JP2950301B2 - 磁気ディスク装置 - Google Patents

磁気ディスク装置

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JP2950301B2 JP9320815A JP32081597A JP2950301B2 JP 2950301 B2 JP2950301 B2 JP 2950301B2 JP 9320815 A JP9320815 A JP 9320815A JP 32081597 A JP32081597 A JP 32081597A JP 2950301 B2 JP2950301 B2 JP 2950301B2
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    • G11B5/73921Glass or ceramic substrates

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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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  • Magnetic Heads (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に関し、特に、磁気抵抗効果型素子を備える磁気ディス
ク記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】高記録密度の磁気ディスクク装置では、
磁気ヘッドは、磁気ディスク媒体上を数十ナノメートル
(nm)程度浮上して、データの記録/再生を行なって
いる。磁気ディスク装置で更なる高密度特性を得るため
には、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体の隙間(スペーシ
ング)を小さくする必要がある。このため、USP5041932
号公報、特願平7−65795号公報、特願平8ー05
5869号公報、特願平8−150968号公報などに
見られるように、スペーシングをより小さくするため
に、磁気ヘッドを磁気ディスク媒体に接触させて記録す
る方式が提案されている。
【0003】上記特許では、現在の浮上記録系で使用さ
れているヘッドの質量領域において3点パッドスライダ
を用い、さらに潤滑剤を用いて接触記録を行なう方式を
採用する。ここで、USP5041932号公報には、磁気ヘッド
素子として誘導型磁気ヘッドを使用する例が示されてい
る。しかし、浮上記録方式では、更なる高密度化を図る
ために、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を使
用する例が増えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドをディスク面に接触させて記録・再生する場合には
以下の問題点があった。
【0005】まず、ガラス基板から成る磁気ディスク媒
体を使用すると、磁気ディスク媒体と磁気ヘッドとの接
触褶動に伴い、磁気抵抗効果型素子(MR素子)の抵抗
値が増大し、或いは、素子が破壊する等の障害が発生
し、ディスク装置としての耐久性に欠ける例があった。
【0006】また、従来の浮上記録系に用いられている
媒体を使用すると、十分な接触状態が保持出来ず、高記
録密度特性を得ることができなかった。とくに、浮上記
録方式では、媒体の微少粗さ以外の媒体の大きな表面の
うねりには影響されなかったが、接触記録においては媒
体のうねりに依存して、記録/再生特性が劣化する例も
あった。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記従来技術の問題に鑑
み、本発明の磁気ディスク装置は、ヘッド接触面を有す
る磁気記録媒体と、スライダ及び磁気抵抗効果型素子を
備え前記磁気抵抗効果型素子が前記磁気記録媒体から情
報の再生を行う際に前記スライダが前記ヘッド接触面と
接触する形式の磁気ヘッドとを備える磁気ディスク装置
において、前記ヘッド接触面におけるシート抵抗が5Ω
/□以下で、且つ、前記磁気抵抗効果型素子の前記ヘッ
ド接触面からのリセス量が15nm以下であることを特
徴とする。
【0008】本発明の磁気ディスク装置では、磁気記録
媒体のヘッド接触面からのMR素子のリセス量を15n
m以下とし、磁気記録媒体のヘッド接触面のシート抵抗
を5Ω/□以下にすることにより、磁気ヘッドと磁気記
録媒体の接触摺動に伴う、電気抵抗増大等の電気的な障
害を回避する。
【0009】更に、所望の高周波特性を得るために、磁
気記録媒体のヘッド接触面の磁気ヘッド走行方向のうね
り周期を2μm以上にし、且つ、表面粗さ(Rmax)を
1nm以下とすることにより、上記形式の磁気ディスク
装置において接触記録の利点である、良好な高周波特性
が得られる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し本発明の一実
施形態例の磁気ディスク装置について説明する。図1
は、本実施形態例の磁気ディスク装置の磁気ヘッドの斜
視図である。磁気ヘッド1は、スライダ3と、スライダ
3の媒体接触面に形成されたパッド2と、スライダ3の
後端面に形成され、スライダ3の媒体接触面側にギャッ
プを有する電磁変換素子とを有する。パッド2は、スラ
イダ3の媒体接触面のヘッドの進行方向の後方側に配置
された半円形の平面形状を有する1つのパッドと、媒体
接触面のスライダ進行方向の前方側に前端面とほぼ平行
に並んで配置された楕円形状を有する1対のパッドとか
ら成る。
【0011】電磁変換素子4は、記録専用の誘導型変換
素子と再生専用のMR素子とを備える複合型素子であ
る。スライダのサイズとしては、例えば、30%サイズ
のものが使用できる。MR素子としては、現在広く使用
されている横バイアス及び縦バイアスのいずれの形式の
ものも使用できる。
【0012】図2に、電磁変換素子4を含むスライダ3
の後端部の断面を示した。電磁変換素子4は、スライダ
3とアルミナ層6とに挾まれて配置され、研磨等を利用
して媒体接触面からのリセス量が生じている。
【0013】
【実施例】実施例1 上記実施形態例の磁気ヘッドを複数試作した。各電磁変
換素子のMR素子のリセス量として、5nm、10n
m、及び、15nmの値を採用した。各磁気ヘッドと共
に使用する磁気記録媒体(磁気ディスク)には、表1に
示す構成の各媒体を採用した。
【表1】
【0014】媒体1は、表1に示すように、通常の浮上
記録用ヘッドに使用されているアルカリ強化ガラス基板
を用い、その上にCu膜をスパッタし、更に、NiP層
をメッキし鏡面研磨仕上げを行った。その上に、表1に
示すように、Cr層、CoCrTaPt層をスパッタし、さ
らに保護膜としてカーボン膜をスパッタで形成した。さ
らに、その媒体上にDOL潤滑剤を5nm厚となるよう
に塗布した。媒体表面で、媒体のシート抵抗を測定し、
その結果を表1に示した。シート抵抗は、三菱油化製ロ
レスタAP(MCP−T400)を使用し、4端子法で
測定した。
【0015】媒体2から4までは、通常の浮上記録用ヘ
ッドに使用されているガラス基板をもちいた媒体とは異
なり、ヘッド接触面の表面抵抗を低下させるために低抵
抗層を付加し、或いは、下地Cr膜を形成して、そのシ
ート抵抗を5Ω/□以下にした。媒体5は、基板にシリ
コン基板を用い、下地膜を表1のように成膜した。媒体
6は、基板にカーボン基板を用い、通常の浮上記録用ヘ
ッドに使用される媒体構成を採用した。媒体7は、基板
に導電性ガラス基板を用い、通常の浮上記録用ヘッドに
使用される媒体構成とした。媒体8は、Al合金基板上
にNiPメッキ層を形成し、鏡面研磨した基板を用い
た。媒体9は、従来の浮上記録用のガラス基板を用いた
媒体であり、媒体10は、通常の浮上記録用ヘッドに使
用されているガラス基板とした。媒体2〜10までは、
全て、DOL潤滑剤を5nm厚に形成した。
【0016】表1に、各媒体の接触面のシート抵抗を示
した。また、試作した磁気ヘッドで記録及び再生を24
時間行った後の、MR素子の抵抗変化を測定した結果を
示している。表1に示された結果から、MR素子におけ
る抵抗変化は、MR素子のリセス量、つまり、媒体接触
面とMR素子との離隔距離に依存することが判明した。
リセス量が15nm以下のMR素子では、シート抵抗が
5Ω/□以下の媒体上で使用しても、MR素子の抵抗値
が変化しない。また、リセス量が17nm以上のMR素
子では、通常の浮上記録に用いられている媒体上でMR
素子を使用しても、MR素子の抵抗変化はないことが判
る。
【0017】実施例2 実施例1で使用された、ガラス基板を有する媒体2の構
成を採用し、表面のうねり周期が相互に異なる複数の磁
気ディスクを作製した。各磁気ディスクは、ヘッド接触
面に表2に示す円周方向のうねり周期を有した。ここ
で、うねり周期とは、媒体表面の長周期で且つゆるやか
な凹凸の周期をいう。
【表2】
【0018】記録/再生ヘッドには、実施例1に用いた
複合型素子を有する磁気ヘッドを用いた。MR素子の磁
性膜の特性は、残留磁束密度と磁性膜厚の積(Br・
δ)が80ガウス・ミクロンで、保磁力が2500Oe
(エルステッド)である。磁気ヘッドを、磁気記録媒体
上で5m/sの周速(V)で摺動させて再生を行い、そ
の記録/再生における周波数特性を測定した。MRヘッ
ドのシールドのギャップ長は0.18μmである。表2
には、孤立波出力の20%となる出力の周波数F(MH
z)を、記録密度に換算して示した。ここで、記録密度
(KFCI)は、50.8×(F/V)で示される。
【0019】表2から理解できるように、磁気ディスク
のヘッド接触面の磁気ヘッド走行方向(半径方向)のう
ねり周期を2μm以上とし、且つ、表面粗さ平均(R
a)を1nm以下とした媒体11、12、13上におい
て、上記実施例の記録/再生ヘッドは、優れた記録密度
特性を有する。
【0020】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の磁気抵抗効果型磁気ディス
ク装置は、上記実施形態例の構成にのみ限定されるもの
ではなく、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変
更を施したものも、本発明の範囲に含まれる。
【0021】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の磁気抵
抗効果型磁気ディスク装置によると、所定のリセス量を
有するMR素子と所定のシート抵抗を有する磁気記録媒
体との組合せにより、磁気抵抗効果型素子の抵抗値等の
特性が変化することがなく、長期に安定な再生特性が得
られる。
【0022】また、磁気記録媒体のうねり周期を所定範
囲に選定することにより、磁気抵抗効果型素子及び誘導
型磁電変換素子を備える磁気ヘッドにおいて良好な高密
度記録特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】接触型薄膜インダクティブ/MR複合ヘッド。
【図2】磁気抵抗効果ヘッドスライダ後端の断面図。
【符号の説明】
1 薄膜インダクティブ/MR複合ヘッド 2 3点パッド 3 スライダ 4 MRヘッド素子 5 リセス量 6 アルミナ層
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−293217(JP,A) 特開 平6−259739(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/60 G11B 5/02 G11B 5/39 G11B 5/66 G11B 5/82

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ヘッド接触面を有する磁気記録媒体と、
    スライダ及び磁気抵抗効果型素子を備え前記磁気抵抗効
    果型素子が前記磁気記録媒体から情報の再生を行う際に
    前記スライダが前記ヘッド接触面と接触する形式の磁気
    ヘッドとを備える磁気ディスク装置において、 前記ヘッド接触面におけるシート抵抗が5Ω/□以下
    で、且つ、前記磁気抵抗効果型素子の前記ヘッド接触面
    からのリセス量が15nm以下であることを特徴とする
    磁気ディスク装置。
  2. 【請求項2】 前記磁気記録媒体の基板がガラス基板か
    ら成る、請求項1に記載の磁気ディスク装置。
  3. 【請求項3】 前記磁気記録媒体の基板が、導電性ガラ
    ス基板である、請求項2に記載の磁気ディスク装置。
  4. 【請求項4】 前記ヘッド接触面における磁気ヘッドの
    走行方向のうねり周期が2μm以上である、請求項1〜
    3の何れかに記載の磁気ディスク装置。
  5. 【請求項5】 前記ヘッド接触面の記録媒体表面粗さ平
    均(Ra)が1nm以下である、請求項1〜4の何れか
    に記載の磁気ディスク装置。
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