JPH0969223A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、短波長記録領域での再生出力が良好
で、繰り返し走行耐久性テストにおけるエッジ折れ防
止、出力低下抑制に優れ、ヘッドタッチ特性やスチル耐
久性が良好で、全長走行における出力低下が小さく、エ
ッジ折れの発生がなく、コントロール信号の出力の高い
磁気記録媒体を得ることを目的とする。 【解決手段】本発明は、支持体の磁性層形成面の中心線
平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下、最大粗さ（Ｒｔ）が１
００ｎｍ以下であり、支持体の磁性層形成面と反対側の
面のＲａが３〜１５ｎｍ、Ｒｔが３０〜１２０ｎｍであ
り、磁性層表面のＲａが２ｎｍ以下であり、磁性層の膜
厚が０．３μｍ以下であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体及びそ
の製造方法に関し、詳しくは例えば大容量フロッピーデ
ィスク、大容量データテープ、デジタルＶＴＲ用テープ
として好適に用いられる磁気記録媒体及びその製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大容量フロッピーディスクや大容
量データテープ用として薄層メタル重層媒体を用いた磁
気記録媒体の開発が盛んになってきた。特開平６−１９
５６８２号、同７−１２１８６１号においては、３層以
上の構成層で機能分担を図り、高周波数特性の向上、走
行耐久性、スチル耐久性を向上させる技術が提案されて
いる。しかしながら近年のパーソナルコンピュータの高
性能化は著しく、アプリケーションソフトもますます大
容量化しており、それに伴い記録メディアの大容量化も
進行している。特にデータバックアップ用としての記録
媒体の大容量化の達成は必須課題であるが、そのために
は前記の技術では課題達成のためには不十分であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、 １）短波長記録領域での再生出力が良好で、 ２）繰り返し走行耐久性テストにおけるエッジ折れ防
止、出力低下抑制に優れ、 ３）ヘッドタッチ特性やスチル耐久性が良好で、 ４）全長走行における出力低下が小さく、エッジ折れの
発生がなく、 ５）コントロール信号の出力の高い、 磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、 １．支持体の磁性層形成面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が
５ｎｍ以下、最大粗さ（Ｒｔ）が１００ｎｍ以下であ
り、支持体の磁性層形成面と反対側の面のＲａが３〜１
５ｎｍ、Ｒｔが３０〜１２０ｎｍであり、磁性層表面の
Ｒａが２ｎｍ以下であり、磁性層の膜厚が０．３μｍ以
下であることを特徴とする磁気記録媒体、

【０００５】２．支持体の長手方向のヤング率と幅手方
向のヤング率の和が１３００ｋｇ／ｍｍ^２以上であるこ
とを特徴とする前記１記載の磁気記録媒体、

【０００６】３．支持体の少なくとも一方の面に存在す
る突起の平均突起高さが０．０１〜０．２０μｍであ
り、前記支持体の前記面において、高さが０．０１μｍ
以上である突起の個数が測定長１ｍｍ当たり２００個以
上であり、高さが０．３０μｍ以上である突起の個数が
測定長４００ｍｍ当たり５００個以下であり、且つ最大
突起高さと平均突起高さとの比（最大突起高さ／平均突
起高さ）が５以下であることを特徴とする前記１記載の
磁気記録媒体、

【０００７】４．支持体上に磁性層を含む２層以上の構
成層を有し、最上層の磁性層の不燃成分（Ｘ_１ｗｔ％）
が７５≦Ｘ_１≦９０であり、最上層に下接する磁性層の
不燃成分（Ｘ_２ｗｔ％）が８０≦Ｘ_２≦９８であり、Ｘ
_１＜Ｘ_２且つ最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接す
る磁性層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下であることを
特徴とする磁気記録媒体、

【０００８】５．前記Ｘ_１、Ｘ_２がＸ_２−Ｘ_１≧３であ
ることを特徴とする前記４記載の磁気記録媒体、

【０００９】６．支持体上に磁性層を含む２層以上の構
成層を有し、最上層の磁性層の飽和磁束密度をＢｍ
_１（ガウス）とし、最上層に下接する磁性層の飽和磁束
密度をＢｍ_２（ガウス）とする時、４０００≦Ｂｍ_１≦
７０００、５０００≦Ｂｍ_２≦８０００であり、最上層
の磁性層と最上層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和が
０．３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１０】７．前記Ｂｍ_１、Ｂｍ_２がＢｍ_２−Ｂｍ_１
≧５００であることを特徴とする前記６記載の磁気記録
媒体、

【００１１】８．支持体上に磁性層を含む２層以上の構
成層を有し、最上層の磁性層のヤング率をＹ_１（ｋｇ／
ｍｍ^２）、最上層に下接する層のヤング率をＹ_２（ｋｇ
／ｍｍ^２）とする時、｜Ｙ_１−Ｙ_２｜≧５０であり、最
上層の磁性層と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が
０．３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１２】９．支持体上に磁性層を含む２層以上の構
成層を有し、最上層の磁性層に含まれるポリウレタンの
ガラス転移点（Ｔｇ）をＺ_１（℃）、最上層に下接する
層に含まれるポリウレタンのガラス転移点（Ｔｇ）をＺ
_２（℃）とする時、｜Ｚ_１−Ｚ_２｜≧２０であり、最上
層の磁性層と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．
３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１３】１０．支持体上に磁性層を含む２層以上の
構成層を有し、最上層の磁性層に含まれるモース硬度６
以上の非磁性粉末の数平均粒径が最上層の磁性層と最上
層に下接する層の乾燥膜厚の和より小さく、最上層の磁
性層と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ
以下であることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１４】１１．支持体上に磁性層を含む２層以上の
構成層を有し、最上層の磁性層に含まれるカーボンブラ
ックの数平均粒径が最上層の磁性層と最上層の磁性層に
下接する層の乾燥膜厚の和より小さく、最上層の磁性層
と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下
であることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１５】１２．最上層の磁性層に含まれるモース硬
度６以上の非磁性粉末を磁性粉１００重量部に対しＡ_１
（ｗｔ％）、最上層の磁性層に下接する磁性層に含まれ
るモース硬度６以上の非磁性粉末を磁性粉１００重量部
に対しＡ_２（ｗｔ％）とする時、０≦Ａ_２≦１／３Ａ_１
であることを特徴とする前記６又は１０記載の磁気記録
媒体、

【００１６】１３．最上層の磁性層に含まれるカーボン
ブラックを磁性粉１００重量部に対しＣ_１（ｗｔ％）、
最上層の磁性層に下接する磁性層に含まれるカーボンブ
ラックを磁性粉１００重量部に対しＣ_２（ｗｔ％）とす
る時、０≦Ｃ_２≦１／３Ｃ_１であることを特徴とする前
記６又は１１記載の磁気記録媒体、

【００１７】１４．支持体上に磁性層を含む２層以上の
構成層を有し、最上層の磁性層の保持力をＨｃ_１、最上
層の磁性層に下接する磁性層の保持力をＨｃ_２とする
時、２４００＜Ｈｃ_１≦３０００、１５００≦Ｈｃ_２≦
２６００、Ｈｃ_１−Ｈｃ_２≧１００であり、且つ最上層
の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁性層の乾燥膜厚
の和が０．２μｍ以下であることを特徴とする磁気記録
媒体、

【００１８】１５．支持体上に磁性層を含む２層以上の
構成層を有し、最上層の磁性層に六方晶フェライト粉末
が含まれ、最上層の磁性層に下接する磁性層に強磁性金
属粉末が含まれ、且つ最上層の磁性層と最上層の磁性層
に下接する磁性層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下であ
ることを特徴とする磁気記録媒体、

【００１９】１６．支持体上に磁性層を含む２層以上の
構成層を有し、最上層の磁性層表面のＲａが２ｎｍ以下
であり、且つ最上層の磁性層の角型比が０．８７以上で
あり、最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁性
層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下であることを特徴と
する磁気記録媒体、

【００２０】１７．最上層の磁性層の残留磁束密度（Ｂ
ｒ）が４０００ガウス以上であることを特徴とする前記
１６記載の磁気記録媒体、

【００２１】１８．最上層の磁性層、最上層に下接する
磁性層の他にさらに非磁性層または高透磁率層を設けて
なることを特徴とする前記４〜１７の何れかに記載の磁
気記録媒体、

【００２２】１９．前記非磁性層が複数の構成層よりな
り、複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ_１、Ｌ_２と
する時、Ｌ_１に含まれるフィラーの結晶子サイズをＬｘ
_１（ｎｍ）、Ｌ_２に含まれるフィラーの結晶子サイズを
Ｌｘ_２（ｎｍ）とする時、Ｌｘ_１＞Ｌｘ_２であることを
特徴とする前記１８記載の磁気記録媒体、

【００２３】２０．前記非磁性層が複数の構成層よりな
り、複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ_１、Ｌ_２と
する時、Ｌ_１のヤング率をＹ_１（ｋｇ／ｍｍ^２）、Ｌ_２
のヤング率をＹ_２（ｋｇ／ｍｍ^２）とする時、Ｙ_１＞Ｙ
_２であることを特徴とする前記１８記載の磁気記録媒
体、

【００２４】２１．支持体上に複数の構成層及び磁性層
を設けてなり、複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ
_２、Ｌ_１とする時、Ｌ_１の全固形分中に占めるバインダ
ーの比率をＢ_１（ｗｔ％）とする時、Ｂ_１が５０≦Ｂ_１
≦１００であり、Ｌ_１が磁性層に下接する層であること
を特徴とする磁気記録媒体、

【００２５】２２．前記Ｌ_２の全固形分中に占めるバイ
ンダーの比率をＢ_２（ｗｔ％）が、５≦Ｂ_２≦３０であ
ることを特徴とする前記２１記載の磁気記録媒体、

【００２６】２３．最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．２
μｍ以下であることを特徴とする前記２１記載の磁気記
録媒体、

【００２７】２４．支持体上に磁性層を含む３層以上の
構成層を設けてなり、最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．
１５μｍ以下、媒体の総厚が７．５μｍ以下であり、且
つ最上層の磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長軸長が
０．０６μｍ以下であり、最上層の磁性層に下接する非
磁性層と支持体の間に磁性層を設けてなることを特徴と
する磁気記録媒体、

【００２８】２５．支持体上に磁性層を含む複数層を設
けてなり、最上層の磁性層（第１磁性層）の乾燥膜厚が
０．１μｍ以下であり、最上層の磁性層に下接する非磁
性層または高透磁率層（第１非磁性層または第１高透磁
率層）の乾燥膜厚が０．０１〜０．１μｍであり、第１
非磁性層または第１高透磁率層に下接する磁性層（第２
磁性層）の乾燥膜厚が０．１μｍ以下であり、第１磁性
層、第１非磁性層または第１高透磁率層、第２磁性層の
３層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下であり、第２磁性
層と支持体の間に第２非磁性層または第２高透磁率層を
設けてなることを特徴とする磁気記録媒体、

【００２９】２６．支持体上に磁性層を含む３層以上の
構成層を設けてなり、最上層の磁性層及び最上層の磁性
層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下で
あり、最上層に下接する磁性層が湿潤状態にあるうちに
最上層の磁性層が設けられ、最上層の磁性層及び最上層
の磁性層に下接する磁性層に同一の強磁性粉末が含まれ
てなることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、

【００３０】２７．最上層の磁性層の角型比が０．８７
以上であることを特徴とする前記２６記載の磁気記録媒
体の製造方法、

【００３１】２８．最上層の磁性層及び最上層に下接す
る磁性層が同一の磁性塗料よりなることを特徴とする前
記２６記載の磁気記録媒体の製造方法、

【００３２】２９．支持体上に磁性層を含む複数層を設
けてなり、最上層の磁性層に含まれる強磁性粉末の平均
長軸長（Ｌａ）が０．０１〜０．０７μｍであり、最上
層の磁性層以外の少なくとも一層の非磁性層に含まれる
非磁性粉末の平均長軸長（Ｌｂ）との間にＬａ≦Ｌｂの
関係があり、且つ該非磁性粉末の針状比が２〜２０であ
り、最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．３μｍ以下である
ことを特徴とする磁気記録媒体、

【００３３】３０．前記Ｌａ（μｍ）及びＬｂ（μｍ）
の間にＬｂ−Ｌａ≧０．０１なる関係が成立しているこ
とを特徴とする前記２９記載の磁気記録媒体、の各々に
より達成される。

【００３４】

【発明の実施の形態】請求項１〜３の構成によって、短
波長記録領域での高い再生出力と同時に繰り返し走行耐
久性におけるエッジ折れ、出力低下抑制に優れた媒体を
得ることができる。ここで支持体の磁性層形成面のＲａ
は好ましくは０．５〜４ｎｍ、さらに好ましくは１〜３
ｎｍであり、Ｒｔは好ましくは３０〜８０ｎｍ、さらに
好ましくは４０〜７０ｎｍである。支持体の磁性層形成
面と反対側の面のＲａが好ましくは４〜１２ｎｍ、さら
に好ましくは４〜１０ｎｍ、Ｒｔは好ましくは４０〜１
００ｎｍ、さらに好ましくは５０〜９０ｎｍである。磁
性層表面のＲａは好ましくは０．５〜１．５ｎｍであ
り、さらに好ましくは０．５〜１．０ｎｍである。磁性
層の乾燥膜厚（乾燥膜厚とはカレンダ後の媒体の最終膜
厚のことをさす）は好ましくは０．０２〜０．２μｍで
あり、さらに好ましくは０．０４〜０．１５μｍであ
る。磁性層は複数の磁性層から成ることが好ましく、磁
性層と支持体の間には非磁性層を設けることがより好ま
しい。また支持体の長手方向のヤング率と幅手方向のヤ
ング率の和は１４００ｋｇ／ｍｍ^２以上であるのが好ま
しく、１６００ｋｇ／ｍｍ^２〜４０００ｋｇ／ｍｍ^２で
あるのがより好ましい。

【００３５】請求項４〜７の構成によって、短波長記録
領域での高い再生出力と同時に低温での全長走行におけ
るヘッドクロッグの発生のない、且つ粉落ちの少ない優
れた媒体を得ることができる。短波長記録領域での高い
出力を得るためには、磁性層の薄膜化、磁束密度の向上
が有効である。磁性層の不燃成分の割合を高くすること
は、磁束密度の向上に有効だが、一方でヘッドクロッグ
の発生という問題も起こってしまう。そこで本発明者
は、薄層の複数の磁性層を設け、各々の磁性層の不燃成
分の割合又は各々の磁性層の飽和磁束密度を独立に調整
することで上記の問題を同時に解決した。ここでＸ_１は
好ましくは８０≦Ｘ_１≦９０であり、さらに好ましくは
８２≦Ｘ_１≦８８である。Ｘ_２は好ましくは８３≦Ｘ_２
≦９７であり、さらに好ましくは８５≦Ｘ_２≦９５であ
る。またＸ_１、Ｘ_２は好ましくはＸ_２−Ｘ_１≧５、さら
にＸ_２−Ｘ_１≧７であるのがよい。最上層の磁性層と最
上層の磁性層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和は好まし
くは０．０５〜０．２μｍであり、さらに好ましくは
０．０５〜０．１５μｍである。またＢｍ_１は好ましく
は４２００〜６８００、より好ましくは４５００〜６５
００であり、Ｂｍ_２は好ましくは５５００〜７５００で
あり、より好ましくは６０００〜７０００である。Ｂｍ
_１、Ｂｍ_２は好ましくはＢｍ_２−Ｂｍ_１≧７５０であ
り、より好ましくはＢｍ_２−Ｂｍ_１≧１０００である。
最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁性層の乾
燥膜厚の和は好ましくは０．０５〜０．２μｍであり、
さらに好ましくは０．０５〜０．１５μｍである。

【００３６】請求項８及び９の構成によって、短波長記
録領域での高い再生出力と同時に、ヘッドタッチ特性、
スチル耐久性に優れた媒体を得ることができる。請求項
８において、Ｙ_１は好ましくは７００〜１５００、さら
に好ましくは８００〜１２００である。またＹ_２は好ま
しくは４００〜９００、さらに好ましくは５００〜８０
０である。｜Ｙ_１−Ｙ_２｜≧１００であるのが好まし
く、｜Ｙ_１−Ｙ_２｜≧１５０であるのがさらに好まし
い。またＹ_１＞Ｙ_２であるのが高い再生出力を得る点で
より好ましい。請求項９において、Ｚ_１は好ましくは０
〜１００、より好ましくは２０〜８０であり、Ｚ_２は−
４０〜５０、より好ましくは−３０〜４０である。また
｜Ｚ_１−Ｚ_２｜≧３０であるのが好ましく、｜Ｚ_１−Ｚ
_２｜≧４０であるのがより好ましい。またＺ_１＞Ｚ_２で
あるのが高い再生出力を得る点でより好ましい。請求項
８及び９の何れにおいても最上層の磁性層と最上層の磁
性層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和は好ましくは０．
０５〜０．２μｍであり、さらに好ましくは０．０５〜
０．１５μｍである。

【００３７】請求項１０において、最上層の磁性層に含
まれる非磁性粉末のモース硬度は８以上が好ましく、最
上層の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁性層の乾燥
膜厚の和は、好ましくは０．０５〜０．２μｍであり、
さらに好ましくは０．０５〜０．１５μｍである。モー
ス硬度８以上の非磁性粉末としてはα−アルミナや酸化
クロム（Ｃｒ_２Ｏ_３）が好ましく、特にα−アルミナが
好ましい。請求項１１において、最上層の磁性層と最上
層の磁性層に下接する磁性層の和は、好ましくは０．０
５〜０．２μｍであり、さらに好ましくは０．０５〜
０．１５μｍである。請求項１２において、Ａ_１、Ａ_２
は好ましくは０≦Ａ_２≦１／５Ａ_１である。請求項１３
において、Ｃ_１、Ｃ_２は好ましくは０≦Ｃ_２≦１／５Ｃ
_１である。請求項１０〜１３の構成によって、特に短波
長記録領域での再生出力を向上させることができると同
時に高温高湿（４０℃、８０％ＲＨ）下での全長走行に
おける出力低下、エッジ折れの発生を防止することがで
きる。

【００３８】請求項１４〜１８の構成によって、特に短
波長記録領域での再生出力を向上させることができる。
請求項１４において、Ｈｃ_１は好ましくは２４５０≦Ｈ
ｃ_１≦２８００であり、より好ましくは２５００≦Ｈｃ
_１≦２７５０である。Ｈｃ_２は好ましくは１７００≦Ｈ
ｃ_２≦２４００であり、より好ましくは１８００≦Ｈｃ
_１≦２２００である。またＨｃ_１−Ｈｃ_２≧１５０であ
るのが好ましく、Ｈｃ_１−Ｈｃ_２≧２００であるとさら
に好ましい。最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接す
る磁性層の乾燥膜厚の和は０．０５〜０．２μｍである
のが好ましく、０．０５〜０．１５μｍであるのがより
好ましい。請求項１５において、最上層の磁性層と最上
層の磁性層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和は０．０５
〜０．２μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．１５
μｍであるのがより好ましい。請求項１５において、最
上層の磁性層のＢｒは４５００ガウス以上であるのが好
ましく、５０００ガウス以上であるのがより好ましい。
請求項１６において、最上層の磁性層のＲａは好ましく
は０．０５〜２ｎｍであり、０．０５〜１．５ｎｍであ
るのがより好ましい。また最上層の磁性層の角型比は
０．８８以上であるのが好ましく、０．８９以上である
とさらに好ましい。

【００３９】請求項１９及び２０の構成によって、短波
長記録領域での再生出力に加えて、ヘッドタッチ特性、
スチル耐久性を向上させることができる。請求項１９に
おいてＬｘ_１は好ましくは１０≦Ｌｘ_１≦１００、より
好ましくは１５≦Ｌｘ_１≦８０である。またＬｘ_２は好
ましくは５≦Ｌｘ_２≦６０、より好ましくは１０≦Ｌｘ
_２≦４０である。Ｌｘ_１、Ｌｘ_２はＬｘ_１−Ｌｘ_２≧５
であるのが好ましく、Ｌｘ_１−Ｌｘ_２≧１０であるのが
より好ましい。請求項２０において、Ｙ_１は６００≦Ｙ
_１≦１２００であるのが好ましく、７００≦Ｙ_１≦１０
００であるのがより好ましい。Ｙ_２は４００≦Ｙ_２≦１
０００であるのが好ましく、５００≦Ｙ_２≦８００であ
るのがより好ましい。Ｙ_１、Ｙ_２はＹ_１−Ｙ_２≧５０で
あるのが好ましく、Ｙ_１−Ｙ_２≧１００であるのがより
好ましい。

【００４０】請求項２１〜２３の構成によって、特に短
波長記録領域での再生出力を向上させることができる。
Ｂ_１は９２≦Ｂ_１≦９９であるのが好ましく、９５≦Ｂ
_１≦９８であるのがより好ましい。またＢ_２は７≦Ｂ_２
≦２５であるのが好ましく、１０≦Ｂ_２≦２０であるの
がより好ましい。ここで硬化剤についてはバインダーの
中に含めて考えることとする。最上層の磁性層の乾燥膜
厚は０．０５〜０．２μｍであるのが好ましく、０．０
５〜０．１５μｍであるのがより好ましい。

【００４１】請求項２４の構成によって、短波長記録領
域での再生出力に加えて、コントロール信号の出力も向
上させることができる。最上層の磁性層の乾燥膜厚は
０．０５〜０．１５μｍであるのが好ましく、０．０５
〜０．１３μｍであるのがより好ましい。最上層の磁性
層に含まれる磁性粉末の平均長軸長は０．０１〜０．０
６μｍであるのが好ましく、０．０２〜０．０５μｍで
あるのがより好ましい。最上層の磁性層に下接する非磁
性層の乾燥膜厚は０．０２〜０．５μｍであるのが好ま
しく、０．０５〜０．３μｍであるのがより好ましい。
最上層の磁性層に下接する非磁性層と支持体の間に設け
られる磁性層の膜厚は０．１〜２μｍであるのが好まし
く、０．２〜１．５μｍであるのがより好ましい。

【００４２】請求項２５の構成によって、短波長記録領
域での大幅な再生出力向上に加えて、オーバーライト特
性、コントロール信号の出力も向上させることができ
る。ここで最上層の磁性層（第１磁性層）の乾燥膜厚は
０．０２〜０．０８μｍであるのが好ましく、さらに好
ましくは０．０３〜０．０７μｍであるのがよい。最上
層の磁性層に下接する非磁性層または高透磁率層（第１
非磁性層または第１高透磁率層）の乾燥膜厚は０．０２
〜０．０８μｍであるのが好ましく、さらに好ましくは
０．０３〜０．０６μｍであるのがよい。第１非磁性層
または第１高透磁率層に下接する磁性層（第２磁性層）
の乾燥膜厚は０．０２〜０．０８μｍであるのが好まし
く、さらに好ましくは０．０３〜０．０６μｍであるの
がよい。第１磁性層、第１非磁性層または第１高透磁率
層、第２磁性層の３層の乾燥膜厚の和は０．１〜０．１
７μｍであるのが好ましく、０．１〜０．１５μｍであ
るのがより好ましい。第２磁性層と支持体の間に設けら
れる第２非磁性層または第２高透磁率層の乾燥膜厚は
０．５〜２．０μｍであるのが好ましく、０．５〜１．
５μｍであるのがより好ましい。第１磁性層は複数の磁
性層から構成されることが好ましく、特に六方晶フェラ
イト粉末を含む上層、強磁性金属粉末を含む下層からな
ることが好ましい。

【００４３】請求項２６〜２８の構成によって、短波長
記録領域での再生出力を向上させることができ、さらに
磁気特性（特に磁性層の角型比）を向上させることがで
きる。最上層の磁性層及び最上層の磁性層に下接する磁
性層の乾燥膜厚の和は０．０５〜０．２μｍであるのが
好ましく、０．０５〜０．１５μｍであるのがより好ま
しい。また最上層の磁性層の角型比は０．８７以上であ
るのが好ましく、０．８９以上であるのがより好まし
い。

【００４４】請求項２９及び３０の構成によって、短波
長記録領域での再生出力の向上に加えて、低湿（２０％
ＲＨ）下での全長走行における出力低下、エッジ折れの
発生を防止することができる。ここでＬａは０．０２〜
０．０６μｍであるのが好ましく、０．０２〜０．０５
μｍであるのがより好ましい。またＬｂ−Ｌａ≧０．０
１（μｍ）であるのが好ましく、Ｌｂ−Ｌａ≧０．０２
（μｍ）であるのがより好ましい。非磁性粉末の針状比
は３〜１０であるのが好ましく、より好ましくは３〜６
である。最上層の磁性層の乾燥膜厚は０．０５〜０．０
２μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．１５μｍで
あるのがさらに好ましい。

【００４５】以下、本発明を更に詳述する。 （層構成）本発明の磁気記録媒体は、基本的に、非磁性
支持体上に、非磁性層と磁性層とを形成してなることが
好ましい。なお、非磁性支持体上の上記磁性層が設けら
れていない面（裏面）には、磁気記録媒体の走行性、耐
久性の向上、帯電防止および転写防止などを目的とし
て、バックコート層を設けたり、筆記層や印字記録層を
設けたり、偽造防止層を設けることが好ましく、また非
磁性層と非磁性支持体との間には、下引き層を設けるこ
ともできる。また、最上層の磁性層上に、必要に応じ
て、オーバーコート層を設けることもできる。

【００４６】（非磁性支持体）前記非磁性支持体を形成
する材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２、６−ナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネート等のプ
ラスチックなどを挙げることができる。

【００４７】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。

【００４８】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常３〜１
００μｍ、好ましくは５〜５０μｍであり、ディスクや
カード状の場合は３０μｍ〜１０ｍｍ程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。

【００４９】尚、この非磁性支持体は単独構造のもので
あっても多層構造のものであってもよい。また、この非
磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよいし、下引き処理を施された
ものであってもよい。なお又、非磁性支持体上の上記磁
性層が設けられていない面（表面）には、磁気記録媒体
の走行性の向上、帯電防止および転写防止などを目的と
して、バックコート層を設けたり、筆記用層や印字記録
層を設けるのが好ましい。

【００５０】（磁性層）本発明においては、磁性層は、
基本的には磁性粉をバインダー樹脂中に分散せしめてな
る。この磁性層には、公知の磁性粉末を用いることがで
きるが、特に強磁性金属粉末や六方晶系磁性粉を含有す
ることが好ましい。

【００５１】六方晶系の磁性粉としては、たとえば、六
方晶系フェライトを挙げることができる。このような六
方晶系フェライトは、バリウムフェライト、ストロンチ
ウムフェライト等からなり、鉄元素の一部が他の元素
（たとえば、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈ
ｂ等）で置換されていても良い。このフェライト磁性体
については、ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ，ｏｎ ＭＡＧ−１
８ １６（１９８２）に詳しく述べられている。

【００５２】本発明において、特に好ましい六方晶系の
磁性粉としては、バリウムフェライト（以下Ｂａ−フェ
ライトと記す）磁性粉を挙げることができる。本発明で
用いることのできる好ましいＢａ−フェライト磁性粉
は、Ｂａ−フェライト粉の、Ｆｅの一部が少なくともＣ
ｏおよびＺｎで置換された平均粒径（六方晶系フェライ
トの板面の対角線の高さ）４００〜９００Å、板状比
（六方晶系フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除
した値）２．０〜１０．０、より好ましくは２．０〜
６．０、保磁力（Ｈｃ）４５０〜１５００ ＯｅのＢａ
−フェライトである。

【００５３】Ｂａ−フェライト粉は、ＦｅをＣｏで一部
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにＺｎで一部置換することにより、Ｃｏ置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにＦｅの一部をＮｂで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、この発明
に用いられるＢａ−フェライトは、さらにＦｅの一部が
Ｔｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置
換されていても差支えない。

【００５４】なお、本発明に使用するＢａ−フェライト
は次の一般式で表される。 ＢａＯｎ（（Ｆｅ_１−ｍＭ_ｍ）_２Ｏ_３） ［ただし、ｍ＞０．３６（ただし、Ｃｏ＋Ｚｎ＝０．０
８〜０．３、Ｃｏ／Ｚｎ＝０．５〜１０）であり、ｎは
５．４〜１１．０であり、好ましくは５．４〜６．０で
あり、Ｍは置換金属を表し、平均価数が３となる２種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。］

【００５５】本発明において、Ｂａ−フェライトの平均
粒径、板状比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好
ましい理由は、次の通りである。すなわち、平均粒径
０．０４μｍ未満の場合は、磁気記録媒体としたときの
再生出力が不十分となり、逆に０．１μｍを超えると、
磁気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、
ノイズレベルが高くなりすぎることがあり、また、板状
比が２．０未満では、磁気記録媒体としたときに高密度
記録に適した垂直配向率が得られず、逆に板状比が６．
０を越えると磁気記録媒体としたときの表面平滑性が著
しく悪化し、ノイズレベルが高くなりすぎ、さらに、保
磁力が３５０ Ｏｅ未満の場合には、記録信号の保持が
困難になり、２０００ Ｏｅを越えると、ヘッド限界が
飽和減少を起こし記録が困難になることがあるからであ
る。

【００５６】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉は、
磁気特性である飽和磁化量（σｓ）が通常、５０ｅｍｕ
／ｇ以上であることが望ましい。この飽和磁化量が５０
ｅｍｕ／ｇ未満であると、電磁変換特性が劣化すること
がある。

【００５７】本発明に用いられるＢａ−フェライトの好
ましい一具体例としては、Ｃｏ−置換Ｂａフェライトを
挙げることができる。さらに本発明においては、記録の
高密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積が３０ｍ^２
／ｇ以上のＢａ−フェライト磁性粉を用いることが望ま
しい。

【００５８】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉を製
造する方法としては、たとえば目的とするＢａ−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００５９】なお、本発明においては、強磁性金属粉末
と六方晶系の磁性粉とを混合して使用することもでき
る。この磁性層中の強磁性金属粉末および／または六方
晶系の磁性粉の含有量は通常、５０〜９９重量％であ
り、好ましくは６０〜９９重量％である。

【００６０】磁気記録媒体としたときの再生出力を十分
とするには前記Ｂａ−フェライトの平均粒径が３００Å
以上であるのが好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイ
ズレベルを低くするには９００Å以下であるのが好まし
い。また板状比を２．０以上とすることで、磁気記録媒
体としたときの高密度記録に適した垂直配向率が得ら
れ、表面平滑性を向上させ、ノイズレベルを低くするた
めには、板状比が１０．０以下であるのが好ましい。さ
らに記録信号の保持のためには保磁力が４５０Ｏｅ以上
が好ましく、ヘッドが飽和してしまうのを防ぐには１５
００ Ｏｅ以下が好ましい。

【００６１】磁性層に用いられる強磁性金属粉末として
は、Ｆｅ、Ｃｏをはじめ、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍ
ｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐ系、Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成
分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。中で
も、Ｆｅ系金属粉が電気的特性に優れる。

【００６２】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａ
ｌ−Ｍｎ系などのＦｅ−Ａｌ系金属粉が好ましい。

【００６３】特に、本発明の目的に好ましい強磁性金属
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Ａｌまた
は、ＡｌおよびＣａを、Ａｌについては重量比でＦｅ：
Ａｌ＝１００：０．５〜１００：２０、Ｃａについては
重量比でＦｅ：Ｃａ＝１００：０．１〜１００：１０の
範囲で含有するのが望ましい。

【００６４】Ｆｅ：Ａｌの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またＦｅ：Ｃａの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。

【００６５】本発明に用いられる好適な強磁性金属粉末
は、透過型電子顕微鏡により観察されるその平均長軸長
が０．２５μｍ未満、特に０．０１〜０．０７μｍ、よ
り好ましくは０．０２〜０．０６μｍでかつＸ線粒径
（結晶子サイズ）が２００Å未満、特に５０〜１８０Å
であることが好ましい。また軸比（平均長軸長／平均短
軸長）が１２以下、好ましくは１０以下、さらに好まし
くは３〜９であるのが良い。強磁性金属粉末の平均長軸
長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内にあるとさらに
高域特性、特に垂直記録成分の出力を高めることができ
る。また強磁性金属粉末の形状は紡錘状であることが好
ましい。

【００６６】なお本発明で用いられる磁性粉、非磁性粉
の平均長軸長（針状粒子の場合）や数平均粒径（球状粒
子の場合）は、透過型電子顕微鏡写真により強磁性粉末
または非磁性粉末の５００個の長軸長または直径（球状
粒子の場合）を測定した平均値である。また結晶子サイ
ズは、Ｘ線回折装置によりＦｅの（１１０）回折線の積
分幅を用いて、Ｓｉ粉末を基準としたシェラー法で測定
した。求め方については、Ｘ線回折の手引き（理学電気
株式会社）に記載の方法により、二重線による拡がりの
補正については、７７ページに記載のＡ：Ｊｏｎｅｓに
よる補正（積分幅）により求めた。また軸比は電子顕微
鏡写真で５００個の粒子の平均長軸長と平均短軸長を計
測し、（平均長軸長／平均短軸長）として求めた。

【００６７】また、本発明に用いられる強磁性金属粉末
は、その保磁力（Ｈｃ）が通常６００〜５，０００ Ｏ
ｅの範囲にあることが好ましい。この保磁力が６００
Ｏｅ未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
り、また保磁力が５，０００Ｏｅを超えると、通常のヘ
ッドでは記録不能になることがあるので好ましくない。

【００６８】また、上記強磁性粉末は、磁気特性である
飽和磁化量（σｓ）が通常、１２０ｅｍｕ／ｇ以上であ
ることが好ましく、特に１３０〜１７０ｅｍｕ／ｇであ
ることが好ましい。さらに本発明においては、記録の高
密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積で３０ｍ^２／
ｇ以上、特に４５ｍ^２／ｇ以上の強磁性金属粉末が好ま
しく用いられる。

【００６９】比表面積ならびにその測定方法について
は、「粉体の測定」（Ｊ．Ｍ．Ｄａｌｌａｖｅｌｌｅ，
Ｃｌｙｅｏｒｒ Ｊｒ．共著、牟田その他訳：産業図書
社刊）に詳述されており、また「化学便覧」応用編Ｐ１
１７０〜１１７１（日本化学会編：丸善（株）昭和４１
年４月３０日発行）にも記載されている。比表面積の測
定は、たとえば粉末を１０５℃前後で１３分間加熱処理
しながら脱気して粉末に吸着されているもの除去し、そ
の後、この粉末を測定装置に導入して窒素の初期圧力を
０．５ｋｇ／ｍ^２に設定し、窒素により液体窒素温度
（−１０５℃）で１０分間測定を行なう。測定装置は例
えばカウンターソープ（湯浅アイオニクス（株）製）を
使用する。

【００７０】前記強磁性金属粉末は、その構成元素とし
てＦｅ、Ａｌ、および希土類元素を含有することが好ま
しい。希土類元素としてはＳｍとＮｄとＹとＰｒとＬａ
からなる群より選択される１種以上の希土類元素を含有
することが好ましい。

【００７１】本発明における強磁性金属粉末は、その全
体組成におけるＦｅ、Ａｌ及び、ＳｍとＮｄとＹとＰｒ
とＬａからなる群より選択される１種以上の希土類元素
の存在比率が、Ｆｅ原子１００重量部に対して、Ａｌ原
子は１〜２０重量部であり、（好ましくはＳｍとＮｄと
ＹとＰｒとＬａとからなる群より選択される１種以上
の）希土類元素は１〜１６重量部である。また、その表
面におけるＦｅ、Ａｌ（好ましくはＳｍとＮｄとＹとＰ
ｒとＬａからなる群より選択される１種以上の）希土類
元素の存在比率が、Ｆｅ原子数１００に対して、Ａｌ原
子数は７０〜３００であり、希土類元素の原子数は０．
５〜１００であるのが好ましい。

【００７２】また、より好ましくは、強磁性金属粉末
が、その構成元素として更にＮａ及びＣａを含有し、該
強磁性金属粉末全体における元素の重量比が、Ｆｅ原子
１００重量部に対して、Ｎａ原子は０．１重量部未満で
あり、Ｃａ原子は０．１〜２重量部であり、Ａｌ原子は
２〜１０重量部であり、希土類元素は１〜８重量部であ
り、かつ、該強磁性金属粉末の表面を形成する元素の平
均存在比率は、Ｆｅ原子数１００に対して、Ｎａ原子数
は２〜３０であり、Ｃａ原子数は５〜３０であり、Ａｌ
原子数は７０〜２００であり、希土類元素の原子数は
０．５〜３０である。

【００７３】更に好ましくは、強磁性金属粉末が、その
構成元素として更にＣｏ、ＮｉおよびＳｉの中の少なく
とも一種を含有し、強磁性金属粉末全体における元素の
重量比が、Ｆｅ原子１００重量部に対して、Ｃｏ原子が
２〜４０重量部であり、Ｎｉ原子が２〜２０重量部であ
り、Ｓｉ原子が０．３〜５重量部であり、Ｎａ原子が
０．１重量部未満であり、Ｃａ原子が０．１〜２重量部
であり、Ａｌ原子が１〜２０重量部であり、希土類元素
の原子が１〜１６重量部であり、かつ該強磁性金属粉末
の表面を形成する元素の平均存在比率が、Ｆｅ原子数１
００に対して、Ｃｏ原子数が０．５〜１００であり、Ｎ
ｉ原子数が０．１未満であり、Ｓｉ原子数が２０〜１３
０であり、Ｎａ原子数が２〜３０であり、Ｃａ原子数が
５〜３０であり、Ａｌ原子数が７０〜３００であり、希
土類元素の原子数は０．５〜１００である。

【００７４】（非磁性層）本発明における下層の非磁性
層には結晶子サイズが１０〜１００ｎｍでかつモース硬
度が５以上の非磁性粉末Ａを使用することが好ましい。
非磁性粉末Ａとしては、この種磁気記録媒体に使用され
る公知の各種の非磁性粉末から、適宜に選択して使用す
ることが好ましい。非磁性粉末Ａの結晶子サイズは好ま
しくは１５〜８０ｎｍであり、より好ましくは２０〜６
０ｎｍである。この非磁性粉末Ａとしては、例えば、酸
化チタン、窒化ホウ素、ＳｎＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ
_３、α−Ａｌ_２Ｏ_３、α−Ｆｅ_２Ｏ_３、α−ＦｅＯＯ
Ｈ、ＳｉＣ、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモ
ンド、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒化ケイ素、窒
化ホウ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。

【００７５】これらの中でも好ましいのは、酸化チタ
ン、硫酸バリウム、α−Ａｌ_２Ｏ_３、α−Ｆｅ_２Ｏ_３、
α−ＦｅＯＯＨ、Ｃｒ_２Ｏ_３等の無機粉末等であり、そ
の中でもα−Ｆｅ_２Ｏ_３、α−ＦｅＯＯＨが好ましく、
特に好ましいのはα−Ｆｅ_２Ｏ_３である。本発明におい
ては、粉末の形状が針状である非磁性粉末を好適に使用
することができる。前記針状の非磁性粉末を用いると、
非磁性層の表面の平滑性を向上させることができ、その
上に積層される磁性層からなる最上層における表面の平
滑性も向上させることができる。

【００７６】なお、ここでいう非磁性層とは、完全に非
磁性である層（飽和磁束密度Ｂｍが０）のほかに実質的
に非磁性である層（わずかに磁性をおびた層のことで、
Ｂｍが０．０１〜１００ガウス）も含まれるものとす
る。特に下層のフィラーとして針状のα−Ｆｅ_２Ｏ_３を
用いる場合は、層のＢｍが通常０．０１〜１００ガウス
程度となるが、この場合も、本発明でいうところの非磁
性層とよぶこととする。

【００７７】非磁性層の厚みとしては、通常０．２〜
２．５μｍであり、好ましくは０．５〜２．０μｍであ
る。前記厚みが２．５μｍ以下であると、重層後の上層
表面の表面粗さが上昇する、いわゆる重層面粗れが発生
しにくく、好ましい電磁変換特性が得られ、一方、０．
２μｍ以上であると、カレンダ時に高い平滑性を得るこ
とができ、電磁変換特性が良好となる。

【００７８】非磁性粉末の形状、軸比をコントロールす
るには、出発物質となる原体の選択や、酸化還元条件の
選択、焼結防止剤の選択等、公知の方法を組み合わせる
ことで行うことができる。

【００７９】本発明の下層に用いる前記針状の非磁性粉
末の長軸径、又は針状でない非磁性粉末の数平均粒径は
１０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下であるのが好ましく、特
に好ましくは２００ｎｍ以下である。前記針状の非磁性
粉末の短軸径としては、通常１０ｎｍ以上、１００ｎｍ
以下であり、好ましくは８０ｎｍ以下であり、特に好ま
しくは６０ｎｍ以下である。

【００８０】前記針状の非磁性粉の軸比としては、通常
２〜２０であり、好ましくは５〜１５であり、特に好ま
しくは５〜１０である。ここでいう軸比とは、短軸径に
対する長軸径の比（長軸径／短軸径）のことをいう。前
記非磁性粉末の比表面積としては、通常１０〜２５０ｍ
^２／ｇであり、好ましくは２０〜１５０ｍ^２／ｇであ
り、特に好ましくは３０〜１００ｍ^２／ｇである。前記
範囲の長軸径、短軸径、軸比及び比表面積を有する非磁
性粉末を使用すると、非磁性層の表面性を良好にするこ
とができると共に、磁性層である最上層の表面性も良好
な状態にすることができる点で好ましい。

【００８１】本発明において、前記非性粉末が、Ｓｉ化
合物及び／又はＡｌ化合物により表面処理されているこ
とが好ましい。かかる表面処理のなされた非磁性粉末を
用いると磁性層である最上層の表面状態を良好にするこ
とができる。前記Ｓｉ及び／又はＡｌの含有量として
は、前記非磁性粉末に対して、Ｓｉが０．１〜１０重量
％、Ａｌが０．１〜１０重量％であるのが好ましく、よ
り好ましくはＳｉが０．１〜５重量％、Ａｌが０．１〜
５重量％であり、特にＳｉが０．１〜２重量％、Ａｌが
０．１〜２重量％であるのがよい。又、非磁性粉末の場
合は、Ｓｉ、Ａｌの重量比がＳｉ／Ａｌ≧３であるのが
よい。表面処理に関しては特開平２−８３２１９号に記
載された方法により行うことができる。

【００８２】前記非磁性粉末の下層中における含有量と
しては、下層を構成する全成分の合計に対して、通常５
０〜９９重量％であり、好ましくは６０〜９５重量％で
あり、特に好ましくは７０〜９５重量％である。非磁性
粉末の含有量が前記範囲内にあると、磁性層である最上
層及び下層の表面状態を良好にすることができる。

【００８３】（高透磁率材料を含有する層）高透磁率材
料を含有する層は、高透磁率材料を含有する。また必要
に応じてバインダ及びその他の成分を含有する。

【００８４】（高透磁率材料）高透磁率材料としては、
その保持力Ｈｃが０＜Ｈｃ≦１．０×１０^４（Ａ／
ｍ）、好ましくは０＜Ｈ≦５．０×１０^３（Ａ／ｍ）で
ある。保持力が前記範囲内にあると、高透磁率材料とし
て最上層の磁化領域の安定化の効果が発揮される。本発
明においては、高透磁率材料として、前記保持力の範囲
内にある材料を適宜に選択するのが好ましい。そのよう
な高透磁率材料としては、例えば、金属軟質磁性材料、
酸化物軟質磁性材料等を挙げることができる。

【００８５】前記金属軟質磁性材料としては、Ｆｅ−Ｓ
ｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金（Ａｌｐｅｒｍ，Ａｌｆｅｎｏ
ｌ，Ａｌｆｅｒ）、パーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ系二元合
金、及びこれにＭｏ，Ｃｕ，Ｃｒ等を添加した多元系合
金）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ｛９．６重量％の
Ｓｉ、５．４％のＡｌ、残りがＦｅである組成｝）、Ｆ
ｅ−Ｃｏ合金等を挙げることができる。これらの中でも
好ましい金属軟質磁性材料としてはセンダストが好まし
い。尚、高透磁率材料としての金属軟質磁性材料として
は以上に例示したものに限定されず、その他の金属軟質
磁性材料を使用することができる。高透磁率材料は、そ
の一種を単独で使用することもできるし、またその二種
以上を併用することもできる。

【００８６】前記酸化物軟質磁性材料としては、スピネ
ル型フェライトであるＭｎＦｅ_２Ｏ_４、Ｆｅ_３Ｏ_４、Ｃ
ｏＦｅ_２Ｏ_４、ＮｉＦｅ_２Ｏ_４、ＭｇＦｅ_２Ｏ_４、Ｌｉ
_０．５Ｆｅ_２．５Ｏ_４や、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎ
ｉ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｃｕ系フェライト、Ｃｕ
−Ｚｎ系フェライト、Ｍｇ−Ｚｎ系フェライト、Ｌｉ−
Ｚｎ系フェライトを挙げることができる。これらの中で
も、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト及びＮｉ−Ｚｎ系フェライ
トが好ましい。尚、これらの酸化物軟質磁性材料はその
一種を単独で使用することもできるが、その二種以上を
併用することもできる。

【００８７】この高透磁率材料はボールミルやその他の
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径が１〜１，０
００ｍμ、特に１〜５００ｍμであるのが好ましい。こ
のような微細な粉末を得るために、金属軟質磁性材料に
おいては、溶融した合金を真空雰囲気下に噴霧すること
により得ることができる。また、酸化物軟質磁性材料に
おいては、ガラス結晶化法、共沈焼成法、水熱合成法、
フラックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等
により微細粉末にすることができる。

【００８８】また、この高透磁率材料が、Ｓｉ化合物及
び／またはＡｌ化合物により表面処理されていることが
好ましい。かかる表面処理のなされた非磁性粉末を用い
ると磁性層である最上層の表面状態を良好にすることが
できる。前記Ｓｉ及び／またはＡｌの含有量としては、
前記非磁性粉末に対して、Ｓｉが０．１〜１０重量％、
Ａｌが０．１〜１０重量％であるのが好ましく、より好
ましくはＳｉが０．１〜５重量％、Ａｌが０．１〜５重
量％であり、特にＳｉが０．１〜２重量％、Ａｌが０．
１〜２重量％であるのがよい。またＳｉ、Ａｌの重量比
がＳｉ／Ａｌ≧３であるのがよい。表面処理に関しては
特開平２−８３２１９号に記載された方法により行うこ
とができる。

【００８９】この高透磁率材料を含有する層において
は、高透磁率材料の含有量は、１０〜９９重量％、好ま
しくは５０〜９５重量％、さらに好ましくは６０〜９０
重量％である。高透磁率材料の含有量が前記範囲内にあ
ると、最上層の磁化の安定化の効果が十分に得られる。
尚、この高透磁率材料を含有する層には、非磁性の粒子
を含有していてもよい。

【００９０】（導電性微粉末）本発明に用いられる導電
性微粉末としては、カーボンブラック、Ｓｂ被着導電性
酸化錫（ＳｎＯ_２）、ＳｂおよびＳｎを被着させた導電
性二酸化チタン（ＴｉＯ_２）等があるがカーボンブラッ
クが特に好ましく用いられる。

【００９１】磁性層に含有させる導電性微粉末としては
数平均粒径が４０〜５００ｎｍ、またはＤＢＰ値で表さ
れた吸油量が１１０〜５００ｍｌ／１００ｇの導電性微
粉末が好ましい。さらに好ましくは数平均粒径が５０〜
３５０ｎｍ、またはＤＢＰ値で表された吸油量が１４０
〜４００ｍｌ／１００ｇである導電性微粉末を用いるの
がよい。磁性層に含まれる導電性微粉末の重量は磁性粉
に対して０．１〜５．０重量％であるのが好ましく、
０．２〜２．０重量％であるのがより好ましい。

【００９２】非磁性層には数平均粒径が５〜３５ｎｍ、
より好ましくは１０〜３０ｎｍの導電性微粉末を含有す
ることが好ましい。また非磁性層にＤＢＰ値で表された
吸油量が２０〜１１０ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは
３０〜９０ｍｌ／１００ｇの導電性微粉末を含有するの
がよい。非磁性層に含まれる導電性微粉末の重量は合計
で非磁性粉全重量に対して５．０〜３０重量％であるの
が好ましく、７．０〜２０重量％であるのがより好まし
い。非磁性層に導電性微粉末Ｂ、Ｃ（数平均粒径の大き
い粉末をＣとする）の２種類が含有される場合、Ｂ、Ｃ
の重量比は９９：１〜５０：５０、より好ましくは９
５：５〜７０：３０である。

【００９３】カーボンブラックの添加法は種々変更でき
る。例えば、カーボンブラックの微粒子、粗粒子を同時
に分散機に投入して混合してもよく、その一部のみを先
に投入し、分散がある程度進んだ時点で残量を投入する
方法をとってもよい。カーボンブラックの分散を特に重
視する場合には、カーボンブラックを磁性体或はフィラ
ーとバインダと共に三本ロールミル、バンバリミキサ等
によって混練し、この後に分散機で分散して塗料とする
こともできる。磁性層以外の層のように、導電性をより
重視するときは、できるだけ分散工程、調液工程の後半
でカーボンブラックを加えるようにすると、カーボンブ
ラックのストラクチャー構造が切断されにくい。カーボ
ンブラックを予めバインダと共に混練しておいたいわゆ
る“カーボンマスターバッチ”を利用してもよい。

【００９４】ここで、上記のカーボンブラックの粒径は
電子顕微鏡により目視で直接測定する。すなわち、磁気
記録媒体、例えばテープを長手方向に厚さ約７００Åに
切断し、得られた断面を透過型電子顕微鏡で観察する
（印加電圧２００ＫＶ、倍率＝６０，０００）。この場
合、カーボンブラックを１個ずつ粒子の直径を測定し、
Ｎ＝１００個の数平均粒径を「数平均粒径」とする。

【００９５】また上記の「吸油量（ＤＢＰ法）」につい
ては、顔料粉末１００ｇにＤＢＰ（Ｄｉｂｕｔｙｌｐｈ
ｔｈａｌａｔｅ）を少しずつ加え、練り合わせながら顔
料の状態を観察し、ばらばらに分散した状態から一つの
塊をなす点を見出したときのＤＢＰのｍｌ数をＤＢＰ吸
油量とする。

【００９６】（バインダー）磁性層及び非磁性層を形成
するのに使用されるバインダーとしては、例えば、ポリ
ウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩
化ビニル系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素系樹脂等が
代表的なものであり、これらの樹脂は−ＳＯ_３Ｍ、−Ｏ
ＳＯ_３Ｍ、−ＣＯＯＭ、及び−ＰＯ（ＯＭ^１）_２から選
ばれた少なくとも一種の極性基を含むことが好ましい。
ただし、上記極性基において、Ｍは水素原子あるいはＮ
ａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ金属を表わし、またＭ^１は水
素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子あるいはアル
キル基を表す。

【００９７】上記極性基は強磁性粉末の分散性を向上さ
せる作用があり、各樹脂中の含有率は０．１〜８．０モ
ル％、好ましくは０．５〜６．０モル％である。この含
有率が０．１モル％未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が８．０モル％を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、１５，０００〜５０，０００の範囲が好まし
い。

【００９８】結合剤（バインダー）の磁性層における含
有率は、強磁性粉末１００重量部に対して通常、１０〜
４０重量部、好ましくは１５〜３０重量部である。結合
剤（バインダー）は一種単独に限らず、二種以上を組み
合わせて用いることができるが、この場合、ポリウレタ
ンおよび／またはポリエステルと塩化ビニル系樹脂との
比は、重量比で通常、９０：１０〜１０：９０であり、
好ましくは７０：３０〜３０：７０の範囲である。

【００９９】本発明に結合剤として用いられる極性基含
有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重合体と
下記の極性基および塩素原子を有する化合物との付加反
応により合成することができる。

【０１００】Ｃｌ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ
_２ＣＨ_２ＯＳＯ_３Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ_２ＣＯＯＭ、Ｃｌ−Ｃ
Ｈ_２−Ｐ（＝０）（ＯＭ^１）_２ これらの化合物からＣｌ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｎａを例
にとり、上記反応を説明すると、次のようになる。 −ＣＨ_２Ｃ（ＯＨ）Ｈ−＋ＣｌＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｎａ
→−ＣＨ_２ Ｃ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｎａ）Ｈ−。

【０１０１】また、極性基含有塩化ビニル系共重合体
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばＢＰＯ
（ベンゾイルパーオキシド）、ＡＩＢＮ（アゾビスイソ
ブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。

【０１０２】スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。

【０１０３】カルボン酸もしくはその塩を導入するとき
は、例えば（メタ）アクリル酸やマレイン酸等を用い、
リン酸もしくはその塩を導入するときは、例えば（メ
タ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用いればよい。

【０１０４】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。

【０１０５】エポキシ基を導入する場合、エボキシ基を
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、１
〜３０モル％が好ましく、１〜２０モル％がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。

【０１０６】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭５７−４４２２７号、同５
８−１０８０５２号、同５９−８１２７号、同６０−１
０１１６１号、同６０−２３５８１４号、同６０−２３
８３０６号、同６０−２３８３７１号、同６２−１２１
９２３号、同６２−１４６４３２号、同６２−１４６４
３３号等の公報に記載があり、この発明においてもこれ
らを利用することができる。

【０１０７】次に、本発明に用いるポリエステルとポリ
ウレタンの合成について述べる。一般に、ポリエステル
はポリオールと多塩基酸との反応により得られる。この
公知の方法を用いて、ポリオールと一部に極性基を有す
る多塩基酸から、極性基を有するポリエステル（ポリオ
ール）を合成することができる。

【０１０８】極性基を有する多塩基酸の例としては、５
−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル酸、４−
スルホイソフタル酸、３−スルホフタル酸、５−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、２−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、４−スルホイソフタル酸ジアルキル、３−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。

【０１０９】ポリオールの例としては、トリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１．３−ブタンジオール、１．４−ブタンジオー
ル、１．６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。

【０１１０】次に、ポリウレタンに付いて述べる。これ
は、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得ら
れる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基
酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが
使用されている。したがって、極性基を有するポリエス
テルポリオールを原料として用いれば、極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。

【０１１１】本発明においては芳香環を有するポリエス
テルポリオール及び／又は環状炭化水素残基含有ポリエ
ステルポリオールを用いて作られた芳香族ポリエステル
ポリウレタン又は環状炭化水素残基を含有するポリエス
テルポリウレタンを用いることが本発明の目的を達成す
る上で好ましい。

【０１１２】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−４−４′−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１．５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）等が挙げられる。

【０１１３】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。 Ｃｌ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＳ
Ｏ_２Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ_２ＣＯＯＭ、Ｃｌ−ＣＨ_２−Ｐ（＝
０）（ＯＭ^１）_２ なお、ポリウレタンへの極性基導入に関する技術として
は、特公昭５８−４１５６５号、特開昭５７−９２４２
２号、同５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同
５９−５４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２
１９２３号等の公報に記載があり、この発明においても
これらを利用することができる。

【０１１４】本発明においては、結合剤として下記の樹
脂を全結合剤の２０重量％以下の使用量で併用すること
ができる。その樹脂としては、重量平均分子量が１０，
０００〜２００，０００である、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−ア
クリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニル
ブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロース
等）、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキ
シ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルム
アミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられる。

【０１１５】（その他の成分）本発明では、磁性層およ
びその他の各層の耐久性を向上させるために、ポリイソ
シアネートを含有させることが望ましい。ポリイソシア
ネートとしては、たとえばトリレンジイソシアネート
（ＴＤＩ）等と活性水素化合物との付加体などの芳香族
ポリイソシアネートと、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト（ＨＭＤＩ）等と活性水素化合物との付加体などの脂
肪族ポリイソシアネートがある。ポリイソシアネートの
重量平均分子量は、１００〜３，０００の範囲にあるこ
とが望ましい。

【０１１６】本発明では、磁性層及びその他の各層に必
要に応じて分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤および
充填剤などの添加剤を含有させることができる。まず、
分散剤としては、例えば特開平４−２１４２１８号の段
落番号００９３に記載のものなどを挙げることができ
る。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対して０．５
〜５重量％の範囲で用いられる。

【０１１７】次に、潤滑剤としては、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを使用することができる。この場
合、脂肪酸の添加量は主として用いられる強磁性粉や非
磁性粉に対し０．２〜１０重量％が好ましく、０．５〜
５重量％がより好ましい。添加量が０．２重量％未満で
あると、走行性が低下し易く、また１０重量％を超える
と、脂肪酸が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が
生じ易くなる。

【０１１８】また、脂肪酸エステルの添加量も主として
用いられる強磁性粉や非磁性粉に対して０．２〜１０重
量％が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。そ
の添加量が０．２重量％未満であると、スチル耐久性が
劣化し易く、また１０重量％を超えると、脂肪酸エステ
ルが磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。

【０１１９】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で１０：９０〜９０：１０が好ましい。脂肪酸
としては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、
炭素数は６〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより
好ましい。

【０１２０】脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カ
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１．１２−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げ
られる。

【０１２１】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、２−エチルヘキシルステアレート、２−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−２
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、２−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。

【０１２２】本発明では非磁性層に不飽和脂肪酸と不飽
和アルコールからなる脂肪酸エステルまたはグリセリン
エステルが含有されることが好ましい。前記脂肪酸エス
テルとして特に好ましいものとしてはオレイルオレート
があり、グリセリンエステルとして特に好ましいものと
してはグリセリントリオレートがある。

【０１２３】このような不飽和脂肪酸と不飽和アルコー
ルとのエステルにおける不飽和脂肪酸成分としては、オ
レイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸など
が好適なものとして挙げられ、中でもオレイン酸が最も
好ましいものとして挙げられる。また、不飽和アルコー
ル成分としては、オレイルアルコールなどが挙げられ
る。これらの不飽和脂肪酸成分と不飽和アルコール成分
とのエステルの具体例としては、例えば、オレイン酸オ
レイル、エライジン酸オレイル、リノール酸オレいる、
リノレン酸オレイル等が挙げられる。グリセリンエステ
ルは次の一般式で表されるのが好ましい。

【０１２４】

【化１】 （但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３のうち少なくとも１つは炭素
原子数６〜３０の一塩基性脂肪酸残基であり、それ以外
は水素原子であってよく、またＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は互い
に同一であっても異なっていてもよい。より好ましく
は、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３の少なくとも１つの一塩基脂肪酸
残基の炭素原子数が１０〜２２である。）

【０１２５】このグリセリンエステルは具体的には次の
ものであってもよい。 （１）グリセリンとパルミチン酸（炭素原子数１６）と
のエステル（ただし、エステルはモノエステル、ジエス
テル、トリエステルのいずれであってもよい（以下同
様）） （２）グリセリンとステアリン酸（炭素原子数１８）と
のエステル （３）グリセリンとオレイン酸（炭素原子数１８で１つ
の不飽和炭素−炭素２重結合を含む）とのエステル （４）グリセリンとリノール酸（炭素原子数１８で２つ
の不飽和炭素−炭素２重結合を含む）とのエステル （５）グリセリンとラウリン酸（炭素原子数１０）との
エステル （６）グリセリンとミリスチン酸（炭素原子数１４）と
のエステル （７）グリセリンとパルミチン酸（炭素原子数１６）と
のエステル （８）グリセリンとイソステアリン酸（炭素原子数１
８）とのエステル （９）グリセリンとベヘン酸（炭素原子数２２）とのエ
ステル （１０）２−エチルヘキサン酸トリグリセライド （１１）ベヘニン酸モノグリセライド （１２）オレイン酸ステアリン酸モノジグリセライド （１３）ジアセチルカプリン酸グリセライド （１４）ジアセチルヤシ脂肪酸グリセライド （１５）アセチルステアリン酸グリセライド （１６）ジアセチルカプリン酸グリセライド （１７）ジアセチルヤシ脂肪酸グリセライド （１８）カプリル酸モノジグリセライド （１９）アセチルステアリン酸グリセライド （２０）カプリル酸トリグリセライド （２１）脂肪酸（Ｃ_８、Ｃ_１０）トリグリセライド （２２）オリーブ油（天然物であり、各種グリセリンエ
ステルの混合物） 以上において、２種以上のグリセリンエステルを併用し
てもよい。本発明においては、グリセリンエステルに加
えて、ソルビタン等の他の多価アルコールのエステルも
併用してもよい。

【０１２６】本発明では非磁性層にさらに潤滑剤として
Ｒ^１Ｃ＝ＯＯ（ＣＨＲ^２ＣＨＲ^３Ｏ）ｎＲ^４（Ｒ^１は炭
素数が１１〜２２の直鎖または分岐の炭化水素基、
Ｒ^２、Ｒ^３はＨまたはＣＨ_３、１≦ｎ≦１０、Ｒは炭素
数が１〜２２の飽和または不飽和の炭化水素基）が含有
されていることが好ましい。さらに脂肪酸エステルとし
てＲ^５ＯＣ＝ＯＲ^６（Ｒ^５は炭素数が１〜１８の直鎖ま
たは分岐炭化水素基、Ｒ^６は炭素数が１１〜２２の直鎖
または分岐の炭化水素基）が含有されていることが好ま
しい。このように数種類の異なる脂肪酸エステルおよび
グリセリンエステルを非磁性層に含有させていることで
上層の磁性層へこれらの潤滑剤が適宜補給されていき、
高温から低温に至る幅広い環境下で安定な潤滑作用が発
揮され、耐久性が格段に向上する。前記の非磁性層には
脂肪酸エステルおよびグリセリンエステルに加えさらに
融点の異なる複数の脂肪酸が含有されていることが耐久
性を向上させる点でさらに好ましい。このような多数の
異なる潤滑剤を組み合わせたハイブリッドな潤滑剤シス
テムを用いることは従来に比べ格段の高密度化と高耐久
性、エラーレートの向上した高密度磁気ディスク媒体の
実現には重要な技術である。

【０１２７】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。

【０１２８】次に、研磨剤の具体例としては、α−アル
ミナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸
化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭
化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸化亜鉛、酸
化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素などが挙げ
られる。研磨剤の数平均粒子径は０．０５〜０．６μｍ
が好ましく、０．０５〜０．３μｍがより好ましい。本
発明においては非磁性層中および／または磁性層中にα
−アルミナおよび／または酸化クロムが含有されている
ことが好ましい。

【０１２９】次に、帯電防止剤としては、カーボンブラ
ック、グラファイト等の導電性粉末；第四級アミン等の
カチオン界面活性剤；スルホン酸、硫酸、リン酸、リン
酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活
性剤；アミノスルホン酸等の両性界面活性剤；サポニン
等の天然界面活性剤等を挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、結合剤に対して０．０１〜４０重
量％の範囲で添加される。

【０１３０】（磁気記録媒体の製造）本発明の磁気記録
媒体は、上層の積層を、下層が湿潤状態にあるときに行
う所謂ウエット−オン−ウエット方式で塗設するのが好
ましい。このウエット−オン−ウエット方式は、公知の
重層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方法を適
宜に採用することができる。

【０１３１】たとえば、一般的には磁性粉末、バイン
ダ、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等と溶媒とを
混練して高濃度塗料を調製し、次いでこの高濃度塗料を
希釈して塗布用塗料を調製した後、この塗料を非磁性支
持体の表面に塗布する。上記溶媒としては、たとえば特
開４−２１４２１８号の段落番号０１１９に記載のもの
等を用いることができる。

【０１３２】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。この混練分
散機としては、例えば特開４−２１４２１８号の段落番
号０１１２に記載のものなどが挙げられる。上記混練分
散機のうち、０．０５〜０．５ＫＷ（磁性粉末１Ｋｇ当
たり）の消費電力負荷を提供することのできる混練分散
機は、加圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダ
ー、二本ロールミル、三本ロールミル等である。

【０１３３】非磁性支持体上に、第１磁性層と第２磁性
層と下層とを塗布するには、具体的には、図１に示すよ
うに、まず供給ロール３２から繰出した非磁性支持体１
に、エクストルージョン方式の押し出しコーター１０、
１１、１２により、第１磁性層用磁性塗料と第２磁性層
用磁性塗料と下層用塗料とをウェット−オン−ウェット
方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直配向用磁
石３３を通過し、乾燥器３４に導入し、ここで上下に配
したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次に、乾燥
した各塗布層付きの非磁性支持体１をカレンダーロール
３８の組合せからなるスーパーカレンダー装置３７に導
き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロール３
９に巻き取る。このようにして得られた磁性フィルムを
所望幅のテープ状に裁断して例えば８ｍｍビデオカメラ
用磁気記録テープを製造することができる。

【０１３４】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター１０、
１１、１２へと供給してもよい。なお、図中、矢印Ｄは
非磁性支持体の搬送方向を示す。押し出しコーター１
０、１１、１２には夫々、液溜まり部１３、１４が設け
られ、各コーターからの塗料をウェット−オン−ウェッ
ト方式で重ねる。即ち、下層用塗料の塗布直後（未乾燥
状態のとき）に第１磁性層用磁性塗料と第２磁性層用磁
性塗料を重層塗布する。前記押し出しコーターとして
は、図２（ａ）に示す３基の押し出しコーターの他、同
図（ｂ）及び（ｃ）のような型式の押し出しコーターを
使用することもできる。これらの中で（ｂ）に示した押
し出しコーターが本発明においては好ましい。この押し
出しコーター（ｂ）により、下層用塗料と第２磁性層用
磁性塗料と第１磁性層用磁性塗料を同時押出重層塗布す
る。なお４層の塗膜を同時重層塗布する場合も同様にし
て、４台の押し出しコーターを用いたり、４つのスロッ
トを持つ押し出しコーターを用いることにより行うこと
ができる。

【０１３５】上記塗料に配合される溶媒又はこの塗料の
塗布時の希釈溶媒としては、特開平４−２１４２１８号
の段落番号０１１９に記載のもの等が使用できる。これ
らの各種の溶媒は単独で使用することもできるし、また
それらの二種以上を併用することもできる。前記配向磁
石或いは垂直配向用磁石における磁場は、２０〜１０，
０００ガウス程度であり、乾燥器による乾燥温度は約３
０〜１２０℃であり、乾燥時間は約０．１〜１０分間程
度である。

【０１３６】なお、ウェット−オン−ウェット方式で
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。

【０１３７】このウェット−オン−ウェット方式による
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層を塗布するので、下層の表面（即ち、最上層との境界
面）が滑らかになると共に上層の表面性が良好になり、
かつ、上下層間の接触性も向上する。この結果、特に高
密度記録のために高出力、低ノイズの要求される、例え
ば磁気テープとしての要求性能を満たしたものとなり、
かつ高耐久性の性能が要求されることに対しても膜剥離
をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分となる。ま
た、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式により、ド
ロップアウトも低減することができ、信頼性も向上す
る。

【０１３８】（表面の平滑化）本発明においては、次に
カレンダリングにより表面平滑化処理を行うのもよい。
その後は、必要に応じてバーニッシュ処理またはブレー
ド処理を行なってスリッティングされる。表面平滑化処
理においては、カレンダー条件として温度、線圧力、Ｃ
／Ｓ（コーティングスピード）等を挙げることができ
る。本発明においては、通常、上記温度を５０〜１４０
℃、上記線圧力を５０〜４００ｋｇ／ｃｍ、上記Ｃ／Ｓ
を２０〜１０００ｍ／分に保持することが好ましい。こ
れらの数値を満足しないと、磁気記録媒体の表面性を良
好な状態に保つことが困難になる、或いは、不可能にな
ることがある。

【０１３９】

【発明の効果】本発明によれば、短波長記録領域での再
生出力が良好で、繰り返し走行耐久性テストにおけるエ
ッジ折れ防止、出力低下抑制に優れ、ヘッドタッチ特性
やスチル耐久性が良好で、全長走行における出力低下が
小さく、エッジ折れの発生がなく、コントロール信号の
出力の高い磁気記録媒体を得ることができる。

【０１４０】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。以下に示
す成分、割合、操作順序は本発明の範囲から逸脱しない
範囲において種々変更し得る。なお、下記の実施例にお
いて「部」はすべて重量部である。

【０１４１】下記の塗料組成物の各成分をニーダ及びサ
ンドミルを用いて混練分散して塗料を調製した。

【０１４２】 塗料ａ１ 強磁性金属粉末（１） １００部 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン社製ＭＲ−１０５） １０部 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００ 、固形分３０％） １０部 α−アルミナ（数平均粒径０．１０μｍ） ５部 カーボンブラック（数平均粒径４０ｎｍ） ０．５部 ステアリン酸 １部 ブチルステアレート １部 シクロヘキサノン １００部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部 上記成分を混練した後、ポリイソシアネート化合物（日
本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）５部を添加し
た。 ｛強磁性金属粉末（１）｝ （紡錘状の形状） Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｎｄ 全体組成 １００ ２０ ３ ２ ４ ０．５ ３（重量％） 表面組成 １００ ３５ ０ ５０ １００ １０ １０（原子数％） （平均長軸長０．０５μｍ、結晶子サイズ１５ｎｍ、飽和磁化量１４０ｅｍｕ／ ｇ、Ｈｃ：２２００ Ｏｅ）

【０１４３】 塗料Ａ１ α−Ｆｅ_２Ｏ_３｛平均粒径０．０８μｍ、結晶子サイズ１４ｎｍ、針状比５、 Ｓｉ、Ａｌ化合物（非磁性粉末に対するＳｉ含有量０．９重量％、Ａｌ含有量０ ．２重量％）で表面処理｝ １００部 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン社製ＭＲ−１１０） １２部 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８７００ 、固形分３０％） ８部 α−アルミナ（数平均粒径０．２μｍ） ５部 カーボンブラック（数平均粒径１５ｎｍ） １０部 ステアリン酸 １部 ブチルステアレート １部 シクロヘキサノン １００部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部 上記成分を混練した後、ポリイソシアネート化合物（日
本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）５部を添加し
た。

【０１４４】塗料Ｂ 塗料Ｂは、塗料Ａ１におけるα−Ｆｅ_２Ｏ_３に代えてＣ
ｏ−γ−Ｆｅ_２Ｏ_３（ＨＣ：６５０ Ｏｅ、平均長軸長
０．１４μｍ、結晶子サイズ３０ｎｍ、磁性粉中のＳｉ
含有量０．８重量％、Ａｌ含有量０．１重量％）を用い
た以外は塗料Ａ１と同様とした。

【０１４５】塗料Ｃ 塗料Ｃは、塗料Ａ１におけるα−Ｆｅ_２Ｏ_３に代えてＦ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌセンダスト合金粉末｛ＨＣ＝４０（Ａ／
ｍ）、μ；＝２００（Ｈ／ｍ）、平均長軸長８０ｎｍ、
結晶子サイズ８ｎｍ、粉末中のＳｉ含有量１．２重量
％、Ａｌ含有量０．２重量％｝を用いた以外はＡ１と同
様とした。

【０１４６】塗料ｂ１ 塗料ａ１において強磁性金属粉末に代えてＣｏ置換バリ
ウムフェライトＢａＯ・６（（Ｆｅ_０．５Ｔｉ_０．５）
_２Ｏ_３）（ＨＣ：１１００ Ｏｅ、粒径０．０５μｍ、
ＢＥＴ５０ｍ^２／ｇ、σｓ；６４ｅｍｕ／ｇ、板状比
４）を用いた以外はａ１と同様とした。

【０１４７】塗料ａ２ 塗料ａ１において強磁性金属粉末（１）に代えて、強磁
性金属粉末（２）を用いた以外は塗料ａ１と同様とし
た。 ｛強磁性金属粉末（２）｝ （紡錘状の形状） Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｎｄ 全体組成 １００ ２５ ３ ２ ４ ０．５ ３（重量％） 表面組成 １００ ４０ ０ ５０ １００ １０ １０（原子数％） （平均長軸長０．０７μｍ、結晶子サイズ１５ｎｍ、飽和磁化量１４５ｅｍｕ／ ｇ、Ｈｃ：２１００ Ｏｅ）

【０１４８】 塗料ａ３ 強磁性金属粉末（１） １００部 スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン社製ＭＲ−１０５） ５部 スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００ 、固形分３０％） ５部 ステアリン酸 ０．５部 ブチルステアレート ０．５部 シクロヘキサノン １００部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部 上記成分を混練・分散した後、ポリイソシアネート化合
物（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）２．５部
を添加した。

【０１４９】塗料ａ４ 塗料ａ３においてスルホン酸カリウム基含有塩化ビニル
系樹脂の重量を４部、スルホン酸ナトリウム基含有ポリ
ウレタン樹脂の重量を４部とした以外は塗料ａ３と同様
とした。

【０１５０】塗料ｂ２ 塗料ａ３において強磁性金属粉末（１）に代えて、塗料
ｂ１において用いられたＣｏ置換バリウムフェライトを
用いた以外はａ３と同様とした。

【０１５１】塗料ａ５ 塗料ａ１においてスルホン酸カリウム基含有塩化ビニル
系樹脂の重量を２０部、スルホン酸ナトリウム基含有ポ
リウレタン樹脂の重量を２０部とし、ポリイソシアネー
ト化合物（コロネートＬ）の重量を１０部とした以外は
塗料ａ１と同様とした。

【０１５２】塗料ａ６ 塗料ａ１においてスルホン酸ナトリウム基含有ポリウレ
タン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００）１０部に代え
て、スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン（Ｔｇ：
４５℃、数平均分子量１万７０００）を用いた以外はａ
１と同様とした。

【０１５３】塗料ａ７ 塗料ａ１においてスルホン酸ナトリウム基含有ポリウレ
タン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００）１０部に代え
て、スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン（Ｔｇ：
−２０℃、数平均分子量１万５０００）を用いた以外は
ａ１と同様とした。

【０１５４】塗料ａ８ 塗料ａ１においてスルホン酸ナトリウム基含有ポリウレ
タン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００）１０部に代え
て、スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン（Ｔｇ：
７５℃、数平均分子量１万７０００）を用いた以外はａ
１と同様とした。

【０１５５】塗料Ａ２ 塗料Ａ１においてα−Ｆｅ_２Ｏ_３として平均粒径０．２
４μｍ、結晶子サイズ２６ｎｍ、Ｓｉ，Ａｌ化合物で表
面処理（非磁性粉末に対するＳｉ含有量０．９重量％、
Ａｌ含有量０．２重量％）したものを用い、スルホン酸
ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂として東洋紡績社製
ＵＲ−８７００に代えてＵＲ−８２００を用いた以外は
塗料Ａ１と同様とした。

【０１５６】塗料ａ９ 塗料ａ２においてスルホン酸ナトリウム基含有ポリウレ
タン樹脂（東洋紡績社製ＵＲ−８３００）１０部に代え
て、スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン（Ｔｇ：
７５℃、数平均分子量１万７０００）を用いた以外はａ
２と同様とした。

【０１５７】塗料ａ１０ 塗料ａ１においてα−アルミナ及びカーボンブラックを
用いなかったこと以外はａ１と同様とした。

【０１５８】塗料ａ１１ 塗料ａ１においてα−アルミナ（数平均粒径０．１０μ
ｍ）に代えてα−アルミナ（数平均粒径０．２０μｍ）
５部を用い、カーボンブラック（数平均粒径４０ｎｍ）
に代えてカーボンブラック（数平均粒径１２０ｎｍ）の
もの０．５部を用いた以外はａ１と同様とした。

【０１５９】塗料ａ１２ 塗料ａ１において強磁性金属粉末（１）のＨｃを２６０
０ Ｏｅに代えた強磁性金属粉末（３）を用いた以外は
ａ１と同様とした。 ｛強磁性金属粉末（３）｝ （紡錘状の形状） Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｎｄ 全体組成 １００ ４０ ３ ２ ４ ０．５ ６（重量％） 表面組成 １００ ４５ ０ ５０ １００ １０ ２０（原子数％） （平均長軸長０．０５μｍ、結晶子サイズ１５ｎｍ、飽和磁化量１４５ｅｍｕ／ ｇ、Ｈｃ：２６００ Ｏｅ）

【０１６０】塗料ａ１３ 塗料ａ１において強磁性金属粉末（１）のＨｃを２２５
０ Ｏｅに代えた強磁性金属粉末（４）を用いた以外は
ａ１と同様とした。 ｛強磁性金属粉末（４）｝ （紡錘状の形状） Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｎｄ 全体組成 １００ ２５ ３ ２ ４ ０．５ ３（重量％） 表面組成 １００ ４０ ０ ５０ １００ １０ １０（原子数％） （平均長軸長０．０５μｍ、結晶子サイズ１５ｎｍ、飽和磁化量１４５ｅｍｕ／ ｇ、Ｈｃ：２２５０ Ｏｅ）

【０１６１】塗料ａ１４ 塗料ａ１において強磁性金属粉末（１）、α−アルミ
ナ、カーボンブラックを用いなかった以外はａ１と同様
とした。

【０１６２】塗料ａ１５ 塗料ａ１４においてさらにオレイルオレート２部、ブト
キシエチルステアレート１部を加えた以外はａ１４と同
様とした。

【０１６３】塗料ａ１６ 塗料ａ１４においてさらにα−Ｆｅ_２Ｏ_３を２０部加え
た以外はａ１４と同様とした。

【０１６４】塗料ａ１７ 塗料ａ１において強磁性金属粉末（１）に代えて平均長
軸長を０．０８μｍとした強磁性金属粉末（５）を用い
た以外はａ１と同様とした。 ｛強磁性金属粉末（５）｝ （紡錘状の形状） Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｎｄ 全体組成 １００ ２０ ３ ２ ４ ０．５ ３（重量％） 表面組成 １００ ３５ ０ ５０ １００ １０ １０（原子数％） （平均長軸長０．０８μｍ、結晶子サイズ１６ｎｍ、飽和磁化量１４０ｅｍｕ／ ｇ、Ｈｃ：２２００ Ｏｅ）

【０１６５】塗料Ａ３ 塗料Ａ１においてα−Ｆｅ_２Ｏ_３として平均粒径０．０
４μｍの球状α−Ｆｅ_２Ｏ_３を用いた以外はＡ１と同様
とした。

【０１６６】

【実施例及び比較例】最上層の磁性層、最上層の磁性層
に下接する層、下層用組成物の各成分をニーダー、サン
ドミルを用いて混練分散して各々の塗料を調整した。表
２〜表１３に示した各塗料を用いて、ウェット・オン・
ウェット方式（比較例１１−１についてはウェット・オ
ン・ドライ方式）で厚さ４．７μｍのアラミドフィルム
（長手方向のヤング率１３００ｋｇ／ｍｍ^２、幅手方向
のヤング率１３００ｋｇ／ｍｍ^２）上に塗布した後、塗
膜が未乾燥であるうちに磁場配向処理を行い、続いて乾
燥を施してから、カレンダで表面平滑処理（８０℃、３
００ｋｇ／ｃｍ）を行い、表２〜表１３に示された厚さ
を有する層を形成した。但し比較例７−２のカレンダ条
件については６０℃、２００ｋｇ／ｃｍで行った。

【０１６７】さらにこの磁性層とは反対側の前記ポリエ
チレンテレフタレートフィルムの面（裏面）に下記の組
成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、上述した
カレンダ条件に従ってカレンダ加工することによって、
厚さ０．５μｍのバックコート層を形成し、広幅の原反
の磁気テープを得た。

【０１６８】 カーボンブラック（ラベン１０３５） ４０部 硫酸バリウム（平均粒子径３００ｎｍ） １０部 ニトロセルロース ２５部 ポリウレタン系樹脂（日本ポリウレタン社製Ｎ−２３０１） ２５部 ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）１０部 シクロヘキサノン ４００部 メチルエチルケトン ２５０部 トルエン ２５０部

【０１６９】こうして得られた原反の磁気テープをスリ
ットして、８ｍｍ幅のビデオ用磁気記録媒体を作成し
た。この磁気記録媒体につき、以下の評価を行った。そ
の結果を表２〜表１３に示した。

【０１７０】（評価及び測定方法） ＜出力特性＞９ＭＨｚの単一波を記録し、その信号を再
生した際の出力レベルを基準サンプル（コニカ社製８ｍ
ｍテープＳＧ）との比較で表した。

【０１７１】＜繰り返し走行耐久性におけるエッジ折
れ、出力低下＞２０℃、湿度６０％の環境下で測定用ビ
デオデッキＳ−５５０（ソニー社製）を用いてテープの
走頭５分間について繰り返し走行を２００回行い、ＲＦ
出力の低下（ｄＢ）を測定した。また走行後テープエッ
ジ部分の観察を目視にて行い、以下の評価を行った。 Ａ：エッジ折れの発生なし Ｂ：テープの一部分にエッジ折れ発生 Ｃ：テープの全長にわたりエッジ折れ発生

【０１７２】＜不燃成分の定義＞ 不燃成分（％）＝［｛磁性粉（ｇ）＋研磨剤（α−アル
ミナ）（ｇ）｝／固形分（ｇ）］×１００ 固形分：磁性層塗料成分のうち溶剤を除いた残りの成分
の重量（ｇ）

【０１７３】＜ヤング率＞下記条件で延伸した際の荷重
を測定し（引張り曲線）、１％伸びの荷重からヤング率
を求める。 試料の長さ：２００ｍｍ 試料の幅 ：１２．６５ｍｍ 延伸速度 ：１００／ｍｉｎ 湿度 ：５０％

【０１７４】＜Ｔｇの測定方法＞測定装置として、バイ
フロンＤＤＶ−ＩＩ−ＥＡ（東洋ボールドウィン社製）
を用い、厚み３０μｍ、幅１０ｍｍ、長さ２５ｍｍの試
料を−１００℃〜１００℃の範囲で５℃／ｍｉｎで加熱
しながら、幅手方向端縁に周波数１０Ｈｚのサイン波伸
縮歪を与え、他端に出現するサイン波応力の両スペクト
ルの位相差δの最大ｔａｎδを与える温度をＴｇとし
た。

【０１７５】＜スチル耐久性＞４０℃、湿度１０％の環
境下において、カラーバー信号を録画再生し、スチルモ
ードにして初期の出力から２ｄＢ低下したときまでの時
間を示す。

【０１７６】＜オーバーライト特性＞１ＭＨｚの信号を
記録し、さらに１０ＭＨｚの信号を重ね書きしたとき、
１ＭＨｚの信号の消し残り量を１０ＭＨｚの信号との出
力比として求めた。

【０１７７】＜表面粗さＲａ、Ｒｔ＞ランク・テイラ・
ホブソン社製タリステップ粗さ計を用い測定した。測定
条件としてスタイラスが２．５×０．１μｍ、針圧２ｍ
ｇ、カットオフフィルターを０．３３Ｈｚ、測定スピー
ドを２．５μｍ／ｓｅｃ、基準長を０．５ｍｍとした。
カットオフ値は０．２５ｍｍとした。尚、Ｒａ、Ｒｔの
定義はＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０６０１）によった。 Ｒａ：中心線平均粗さ Ｒｔ：最大粗さ

【０１７８】＜全長走行（５℃）におけるヘッドクロッ
グ及び粉落ち＞温度５℃の環境下で測定用ビデオデッキ
Ｓ−５５０（ソニー社製）を用い、全長録画再生を行
い、出力低下が２ｄＢ以上、１秒以上経過した場合をヘ
ッドクロッグとし、発生回数を測定した。またヘッド上
の粉落ちに対して以下の基準で評価した。 Ａ：粉落ちの発生なし Ｂ：粉落ち少しあり Ｃ：粉落ち多い

【０１７９】＜コントロール信号出力＞ＢＲ−Ｓ７１１
（ビクター社製）を用い、コントロール出力の値（ｄ
Ｂ）を基準テープに対して求めた。

【０１８０】＜ヘッドタッチ特性＞オシロスコープ上で
エンベロープ特性を観察し、最小出力部の最大出力部に
対する比（％）で測定した。

【０１８１】＜高温高湿（４０℃、８０％ＲＨ）下での
全長走行による出力低下、エッジ折れ＞４０℃、湿度８
０％の環境下で測定用ビデオデッキＳ−５５０（ソニー
社製）を用いて、テープの全長走行を５０パス行い、Ｒ
Ｆ出力の低下（ｄＢ）を測定した。また走行後、テープ
エッジ部分の観察を目視にて行い、以下の評価を行っ
た。 Ａ：エッジ折れの発生なし Ｂ：テープの一部分にエッジ折れ発生 Ｃ：テープの全長にわたりエッジ折れ発生

【０１８２】＜低湿（２０％ＲＨ）における全長走行時
の出力低下、エッジ折れ＞４０℃、湿度２０％の環境下
で測定用ビデオデッキＳ−５５０（ソニー社製）を用い
てテープの全長走行を５０パス行い、ＲＦ出力の低下
（ｄＢ）を測定した。また走行後、テープエッジ部分の
観察を目視にて行い、以下の評価を行った。 Ａ：エッジ折れの発生なし Ｂ：テープの一部分にエッジ折れ発生 Ｃ：テープの全長にわたりエッジ折れ発生

【０１８３】＜角型比＞東栄工業社製の振動試料型磁束
計を用い、Ｈｍが５ＫＯｅの時の残留磁束密度を飽和磁
束密度で除した値で示した。

【０１８４】尚、本出願において、強磁性粉末の組成の
測定方法は、以下に示す方法で行った。

【０１８５】＜全体組成＞強磁性粉末における全体組成
中のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ａｌ各元素の存在比率に
ついては、波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＷＤＸ）を用
いて試料中の各元素の蛍光Ｘ線強度を測定した後、ファ
インダメンタルパラメーター法（以下、ＦＰ法と称す
る。）に従い、算出して求めた。

【０１８６】以下にＦＰ法について説明する。蛍光Ｘ線
の測定には、理学電気社製のＷＤＸシステム３０８０
を、以下の条件にて使用した。 Ｘ線管球 ：ロジウム管球 出力 ：５０ＫＶ、５０ｍＡ 分光結晶 ：ＬｉＦ（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄに対し
て）、ＰＥＴ（Ａｌに対して）、ＲＸ−４（Ｓｉに対し
て） アブソーバ：１／１（Ｆｅのみ１／１０） スリット ：ＣＯＡＲＳＥ フィルター：ＯＵＴ ＰＨＡ ：１５〜３０（Ａｌ、Ｓｉに対して）、１０
〜３０（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄに対して） 計数時間 ：ピーク＝４０秒、バックグラウンド＝４０
秒（ピーク前後の２点を測定） 尚、蛍光Ｘ線の測定を行うには、上記装置に限定される
のではなく、種々の装置を使用することができる。

【０１８７】標準試料には、以下の４種類の金属化合物
に使用した。標準試料１は、Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ Ｒ
ｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｉｎｔｅｒｎ
ａｔｉｏｎａｌ社製の合金ＳＲＭ１２１９（Ｃを０．１
５重量％、Ｍｎを０．４２重量％、Ｐを０．０３重量
％、Ｓｉを０．５５重量％、Ｃｕを０．１６重量％、Ｎ
ｉを２．１６重量％、Ｃｒを１５．６４重量％、Ｍｏを
０．１６重量％、Ｖを０．０６重量％をそれぞれ含有す
る。）である。標準試料２は、Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ
Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｉｎｔｅｒ
ｎａｔｉｏｎａｌ社製の合金ＳＲＭ１２５０（Ｎｉを３
７．７８重量％、Ｃｒを０．０８重量％、Ｍｏを０．０
１重量％、Ｃｏを１６．１０重量％、Ａｌを０．０９重
量％をそれぞれ含有する。）である。標準試料３は、磁
性酸化鉄粉末（Ｍｎを０．１４重量％、Ｐを０．１５重
量％、Ｓを０．１９重量％、Ｓｉを０．３６重量％、Ｃ
ｏを３．１９重量％、Ｚｎを１．２６重量％、Ｃａを
０．０７重量％、Ｎａを０．０２重量％をそれぞれ含有
する。）である。標準試料４は、強磁性金属粉末（Ｎｄ
を２．７３重量％含有する。）である。

【０１８８】前記標準試料１及び２における元素の重量
％は、メーカー供与のデータシートの値であり、前記標
準試料３及び４における元素の重量％は、ＩＣＰ発光分
析装置による分析値である。この値を以下のＦＰ法の計
算における標準試料の元素組成値として入力した。

【０１８９】ＦＰ法の計算には、テクノス社製のファイ
ンダメンタルパラメータソフトウェアＶｅｒｓｉｏｎ
２．１を用い、次の条件にて計算した。 試料モデル ：バルク試料 バランス成分試料：Ｆｅ 入力成分 ：測定Ｘ線強度（ＫＣＰＳ） 分析単位 ：重量％ 算出された各元素の存在比率（重量％）は、Ｆｅ原子１
００重量％に対するその他の元素の重量％として換算
し、定量値としたものである。

【０１９０】＜表面組成＞強磁性金属粉末の表面（ここ
でいう表面とは粉末の表面から１００Åの深さまでの表
層部を意味する。）における組成中のＦｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｓｉ、Ａｌ各元素の存在比率については、ＸＰＳ表
面分析装置を用いてその値を求めた。以下にその方法に
ついて説明する。先ずＸＰＳ表面分析装置を以下の条件
にセットする。 Ｘ線アノード：Ｍｇ 分解能 ：１．５〜１．７ｅＶ（分解能は、清浄な
Ａｇの３ｄ５／２ピークの半値巾で規定する。） 尚、試料の固定には、所謂粘着テープは使用しない。Ｘ
ＰＳ表面分析装置の機種としては、特に限定はなく、種
々の装置を使用することができるが、本発明において
は、ＶＧ社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。

【０１９１】表１に示す測定範囲でナロースキャンを行
い、各元素のスペクトルの測定をした。このとき、デー
タの取り込み間隙は０．２ｅＶとし、表１に示す最低カ
ウント数以上のカウントが得られるまで積算した。

【０１９２】

【表１】

【０１９３】得られたスペクトルに対して、Ｃのピーク
以上が２８４．６ｅＶになるようにエネルギー位置を補
正する。次にＶＡＭＡＳ−ＪＡＰＡＮ社製のＣＯＭＭＯ
Ｎ ＤＡＴＡ ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ
Ｖｅｒ．２．３（以下、ＶＡＭＡＳソフトと称する。）
上で、データ処理を行うために、上記スペクトルを各装
置メーカーが提供するソフトを用いて、ＶＡＭＡＳソフ
トを使用することができるコンピュータに転送する。

【０１９４】そして、ＶＡＭＡＳソフトを用い、転送さ
れたスペクトルをＶＡＭＡＳフォーマットに変換した
後、以下のデータ処理を行う。定量処理に入る前に、各
元素についてＣｏｕｎｔ Ｓｃａｌｅのギャリブレーシ
ョンを行い、５ポイントのスムージング処理を行う。定
量処理は次の通りである。各元素のピーク位置を中心と
して、上記示す定量範囲でピークエリア強度を求める。
表１に示す感度計数を使用し、各元素の原子数％を求め
た。原子数％は、Ｆｅ原子数１００に対する原子数に換
算し定量値とした。以上が本発明における強磁性粉末の
組成の測定方法である。

【０１９５】

【表２−１】

【０１９６】

【表２−２】

【０１９７】

【表３】

【０１９８】

【表４−１】

【０１９９】

【表４−２】

【０２００】

【表５】

【０２０１】

【表６】

【０２０２】

【表７】

【０２０３】

【表８】

【０２０４】

【表９】

【０２０５】

【表１０】

【０２０６】

【表１１−１】

【０２０７】

【表１１−２】

【０２０８】

【表１２】

【０２０９】

【表１３】

【図面の簡単な説明】

【図１】押し出し塗布方式によるウエット−オン−ウエ
ット塗布による本発明の磁気記録媒体を製造するための
同時重層塗布を説明するための図

【図２】本発明の塗料を塗布するためのコーターヘッド
の図

【符号の説明】

１ 支持体 １０ 押し出しコータ １１ 押し出しコータ １２ 押し出しコータ ３２ 供給ロール ３３ 配向用磁石 ３４ 乾燥器 ３７ スーパーカレンダ装置 ３８ カレンダロール ３９ 巻き取りロール

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体の磁性層形成面の中心線平均粗さ
   （Ｒａ）が５ｎｍ以下、最大粗さ（Ｒｔ）が１００ｎｍ
   以下であり、支持体の磁性層形成面と反対側の面のＲａ
   が３〜１５ｎｍ、Ｒｔが３０〜１２０ｎｍであり、磁性
   層表面のＲａが２ｎｍ以下であり、磁性層の膜厚が０．
   ３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】支持体の長手方向のヤング率と幅手方向の
   ヤング率の和が１３００ｋｇ／ｍｍ^２以上であることを
   特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】支持体の少なくとも一方の面に存在する突
   起の平均突起高さが０．０１〜０．２０μｍであり、前
   記支持体の前記面において、高さが０．０１μｍ以上で
   ある突起の個数が測定長１ｍｍ当たり２００個以上であ
   り、高さが０．３０μｍ以上である突起の個数が測定長
   ４００ｍｍ当たり５００個以下であり、且つ最大突起高
   さと平均突起高さとの比（最大突起高さ／平均突起高
   さ）が５以下であることを特徴とする請求項１記載の磁
   気記録媒体。
4. 【請求項４】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成層
   を有し、最上層の磁性層の不燃成分Ｘ_１（ｗｔ％）が７
   ５≦Ｘ_１≦９０であり、最上層に下接する磁性層の不燃
   成分Ｘ_２（ｗｔ％）が８０≦Ｘ_２≦９８であり、Ｘ_１＜
   Ｘ_２且つ最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁
   性層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下であることを特徴
   とする磁気記録媒体。
5. 【請求項５】前記Ｘ_１、Ｘ_２がＸ_２−Ｘ_１≧３であるこ
   とを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成層
   を有し、最上層の磁性層の飽和磁束密度をＢｍ_１（ガウ
   ス）とし、最上層に下接する磁性層の飽和磁束密度をＢ
   ｍ_２（ガウス）とする時、４０００≦Ｂｍ_１≦７００
   ０、５０００≦Ｂｍ_２≦８０００であり、最上層の磁性
   層と最上層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和が０．３μ
   ｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
7. 【請求項７】前記Ｂｍ_１、Ｂｍ_２がＢｍ_２−Ｂｍ_１≧５
   ００であることを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒
   体。
8. 【請求項８】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成層
   を有し、最上層の磁性層のヤング率をＹ_１（ｋｇ／ｍｍ
   ^２）、最上層に下接する層のヤング率をＹ_２（ｋｇ／ｍ
   ｍ^２）とする時、｜Ｙ_１−Ｙ_２｜≧５０であり、最上層
   の磁性層と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．３
   μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
9. 【請求項９】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成層
   を有し、最上層の磁性層に含まれるポリウレタンのガラ
   ス転移点（Ｔｇ）をＺ_１（℃）、最上層に下接する層に
   含まれるポリウレタンのガラス転移点（Ｔｇ）をＺ
   _２（℃）とする時、｜Ｚ_１−Ｚ_２｜≧２０であり、最上
   層の磁性層と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．
   ３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
10. 【請求項１０】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成
    層を有し、最上層の磁性層に含まれるモース硬度６以上
    の非磁性粉末の数平均粒径が最上層の磁性層と最上層に
    下接する層の乾燥膜厚の和より小さく、最上層の磁性層
    と最上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下
    であることを特徴とする磁気記録媒体。
11. 【請求項１１】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成
    層を有し、最上層の磁性層に含まれるカーボンブラック
    の数平均粒径が最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接
    する層の乾燥膜厚の和より小さく、最上層の磁性層と最
    上層に下接する層の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下であ
    ることを特徴とする磁気記録媒体。
12. 【請求項１２】最上層の磁性層に含まれるモース硬度６
    以上の非磁性粉末を磁性粉１００重量部に対しＡ_１（ｗ
    ｔ％）、最上層の磁性層に下接する磁性層に含まれるモ
    ース硬度６以上の非磁性粉末を磁性粉１００重量部に対
    しＡ_２（ｗｔ％）とする時、０≦Ａ_２≦１／３Ａ_１であ
    ることを特徴とする請求項６又は１０記載の磁気記録媒
    体。
13. 【請求項１３】最上層の磁性層に含まれるカーボンブラ
    ックを磁性粉１００重量部に対しＣ_１（ｗｔ％）、最上
    層の磁性層に下接する磁性層に含まれるカーボンブラッ
    クを磁性粉１００重量部に対しＣ_２（ｗｔ％）とする
    時、０≦Ｃ_２≦１／３Ｃ_１であることを特徴とする請求
    項６又は１１記載の磁気記録媒体。
14. 【請求項１４】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成
    層を有し、最上層の磁性層の保持力をＨｃ_１、最上層の
    磁性層に下接する磁性層の保持力をＨｃ_２とする時、２
    ４００＜Ｈｃ_１≦３０００、１５００≦Ｈｃ_２≦２６０
    ０、Ｈｃ_１−Ｈｃ_２≧１００であり、且つ最上層の磁性
    層と最上層の磁性層に下接する磁性層の乾燥膜厚の和が
    ０．２μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
15. 【請求項１５】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成
    層を有し、最上層の磁性層に六方晶フェライト粉末が含
    まれ、最上層の磁性層に下接する磁性層に強磁性金属粉
    末が含まれ、且つ最上層の磁性層と最上層の磁性層に下
    接する磁性層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下であるこ
    とを特徴とする磁気記録媒体。
16. 【請求項１６】支持体上に磁性層を含む２層以上の構成
    層を有し、最上層の磁性層表面のＲａが２ｎｍ以下であ
    り、且つ最上層の磁性層の角型比が０．８７以上であ
    り、最上層の磁性層と最上層の磁性層に下接する磁性層
    の乾燥膜厚の和が０．３μｍ以下であることを特徴とす
    る磁気記録媒体。
17. 【請求項１７】最上層の磁性層の残留磁束密度（Ｂｒ）
    が４０００ガウス以上であることを特徴とする請求項１
    ６記載の磁気記録媒体。
18. 【請求項１８】最上層の磁性層、最上層に下接する磁性
    層の他にさらに非磁性層または高透磁率層を設けてなる
    ことを特徴とする請求項４〜１７の何れかに記載の磁気
    記録媒体。
19. 【請求項１９】前記非磁性層が複数の構成層よりなり、
    複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ_１、Ｌ_２とする
    時、Ｌ_１に含まれるフィラーの結晶子サイズをＬｘ
    _１（ｎｍ）、Ｌ_２に含まれるフィラーの結晶子サイズを
    Ｌｘ_２（ｎｍ）とする時、Ｌｘ_１＞Ｌｘ_２であることを
    特徴とする請求項１８記載の磁気記録媒体。
20. 【請求項２０】前記非磁性層が複数の構成層よりなり、
    複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ_１、Ｌ_２とする
    時、Ｌ_１のヤング率をＹ_１（ｋｇ／ｍｍ^２）、Ｌ_２のヤ
    ング率をＹ_２（ｋｇ／ｍｍ^２）とする時、Ｙ_１＞Ｙ_２で
    あることを特徴とする請求項１８記載の磁気記録媒体。
21. 【請求項２１】支持体上に複数の構成層及び磁性層を設
    けてなり、複数の構成層の内、支持体に近い順にＬ_２、
    Ｌ_１とする時、Ｌ_１の全固形分中に占めるバインダーの
    比率をＢ_１（ｗｔ％）とする時、Ｂ_１が５０≦Ｂ_１≦１
    ００であり、Ｌ_１が磁性層に下接する層であることを特
    徴とする磁気記録媒体。
22. 【請求項２２】前記Ｌ_２の全固形分中に占めるバインダ
    ーの比率をＢ_２（ｗｔ％）が、５≦Ｂ_２≦３０であるこ
    とを特徴とする請求項２１記載の磁気記録媒体。
23. 【請求項２３】最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．２μｍ
    以下であることを特徴とする請求項２１記載の磁気記録
    媒体。
24. 【請求項２４】支持体上に磁性層を含む３層以上の構成
    層を設けてなり、最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．１５
    μｍ以下、媒体の総厚が７．５μｍ以下であり、且つ最
    上層の磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長軸長が０．
    ０６μｍ以下であり、最上層の磁性層に下接する非磁性
    層と支持体の間に磁性層を設けてなることを特徴とする
    磁気記録媒体。
25. 【請求項２５】支持体上に磁性層を含む複数層を設けて
    なり、最上層の磁性層（第１磁性層）の乾燥膜厚が０．
    １μｍ以下であり、最上層の磁性層に下接する非磁性層
    または高透磁率層（第１非磁性層または第１高透磁率
    層）の乾燥膜厚が０．０１〜０．１μｍであり、第１非
    磁性層または第１高透磁率層に下接する磁性層（第２磁
    性層）の乾燥膜厚が０．１μｍ以下であり、第１磁性
    層、第１非磁性層または第１高透磁率層、第２磁性層の
    ３層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下であり、第２磁性
    層と支持体の間に第２非磁性層または第２高透磁率層を
    設けてなることを特徴とする磁気記録媒体。
26. 【請求項２６】支持体上に磁性層を含む３層以上の構成
    層を設けてなり、最上層の磁性層及び最上層の磁性層に
    下接する磁性層の乾燥膜厚の和が０．２μｍ以下であ
    り、最上層に下接する磁性層が湿潤状態にあるうちに最
    上層の磁性層が設けられ、最上層の磁性層及び最上層の
    磁性層に下接する磁性層に同一の強磁性粉末が含まれて
    なることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
27. 【請求項２７】最上層の磁性層の角型比が０．８７以上
    であることを特徴とする請求項２６記載の磁気記録媒体
    の製造方法。
28. 【請求項２８】最上層の磁性層及び最上層に下接する磁
    性層が同一の磁性塗料よりなることを特徴とする請求項
    ２６記載の磁気記録媒体の製造方法。
29. 【請求項２９】支持体上に磁性層を含む複数層を設けて
    なり、最上層の磁性層に含まれる強磁性粉末の平均長軸
    長（Ｌａ）が０．０１〜０．０７μｍであり、最上層の
    磁性層以外の少なくとも一層の非磁性層に含まれる非磁
    性粉末の平均長軸長（Ｌｂ）との間にＬａ≦Ｌｂの関係
    があり、且つ該非磁性粉末の針状比が２〜２０であり、
    最上層の磁性層の乾燥膜厚が０．３μｍ以下であること
    を特徴とする磁気記録媒体。
30. 【請求項３０】前記Ｌａ（μｍ）及びＬｂ（μｍ）の間
    にＬｂ−Ｌａ≧０．０１なる関係が成立していることを
    特徴とする請求項２９記載の磁気記録媒体。