JPH05274656A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPH05274656A JPH05274656A JP7168592A JP7168592A JPH05274656A JP H05274656 A JPH05274656 A JP H05274656A JP 7168592 A JP7168592 A JP 7168592A JP 7168592 A JP7168592 A JP 7168592A JP H05274656 A JPH05274656 A JP H05274656A
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- magnetic
- magnetic disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスクの磁性層と中間膜、及び前記中
間膜と保護膜との各膜間における密着性を向上させ、剥
離しにくい保護膜を有する磁気ディスクの提供。 【構成】 被覆膜が被膜された磁気ディスク基板上に、
磁性膜が被膜され、さらにカーボン系組成膜からなる保
護膜、並びに潤滑膜が順次積層されてなる磁気ディスク
において、前記磁性膜とカーボン系組成膜からなる保護
膜との間に炭素系化合物からなる中間膜が設けられたこ
とを特徴とする磁気ディスク。 【効果】 磁気ヘッドの浮上走行における安定性を確保
し、安定したＣＳＳ特性を得ることが可能である。
間膜と保護膜との各膜間における密着性を向上させ、剥
離しにくい保護膜を有する磁気ディスクの提供。 【構成】 被覆膜が被膜された磁気ディスク基板上に、
磁性膜が被膜され、さらにカーボン系組成膜からなる保
護膜、並びに潤滑膜が順次積層されてなる磁気ディスク
において、前記磁性膜とカーボン系組成膜からなる保護
膜との間に炭素系化合物からなる中間膜が設けられたこ
とを特徴とする磁気ディスク。 【効果】 磁気ヘッドの浮上走行における安定性を確保
し、安定したＣＳＳ特性を得ることが可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パソコンやコンピュー
タなどの記録メモリとして用いられる磁気ディスクメデ
ィアに関し、特に薄膜形成技術によって形成される磁気
ディスクの保護膜の改善に関する。
タなどの記録メモリとして用いられる磁気ディスクメデ
ィアに関し、特に薄膜形成技術によって形成される磁気
ディスクの保護膜の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスクメディアはパーソナルコン
ピューターやコンピュータなどの記録メディアとして、
古くはフロッピーなどと共に一般的に広く使用されてい
る。
ピューターやコンピュータなどの記録メディアとして、
古くはフロッピーなどと共に一般的に広く使用されてい
る。
【０００３】従来のコンピュータの磁気記録装置などに
用いられている円盤状の磁気ディスクは、磁気ディスク
基板上に磁性膜を形成し、この磁性膜を磁化して所定の
内容を記録するものである。そして、この磁気ディスク
の磁気記録の機構は、上記のような構成からなる磁気デ
ィスク上を磁気ヘッドが浮上走行することによって、信
号の読み取り及び書き取りがなされるものである。この
磁気ヘッドは、磁気ディスクが停止している時は磁気デ
ィスク表面に接触し、磁気ディスクが回転されると、磁
気ディスク表面に発生する気流の圧力によって浮上し、
この状態で信号の書き取り、読み取りを行なうようにな
っている。
用いられている円盤状の磁気ディスクは、磁気ディスク
基板上に磁性膜を形成し、この磁性膜を磁化して所定の
内容を記録するものである。そして、この磁気ディスク
の磁気記録の機構は、上記のような構成からなる磁気デ
ィスク上を磁気ヘッドが浮上走行することによって、信
号の読み取り及び書き取りがなされるものである。この
磁気ヘッドは、磁気ディスクが停止している時は磁気デ
ィスク表面に接触し、磁気ディスクが回転されると、磁
気ディスク表面に発生する気流の圧力によって浮上し、
この状態で信号の書き取り、読み取りを行なうようにな
っている。
【０００４】つまり、前述した磁気ヘッドの停止状態と
浮上走行状態は以下のような機構により機能するもので
ある。磁気ディスクの起動時において、磁気ヘッドはそ
れ自体を支持するばね板部材のばね圧により磁気ディス
ク表面に押し付けられた状態になっている。この状態か
ら磁気ディスクが回転を開始すると、磁気ヘッドは回転
する磁気ディスクに接触したまま摺動する。
浮上走行状態は以下のような機構により機能するもので
ある。磁気ディスクの起動時において、磁気ヘッドはそ
れ自体を支持するばね板部材のばね圧により磁気ディス
ク表面に押し付けられた状態になっている。この状態か
ら磁気ディスクが回転を開始すると、磁気ヘッドは回転
する磁気ディスクに接触したまま摺動する。
【０００５】そして、磁気ディスクの回転速度の向上に
伴い、磁気ディスクの表面に生じた気流による揚力が上
昇し、この揚力が磁気ヘッドに対する前記ばね圧に打ち
勝つと、磁気ヘッドは緩やかに磁気ディスク表面から浮
上し、磁気ヘッドの形状とばね圧と磁気ディスクの周速
とにより決定される浮上高さを保ちつつ、磁気ディスク
に対して浮上走行する。このような磁気ヘッドの浮上走
行と停止接触状態の原理のことをＣＳＳ（コンタクト
スタート アンド ストップ）と称している。
伴い、磁気ディスクの表面に生じた気流による揚力が上
昇し、この揚力が磁気ヘッドに対する前記ばね圧に打ち
勝つと、磁気ヘッドは緩やかに磁気ディスク表面から浮
上し、磁気ヘッドの形状とばね圧と磁気ディスクの周速
とにより決定される浮上高さを保ちつつ、磁気ディスク
に対して浮上走行する。このような磁気ヘッドの浮上走
行と停止接触状態の原理のことをＣＳＳ（コンタクト
スタート アンド ストップ）と称している。
【０００６】即ち、磁気ヘッドは磁気ディスクの回転開
始時点から磁気ヘッドの浮上開始時点までは、ばね圧で
押さえつけられながら磁気ディスク表面を擦り付けるこ
とになる。このため従来、磁気ディスク表面あるいは磁
気ヘッドの媒体対向面が摩耗したり、又は前記保護膜と
磁性膜の間で剥離を生じたりして、場合によっては摩擦
力が異常に上昇して磁気ディスクの表面破壊（クラッシ
ュ）を起こし、磁気ディスクの記録内容を読み出すこと
ができなくなることがあった。
始時点から磁気ヘッドの浮上開始時点までは、ばね圧で
押さえつけられながら磁気ディスク表面を擦り付けるこ
とになる。このため従来、磁気ディスク表面あるいは磁
気ヘッドの媒体対向面が摩耗したり、又は前記保護膜と
磁性膜の間で剥離を生じたりして、場合によっては摩擦
力が異常に上昇して磁気ディスクの表面破壊（クラッシ
ュ）を起こし、磁気ディスクの記録内容を読み出すこと
ができなくなることがあった。
【０００７】また、磁気ヘッドと磁気ディスクの摩擦力
が異常に上昇して磁気ディスクの回転トルク以上の値に
なると、もはや磁気ディスクは回転しなくなり、磁気記
録装置の故障につながることがあった。
が異常に上昇して磁気ディスクの回転トルク以上の値に
なると、もはや磁気ディスクは回転しなくなり、磁気記
録装置の故障につながることがあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】よって、上述したよう
な磁気ディスクでは、磁気ヘッドとの接触に耐え得る耐
ヘッドクラッシュ性及び磁気記録特性の劣化を防ぐ耐候
性を付与するために、図３及び図４に示すように、磁気
ディスク基板上の磁性膜の上面に保護膜が形成された構
成のものが一般に広く使用されていた。
な磁気ディスクでは、磁気ヘッドとの接触に耐え得る耐
ヘッドクラッシュ性及び磁気記録特性の劣化を防ぐ耐候
性を付与するために、図３及び図４に示すように、磁気
ディスク基板上の磁性膜の上面に保護膜が形成された構
成のものが一般に広く使用されていた。
【０００９】図３と図４は、従来の磁気ディスクの一例
を示すもので、この磁気ディスクは、中央部に透孔３が
形成されたＡｌ、Ａｌ合金あるいはガラスなどからなる
円盤状の基板１と、この基板１の前面に被膜されたＮｉ
−Ｐなどの第一被覆膜２とからなる磁気ディスク基板Ａ
が主体となり、磁気ディスク基板Ａの第一被覆膜２上
に、図４に示す積層膜Ｃが形成されている。
を示すもので、この磁気ディスクは、中央部に透孔３が
形成されたＡｌ、Ａｌ合金あるいはガラスなどからなる
円盤状の基板１と、この基板１の前面に被膜されたＮｉ
−Ｐなどの第一被覆膜２とからなる磁気ディスク基板Ａ
が主体となり、磁気ディスク基板Ａの第一被覆膜２上
に、図４に示す積層膜Ｃが形成されている。
【００１０】Ｎｉ−Ｐからなる第一被覆膜２上に形成さ
れる積層膜Ｃの一例として、図４に示す構成を採用する
ことができる。図４において積層膜Ｃは、厚さ千数百Å
程度のＣｒからなる第二被覆膜４と、前記第二被覆膜４
上に形成された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５と磁
性膜５上に積層された厚さ数百Å程度のグラファイト状
カーボンからなる保護膜６と、保護膜６上に被覆された
弗素樹脂系の潤滑膜８とから構成されている。
れる積層膜Ｃの一例として、図４に示す構成を採用する
ことができる。図４において積層膜Ｃは、厚さ千数百Å
程度のＣｒからなる第二被覆膜４と、前記第二被覆膜４
上に形成された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５と磁
性膜５上に積層された厚さ数百Å程度のグラファイト状
カーボンからなる保護膜６と、保護膜６上に被覆された
弗素樹脂系の潤滑膜８とから構成されている。
【００１１】しかし、上述したように前記従来の磁気デ
ィスクにおける保護膜６は、硬度の低いグラファイト状
カーボンによって形成されたものであって、この保護膜
６が、前記磁気ヘッドとの接触に耐えうるだけの耐クラ
ッシュ性を与えるためには、その厚さを厚くするか、若
しくは膜厚が薄くとも充分な硬度を有するダイヤモンド
状カーボンにより構成することが考えられる。
ィスクにおける保護膜６は、硬度の低いグラファイト状
カーボンによって形成されたものであって、この保護膜
６が、前記磁気ヘッドとの接触に耐えうるだけの耐クラ
ッシュ性を与えるためには、その厚さを厚くするか、若
しくは膜厚が薄くとも充分な硬度を有するダイヤモンド
状カーボンにより構成することが考えられる。
【００１２】前記保護膜６にダイヤモンド状カーボンを
用いた場合、前記ダイヤモンド状カーボンとＣｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層などからな
る磁性層５との密着性は充分ではなく、剥離しやすいた
めに、前記従来の磁気ディスクの耐クラッシュ性及び耐
候性を充分に高めることが困難であるという問題を有し
ていた。
用いた場合、前記ダイヤモンド状カーボンとＣｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層などからな
る磁性層５との密着性は充分ではなく、剥離しやすいた
めに、前記従来の磁気ディスクの耐クラッシュ性及び耐
候性を充分に高めることが困難であるという問題を有し
ていた。
【００１３】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、磁気ディスクの磁性層とカーボン系組成膜からなる
保護膜との間に炭素系化合物からなる中間膜を形成し、
また前記保護膜を非常に硬度の高いダイヤモンド状カー
ボンで形成することにより、前記磁性層と中間膜、及び
前記中間膜と保護膜との各膜間における密着性を向上
し、剥離しにくい保護膜を有する磁気ディスクを提供す
ることを目的とする。
で、磁気ディスクの磁性層とカーボン系組成膜からなる
保護膜との間に炭素系化合物からなる中間膜を形成し、
また前記保護膜を非常に硬度の高いダイヤモンド状カー
ボンで形成することにより、前記磁性層と中間膜、及び
前記中間膜と保護膜との各膜間における密着性を向上
し、剥離しにくい保護膜を有する磁気ディスクを提供す
ることを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の磁気デ
ィスクは、上記課題を解決するために、被覆膜が被膜さ
れた磁気ディスク基板上に、磁性膜が被膜され、さらに
カーボン系組成膜からなる保護膜、並びに潤滑膜が順次
積層されてなる磁気ディスクにおいて、前記磁性膜とカ
ーボン系組成膜からなる保護膜との間に炭素系化合物か
らなる中間膜が設けられたことを特徴とするものであ
る。
ィスクは、上記課題を解決するために、被覆膜が被膜さ
れた磁気ディスク基板上に、磁性膜が被膜され、さらに
カーボン系組成膜からなる保護膜、並びに潤滑膜が順次
積層されてなる磁気ディスクにおいて、前記磁性膜とカ
ーボン系組成膜からなる保護膜との間に炭素系化合物か
らなる中間膜が設けられたことを特徴とするものであ
る。
【００１５】請求項２に記載の磁気ディスクは、上記課
題を解決するために、請求項１の磁気ディスクにおい
て、保護膜がダイヤモンド状カーボンからなることを特
徴とするものである。
題を解決するために、請求項１の磁気ディスクにおい
て、保護膜がダイヤモンド状カーボンからなることを特
徴とするものである。
【００１６】
【作用】本発明の磁気ディスクにおいては、磁気ディス
クを構成する磁性膜とカーボン系組成膜からなる保護膜
との間に、炭素系化合物膜からなる中間膜を設けること
によって、前記磁性膜と前記炭素系化合物膜からなる中
間膜及び、前記中間膜と前記カーボン系組成膜からなる
保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮上走行にお
ける安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を得ることが
可能である。
クを構成する磁性膜とカーボン系組成膜からなる保護膜
との間に、炭素系化合物膜からなる中間膜を設けること
によって、前記磁性膜と前記炭素系化合物膜からなる中
間膜及び、前記中間膜と前記カーボン系組成膜からなる
保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮上走行にお
ける安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を得ることが
可能である。
【００１７】また、上述したように前記カーボン系組成
膜からなる保護膜と磁性膜の間に炭素系化合物膜からな
る中間膜を介在させることによって、前記各々の膜間の
密着性を良好なものとし、さらに又前記保護膜を非常に
硬度の高いダイヤモンド状カーボンで形成することによ
り、前記保護膜を充分に薄く形成することが容易であっ
て、磁気ディスクの磁気記録特性の向上を図ることがで
きる。
膜からなる保護膜と磁性膜の間に炭素系化合物膜からな
る中間膜を介在させることによって、前記各々の膜間の
密着性を良好なものとし、さらに又前記保護膜を非常に
硬度の高いダイヤモンド状カーボンで形成することによ
り、前記保護膜を充分に薄く形成することが容易であっ
て、磁気ディスクの磁気記録特性の向上を図ることがで
きる。
【００１８】
【実施例】以下に、本発明による磁気ディスクについて
図面を参照して詳細に説明する。図１及び図２は、本発
明構造を採用した磁気ディスクの一実施例を示すもので
ある。この例の磁気ディスクは、金属、ガラスあるいは
樹脂製などの円盤状の基板の表面あるいは表裏両面に磁
性膜、保護膜あるいは必要に応じて複数の中間層を被膜
した構成であって、コンピュータの磁気記録装置などの
磁気ディスクとして用いられるものである。
図面を参照して詳細に説明する。図１及び図２は、本発
明構造を採用した磁気ディスクの一実施例を示すもので
ある。この例の磁気ディスクは、金属、ガラスあるいは
樹脂製などの円盤状の基板の表面あるいは表裏両面に磁
性膜、保護膜あるいは必要に応じて複数の中間層を被膜
した構成であって、コンピュータの磁気記録装置などの
磁気ディスクとして用いられるものである。
【００１９】以下に、図１及び図２に示す本実施例にお
ける磁気ディスクの詳細構造について説明する。図１と
図２は、磁気ディスクの詳細構造を示すもので、この実
施例の磁気ディスクは、中央部に透孔３が形成されたＡ
ｌからなる円盤状の基板１と、この基板１の上面に被膜
されたＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２とからなる磁気デ
ィスク基板Ａが主体となり、磁気ディスク基板Ａの第一
被覆膜２上に図２に示す積層膜Ｂが形成されている。
ける磁気ディスクの詳細構造について説明する。図１と
図２は、磁気ディスクの詳細構造を示すもので、この実
施例の磁気ディスクは、中央部に透孔３が形成されたＡ
ｌからなる円盤状の基板１と、この基板１の上面に被膜
されたＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２とからなる磁気デ
ィスク基板Ａが主体となり、磁気ディスク基板Ａの第一
被覆膜２上に図２に示す積層膜Ｂが形成されている。
【００２０】図２に示す積層膜Ｂは、厚さ千数百Å程度
のＣｒからなる第二被覆膜４と、第二被覆膜４上に形成
された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｏ層、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５と、磁性
膜５上に積層された厚さ２０Å〜数百Å程度のＳｉＣ、
ＴｉＣ、ＣｒＣ、ＷＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣなどの炭素系化
合物膜からなる中間膜６と、前記炭素物系化合物膜から
なる中間膜６の上に形成された、厚さ数百Å程度のダイ
ヤモンド状カーボンからなる保護膜７と、前記保護膜７
上に設けられた、厚さ３０Å程度の弗素樹脂系潤滑膜８
とから構成されている。
のＣｒからなる第二被覆膜４と、第二被覆膜４上に形成
された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｏ層、Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５と、磁性
膜５上に積層された厚さ２０Å〜数百Å程度のＳｉＣ、
ＴｉＣ、ＣｒＣ、ＷＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣなどの炭素系化
合物膜からなる中間膜６と、前記炭素物系化合物膜から
なる中間膜６の上に形成された、厚さ数百Å程度のダイ
ヤモンド状カーボンからなる保護膜７と、前記保護膜７
上に設けられた、厚さ３０Å程度の弗素樹脂系潤滑膜８
とから構成されている。
【００２１】従って、上記構成からなる本実施例の磁気
ディスクにおいて、磁性膜とカーボン系組成膜からなる
保護膜との間に、炭素系化合物膜からなる中間膜を設け
ることによって、前記磁性膜と前記炭素系化合物膜から
なる中間膜及び、前記中間膜と前記カーボン系組成膜か
らなる保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮上走
行における安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を得る
ことが可能である。
ディスクにおいて、磁性膜とカーボン系組成膜からなる
保護膜との間に、炭素系化合物膜からなる中間膜を設け
ることによって、前記磁性膜と前記炭素系化合物膜から
なる中間膜及び、前記中間膜と前記カーボン系組成膜か
らなる保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮上走
行における安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を得る
ことが可能である。
【００２２】また、上述したように前記カーボン系組成
膜からなる保護膜と磁性膜の間に炭素系化合物膜からな
る中間膜を介在させることによって、前記各々の膜間の
密着性を良好なものとし、さらに又前記保護膜を非常に
硬度の高いダイヤモンド状カーボンで形成することによ
り、前記保護膜を充分に薄く形成することが容易であっ
て、磁気ディスクの磁気記録特性の向上を図ることがで
きる。
膜からなる保護膜と磁性膜の間に炭素系化合物膜からな
る中間膜を介在させることによって、前記各々の膜間の
密着性を良好なものとし、さらに又前記保護膜を非常に
硬度の高いダイヤモンド状カーボンで形成することによ
り、前記保護膜を充分に薄く形成することが容易であっ
て、磁気ディスクの磁気記録特性の向上を図ることがで
きる。
【００２３】次に、上記構成からなる本実施例の磁気デ
ィスクの製造例、並びにその製造方法について、以下に
詳細に説明する。 （製造例）まず、Ａｌからなる円盤状の基板１を用意
し、この基板１に面取加工や表面加工を施した後に、そ
の表面にＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２を無電解メッキ
などの手段により形成する。そして、上記のように形成
された磁気ディスク基板Ａは、基板加熱槽で２００℃の
温度で加熱され、乾燥された後に、これをＣｒスパッタ
槽に収納してＣｒ板をターゲット電極とし、高周波スパ
ッタリングを行ない、厚さ１０００ÅのＣｒからなる第
二被覆膜４を形成する。この時の成膜条件としては、ガ
ス圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ Ｐｏｗｅｒ ５Ｗ／ｃｍ2で
ある。
ィスクの製造例、並びにその製造方法について、以下に
詳細に説明する。 （製造例）まず、Ａｌからなる円盤状の基板１を用意
し、この基板１に面取加工や表面加工を施した後に、そ
の表面にＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２を無電解メッキ
などの手段により形成する。そして、上記のように形成
された磁気ディスク基板Ａは、基板加熱槽で２００℃の
温度で加熱され、乾燥された後に、これをＣｒスパッタ
槽に収納してＣｒ板をターゲット電極とし、高周波スパ
ッタリングを行ない、厚さ１０００ÅのＣｒからなる第
二被覆膜４を形成する。この時の成膜条件としては、ガ
ス圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ Ｐｏｗｅｒ ５Ｗ／ｃｍ2で
ある。
【００２４】続いて、前記Ｃｒからなる第二被覆膜４が
形成された磁気ディスク基板Ａを磁性膜スパッタ槽に移
し、無電解メッキを施すことにより、前記第二被覆膜４
上にＣｏ−Ｔａ−Ｃｒからなる厚さ６００Åの磁性膜５
を被膜した。この時の成膜条件はガス圧５ｍＴｏｒｒ、
ＤＣ Ｐｏｗｅｒ ５Ｗ／ｃｍ2である。
形成された磁気ディスク基板Ａを磁性膜スパッタ槽に移
し、無電解メッキを施すことにより、前記第二被覆膜４
上にＣｏ−Ｔａ−Ｃｒからなる厚さ６００Åの磁性膜５
を被膜した。この時の成膜条件はガス圧５ｍＴｏｒｒ、
ＤＣ Ｐｏｗｅｒ ５Ｗ／ｃｍ2である。
【００２５】さらに、前記Ｃｏ−Ｔａ−Ｃｒからなる磁
性膜５が被膜された磁気ディスク基板Ａをスパッタ槽に
移し、焼結ＳｉＣ板をターゲット電極とし、高周波スパ
ッタリングを行ない、ＳｉＣからなる中間膜６を厚さ２
０Å〜１００Åの範囲で成膜した。この時の成膜条件
は、ガス圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ Ｐｏｗｅｒ １Ｗ／ｃ
ｍ2である。
性膜５が被膜された磁気ディスク基板Ａをスパッタ槽に
移し、焼結ＳｉＣ板をターゲット電極とし、高周波スパ
ッタリングを行ない、ＳｉＣからなる中間膜６を厚さ２
０Å〜１００Åの範囲で成膜した。この時の成膜条件
は、ガス圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ Ｐｏｗｅｒ １Ｗ／ｃ
ｍ2である。
【００２６】そして、前記ＳｉＣからなる中間膜６が形
成された磁気ディスク基板Ａを、スパッタ槽に移して、
グラファイトからなる板をターゲット電極として、高周
波スパッタリングを行なうことにより、厚さ２００Åの
ダイヤモンド状カーボンからなる保護膜７を形成する。
この時の成膜条件は、ガス圧１０ｍＴｏｒｒ、ＤＣＰｏ
ｗｅｒ ３Ｗ／ｃｍ2である。なお、本製造例では、Ｓ
ｉＣからなる中間膜を成膜する方法としてスパッタ法を
用いたが、電子ビーム蒸着法を用いても良い。
成された磁気ディスク基板Ａを、スパッタ槽に移して、
グラファイトからなる板をターゲット電極として、高周
波スパッタリングを行なうことにより、厚さ２００Åの
ダイヤモンド状カーボンからなる保護膜７を形成する。
この時の成膜条件は、ガス圧１０ｍＴｏｒｒ、ＤＣＰｏ
ｗｅｒ ３Ｗ／ｃｍ2である。なお、本製造例では、Ｓ
ｉＣからなる中間膜を成膜する方法としてスパッタ法を
用いたが、電子ビーム蒸着法を用いても良い。
【００２７】上記の方法によって本製造例においては、
図２に示すように円盤状の基板１と、この基板１の上面
に被膜されたＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２と第一被覆
膜２上に形成された積層膜Ｂからなる磁気ディスクが得
られた。
図２に示すように円盤状の基板１と、この基板１の上面
に被膜されたＮｉ−Ｐからなる第一被覆膜２と第一被覆
膜２上に形成された積層膜Ｂからなる磁気ディスクが得
られた。
【００２８】この積層膜Ｂは、厚さ１０００ÅのＣｒか
らなる第二被覆膜４と、第二被覆膜４上に形成された厚
さ６００ÅのＣｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５
と、磁性膜５上に積層された厚さ２０Å〜１００ÅのＳ
ｉＣからなる中間膜６と、前記ＳｉＣからなる中間膜６
の上に形成された、厚さ２００Åのダイヤモンド状カー
ボンからなる保護膜７と、前記保護膜７とから構成され
ている。なお、実際の製品の場合は前記保護膜７上に弗
素樹脂系潤滑膜とから構成されている。
らなる第二被覆膜４と、第二被覆膜４上に形成された厚
さ６００ÅのＣｏ−Ｔａ−Ｃｒ層等からなる磁性膜５
と、磁性膜５上に積層された厚さ２０Å〜１００ÅのＳ
ｉＣからなる中間膜６と、前記ＳｉＣからなる中間膜６
の上に形成された、厚さ２００Åのダイヤモンド状カー
ボンからなる保護膜７と、前記保護膜７とから構成され
ている。なお、実際の製品の場合は前記保護膜７上に弗
素樹脂系潤滑膜とから構成されている。
【００２９】（試験例１）このようにして製造された上
記構成からなる本製造例の磁気ディスクを用いてダイヤ
モンド状カーボンからなる中間膜６と磁性膜５との間の
剥離強度を測定するため、以下に説明するようなセバス
チャン法を用いて前記各膜間の剥離強度の測定を行なっ
た。
記構成からなる本製造例の磁気ディスクを用いてダイヤ
モンド状カーボンからなる中間膜６と磁性膜５との間の
剥離強度を測定するため、以下に説明するようなセバス
チャン法を用いて前記各膜間の剥離強度の測定を行なっ
た。
【００３０】まず、上記のような方法によって製造され
た本発明における磁気ディスクにおいて、その最上膜で
ある潤滑膜８を成膜しない状態のテストピースを作製す
る。そして、前記テストピースおける、磁性膜５とＳｉ
Ｃからなる中間膜６との密着性をセバスチャン試験機に
て調べた。具体的には、セバスチャン試験機の接着ピン
の下面に、前記テストピースの保護膜７の上面を接着剤
にて接着した後、この接着面に垂直方向に剥離させる力
を加えることにより、前記中間膜６を磁性膜５から剥離
させ、その剥離に要する力と剥離した面の状態を調べ
た。
た本発明における磁気ディスクにおいて、その最上膜で
ある潤滑膜８を成膜しない状態のテストピースを作製す
る。そして、前記テストピースおける、磁性膜５とＳｉ
Ｃからなる中間膜６との密着性をセバスチャン試験機に
て調べた。具体的には、セバスチャン試験機の接着ピン
の下面に、前記テストピースの保護膜７の上面を接着剤
にて接着した後、この接着面に垂直方向に剥離させる力
を加えることにより、前記中間膜６を磁性膜５から剥離
させ、その剥離に要する力と剥離した面の状態を調べ
た。
【００３１】そして、上記試験の結果を表１に示した。
【００３２】
【表１】
【００３３】表１において、本発明におけるに磁気ディ
スクの磁性膜５と中間膜６の密着性については、○は５
００ｋｇ／ｃｍ2以上の密着強度を有し、かつ剥離が生
じない、△は１００〜５００ｋｇ／ｃｍ2の密着強度を
有し、かつ局部的に剥離が生じる、×は１００ｋｇ／ｃ
ｍ2未満の密着強度を有し、かつ完全に剥離する、こと
を記すものである。
スクの磁性膜５と中間膜６の密着性については、○は５
００ｋｇ／ｃｍ2以上の密着強度を有し、かつ剥離が生
じない、△は１００〜５００ｋｇ／ｃｍ2の密着強度を
有し、かつ局部的に剥離が生じる、×は１００ｋｇ／ｃ
ｍ2未満の密着強度を有し、かつ完全に剥離する、こと
を記すものである。
【００３４】表１より、本発明における磁気ディスクの
ダイヤモンド状カーボン膜からなる保護膜７と磁性膜５
の間に介在させたＳｉＣからなる中間膜６の厚さが、２
０Å以上であれば、前記磁性膜５と前記中間膜６の密着
性が良好な磁気ディスクを提供することができることが
判る。よって、前記ＳｉＣからなる中間膜６の厚さの下
限は、約２０Åとすることが好ましい。また、磁気ディ
スクにおける磁気ヘッドの浮上量との関係から磁気ヘッ
ドと磁性膜との距離を適切に保ために、中間膜６の厚さ
２０Å〜数百Åの範囲内における膜厚に対応させて、前
記保護膜７の厚さを１００Å〜５００Åの範囲内で選択
し、両者の膜厚合計が３００Åとすることが好ましい。
なお、前記中間膜６としてＳｉＣ以外に、ＴｉＣやＷＣ
などを用いても上記と同様の効果が得られた。
ダイヤモンド状カーボン膜からなる保護膜７と磁性膜５
の間に介在させたＳｉＣからなる中間膜６の厚さが、２
０Å以上であれば、前記磁性膜５と前記中間膜６の密着
性が良好な磁気ディスクを提供することができることが
判る。よって、前記ＳｉＣからなる中間膜６の厚さの下
限は、約２０Åとすることが好ましい。また、磁気ディ
スクにおける磁気ヘッドの浮上量との関係から磁気ヘッ
ドと磁性膜との距離を適切に保ために、中間膜６の厚さ
２０Å〜数百Åの範囲内における膜厚に対応させて、前
記保護膜７の厚さを１００Å〜５００Åの範囲内で選択
し、両者の膜厚合計が３００Åとすることが好ましい。
なお、前記中間膜６としてＳｉＣ以外に、ＴｉＣやＷＣ
などを用いても上記と同様の効果が得られた。
【００３５】上記試験により実証した炭素系組成膜から
なる保護膜７とＳｉＣからなる中間膜６、及び前記中間
膜６と磁性膜５の間の各膜間における密着強度は、前記
磁性膜５と保護膜７の間に前記保護膜７の成分であるカ
ーボン系組成膜に類似した性質を有する炭素系化合物膜
からなる中間膜６を介在させることにより、磁性膜５と
保護膜７の両膜における応力の相違や粒系不整合を緩和
することができることにより得られる特性であると思わ
れる。
なる保護膜７とＳｉＣからなる中間膜６、及び前記中間
膜６と磁性膜５の間の各膜間における密着強度は、前記
磁性膜５と保護膜７の間に前記保護膜７の成分であるカ
ーボン系組成膜に類似した性質を有する炭素系化合物膜
からなる中間膜６を介在させることにより、磁性膜５と
保護膜７の両膜における応力の相違や粒系不整合を緩和
することができることにより得られる特性であると思わ
れる。
【００３６】（試験例２）さらにまた、上記構成からな
る本製造例の磁気ディスクと前記従来の磁気ディスクを
用いて、そのＣＳＳ特性の比較試験を行なった。試験内
容は、前記各磁気ディスクにおけるＣＳＳ回数に対する
摩擦係数を測定したものである。本試験例２の結果を図
５に示した。
る本製造例の磁気ディスクと前記従来の磁気ディスクを
用いて、そのＣＳＳ特性の比較試験を行なった。試験内
容は、前記各磁気ディスクにおけるＣＳＳ回数に対する
摩擦係数を測定したものである。本試験例２の結果を図
５に示した。
【００３７】図５に示されているように、上述した本製
造例の磁気ディスクにおいては、ＣＳＳ回数の増加に対
して、その摩擦係数はほとんど変化せず、一定値を維持
しているが、前記従来の磁気ディスクにおいては、ＣＳ
Ｓ回数が１００回程度で、その摩擦係数値が著しく上昇
するのが判る。本試験例２の結果からも判るように、本
発明による磁気ディスクは、前記従来の磁気ディスクに
比較して、著しいＣＳＳ特性の向上が見られる。
造例の磁気ディスクにおいては、ＣＳＳ回数の増加に対
して、その摩擦係数はほとんど変化せず、一定値を維持
しているが、前記従来の磁気ディスクにおいては、ＣＳ
Ｓ回数が１００回程度で、その摩擦係数値が著しく上昇
するのが判る。本試験例２の結果からも判るように、本
発明による磁気ディスクは、前記従来の磁気ディスクに
比較して、著しいＣＳＳ特性の向上が見られる。
【００３８】以上説明したように、本発明による磁気デ
ィスクは、磁性膜５とカーボン系組成膜からなる保護膜
７の間に炭素系化合物からなる中間膜６を介在させるこ
とにより、前記磁性膜５と中間膜６、及び前記中間膜６
と保護膜７の各膜間における充分な密着強度を確保する
ことが可能で、磁性膜５と保護膜７との間における剥離
の発生を回避し、ＣＳＳ特性の低下を防止することがで
きる。
ィスクは、磁性膜５とカーボン系組成膜からなる保護膜
７の間に炭素系化合物からなる中間膜６を介在させるこ
とにより、前記磁性膜５と中間膜６、及び前記中間膜６
と保護膜７の各膜間における充分な密着強度を確保する
ことが可能で、磁性膜５と保護膜７との間における剥離
の発生を回避し、ＣＳＳ特性の低下を防止することがで
きる。
【００３９】又、前記保護膜７を高い硬度を有するダイ
ヤモンド状カーボンによって形成することによって、前
記保護膜７を薄く成膜することが容易であって、かつ前
記ダイヤモンド状カーボンは、充分に薄く成膜しても、
高い硬度を有するために、磁気ヘッドとの接触等にも耐
えることができる。従って、結果的に前記保護膜７を薄
く成膜することによって、磁気ヘッドと磁性膜５間の距
離を狭め、磁気記録特性の向上を図ることができる。
ヤモンド状カーボンによって形成することによって、前
記保護膜７を薄く成膜することが容易であって、かつ前
記ダイヤモンド状カーボンは、充分に薄く成膜しても、
高い硬度を有するために、磁気ヘッドとの接触等にも耐
えることができる。従って、結果的に前記保護膜７を薄
く成膜することによって、磁気ヘッドと磁性膜５間の距
離を狭め、磁気記録特性の向上を図ることができる。
【００４０】
【発明の効果】従って、本発明の磁気ディスクにおいて
は、磁気ディスクを構成する磁性膜と保護膜との間に炭
素系化合物からなる中間膜を設けることによって、前記
磁性膜と前記炭素系化合物からなる中間膜及び、前記中
間膜と前記保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮
上走行における安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を
得ることが可能である。
は、磁気ディスクを構成する磁性膜と保護膜との間に炭
素系化合物からなる中間膜を設けることによって、前記
磁性膜と前記炭素系化合物からなる中間膜及び、前記中
間膜と前記保護膜の密着性を向上させ、磁気ヘッドの浮
上走行における安定性を確保し、安定したＣＳＳ特性を
得ることが可能である。
【００４１】また、上述したように前記保護膜と磁性膜
の間に炭素系化合物からなる中間膜を介在させることに
よって、前記各々の膜間の密着性を良好なものとし、さ
らに又前記保護膜を非常に硬度の高いダイヤモンド状カ
ーボンで形成することにより、前記保護膜を充分に薄く
形成することが容易であって、磁気ディスクの磁気記録
特性を向上させることが可能である。
の間に炭素系化合物からなる中間膜を介在させることに
よって、前記各々の膜間の密着性を良好なものとし、さ
らに又前記保護膜を非常に硬度の高いダイヤモンド状カ
ーボンで形成することにより、前記保護膜を充分に薄く
形成することが容易であって、磁気ディスクの磁気記録
特性を向上させることが可能である。
【００４２】さらに、上述したように磁気ディスクにお
ける保護膜と中間膜及び中間膜と磁性膜との膜はがれを
回避することにより、本発明の磁気ディスクは、歩留ま
りを向上させ、高い生産性と低コスト化を可能にする。
ける保護膜と中間膜及び中間膜と磁性膜との膜はがれを
回避することにより、本発明の磁気ディスクは、歩留ま
りを向上させ、高い生産性と低コスト化を可能にする。
【図１】図１は、本発明における磁気ディスクの構成例
に係わる磁気ディスク基板の断面図である。
に係わる磁気ディスク基板の断面図である。
【図２】図２は、本発明における磁気ディスクの構成例
に係わる磁気ディスク基板上の積層膜を示す図である。
に係わる磁気ディスク基板上の積層膜を示す図である。
【図３】図３は、従来例における磁気ディスクの構成例
に係わる磁気ディスク基板の断面図である。
に係わる磁気ディスク基板の断面図である。
【図４】図４は、従来例における磁気ディスクの構成例
に係わる磁気ディスク基板上の積層膜を示す図である。
に係わる磁気ディスク基板上の積層膜を示す図である。
【図５】図５は、本発明による製造例の磁気ディスクと
従来の磁気ディスクにおいて、ＣＳＳ回数に対する摩擦
係数の変化を比較した試験例２の結果を示す図である。
従来の磁気ディスクにおいて、ＣＳＳ回数に対する摩擦
係数の変化を比較した試験例２の結果を示す図である。
１ 基板 ２ 第一被覆膜 ４ 第二被覆膜 ５ 磁性膜 ６ 中間膜 ７ 保護膜 ８ 潤滑膜 Ａ 磁気ディスク基板 Ｂ 積層膜
Claims (2)
- 【請求項１】 被覆膜が被膜された磁気ディスク基板上
に、磁性膜が被膜され、さらにカーボン系組成膜からな
る保護膜、並びに潤滑膜が順次積層されてなる磁気ディ
スクにおいて、 前記磁性膜とカーボン系組成膜からなる保護膜との間に
炭素系化合物からなる中間膜が設けられたことを特徴と
する磁気ディスク。 - 【請求項２】 請求項１の磁気ディスクにおいて、保護
膜がダイヤモンド状カーボンからなることを特徴とする
磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7168592A JPH05274656A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7168592A JPH05274656A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274656A true JPH05274656A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=13467663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7168592A Withdrawn JPH05274656A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05274656A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5434728A (en) * | 1993-04-27 | 1995-07-18 | Nec Corporation | Magnetic storage unit having a magnetic medium coated with lubricant |
| US6821624B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-11-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Amorphous carbon covered member |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP7168592A patent/JPH05274656A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5434728A (en) * | 1993-04-27 | 1995-07-18 | Nec Corporation | Magnetic storage unit having a magnetic medium coated with lubricant |
| US6821624B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-11-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Amorphous carbon covered member |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |