JPH07101504B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH07101504B2 JPH07101504B2 JP59202963A JP20296384A JPH07101504B2 JP H07101504 B2 JPH07101504 B2 JP H07101504B2 JP 59202963 A JP59202963 A JP 59202963A JP 20296384 A JP20296384 A JP 20296384A JP H07101504 B2 JPH07101504 B2 JP H07101504B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- corrosion resistance
- recording medium
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に関するものである。
近年、高密度記録の為に、例えばCo、Co−Ni、Co−Ｐ、
又はCo−Ni−Ｐ等の磁性材料を基体上に、例えばスパツ
タ、電気メツキ又は無電解メツキ等の手段で形成した金
属薄膜型磁気記録媒体が提案されている。
又はCo−Ni−Ｐ等の磁性材料を基体上に、例えばスパツ
タ、電気メツキ又は無電解メツキ等の手段で形成した金
属薄膜型磁気記録媒体が提案されている。
しかし、単に磁性金属薄膜を基体上に設けたにすぎない
磁気記録媒体は耐蝕性に乏しく、例えば多湿雰囲気下で
は耐久性がなく、実用性はない。
磁気記録媒体は耐蝕性に乏しく、例えば多湿雰囲気下で
は耐久性がなく、実用性はない。
そこで、例えば磁性金属薄膜上にカーボンの保護膜を設
けることが提案（特開昭56−41524号）されているが、
充分なものではない。
けることが提案（特開昭56−41524号）されているが、
充分なものではない。
本発明者は、金属薄膜型の磁性層上に、例えばカーボ
ン、二硫化モリブデン、窒化炭素、窒化ホウ素といつた
潤滑性を有する第１の層を設け、さらにこの上に、例え
ばクロム、チタン、Ni−Cr合金、Fe−Cr合金、Co−Cr合
金、モリブデン、TiC、TiN、亜鉛、アルミニウム、Fe−
Ni合金、Fe−Ni−Cr合金といつた耐食性を有する第２の
層を設けた磁気記録媒体は、潤滑性に富み、かつ耐食性
に優れていることを見い出した。
ン、二硫化モリブデン、窒化炭素、窒化ホウ素といつた
潤滑性を有する第１の層を設け、さらにこの上に、例え
ばクロム、チタン、Ni−Cr合金、Fe−Cr合金、Co−Cr合
金、モリブデン、TiC、TiN、亜鉛、アルミニウム、Fe−
Ni合金、Fe−Ni−Cr合金といつた耐食性を有する第２の
層を設けた磁気記録媒体は、潤滑性に富み、かつ耐食性
に優れていることを見い出した。
尚、前記第１の層と第２の層とを逆に設けた場合には、
潤滑性の点では問題の少ないものではあるが、耐食性に
乏しいことより、第１の層上に第２の層を設けることが
特に望ましい。例えば、金属薄膜型磁性層上にFe−Ni−
Cr合金層を設け、この上にカーボン層を設けたもので
は、例えば結露雰囲気下では発錆現象が起き、耐食性に
問題が多少残されているが、逆の構成では発錆現象も起
きにくく、かつ潤滑性においても問題がない。
潤滑性の点では問題の少ないものではあるが、耐食性に
乏しいことより、第１の層上に第２の層を設けることが
特に望ましい。例えば、金属薄膜型磁性層上にFe−Ni−
Cr合金層を設け、この上にカーボン層を設けたもので
は、例えば結露雰囲気下では発錆現象が起き、耐食性に
問題が多少残されているが、逆の構成では発錆現象も起
きにくく、かつ潤滑性においても問題がない。
尚、カーボンといつた潤滑性を有する第１の層は、その
厚さが約5nm以上、望ましくは約５〜200nmであることが
好ましく、又、クロムといつた耐食性を有する第２の層
は、その厚さが約１〜7nmであることが好ましい。つま
り、第２の層が薄すぎる場合には、耐食性の点で問題が
あり、又、逆に第２の層が約7nmを越えてあまりに厚す
ぎる場合には、下層の第１の層による潤滑効果が低下
し、つまり第１の層の厚み如何によらず潤滑効果が低下
し、例えば磁気ヘツドとの間ではり付き現象が起きたり
するからであり、又、第１の層が薄すぎる場合には充分
な潤滑効果が発揮されず、逆に厚すぎる場合には磁気ヘ
ツドと磁性層との距離が遠くなりすぎ、記録再生特性上
好ましくないからである。
厚さが約5nm以上、望ましくは約５〜200nmであることが
好ましく、又、クロムといつた耐食性を有する第２の層
は、その厚さが約１〜7nmであることが好ましい。つま
り、第２の層が薄すぎる場合には、耐食性の点で問題が
あり、又、逆に第２の層が約7nmを越えてあまりに厚す
ぎる場合には、下層の第１の層による潤滑効果が低下
し、つまり第１の層の厚み如何によらず潤滑効果が低下
し、例えば磁気ヘツドとの間ではり付き現象が起きたり
するからであり、又、第１の層が薄すぎる場合には充分
な潤滑効果が発揮されず、逆に厚すぎる場合には磁気ヘ
ツドと磁性層との距離が遠くなりすぎ、記録再生特性上
好ましくないからである。
〔実施例１〕 図面は、本発明に係る磁気記録媒体の断面説明図であ
る。
る。
同図中、１は、表面に例えば非磁性Ni−Ｐメツキ層が設
けられたデイスク形状のアルミニウムの基体である。
けられたデイスク形状のアルミニウムの基体である。
２は、前記非磁性Ni−Ｐメツキ層上に設けられた、例え
ばCo−Ｐメツキ層といつた金属薄膜型の磁性層である。
ばCo−Ｐメツキ層といつた金属薄膜型の磁性層である。
３は、磁性層２の形成された基体１を、例えばDCマグネ
トロンスパツタ装置に入れ、例えば５×10-3Torrのアル
ゴンガス中でスパツタエツチングし、その後磁性層２上
に形成された約５〜200nm、例えば60nm厚のカーボン層
といつた潤滑性を有する層である。
トロンスパツタ装置に入れ、例えば５×10-3Torrのアル
ゴンガス中でスパツタエツチングし、その後磁性層２上
に形成された約５〜200nm、例えば60nm厚のカーボン層
といつた潤滑性を有する層である。
４は、潤滑性を有する層３上に形成された約１〜7nm、
例えば2nm厚のCo0.8Cr0.2層といつた耐食性を有する層
である。
例えば2nm厚のCo0.8Cr0.2層といつた耐食性を有する層
である。
上記実施例の磁気デイスクを、浮上量0.25μｍ、ギヤツ
プ長1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツ
ドを用いてCSSテストを行なつた所、２万回のパス後に
おいてもヘツド及び磁気デイスクに損傷はなく、又再生
出力の低下も認められなかつた。
プ長1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツ
ドを用いてCSSテストを行なつた所、２万回のパス後に
おいてもヘツド及び磁気デイスクに損傷はなく、又再生
出力の低下も認められなかつた。
又、上記磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に25
0時間放置しエラーレートを調べたが、エラーレートの
増加はほとんど認められず、耐食性に極めて優れている
ものであつた。
0時間放置しエラーレートを調べたが、エラーレートの
増加はほとんど認められず、耐食性に極めて優れている
ものであつた。
〔実施例２〕 実施例１において、潤滑性を有する層３の厚みを200nm
以上、例えば300nmとする以外は全く同様に行ない、磁
気ディスクを構成した。
以上、例えば300nmとする以外は全く同様に行ない、磁
気ディスクを構成した。
本実施例の磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に
250時間放置しエラーレートを調べたが、エラーレート
の増加はほとんど認められず、耐食性に優れたものであ
り、又、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長1.4μｍのIBM製33
50タイプのハードデイスク用ヘツドを用いてCSSテスト
を行なつた所、２万回のパス後においてもヘツド及び磁
気デイスクに損傷はないものであつた。
250時間放置しエラーレートを調べたが、エラーレート
の増加はほとんど認められず、耐食性に優れたものであ
り、又、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長1.4μｍのIBM製33
50タイプのハードデイスク用ヘツドを用いてCSSテスト
を行なつた所、２万回のパス後においてもヘツド及び磁
気デイスクに損傷はないものであつた。
但し、実施例１のものに比べると、再生出力の低下が認
められ、実施例１の磁気デイスクよりは劣るものであつ
た。
められ、実施例１の磁気デイスクよりは劣るものであつ
た。
〔実施例３〕 実施例１において、潤滑性を有する層３の厚みを5nm以
下、例えば2nmとする以外は全く同様に行ない、磁気デ
イスクを構成した。
下、例えば2nmとする以外は全く同様に行ない、磁気デ
イスクを構成した。
本実施例の磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に
250時間放置して耐食性テストを行なつた所、耐食性に
は優れたものであつたが、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長
1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツドに
よるCSSテストでは6000回目にヘツドクラツシユが起き
たことより、走行性の面で実施例１のものより劣るもの
ではあつた。
250時間放置して耐食性テストを行なつた所、耐食性に
は優れたものであつたが、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長
1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツドに
よるCSSテストでは6000回目にヘツドクラツシユが起き
たことより、走行性の面で実施例１のものより劣るもの
ではあつた。
〔実施例４〕 実施例１において、耐食性を有する層４の厚みを8nm以
上、例えば10nmとする以外は全く同様に行ない、磁気デ
イスクを構成した。
上、例えば10nmとする以外は全く同様に行ない、磁気デ
イスクを構成した。
本実施例の磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に
250時間放置して耐食性テストを行なつた所、耐食性に
は優れたものであつたが、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長
1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツドに
よるCSSテストでは6000回目にヘツドクラツシユが起き
たことより、走行性の面で実施例１のものより劣るもの
ではあつた。
250時間放置して耐食性テストを行なつた所、耐食性に
は優れたものであつたが、浮上量0.25μｍ、ギヤツプ長
1.4μｍのIBM製3350タイプのハードデイスク用ヘツドに
よるCSSテストでは6000回目にヘツドクラツシユが起き
たことより、走行性の面で実施例１のものより劣るもの
ではあつた。
〔比較例１〕 実施例１において、耐食性を有する層４を全く設けず、
その他は同様にして磁気デイスクを構成した。
その他は同様にして磁気デイスクを構成した。
この磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に250時
間放置して耐食性テストを行なつた所、磁気ディスク表
面は全面腐食が起きていて磁化は全く低下しており、全
く耐久性に乏しいものであつた。
間放置して耐食性テストを行なつた所、磁気ディスク表
面は全面腐食が起きていて磁化は全く低下しており、全
く耐久性に乏しいものであつた。
〔比較例２〕 実施例１において、潤滑性を有する層３及び耐食性を有
する層４を設けないで、その他は同様にして磁気デイス
クを構成した。
する層４を設けないで、その他は同様にして磁気デイス
クを構成した。
この磁気デイスクを、60℃、90％RHの雰囲気下に90時間
放置して耐食性テストを行なつた所、磁気デイスク表面
は全面腐食が起きていて磁化は零になつており、全く耐
久性がなく、かつCSSテストでは4000回で再生出力が著
しく低下したものであつた。
放置して耐食性テストを行なつた所、磁気デイスク表面
は全面腐食が起きていて磁化は零になつており、全く耐
久性がなく、かつCSSテストでは4000回で再生出力が著
しく低下したものであつた。
〔効果〕 走行性及び耐食性に良いものであり、耐久性に富んでい
る。
る。
図面は、本発明に係る磁気記録媒体の１実施例の断面説
明図である。 １……基体、２……磁性層、３……潤滑性を有する層、
４……耐食性を有する層。
明図である。 １……基体、２……磁性層、３……潤滑性を有する層、
４……耐食性を有する層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−198542（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−119531（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−41524（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】磁性層上に、カーボン、二硫化モリブデ
ン、窒化炭素、または窒化ホウ素のいずれか一つにより
構成した潤滑性を有する第１の層と、クロム、チタン、
Ni−Cr合金、Fe−Cr合金、Co−Cr合金、モリブデン、Ti
C、TiN、亜鉛、アルミニウム、Fe−Ni合金、Fe−Ni−Ci
合金のいずれか一つにより構成した１〜7nmの膜厚の耐
食性を有する第２の層とをこの順に設けたことを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202963A JPH07101504B2 (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気記録媒体 |
| KR1019850006782A KR890004256B1 (ko) | 1984-09-29 | 1985-09-17 | 자기 기록 매체 |
| US06/779,160 US4680218A (en) | 1984-09-29 | 1985-09-23 | Magnetic recording medium |
| DE19853534481 DE3534481A1 (de) | 1984-09-29 | 1985-09-27 | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202963A JPH07101504B2 (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6182320A JPS6182320A (ja) | 1986-04-25 |
| JPH07101504B2 true JPH07101504B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=16466062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59202963A Expired - Lifetime JPH07101504B2 (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101504B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3027162A1 (de) * | 1979-07-23 | 1981-02-19 | Datapoint Corp | Speicherplatte mit einer duennen magnetischen legierungsschicht und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPS57198542A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sekisui Chem Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS59119531A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-09-29 JP JP59202963A patent/JPH07101504B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6182320A (ja) | 1986-04-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |