を塗布するに
は、具体的には、図2に示すように、まず供給ロール32
から繰出したフィルム状支持体1に、エクストルージョ
ン方式の押出しコータ41、42により、各塗料をウェット
・オン・ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石ま
たは垂直配向用磁石33に通過し、乾燥器34に導入し、こ
こで上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥す
る。次に、乾燥した各塗布層付きの支持体1をカレンダ
ロール38の組合せからなるスーパカレンダ装置37に導
き、ここでカレンダ処理した後に、巻取ロール39に巻き
取る。このようにして得られた磁性フィルムを所望幅の
テープ状に裁断してたとえば8mmビデオカメラ用磁気記
録テープを製造することができる。
は、具体的には、図2に示すように、まず供給ロール32
から繰出したフィルム状支持体1に、エクストルージョ
ン方式の押出しコータ41、42により、各塗料をウェット
・オン・ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石ま
たは垂直配向用磁石33に通過し、乾燥器34に導入し、こ
こで上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥す
る。次に、乾燥した各塗布層付きの支持体1をカレンダ
ロール38の組合せからなるスーパカレンダ装置37に導
き、ここでカレンダ処理した後に、巻取ロール39に巻き
取る。このようにして得られた磁性フィルムを所望幅の
テープ状に裁断してたとえば8mmビデオカメラ用磁気記
録テープを製造することができる。
【0113】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサを通して押出しコータ41、42へと供
給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性ベースフィ
ルムの搬送方向を示す。押出しコータ41、42には夫々、
液溜まり部43、44が設けられ、各コータからの塗料をウ
ェット・オン・ウェット方式で重ねる。即ち、下層構成
層塗料の塗布直後(未乾燥状態のとき)逐次、最終的に
は最上層磁性層塗料を重層塗布する。
いインラインミキサを通して押出しコータ41、42へと供
給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性ベースフィ
ルムの搬送方向を示す。押出しコータ41、42には夫々、
液溜まり部43、44が設けられ、各コータからの塗料をウ
ェット・オン・ウェット方式で重ねる。即ち、下層構成
層塗料の塗布直後(未乾燥状態のとき)逐次、最終的に
は最上層磁性層塗料を重層塗布する。
【0114】コータヘッドは、図3に示した(c)のヘ
ッドが本発明においては好ましい。
ッドが本発明においては好ましい。
【0115】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類;メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類;グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類;メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類;グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。
【0116】前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石にお
ける磁場は、20〜5,000ガウス程度であり、乾燥器によ
る乾燥温度は約30〜120℃であり、乾燥時間は約0.1〜10
分間程度である。
ける磁場は、20〜5,000ガウス程度であり、乾燥器によ
る乾燥温度は約30〜120℃であり、乾燥時間は約0.1〜10
分間程度である。
【0117】なお、ウェット・オン・ウェット方式で
は、リバースロールと押出しコータとの組合せ、グラビ
アロールと押出しコータとの組合せなども使用すること
ができる。さらにはエアドクタコータ、ブレードコー
タ、エアナイフコータ、スクィズコータ、含浸コータ、
トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコー
タ、スプレイコータ等を組合せることもできる。
は、リバースロールと押出しコータとの組合せ、グラビ
アロールと押出しコータとの組合せなども使用すること
ができる。さらにはエアドクタコータ、ブレードコー
タ、エアナイフコータ、スクィズコータ、含浸コータ、
トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコー
タ、スプレイコータ等を組合せることもできる。
【0118】このウェット・オン・ウェット方式におけ
る重層塗布においては、上層の下側に位置する層が湿潤
状態のままで上層の磁性層を塗布するので、下層の表面
(即ち、上層との境界面)が滑らかになるとともに最上
層の表面性が良好になり、かつ、上下層間の接着性も向
上する。この結果、特に高密度記録のために高出力、低
ノイズの要求されるたとえば磁気テープとしての要求性
能を満たしたものとなりかつ、高耐久性の性能が要求さ
れることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が向上し、
耐久性が十分となる。また、ウェット・オン・ウェット
重層塗布方式により、ドロップアウトも低減することが
でき、信頼性も向上する。
る重層塗布においては、上層の下側に位置する層が湿潤
状態のままで上層の磁性層を塗布するので、下層の表面
(即ち、上層との境界面)が滑らかになるとともに最上
層の表面性が良好になり、かつ、上下層間の接着性も向
上する。この結果、特に高密度記録のために高出力、低
ノイズの要求されるたとえば磁気テープとしての要求性
能を満たしたものとなりかつ、高耐久性の性能が要求さ
れることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が向上し、
耐久性が十分となる。また、ウェット・オン・ウェット
重層塗布方式により、ドロップアウトも低減することが
でき、信頼性も向上する。
【0119】−表面の平滑化− 本発明においては、磁性層の表面粗さRZ(10)を5〜20n
mとするのが好ましく、10〜15nmとするのが一層好まし
い。
mとするのが好ましく、10〜15nmとするのが一層好まし
い。
【0120】本発明に係る表面粗さRZ(10)とは、図1
に示すように磁気記録媒体を幅方向Wの中点Pから±2
mm(図ではRで示す)の範囲で長手方向Xに基準長だけ
垂直に切断したとき、その切断面における断面曲線の平
均方向に平行な直線のうち、高さが10番目の山頂を通る
ものと深さが10番目の谷底を通る2本の直線l1 及びl
2 間の標高差dの値を指すものである。
に示すように磁気記録媒体を幅方向Wの中点Pから±2
mm(図ではRで示す)の範囲で長手方向Xに基準長だけ
垂直に切断したとき、その切断面における断面曲線の平
均方向に平行な直線のうち、高さが10番目の山頂を通る
ものと深さが10番目の谷底を通る2本の直線l1 及びl
2 間の標高差dの値を指すものである。
【0121】上記のRZ(10)を測定するには、タリステ
ップ粗さ計(ランク・テイラ・ホブソン社製)を用い、
測定条件としては、スタイラスを2.5 ×0.1 μm、針圧
を2mg、カット・オフ・フィルタを0.33Hz、測定スピー
ドを2.5 μm/sec 、基準長を0.5mm とした。なお、粗
さ曲線においては0.002 μm以内の凹凸はカットしてい
る。
ップ粗さ計(ランク・テイラ・ホブソン社製)を用い、
測定条件としては、スタイラスを2.5 ×0.1 μm、針圧
を2mg、カット・オフ・フィルタを0.33Hz、測定スピー
ドを2.5 μm/sec 、基準長を0.5mm とした。なお、粗
さ曲線においては0.002 μm以内の凹凸はカットしてい
る。
【0122】上記のRZ(10)を20nm以下にコントロール
するには、例えば前記の製造工程においてカレンダ条件
を設定し、磁性層の表面平滑状態をコントロールすれば
よい。即ち、この表面平滑化処理においては、カレンダ
条件として制御する要因としては温度、線圧力、C/S
(コーティングスピード)等を挙げることができる。ま
た、その他の要因としては、磁性粉の混練条件、表面処
理、磁性層中への添加粒子のサイズや量等がある。
するには、例えば前記の製造工程においてカレンダ条件
を設定し、磁性層の表面平滑状態をコントロールすれば
よい。即ち、この表面平滑化処理においては、カレンダ
条件として制御する要因としては温度、線圧力、C/S
(コーティングスピード)等を挙げることができる。ま
た、その他の要因としては、磁性粉の混練条件、表面処
理、磁性層中への添加粒子のサイズや量等がある。
【0123】本発明においては、通常、上記温度を50〜
140 ℃、上記線圧力を50〜400kg/cm、上記C/Sを20〜
600m/minに保持することが好ましい。これらの数値の範
囲を外れると、磁性層の表面粗さを前記の如く特定する
ことが困難になるか、あるいはそれが不可能となること
がある。
140 ℃、上記線圧力を50〜400kg/cm、上記C/Sを20〜
600m/minに保持することが好ましい。これらの数値の範
囲を外れると、磁性層の表面粗さを前記の如く特定する
ことが困難になるか、あるいはそれが不可能となること
がある。
【0124】上記のように処理した結果の上層の磁性層
厚は、0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.4μm以下にする
のが、高域特性やオーバライト特性を向上させる点で好
ましい。
厚は、0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.4μm以下にする
のが、高域特性やオーバライト特性を向上させる点で好
ましい。
【0125】
【実施例】次に、本発明を実施例で具体的に説明する。
【0126】以下に示す成分、割合、操作順序はこの発
明の範囲から逸脱しない範囲において種々変更しうる。
なお、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
明の範囲から逸脱しない範囲において種々変更しうる。
なお、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
【0127】まず以下に示す組成処方の磁性層塗料、非
磁層塗料又は高透磁層塗料を夫々にニーダ、サンドミル
を用いて混練・分散し、得られた各塗料にそれぞれポリ
イソシアネート(コロネートL、日本ポリウレタン工業
(株)製)5部を添加した後、ウェット・オン・ウェッ
ト方式により厚み10μmのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に表1に示す組合せで実施例1〜14及び比較
例(1)〜(8)の試料を塗布したのち、塗膜が未乾燥
であるうちに磁場配向処理を行い、続いて乾燥を施して
から、カレンダで表面平滑化処理を行い、厚み1.0μm
の非磁性粉末を含む層又は高透磁率物質を含む層と厚み
0.4μmの磁性層とからなる磁気記録層を形成した。
磁層塗料又は高透磁層塗料を夫々にニーダ、サンドミル
を用いて混練・分散し、得られた各塗料にそれぞれポリ
イソシアネート(コロネートL、日本ポリウレタン工業
(株)製)5部を添加した後、ウェット・オン・ウェッ
ト方式により厚み10μmのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に表1に示す組合せで実施例1〜14及び比較
例(1)〜(8)の試料を塗布したのち、塗膜が未乾燥
であるうちに磁場配向処理を行い、続いて乾燥を施して
から、カレンダで表面平滑化処理を行い、厚み1.0μm
の非磁性粉末を含む層又は高透磁率物質を含む層と厚み
0.4μmの磁性層とからなる磁気記録層を形成した。
【0128】:磁性層塗料処方: (塗料A) Fe-Al系強磁性金属粉末 100部 (Fe:Al重量比=100:8、平均長軸長;0.16μm、軸比8 Hc;1580 Oe、σS;120emu/g、結晶子サイズ;170Å) スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂 10部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン樹脂 〔東洋紡(株)製、UR−8700〕 5部 アルミナ(α−Al2O3、平均粒径;0.2μm) 6部 カーボンブラック〔平均粒径表1記載〕 0.8部 ステアリン酸 1部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部 (塗料B)塗料AにおけるFe−AL系強磁性金属粉末にか
えてCo置換バリウムフェライト(Hc:1100 Oe,BET 45m2/
g,σs;64emu/g,板状比;4)を用いた外は塗料Aと同じ。
えてCo置換バリウムフェライト(Hc:1100 Oe,BET 45m2/
g,σs;64emu/g,板状比;4)を用いた外は塗料Aと同じ。
【0129】(塗料C)塗料Aにおいてカーボンブラッ
クにかえてSnO2(平均粒径50nm)を0.8部用いた以外は
塗料Aと同様。
クにかえてSnO2(平均粒径50nm)を0.8部用いた以外は
塗料Aと同様。
【0130】:非磁層又は高透磁層の塗料処方: (塗料a;非磁層) 酸化チタン(粒径30nm) 100部 カーボンブラック〔表1記載〕 8部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂 6部 〔日本ゼオン(株)製、MR−110〕 スルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン樹脂 〔東洋紡(株)製、UR−8700〕 3部 α-Al2O3〔粒径0.2μm〕 6部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部 (塗料b)塗料aにおいてカーボンブラックにかえてSn
O2(平均粒径25nm)を用いた外は塗料aと同じ。
O2(平均粒径25nm)を用いた外は塗料aと同じ。
【0131】(塗料c;高透磁層)前記塗料aにおいて
酸化チタンに代えてFe-Si-Alセンダスト合金粉末〔Hc=
40(A/m)、μi=200(H/m)、粒径50nm〕100部を使用した
以外は塗料aと同様。
酸化チタンに代えてFe-Si-Alセンダスト合金粉末〔Hc=
40(A/m)、μi=200(H/m)、粒径50nm〕100部を使用した
以外は塗料aと同様。
【0132】更に、前記磁気記録層とは反対側の上記ポ
リエチレンフタレートフィルムの面(裏面)に下記の組
成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、後述する
カレンダ条件にしたがってカレンダ加工をすることによ
って、厚み0.8μmのバックコート層を形成し、広幅の原
反磁気テープを得た。
リエチレンフタレートフィルムの面(裏面)に下記の組
成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、後述する
カレンダ条件にしたがってカレンダ加工をすることによ
って、厚み0.8μmのバックコート層を形成し、広幅の原
反磁気テープを得た。
【0133】:バックコート層塗料処方: カーボンブラック 40部 (ラベン1035) 硫酸バリウム 10部 (平均粒径300mμ) ニトロセルロース 25部 ポリウレタン系樹脂 25部 (日本ポリウレタン(株)社製、N−2301) ポリイソシアネート化合物 10部 (日本ポリウレタン(株)社製、コロネートL) シクロヘキサノン 400部 メチルエチルケトン 250部 トルエン 250部 こうして得られた原反をスリットして8mmビデオ用テー
プを作成した。
プを作成した。
【0134】このビデオ用テープの電磁変換特性等を下
記の要領で測定した。その結果を表1に示す。
記の要領で測定した。その結果を表1に示す。
【0135】表1に用いた記号は次の諸元、特性を表
す。
す。
【0136】:諸元: (A)磁性層塗料 (B)非磁層又は高透磁層塗料 (C)磁性層に用いた導電性微粉末;粒径(nm)、量
(部) (D)非磁層又は高透磁層に用いた導電性微粉末;粒径
(nm)、量(部) (E)磁性装置/非磁層(高透磁層)の膜厚(μm) (F)表面粗さRz(10)(μm) :特性: (a)CN特性 (b)オーバーライト特性 (c)低温でのヘッドクロッグ (d)高温多湿下での貼付 尚比較例(8)は、実施例1において下層構成層を塗布
・乾燥、カレンダ処理後上層構成層を塗布(wet on dr
y)した以外は同様としたものである。
(部) (D)非磁層又は高透磁層に用いた導電性微粉末;粒径
(nm)、量(部) (E)磁性装置/非磁層(高透磁層)の膜厚(μm) (F)表面粗さRz(10)(μm) :特性: (a)CN特性 (b)オーバーライト特性 (c)低温でのヘッドクロッグ (d)高温多湿下での貼付 尚比較例(8)は、実施例1において下層構成層を塗布
・乾燥、カレンダ処理後上層構成層を塗布(wet on dr
y)した以外は同様としたものである。
【0137】
【表1】
【0138】:特性測定: (a)CN特性 9MHzの単一波を記録し、その信号を再生した際の出力
レベルを基準サンプルとの比較で表した。
レベルを基準サンプルとの比較で表した。
【0139】(b)重ね書き(オーバーライト)特性 2MHzの信号を飽和レベルで記録し、その後に9MHzの信
号を(上書き)記録した際の2MHzの信号の残留出力レ
ベルを測定した。残留出力レベルの低い程オーバーライ
ト特性は良好であるとする。
号を(上書き)記録した際の2MHzの信号の残留出力レ
ベルを測定した。残留出力レベルの低い程オーバーライ
ト特性は良好であるとする。
【0140】(c)低温でのヘッドクロッグ 0℃の環境下でS-550(ソニー社製)を用いて、テープ
を全長走行させ、RF出力の低下が2dB以上、1秒以上継
続して起った場合をヘッド目づまりとし、回数を数え
た。
を全長走行させ、RF出力の低下が2dB以上、1秒以上継
続して起った場合をヘッド目づまりとし、回数を数え
た。
【0141】(d)高温多湿下での貼付 40℃,80%RHの環境下で、S-550(ソニー社製)を用い
て、テープの全長走行を50パス行ない貼付で停止した走
行パス数を測定した。
て、テープの全長走行を50パス行ない貼付で停止した走
行パス数を測定した。
【0142】
【発明の効果】この発明により、電磁変換特性、デジタ
ル記録性、重ね書き特性の良好な磁気記録媒体を提供す
ることができる。
ル記録性、重ね書き特性の良好な磁気記録媒体を提供す
ることができる。
【図1】磁性層表面粗さRz(10)の説明図である。
【図2】押出し塗布方式によるウェット・オン・ウェッ
ト塗布による磁性層の同時重層塗布を説明するための図
である。
ト塗布による磁性層の同時重層塗布を説明するための図
である。
【図3】塗料を塗布するためのコータヘッドの図であ
る。
る。
1 支持体 32 供給ロール 33 配向用磁石 34 乾燥器 37 スーパカレンダ装置 38 カレンダロール 39 巻取ロール 41 コータ 42 コータ
Claims (3)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に、複数の構成層からな
る磁気記録層を形成し、その磁気記録層の構成層上層が
磁性層であり、磁性層に平均粒径45〜300nmの導電性微
粉末を含有し、かつ最上層磁性層の膜厚が0.8μm以下
であり、磁性層以外の少くとも1層に平均粒径5〜50nm
の導電性微粉末を含有し、更に磁性層以外の少くとも1
層に非磁性粉末又は高透磁率物質を含む磁気記録層を有
する磁気記録媒体。 - 【請求項2】 前記導電性微粉末がカーボンブラックで
ある請求項1に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 非磁性支持体上に複数の構成層を塗設す
る際に、湿潤状態にある下層構成層に上層構成層を塗設
して磁気記録層を形成する請求項1又は2に記載の磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4092948A JPH05290358A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4092948A JPH05290358A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05290358A true JPH05290358A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14068694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4092948A Pending JPH05290358A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05290358A (ja) |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP4092948A patent/JPH05290358A/ja active Pending
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