JPH05298655A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の目的は、デジタル媒体として必要な高
ＣＮ比特性やオーバーライト特性、ヘッドタッチ性に優
れた磁気記録媒体を提供することである。 【構成】本発明は、（１）非磁性支持体上に複数の層を
形成し、最上層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以下であ
り、最上層の磁性層のヤング率が最上層以外の少なくと
も１層のヤング率より小さく、かつ最上層以外の少なく
とも１層が、非磁性粉末または高透磁率材料を含むこ
と、又は（２）非磁性支持体上に複数の層を形成し、最
上層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以下であり、最上層の
磁性層の緩和点ｔａｎδｕが最上層以外の少なくとも１
層の緩和点ｔａｎδｄより小さく、かつ最上層以外の少
なくとも１層が非磁性粉末または高透磁率材料を含むこ
と、を各々特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は磁気記録媒体に関す
る。詳しくは、デジタル媒体として必要な高ＣＮ比特性
やオーバーライト特性、ヘッドタッチ性に優れた磁気記
録媒体に関する。

【０００２】

【発明の背景】特開平３−７３４１５号において、上、
下層のヤング率を規定した技術が公開されている。しか
し、本発明者の研究によれば、下層が磁性層であり、ま
た最上層の膜厚が比較的厚いため、膜厚損失や自己減磁
損失が発生し、デジタル媒体として必要な高ＣＮ比や、
オーバーライト特性が得られなかった。

【０００３】一方、近年、磁気記録媒体も高密度化、録
画時間の長時間化の傾向が顕著となってきたが、そのた
めには、強磁性金属粉末や六方晶フェライト粒末を用い
た高密度化や、薄膜ベース、薄膜磁性層を用いて記録媒
体の全厚を小さくすることが必須となる。ところで、全
厚が１２μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の長時間記
録用媒体においては、ベースも塗膜も薄層となるため、
スティフネスが低下し、ヘッドタッチが悪化することを
本発明者は見出した。そして、以上のバランスをとった
適点は単層構成では困難であることも判明した。

【０００４】ヘッドタッチを改良するためには塗布層や
ベースを硬くして、スティフネスを上げることが有効だ
が、硬くなり過ぎると、高温高湿（４０℃、８０％Ｒ
Ｈ）の環境下でテープを全長走行させた時、ヘッド摩耗
が増加したり、塗布層のエッジからと思われる粉落ちが
多い等の問題が発生することが判明した。

【０００５】

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、デジタル媒体
として必要な高ＣＮ比特性やオーバーライト特性、ヘッ
ドタッチ性に優れ、ヘッド摩耗及び粉落ちを抑制できる
磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００６】

【目的を達成するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体上に複
数の層を形成し、最上層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以
下であり、最上層の磁性層のヤング率が最上層以外の少
なくとも１層のヤング率より小さく、かつ最上層以外の
少なくとも１層が、非磁性粉末または高透磁率材料を含
むこと、又は非磁性支持体上に複数の層を形成し、最
上層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以下であり、最上層の
磁性層の緩和点ｔａｎδｕが最上層以外の少なくとも１
層の緩和点ｔａｎδｄより小さく、かつ最上層以外の少
なくとも１層が非磁性粉末または高透磁率材料を含むこ
と、を各々特徴とする。そして、本発明の好ましい実施
態様は、全厚が１２μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下
の磁気記録媒体である。

【０００７】

【発明の具体的構成】ＣＮ比やオーバーライト特性を向
上させるためには最上層の磁性層の膜厚は０．８μｍ以
下であり、特に０．５μｍ未満が好ましく、より好まし
くは０．１〜０．４μｍである。また最上層の磁性層に
は、脂肪族系ポリエステル含有ポリウレタンを、最上層
以外の少なくとも１層には、芳香族系ポリエステル含有
ポリウレタンを用いることがより好ましい。

【０００８】又、好ましくは最上層の磁性層に用いられ
るポリウレタンのガラス転移点（Ｔｇ）が−４０℃〜０
℃、最上層以外の少なくとも１層に用いられるポリウレ
タンのガラス転移点（Ｔｇ）が０℃〜１００℃（より好
ましくは４０℃〜８０℃）であるのがよい。

【０００９】又、最上層の磁性層に用いられるポリイソ
シアネートの磁性粉１００重量部に対して用いられる
（Ａ）重量部が、最上層以外の少なくとも１層に用いら
れるポリイソシアネートの非磁性粉又は高透磁率材料１
００重量部に対して用いられる（Ｂ）重量部より小さい
ことが好ましい。

【００１０】好ましいポリイソシアネート量の上記
（Ａ）、（Ｂ）の範囲としては（Ａ）が２〜１０、より
好ましくは２〜８、（Ｂ）が４〜１２、より好ましくは
４〜１０である。

【００１１】本発明において最上層の磁性層のヤング率
は、通常２００〜１０００ｋｇ／ｍｍ^２、好ましくは３
００〜９００ｋｇ／ｍｍ^２、より好ましくは４００〜８
００ｋｇ／ｍｍ^２である。最上層以外の少なくとも１層
のヤング率は、通常３００〜１５００ｋｇ／ｍｍ^２、好
ましくは４００〜１２００ｋｇ／ｍｍ^２、より好ましく
は５００〜１０００ｋｇ／ｍｍ^２である。

【００１２】本発明において上記ｔａｎδｕは、通常０
〜１００℃であり、好ましくは１０〜８０℃、より好ま
しくは２０〜７０℃である。上記ｔａｎδｄは、通常２
０〜１００℃であり、好ましくは３０〜９０℃、より好
ましくは４０〜８０℃である。

【００１３】（緩和点）本発明者は、デジタル記録や高
速ダビングを行なった場合においても、十分な再生画像
信号及び音声信号を得ることのできる磁気記録媒体につ
いて鋭意研究し、各層の緩和点を調整することによっ
て、磁気記録層の構成を変えることなく十分な上記信号
の再生が可能となることを見出し、本発明に到達したも
のである。本発明は、特に、全厚が支持体を含めて１２
μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の磁気記録媒体に適
切である。

【００１４】一般的に、高分子材料は弾性と粘性の両方
の性質を所有しているが、荷重による変形、その変形速
度、温度などにより弾性、粘性の大きさ及びその割合が
変ることが知られている。

【００１５】ところで、レオロジー分野における高分子
材料の動的粘弾性の測定は、通常、材料に正弦波的歪み
の刺激を加えたときの応力の応答を調べることにより、
概略次のようにして行なわれる。

【００１６】材料に刺激としての正弦波的歪み（ε^＊）
を加えた時、この歪み（ε^＊）に対しδだけ位相が進ん
だ応力（σ^＊）が生じるが、正弦波的応力の応答
（σ^＊）を測定することにより複素弾性率Ｅ^＊（ｉω）
を求める。［Ｅ^＊（ｉω）＝σ^＊（ｔ）／ε^＊（ｔ）、
ｉ＝虚無単位、ω＝２πｆ角振動数、ｔ＝時間。） この複素弾性率Ｅ^＊（ｉω）は、Ｅ^＊（ｉω）＝Ｅ’
（ω）＋ｉＥ”（ω）で示され、Ｅ”／Ｅ’はｔａｎδ
に等しい。ここで、 Ｅ’（ω）：単位大きさの正弦的歪みを加えた時に生ず
る歪みと同位相の応力成分の大きさを示し、「貯蔵弾性
率」と呼ばれている。 Ｅ”（ω）：歪みよりπ／２位相が進んだ応力成分で
「損失弾性率」と呼ばれている。 Ｅ”／Ｅ’＝ｔａｎδ である。このｔａｎδは緩和点と呼ばれ、例えばガラス
転移点にも似た高分子材料固有の特性である。

【００１７】この緩和点の測定に関しては、粘弾性測定
装置、特に強制振動型の直読式弾性計の普及により一定
周波数または数水準の周波数の下で弾性率の温度依存性
が容易に求められるようになり、測定結果は温度依存性
の形で提示されることが多くなった。（高分子固体の粘
弾性的挙動とその測定法の概要については、例えば、日
本化学会編、新実験化学講座、高分子化学〔ＩＩ〕、１
９７８年度版、丸善株式会社第６７９〜７１６頁に記載
されている。）なお、高分子材料の緩和点の測定は、市
販の動的粘弾性自動測定器、例えば（株）東洋ボールド
ウイン製のレオバイブロンＤＤＶ−ＩＩ−Ｅａ（商品
名）により容易に測定することができる。

【００１８】本発明者は、磁気記録層の緩和点δｕと非
磁性粉末又は高透磁率材料を含む層の緩和点δｄとが磁
気記録媒体の電磁変換特性にどのような影響を及ぼすか
について研究していたところ、δｕ及びδｄを特定の範
囲に調整することによって、磁気記録層の構成を変える
ことなく再生出力が顕著に上昇する磁気記録媒体を形成
することができた。

【００１９】（層構成）本発明の磁気記録媒体は、基本
的に、非磁性支持体上に、最上層である磁性層と、その
磁性層と非磁性支持体との間に存在する少なくとも一層
とを形成してなる。なお、非磁性支持体上の上記磁性層
が設けられていない面（裏面）には、磁気記録媒体の走
行性の向上、帯電防止および転写防止などを目的とし
て、バックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層
と非磁性支持体との間には、下引き層を設けることもで
きる。

【００２０】（非磁性支持体）前記非磁性支持体を形成
する材料としては、たとえばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２、６−ナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネート等のプ
ラスチックなどを挙げることができる。

【００２１】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。

【００２２】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常３〜１
００μｍ、好ましくは５〜５０μｍであり、ディスクや
カード状の場合は３０μｍ〜１０ｍｍ程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。但し、
本発明の磁気記録媒体における非磁性支持体の厚みは１
２μｍ未満、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは
８μｍ以下であることが好ましい。

【００２３】尚、この非磁性支持体は単独構造のもので
あっても多層構造のものであってもよい。また、この非
磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよい。

【００２４】なお又、非磁性支持体上の上記磁性層が設
けられていない面（表面）には、磁気記録媒体の走行性
の向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バ
ックコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁
性支持体との間には、下引き層を設けることができるこ
とは前記したとおりである。

【００２５】（磁性層）この発明においては、最上層が
磁性層である。この磁性層は、基本的には磁性粉をバイ
ンダー樹脂中に分散せしめてなる。

【００２６】この最上層の磁性層には、強磁性金属粉末
および／または六方晶系磁性粉を含有することが好まし
い。また、最上層の膜厚が０．８μｍ以下であり、好ま
しくは０．５μｍ未満であり、より好ましくは０．１〜
０．４μｍである。これらの条件を満足することによっ
て、本発明の磁気記録媒体は、本発明の目的を達成する
ことができる。

【００２７】最上層に用いられる強磁性金属粉末として
は、Ｆｅ、Ｃｏをはじめ、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍ
ｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐ系、Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成
分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。中で
も、Ｆｅ系金属粉が電気的特性に優れる。

【００２８】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａ
ｌ−Ｍｎ系などのＦｅ−Ａｌ系金属粉が好ましい。

【００２９】特に、この発明の目的に好ましい強磁性金
属粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Ａｌまた
は、ＡｌおよびＣａを、Ａｌについては重量比でＦｅ：
Ａｌ＝１００：０．５〜１００：２０、Ｃａについては
重量比でＦｅ：Ｃａ＝１００：０．１〜１００：１０の
範囲で含有するのが望ましい。

【００３０】Ｆｅ：Ａｌの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またＦｅ：Ｃａの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。

【００３１】この発明に用いられる強磁性金属粉末は、
その平均長軸長が０．２５μｍ未満、特に０．１０〜
０．２２μｍ、より好ましくは０．１０〜０．１７μｍ
でかつ結晶サイズが２００Å未満、特に１００〜１８０
Åであることが好ましい。又軸比（平均長軸長／平均短
軸長）が１２以下、好ましくは１０以下、さらに好まし
くは５〜９であるのが良い。強磁性金属粉末の平均長軸
長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内にあるとさらに
電磁変換特性の向上を図ることができる。

【００３２】また、この発明に用いられる強磁性金属粉
末は、その保磁力（Ｈｃ）が通常６００〜５，０００
Ｏｅの範囲にあることが好ましい。この保磁力が６００
００ｅ未満であると、電磁変換特性が劣化することが
あり、また保磁力が５，０００ Ｏｅを超えると、通常
のヘッドでは記録不能になることがあるので好ましくな
い。

【００３３】また、上記強磁性粉末は、磁気特性である
飽和磁化量（σｓ）が通常、７０ｅｍｕ／ｇ以上である
ことが好ましい。この飽和磁化量が７０ｅｍｕ／ｇ未満
であると、電磁変換特性が劣化することがある。

【００３４】さらにこの発明においては、記録の高密度
化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積で３０ｍ²／ｇ以
上、特に４５ｍ²／ｇ以上の強磁性金属粉末が好ましく
用いられる。

【００３５】この比表面積ならびにその測定方法につい
ては、「粉体の測定」（Ｊ．Ｍ．Ｄａｌｌａｖｅｌｌ
ｅ，Ｃｌｙｅｏｒｒ Ｊｒ．共著、牟田その他訳：産業
図書社刊）に詳述されており、また「化学便覧」応用編
Ｐ１１７０〜１１７１（日本化学会編：丸善（株）昭和
４１年４月３０日発行）にも記載されている。

【００３６】比表面積の測定は、たとえば粉末を１０５
℃前後で１３分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着
されているものを除去し、その後、この粉末を測定装置
に導入して窒素の初期圧力を０．５ｋｇ／ｍ² に設定
し、窒素により液体窒素温度（−１０５℃）で１０分間
測定を行なう。

【００３７】測定装置は例えばカウンターソープ（湯浅
アイオニクス（株）製）を使用する。

【００３８】さらに、好ましい強磁性粉末の構造として
は、該強磁性粉末に含有されているＦｅ原子とＡｌ原子
との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝１００：１〜１
００：２０であり、且つ該強磁性粉末のＥＳＣＡによる
分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子と
Ａｌ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝３０：
７０〜７０：３０である構造を有するものである。或い
は、Ｆｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子とが強磁
性粉末に含有され、さらにＺｎ原子とＭｎ原子との少な
くとも一方が該強磁性粉末に含有され、Ｆｅ原子の含有
量が９０原子％以上、Ｎｉ原子の含有量が１原子％以
上、１０原子％未満、Ａｌ原子の含有量が０．１原子％
以上、５原子％未満、Ｓｉ原子の含有量が０．１原子％
以上、５原子％未満、Ｚｎ原子の含有量および／または
Ｍｎ原子の含有量（但し、Ｚｎ原子とＭｎ原子との両方
を含有する場合はこの合計量）が０．１原子％以上、５
原子％未満であり、前記強磁性粉末のＥＳＣＡによる分
析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子とＮ
ｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子とＺｎ原子および／または
Ｍｎ原子の含有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｓ
ｉ（Ｚｎおよび／またはＭｎ）＝１００：（４以下）：
（１０〜６０）：（１０〜７０）：（２０〜８０）であ
る構造を有する強磁性粉末等が挙げられる。

【００３９】本発明に好ましく用いられる六方晶系の磁
性粉としては、たとえば、六方晶系フェライトを挙げる
ことができる。このような六方晶系フェライトは、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等からな
り、鉄元素の一部が他の元素（たとえば、Ｔｉ、Ｃｏ、
Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈｂ等）で置換されていても
良い。このフェライト磁性体については、ＩＥＥＥ Ｔ
ｒａｎｓ，ｏｎ ＭＡＧ−１８ １６（１９８２）に詳
しく述べられている。

【００４０】この発明において、特に好ましい六方晶系
の磁性粉としては、バリウムフェライト（以下Ｂａ−フ
ェライトと記す）磁性粉を挙げることができる。

【００４１】この発明で用いることのできる好ましいＢ
ａ−フェライト磁性粉は、Ｂａ−フェライト粉の、Ｆｅ
の一部が少なくともＣｏおよびＺｎで置換された平均粒
径（六方晶系フェライトの板面の対角線の長さ）４００
〜９００Å、板状比（六方晶系フェライトの板面の対角
線の長さを板厚で除した値）２．０〜１０．０、より好
ましくは２．０〜６．０、保磁力（Ｈｃ）４５０〜１５
００のＢａ−フェライトである。

【００４２】Ｂａ−フェライト粉は、ＦｅをＣｏで一部
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにＺｎで一部置換することにより、Ｃｏ置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにＦｅの一部をＮｂで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、この発明
に用いられるＢａ−フェライトは、さらにＦｅの一部が
Ｔｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置
換されていても差支えない。

【００４３】なお、この発明に使用するＢａ−フェライ
トは次の一般式で表される。 Ｂａ Ｏｎ（（Ｆｅ_1-m Ｍ_m ）₂ Ｏ₃ ） ［ただし、ｍ＞０．３６（ただし、Ｃｏ＋Ｚｎ＝０．０
８〜０．３、Ｃｏ／Ｚｎ＝０．５〜１０）であり、ｎは
５．４〜１１．０であり、好ましくは５．４〜６．０で
あり、Ｍは置換金属を表し、平均個数が３となる２種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。］ この発明において、Ｂａ−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好ましい理由
は、次の通りである。すなわち、平均粒径４００Å未満
の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不十分
となり、逆に９００Åを超えると、磁気記録媒体とした
ときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベルが高く
なりすぎることがあり、また、板状比が２．０未満で
は、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した垂直
配向率が得られず、逆に板状比が１０．０を越えると磁
気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノ
イズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が３５０
Ｏｅ未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、２
０００ Ｏｅを越えると、ヘッドが飽和現象を起こし記
録が困難になることがあるからである。

【００４４】この発明に用いられる六方晶系の磁性粉
は、磁気特性である飽和磁化量（σｓ）が通常、５０ｅ
ｍｕ／ｇ以上であることが望ましい。この飽和磁化量が
５０ｅｍｕ／ｇ未満であると、電磁変換特性が劣化する
ことがある。

【００４５】この発明に用いられるＢａ−フェライトの
好ましい一具体例としては、Ｃｏ−置換Ｂａフェライト
を挙げることができる。

【００４６】この発明に用いられる六方晶系の磁性粉を
製造する方法としては、たとえば目的とするＢａ−フェ
ライトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００４７】なお、この発明においては、強磁性金属粉
末と六方晶系の磁性粉とを混合して使用することもでき
る。この磁性層中の強磁性金属粉末および／または六方
晶系の磁性粉の含有量は通常、５０〜９９重量％であ
り、好ましくは６０〜９９重量％であり、特に好ましく
は７５〜９０重量％である。

【００４８】ところで、最上層である磁性層以外の、非
磁性粉末を含有する層は、磁性層の膜厚が０．８μｍ以
下であることから、最上層である磁性層に対して潤滑剤
を補給する層として機能する。磁性層に対して下層とな
る層が潤滑剤補給層として良く機能するために、磁性層
の下の層に含まれる非磁性粉末は、その吸油量ができる
だけ少ないことが好ましく、通常２００ミリリットル／
１００ｇ以下、好ましくは１００ミリリットル／１００
ｇ以下である。

【００４９】［最上層以外の非磁性粉末を含む層又は高
透磁率材料を含む層］この発明においては、非磁性支持
体の上に複数の層が形成されており、最上層以外の少な
くとも一層、好ましくは最上層に隣接する層には、非磁
性粉末又は高透磁率材料が含有されている。

【００５０】（非磁性粉末）この発明における非磁性粉
末としては、この種磁気記録媒体に使用される公知の各
種の非磁性粉末から、前記特性を備えたものを適宜に選
択して使用することができる。この非磁性粉末として
は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、酸化チ
タン、硫酸バリウム、ＺｎＳ、ＭｇＣｏ₃ 、ＣａＣＯ
₃ 、ＺｎＯ、ＣａＯ，二硫化タングステン、二硫化モリ
ブデン、窒化ホウ酸、ＭｇＯ、ＳｎＯ₂ 、ＳｉＯ₂ 、Ｃ
ｒ₂ Ｏ₃ 、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＣ、酸化セリウム、コ
ランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、
ガーネット、ケイ石、窒化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケ
イ素、炭化モリブデン、炭化ホウ素、炭化タングステ
ン、チタンカーバイド、トリポリ、ケイソウ土、ドロマ
イトや、ポリエチレン等のポリマー粉末等を挙げること
ができる。

【００５１】これらの中でも好ましいのは、カーボンブ
ラック、ＣａＣＯ_３、酸化チタン、硫酸バリウム、α−
Ａｌ_２Ｏ_３、α−酸化鉄、等の無機粉末やポリエチレン
等のポリマー粉末等である。

【００５２】前記非磁性粉末の平均粒径としては、通常
１〜３００ｎｍであり、好ましくは１〜１００ｎｍであ
り、特に好ましくは１〜５０ｎｍである。前記範囲の平
均粒径を有する非磁性粉末を使用すると、非磁性層中の
非磁性粉末による磁性層の表面性に悪影響が生じない点
で好ましい。

【００５３】前記非磁性粉末の非磁性層中における含有
量としては、非磁性層を構成する全成分の合計に対して
５〜９９重量％、好ましくは６０〜９５重量％、特に好
ましくは７５〜９５重量％である。非磁性粉末の含有量
が前記範囲内にあると、磁性層からなる最上層の表面の
状態を良好にすることができる。

【００５４】（高透磁率材料）高透磁率材料としては、
その保磁力Ｈｃが０＜Ｈｃ≦１．０×１０⁴ ［Ａ／
ｍ］、好ましくは０＜Ｈｃ≦５．０×１０³ ［Ａ／ｍ］
である。保磁力が前記範囲内にあると、高透磁率材料と
して最上層の磁化領域の安定化の効果が発揮される。保
磁力が前記範囲を超えると、磁性材料としての特性が発
現することにより所望の特性が得られなくなることがあ
るので好ましくない。

【００５５】この発明においては、高透磁率材料とし
て、前記保磁力の範囲内にある材料を適宜に選択するの
が好ましい。そのような高透磁率材料としては、例え
ば、金属軟質磁性材料、酸化物軟質磁性材料等を挙げる
ことができる。

【００５６】前記金属軟質磁性材料としては、Ｆｅ−Ｓ
ｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金（Ａｌｐｅｒｍ、Ａｌｆｅｍｏ
ｌ、Ａｌｆｅｒ），パーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ系二元合
金、およびこれにＭｏ、Ｃｕ、Ｃｒなどを添加した多元
系合金）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ［９．６重量
％のＳｉ、５．４％のＡｌ、残りがＦｅである組
成］）、Ｆｅ−Ｃｏ合金等を挙げることができる。これ
らの中でも好ましい金属軟質磁性材料としてはセンダス
トが好ましい。なお、高透磁率材料としての金属軟質磁
性材料としては以上に例示したものに限定されず、その
他の金属軟質磁性材料を使用することができる。高透磁
率材料は、その一種を単独で使用することもできるし、
又その二種以上を併用することもできる。

【００５７】前記酸化物軟質磁性材料としては、スピネ
ル型フェライトであるＭｎＦｅ₂ Ｏ₄ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃ
ｏＦｅ₂ Ｏ_{4 、} ＮｉＦｅ₂ Ｏ_{4 、} ＭｇＦｅ₂ Ｏ_{4 、} Ｌｉ
_0.5Ｆｅ_2.5 Ｏ₄ や、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−
Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｃｕ系フェライト、Ｃｕ−Ｚ
ｎ系フェライト、Ｍｇ−Ｚｎ系フェライト、Ｌｉ−Ｚｎ
系フェライト等を挙げることができる。これらの中で
も、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト及びＮｉ−Ｚｎ系フェライ
トが好ましい。なお、これらの酸化物軟質磁性材料はそ
の一種を単独で使用することもできるが、その二種以上
を併用することもできる。

【００５８】この高透磁率材料はボールミルやその他の
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径が１〜３００
ｎｍ、好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜
５０ｎｍである。このような微細な粉末を得るために、
金属軟質磁性材料においては、溶融した合金を真空雰囲
気下に噴霧することにより得ることができる。又、酸化
物軟質磁性材料においては、ガラス結晶化法、共沈焼成
法、水熱合成法、フラックス法、アルコシキシド法、プ
ラズマジェット法等により微細粉末にすることできる。

【００５９】この高透磁率材料を含有する層において
は、高透磁率材料の含有量は、通常５〜９９重量％、好
ましくは５０〜９５重量％、更に好ましくは６０〜９５
重量％である。高透磁率材料の含有量が前記範囲内にあ
ると、最上層の磁化の安定化の効果が十分に得られる。
又、高透磁率材料が５重量％未満であると、高透磁性層
としての効果が得られなくなることがあるので好ましく
ない。なお、この高透磁率材料を含有する層には、非磁
性の粒子を含有していても良い。

【００６０】この本発明の磁気記録媒体は導電性粉末を
含有していることが好ましい。この導電性粉末として
は、カーボンブラック、グラファイト、酸化錫、銀粉、
酸化銀、硝酸銀、銀の有機化合物、銅粉等の金属粒子
等、酸化亜鉛、硝酸バリウム、酸化チタン等の金属酸化
物等の顔料を酸化錫被膜、又はアンチモン固溶酸化被膜
等の導電性物質でコーティング処理したもの等がある。

【００６１】（バインダー）最上層である磁性層及び／
又はこの磁性層以外の層を形成するのに使用されるバイ
ンダーとしては、例えば、前記芳香族系ポリエステル又
は脂肪酸族系ポリエステル含有ポリウレタン、ポリエス
テル塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニル系樹脂等が代
表的なものであり、これらの樹脂は−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳ
Ｏ₃ Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＯＰＯ（ＯＭ^１）_２、−Ｐ
Ｏ（ＯＭ¹ ）₂ から選ばれた少なくとも一種の極性基を
有する繰り返し単位を含むことが好ましい。

【００６２】ただし、上記極性基において、Ｍは水素原
子あるいはＮａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ金属を表わし、
またＭ¹ は水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子
あるいはアルキル基を表す。

【００６３】上記極性基は強磁性粉末の分散性を向上さ
せる作用があり、各樹脂中の含有率は０．１〜８．０モ
ル％、好ましくは０．５〜６．０モル％である。この含
有率が０．１モル％未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が８．０モル％を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、１５，０００〜５０，０００の範囲が好まし
い。

【００６４】結合剤（バインダー）の磁性層における含
有率は、強磁性粉末１００重量部に対して通常、１０〜
４０重量部、好ましくは１５〜３０重量部である。結合
剤（バインダー）は一種単独に限らず、二種以上を組み
合わせて用いることができるが、この場合、前記ポリウ
レタンおよび／またはポリエステルと塩化ビニル系樹脂
との比は、重量比で通常、９０：１０〜１０：９０であ
り、好ましくは７０：３０〜３０：７０の範囲である。

【００６５】この発明に結合剤として、必要に応じて用
いられる極性基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を
有する共重合体と下記の極性基および塩素原子を有する
化合物との付加反応により合成することができる。

【００６６】Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＯＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ ＣＯＯＭ、Ｃｌ−ＣＨ₂−
Ｐ（＝０）（ＯＭ¹）₂ これらの化合物からＣｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａを例に
とり、上記反応を説明すると、次のようになる。 −ＣＨ₂Ｃ（ＯＨ）Ｈ−＋ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａ→−
ＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａ）Ｈ−。

【００６７】また、極性基含有塩化ビニル系共重合体
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばＢＰＯ
（ベンゾイルパーオキシド）、ＡＩＢＮ（アゾビスイソ
ブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。

【００６８】スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。

【００６９】カルボン酸もしくはその塩を導入するとき
は、例えば（メタ）アクリル酸やマレイン酸等を用い、
リン酸もしくはその塩を導入するときは、例えば（メ
タ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用いればよい。

【００７０】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。

【００７１】エポキシ基を導入する場合、エポキシ基を
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、１
〜３０モル％が好ましく、１〜２０モル％がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。

【００７２】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭５７−４４２２７号、同５
８−１０８０５２号、同５９−８１２７号、同６０−１
０１１６１号、同６０−２３５８１４号、同６０−２３
８３０６号、同６０−２３８３７１号、同６２−１２１
９２３号、同６２−１４６４３２号、同６２−１４６４
３３号等の公報に記載があり、この発明においてもこれ
らを利用することができる。

【００７３】次に、この発明に必要に応じて用いるポリ
エステルとポリウレタンの合成について述べる。一般
に、ポリエステルはポリオールと多塩基酸との反応によ
り得られる。この公知の方法を用いて、ポリオールと一
部に極性基を有する多塩基酸から、極性基を有するポリ
エステル（ポリオール）を合成することができる。

【００７４】極性基を有する多塩基酸の例としては、５
−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル酸、４−
スルホイソフタル酸、３−スルホフタル酸、５−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、２−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、４−スルホイソフタル酸ジアルキル、３−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。

【００７５】ポリオールの例としては、トリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１．３−ブタンジオール、１．４−ブタンジオー
ル、１．６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。

【００７６】次に、ポリウレタンに付いて述べる。これ
は、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得ら
れる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基
酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが
使用されている。したがって、極性基を有するポリエス
テルポリオールを原料として用いれば、極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。

【００７７】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−４−４′−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１．５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）等が挙げられる。

【００７８】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。 Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＳＯ
₂Ｍ、Ｃｌ−ＣＨ₂ ＣＯＯＭ、Ｃｌ−ＣＨ₂−Ｐ（＝０）
（ＯＭ¹）₂ なお、ポリウレタンへの極性基導入に関する技術として
は、特公昭５８−４１５６５号、特開昭５７−９２４２
２号、同５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同
５９−５４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２
１９２３号等の公報に記載があり、この発明においても
これらを利用することができる。

【００７９】この発明においては、結合剤として下記の
樹脂を（好ましくは、全結合剤の２０重量％以下の使用
量で）併用することができる。

【００８０】その樹脂としては、重量平均分子量が１
０，０００〜２００，０００である、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノキ
シ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホルム
アミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられる。

【００８１】（その他の成分）この発明では、磁性層の
耐久性を向上させるために、ポリイソシアネートを磁性
層に含有させることが望ましい。ポリイソシアネートと
しては、たとえばジフェニルメタンジイソシアネート
（ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等と
活性水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネ
ートと、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）
等と活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシ
アネートがある。ポリイソシアネートの重量平均分子量
は、１００〜３，０００の範囲にあることが望ましい。

【００８２】この発明では、磁性層に必要に応じて分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤および充填剤などの添
加剤を含有させることができる。まず、分散剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの炭
素数１２〜１８の脂肪族；これらのアルカリ金属の塩ま
たはアルカリ土類金属の塩あるいはこれらのアミド：ポ
リアルキレンオキサイドアルキル酸エステル；レシチ
ン；トリアルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウ
ム塩：カルボキシル基およびスルホン酸基を有するアゾ
系化合物などを挙げることができる。これらの分散剤
は、通常、強磁性粉に対して０．５〜５重量％の範囲で
用いられる。

【００８３】次に、潤滑剤としては、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを使用することができる。この場
合、脂肪酸の添加量は強磁性粉に対し０．２〜１０重量
％が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。添加
量が０．２重量％未満であると、走行性が低下し易く、
また１０重量％を超えると、脂肪酸が磁性層の表面にし
み出したり、出力低下が生じ易くなる。

【００８４】また、脂肪酸エステルの添加量も強磁性粉
に対して０．２〜１０重量％が好ましく、０．５〜５重
量％がより好ましい。その添加量が０．２重量％未満で
あると、スチル耐久性が劣化し易く、また１０重量％を
超えると、脂肪酸エステルが磁性層の表面にしみ出した
り、出力低下が生じ易くなる。

【００８５】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で１０：９０〜９０：１０が好ましく、より好
ましくは３０：７０〜７０：３０である。脂肪酸として
は一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、炭素数
は６〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより好まし
い。脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレン酸、
オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン酸、コハ
ク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、１．１２−ドデカンジ
カルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げられる。

【００８６】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、２−エチルヘキシルステアレート、２−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−２
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、２−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。

【００８７】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。

【００８８】次に、研磨剤の具体例としては、α−アル
ミナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸
化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭
化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸化亜鉛、酸
化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素などが挙げ
られる。研磨剤の平均粒子径は０．０５〜０．６μｍが
好ましく、０．１〜０．３μｍがより好ましい。

【００８９】次に、帯電防止剤としては、カーボンブラ
ック、グラファイト等の導電性粉末；第四級アミン等の
カチオン界面活性剤；スルホン酸、硫酸、リン酸、リン
酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活
性剤；アミノスルホン酸等の両性界面活性剤；サポニン
等の天然界面活性剤等を挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、結合剤に対して０．０１〜４０重
量％の範囲で添加される。

【００９０】（磁気記録媒体の製造）この発明の磁気記
録媒体はその製造方法に特に制限はなく、公知の単層ま
たは複数層構造型の磁気記録媒体の製造に使用される方
法に準じて製造することができる。たとえば、一般的に
は強磁性粉、結合剤、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防
止剤等を溶媒中で混練及び分散して磁性塗料を調整した
後、この磁性塗料を非磁性支持体の表面に塗布する。

【００９１】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン
（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系；メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類；メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭素水素等を用い
ることができる。

【００９２】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。この混練分
散機としては、たとえば二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロンミ
ル、サンドミル、サンドグラインダー、Ｓｑｅｇｖａｒ
ｉアトライター、高速インペラー分散機、高速ストーン
ミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホ
モジナイザー、超音波分散機、オープンニーダー、連続
ニーダー、加圧ニーダーなどが挙げられる。上記混練分
散機のうち、０．０５〜０．５ＫＷ（磁性粉１Ｋｇ当た
り）の消費電力負荷を提供することのできる混練分散機
は、加圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダー、
二本ロールミル、三本ロールミルである。

【００９３】非磁性支持体上に磁性層を塗布するには、
この発明の磁気記録媒体の製造に当たっては、特に効果
の点からウェット−オン−ウェット重層塗布方式による
同時重層塗布を行なうのがよい。具体的には、図１に示
すように、まず供給ロール３２から繰出したフィルム状
支持体１に、エクストルージョン方式の押し出しコータ
ー１０、１１により、磁性層の各塗料をウェット−オン
−ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂
直配向用磁石３３に通過し、乾燥器３４に導入し、ここ
で上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。
次に、乾燥した各塗布層付きの支持体１をカレンダーロ
ール３８の組合せからなるスーパーカレンダー装置３７
に導き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロー
ル３９に巻き取る。このようにして得られた磁性フィル
ムを所望幅のテープ状に裁断してたとえば８ｍｍビデオ
カメラ用磁気記録テープを製造することができる。

【００９４】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター１０、
１１へと供給してもよい。なお、図中、矢印Ｄは非磁性
ベースフィルムの搬送方向を示す。押し出しコーター１
０、１１には夫々、液溜まり部１３、１４が設けられ、
各コーターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式
で重ねる。即ち、下層磁性層用塗料の塗布直後（未乾燥
状態のとき）に上層磁性層塗料を重層塗布する。前記コ
ーターヘッドは、図２に示した（ウ）のヘッドが本発明
においては好ましい。

【００９５】ウェット−オン−ウェット重層塗布方法
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。

【００９６】このウェット−オン−ウェット方式による
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層の磁性層を塗布するので、下層の表面（即ち、上層と
境界面）が滑らかになるとともに上層の表面性が良好に
なり、かつ、上下層間の接触性も向上する。この結果、
特に高密度記録のために高出力、低ノイズの要求される
たとえば磁気テープとしての要求性能を満たしたものと
なりかつ、高耐久性の性能が要求されることに対しても
膜剥離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分とな
る。また、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式によ
り、ドロップアウトも低減することができ、信頼性も向
上する。

【００９７】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類：メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類：酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類：グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類：ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素：メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。

【００９８】前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石にお
ける磁場は、２０〜５，０００ガウス程度であり、乾燥
器による乾燥温度は約３０〜１２０℃であり、乾燥時間
は約０．１〜１０分間程度である。

【００９９】次にカレンダリングにより表面平滑化処理
が行なわれる。その後は、必要に応じてバーニッシュ処
理またはブレード処理を行なってスリッティングされ
る。この際、上記表面平滑化処理は、この発明の目的を
達成するのに効果的である。

【０１００】すなわち、前記したようにこの発明の必須
要件の一つに磁性層表面の粗さの条件があるが、この条
件を満たすためには、この表面平滑化処理が好ましい。
表面平滑化処理においては、カレンダー条件として温
度、線圧力、Ｃ／Ｓ（コーティングスピード）等を挙げ
ることができる。

【０１０１】この発明の目的達成のためには、通常、上
記温度を５０〜１２０℃、上記線圧力を５０〜４００ｋ
ｇ／ｃｍ、上記Ｃ／Ｓを２０〜６００ｍ／分に保持する
ことが好ましい。これらの数値の範囲を外れると、磁性
層の表面状態をこの発明の如く特定することが実施困難
になるか、あるいはそれが不可能になることがある。

【０１０２】

【発明の効果】本発明によれば、デジタル媒体として必
要な高ＣＮ比特性やオーバーライト特性、ヘッドタッチ
性を併せ備えた磁気記録媒体を提供することができ、特
に高温高湿（４０℃、８０％ＲＨ）下でのヘッド摩耗及
び粉落ちを抑制できる。

【０１０３】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。以下に示
す成分、割合、操作順序は本発明の範囲から逸脱しない
範囲において種々変更し得る。なお、下記の実施例にお
いて「部」はすべて重量部である。

【０１０４】実施例１ 下記組成物の各成分をニーダー・サンドミルを用いて混
練分散して上層用磁性塗料及び下層用塗料を調製した。

【０１０５】 ［上層用塗料Ａ］ Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末 １００部 （Ｆｅ：Ａｌ重量比＝１００：８、平均長軸長：０．１５μｍ、 Ｈｃ：１５８０ Ｏｅ，σ_ｓ：１２０ｅｍｕ／ｇ、軸比７ 結晶子サイズ：１６０Å） スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂 １０部 ［日本ゼオン（株）製、ＭＲ−１１０］ スルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ［東洋紡（株）製、ＵＲ−８７００］ アルミナ ６部 （α−Ａｌ_２Ｏ_３、平均粒径：０．１μｍ、新モース硬度：１２） カーボンブラック（平均粒径４０ｎｍ） ０．５部 ステアリン酸 ２部 ミリスチン酸 １部 ブチルステアレート １．５部 シクロヘキサノン １００部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部

【０１０６】［上層用塗料Ｂ］前記上層用塗料Ａにおい
て、Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末に代えて、Ｃｏ置換バ
リウムフェライト（Ｈｃ：１、１００ Ｏｅ、ＢＥＴ４
５ｍ^２／ｇ、σ_ｓ：６４ｅｍｕ／ｇ、板状比４）を用い
た外は前記最上層用塗料Ａの調整と同様にして調整し
た。

【０１０７】 ［下層用塗料Ｃ］ ＴｉＯ_２（球状、平均粒子径３０ｎｍ） ９０部 カーボンブラック（平均粒子径２７ｎｍ） １０部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル樹脂 ６部 ［日本ゼオン（株）製、ＭＲ−１１０］ スルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂 ３部 ［東洋紡（株）製、ＵＲ−８２００］ アルミナ ６部 （α−Ａｌ_２Ｏ_３、平均粒径：０．１μｍ、新モース硬度：１２） ミリスチン酸 １部 ブチルステアレート １部 シクロヘキサノン １００部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部

【０１０８】［下層用塗料Ｄ］前記下層用塗料Ｃにおい
てＴｉＯ_２ にかえてＦｅ−Ｓｉ−Ａｌセンダスト合金
粉末（保磁力Ｈｃ＝４０Ａ／ｍ、Ｍｉ＝２００Ｈ／ｍ、
平均粒子径５０ｎｍ）を使用した外は前記下層用塗料Ｃ
と同様にして調整した。

【０１０９】［下層用塗料Ｅ］前記下層用塗料Ｃにおい
てスルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂ＵＲ８２０
０、３部に変えてスルホン酸金属塩含有ポリエステルポ
リウレタン樹脂ＵＲ８７００、３部を用いた以外はＣと
同様にした。

【０１１０】［下層用塗料Ｆ］前記下層用塗料Ｄにおい
てスルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂ＵＲ８２０
０、３部に変えてスルホン酸金属塩含有ポリエステルポ
リウレタン樹脂ＵＲ８７００、３部を用いた以外はＤと
同様にした。

【０１１１】［下層用塗料Ｇ］前記下層用塗料Ｃにおい
てＴｉＯ_２９０部にかえてＣｏ−ｒＦｅ_２Ｏ_３（平均粒
径０．１６μｍ、結晶子サイズ３３０Å、Ｈｃ＝８００
Ｏｅ）８０部を用いた以外はＣと同様にした。

【０１１２】（実施例１〜６及び比較例５〜８）得られ
た上層用塗料及び下層用塗料のそれぞれに、硬化剤のポ
リイソシアネート（コロネートＬ、日本ポリウレタン工
業（株）製）を６部、９部添加した。

【０１１３】（比較例１〜４）得られた上層用磁性塗料
及び下層用塗料のそれぞれに、ポリイソシアネート（コ
ロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）を９部、
９部添加した。

【０１１４】（実施例１〜６及び比較例１〜８）表１に
示された組成の塗膜構成により、ウエット・オン・ウエ
ット方式で厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に塗布した後、塗膜が未乾燥であるうちに磁場
配向処理を行ない、続いて乾燥を施してから、カレンダ
ーで表面平滑処理を行ない、厚さ２．０μｍの下層と、
厚さ０．４μｍの最上層とからなる磁性層を形成した。

【０１１５】さらに、この磁性層とは反対側の前記ポリ
エチレンテレフタレートフィルムの面（裏面）に下記の
組成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、上述し
たカレンダー加工をすることによって、厚さ０．５μｍ
のバックコート層を形成し、広幅の原反磁気テープを得
た。

【０１１６】 カーボンブラック ４０部 （ラベン１０３５） 硫酸バリウム １０部 （平均粒径３００ｎｍ） ニトロセルロース ２５部 ポリウレタン系樹脂 ２５部 （日本ポリウレタン（株）製、Ｎ−２３０１） ポリイソシアネート化合物 １０部 （日本ポリウレタン（株）製、コロネートＬ） シクロヘキサノン ４００部 メチルエチルケトン ２５０部 トルエン ２５０部 こうして得られた原反磁気テープをスリットして８ｍｍ
幅のビデオ用磁気記録媒体を作成した。この磁気記録媒
体につき、以下の評価試験を行なった。その結果を表１
に示す。

【０１１７】（Ｃ／Ｎ特性）９ＭＨｚの単一波を記録
し、その信号を再生した際の出力レベルを基準サンプル
（比較例１）との比較で表した。

【０１１８】（オーバーライト特性）２ＭＨｚの信号を
飽和レベルで記録し、その後に９ＭＨｚの信号を（上書
き）記録した際の２ＭＨｚの信号の残留出力レベルを測
定した。残留出力レベルの低いほどオーバーライト特性
は良好であるとする。

【０１１９】（高温多湿（４０℃、８０％ＲＨ）下での
ヘッド摩耗）４０℃、８０％ＲＨの環境下で、Ｓ−５５
０（ソニー社製）を用い、テープを５０パス全長走行さ
せ、走行前後のヘッドの突出量を測定し、その差をヘッ
ド摩耗量とした（単位：μｍ）。

【０１２０】（高温多湿（４０℃、８０％ＲＨ）下での
粉落ち）４０℃、８０％ＲＨの環境下で、Ｓ−５５０
（ソニー社製）を用い、テープを５０パス全長走行さ
せ、走行後のデッキ内部での粉落ち量を観察した。 粉落ち多い ：Ｃ 粉落ちやや多い：Ｂ 粉落ち少ない ：Ａ

【０１２１】（緩和点測定）東洋ボールドウイン（株）
製レオバイブロンＤＤＶ−ＩＩ−ＥＡを用い、測定温度
範囲−５０〜１００℃、昇温速度２℃、周波数１１Ｈｚ
で各テ−プの緩和点を測定した。

【０１２２】（ヤング率）粘弾性スペクトロメーター
（東洋ボールドウイン（株）製）を使用して、次の条件
で磁気記録媒体の１％伸びの応力を測定した。

【０１２３】クロスヘッドスピード１００ｍｍ／分、試
料長２００ｍｍ

【０１２４】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】ウエット−オン−ウエット塗布方式による磁性
層の同時重層塗布を説明するための図

【図２】磁性層塗料を塗布するためのコーターヘッドの
図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上に複数の層を形成し、最上
   層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以下であり、最上層の磁
   性層のヤング率が最上層以外の少なくとも１層のヤング
   率より小さく、かつ最上層以外の少なくとも１層が、非
   磁性粉末または高透磁率材料を含む磁気記録媒体。
2. 【請求項２】非磁性支持体上に複数の層を形成し、最上
   層の磁性層の膜厚が０．８μｍ以下であり、最上層の磁
   性層の緩和点ｔａｎδｕが最上層以外の少なくとも１層
   の緩和点ｔａｎδｄより小さく、かつ最上層以外の少な
   くとも１層が非磁性粉末または高透磁率材料を含む磁気
   記録媒体。
3. 【請求項３】全厚が１２μｍ以下である請求項１又は２
   記載の磁気記録媒体。