JP3058046B2 - 磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク装置Info
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- JP3058046B2 JP3058046B2 JP7065795A JP6579595A JP3058046B2 JP 3058046 B2 JP3058046 B2 JP 3058046B2 JP 7065795 A JP7065795 A JP 7065795A JP 6579595 A JP6579595 A JP 6579595A JP 3058046 B2 JP3058046 B2 JP 3058046B2
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- magnetic disk
- magnetic head
- head slider
- mass
- disk drive
- Prior art date
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュータなどの周辺
記憶装置に用いられる磁気ディスク装置に関するもので
ある。
記憶装置に用いられる磁気ディスク装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記憶ファイルの分野におい
て、高記録密度化が着実に向上している磁気ディスク装
置では、情報を読み書きする磁気ヘッドと情報を保持し
ている磁気ディスク媒体との間隔（以下スペーシングと
称する）を小さくして円周方向に記録された情報の列
（以下トラックと称する）の記録密度（即ち１トラック
当たりおよび単位長さ当たりの記録密度を表し、以下線
記録密度と称する）を増加させること、さらに半径方向
の記録密度（即ち単位長さ当たりのトラック数、以下ト
ラック密度と称する）を増加させることが高密度化の重
要な要素の一つとなっている。磁気ディスク媒体に固い
基板を用いたハード磁気ディスク装置において、スペー
シングを小さくするために空気の浮揚力を用いる磁気ヘ
ッドスライダーは荷重および質量ともに小さくする、即
ち小型化が進められている。さらに、空気の浮揚力を利
用しないハード磁気ディスク装置用の接触型磁気ヘッド
スライダーが開発されている（例えば、ジャーナル オ
ブ マグネティック ソサイエティ（Ｈ．Ｈａｍｉｌｔ
ｏｎ： Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｍａｇｎｅｔ
ｉｃＳｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．１
５，ＳｕｐｐｌｅｍｅｎｔＮｏ．Ｓ２（１９９１）４８
３−４９０）および特開平５−５０８８０８号公報）。
これらの接触型磁気ヘッドスライダーは軽荷重，軽質量
による小型化が特徴である。例えば上記文献には質量３
０μｇ，荷重１０ｍｇ重〜１２０ｍｇ重の接触型磁気ヘ
ッドスライダーについて述べられている。また上記公報
には奥行き１．０mm以下，幅０．５mm以下および厚み
０．２mm以下の小型ヘッドチップが開示されている。ま
た例えばＨ．Ｈａｍｉｌｔｏｎ：Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｉ
ｎ Ｃｏｎｔａｃｔ Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ，ＡＳＭＥ
１９９２，ＴＲＩＢ−Ｖｏｌ．３（１９９２）１３−２
３には質量１ｍｇ，荷重２０〜５０ｍｇ重の接触型磁気
ヘッドスライダーが述べられている。
て、高記録密度化が着実に向上している磁気ディスク装
置では、情報を読み書きする磁気ヘッドと情報を保持し
ている磁気ディスク媒体との間隔（以下スペーシングと
称する）を小さくして円周方向に記録された情報の列
（以下トラックと称する）の記録密度（即ち１トラック
当たりおよび単位長さ当たりの記録密度を表し、以下線
記録密度と称する）を増加させること、さらに半径方向
の記録密度（即ち単位長さ当たりのトラック数、以下ト
ラック密度と称する）を増加させることが高密度化の重
要な要素の一つとなっている。磁気ディスク媒体に固い
基板を用いたハード磁気ディスク装置において、スペー
シングを小さくするために空気の浮揚力を用いる磁気ヘ
ッドスライダーは荷重および質量ともに小さくする、即
ち小型化が進められている。さらに、空気の浮揚力を利
用しないハード磁気ディスク装置用の接触型磁気ヘッド
スライダーが開発されている（例えば、ジャーナル オ
ブ マグネティック ソサイエティ（Ｈ．Ｈａｍｉｌｔ
ｏｎ： Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｍａｇｎｅｔ
ｉｃＳｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．１
５，ＳｕｐｐｌｅｍｅｎｔＮｏ．Ｓ２（１９９１）４８
３−４９０）および特開平５−５０８８０８号公報）。
これらの接触型磁気ヘッドスライダーは軽荷重，軽質量
による小型化が特徴である。例えば上記文献には質量３
０μｇ，荷重１０ｍｇ重〜１２０ｍｇ重の接触型磁気ヘ
ッドスライダーについて述べられている。また上記公報
には奥行き１．０mm以下，幅０．５mm以下および厚み
０．２mm以下の小型ヘッドチップが開示されている。ま
た例えばＨ．Ｈａｍｉｌｔｏｎ：Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｉ
ｎ Ｃｏｎｔａｃｔ Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ，ＡＳＭＥ
１９９２，ＴＲＩＢ−Ｖｏｌ．３（１９９２）１３−２
３には質量１ｍｇ，荷重２０〜５０ｍｇ重の接触型磁気
ヘッドスライダーが述べられている。
【０００３】また、磁気ヘッドを磁気ディスク媒体に接
触させて用いる例に、磁気ディスク媒体に柔らかな基板
を用いた可撓型磁気ディスク（フロッピーディスク）が
知られている。
触させて用いる例に、磁気ディスク媒体に柔らかな基板
を用いた可撓型磁気ディスク（フロッピーディスク）が
知られている。
【０００４】また、前記トラック密度を増加させるため
に磁気ヘッドに設けられた記録再生素子の半径方向の幅
を小さくすることが試みられている。
に磁気ヘッドに設けられた記録再生素子の半径方向の幅
を小さくすることが試みられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし前記の空気浮上
型磁気ヘッドスライダーは、安定な空気浮上力を得るた
めに荷重を１ｇｆ（１ｇ重）以下にする事は困難であ
り、またスペーシングを小さくすると磁気ディスク媒体
との間欠的な接触が避けられず、また塵埃の影響を受け
易くなることも加わって空気の浮上力の乱れにより磁気
ヘッドと磁気ディスクが高衝撃力によって接触して磁気
ヘッドまたは磁気ディスク媒体が摩耗し、蓄積情報が失
われる確率が多くなる。
型磁気ヘッドスライダーは、安定な空気浮上力を得るた
めに荷重を１ｇｆ（１ｇ重）以下にする事は困難であ
り、またスペーシングを小さくすると磁気ディスク媒体
との間欠的な接触が避けられず、また塵埃の影響を受け
易くなることも加わって空気の浮上力の乱れにより磁気
ヘッドと磁気ディスクが高衝撃力によって接触して磁気
ヘッドまたは磁気ディスク媒体が摩耗し、蓄積情報が失
われる確率が多くなる。
【０００６】また前記ハード磁気ディスクに用いられる
接触型磁気ヘッドスライダーは、低荷重および低質量が
可能であるが、連続的な接触摩耗に対し十分な耐摩耗性
を有しているとはいえない。また接触型磁気ヘッドスラ
イダーと磁気ディスク媒体の固体同士の摩擦または磁気
ディスク媒体のうねりや粗さが与える磁気ヘッドスライ
ダーの振動により、接触型磁気ヘッドは磁気ディスク上
で跳躍して安定かつ小さなスペーシングが得られないた
め磁気的再生信号の位置および時間変動が多く読み取り
エラーを発生させ、また記録密度も上げられない欠点を
有している。またトラック密度を増加させると、半径方
向の磁気ヘッドの振動により磁気ディスク媒体に書き込
まれたトラックと磁気ヘッドの記録再生素子のずれが生
じて磁気的再生信号の位置および時間変動にともなう読
み取りエラーが多くなる。
接触型磁気ヘッドスライダーは、低荷重および低質量が
可能であるが、連続的な接触摩耗に対し十分な耐摩耗性
を有しているとはいえない。また接触型磁気ヘッドスラ
イダーと磁気ディスク媒体の固体同士の摩擦または磁気
ディスク媒体のうねりや粗さが与える磁気ヘッドスライ
ダーの振動により、接触型磁気ヘッドは磁気ディスク上
で跳躍して安定かつ小さなスペーシングが得られないた
め磁気的再生信号の位置および時間変動が多く読み取り
エラーを発生させ、また記録密度も上げられない欠点を
有している。またトラック密度を増加させると、半径方
向の磁気ヘッドの振動により磁気ディスク媒体に書き込
まれたトラックと磁気ヘッドの記録再生素子のずれが生
じて磁気的再生信号の位置および時間変動にともなう読
み取りエラーが多くなる。
【０００７】また可撓型磁気ディスク装置に用いられる
接触型磁気ヘッドは、質量は大きいが荷重が大きく、連
続的な接触摩耗に対して十分とは言えない。特に、可撓
型磁気ディスク装置では毎秒３６０回転といった遅い速
度で摺動させるのが一般的であり、ハード磁気ディスク
装置の様な毎秒５０００回転と言った高速で摺動させた
場合、耐摩耗性は全く無い。
接触型磁気ヘッドは、質量は大きいが荷重が大きく、連
続的な接触摩耗に対して十分とは言えない。特に、可撓
型磁気ディスク装置では毎秒３６０回転といった遅い速
度で摺動させるのが一般的であり、ハード磁気ディスク
装置の様な毎秒５０００回転と言った高速で摺動させた
場合、耐摩耗性は全く無い。
【０００８】本発明の目的は、上記問題点を解決した、
高記録密度で高信頼性の接触型磁気ヘッドを用いた磁気
ディスク装置を提供することである。
高記録密度で高信頼性の接触型磁気ヘッドを用いた磁気
ディスク装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク装
置に用いられる接触型磁気ヘッドは、押しつけ荷重が
０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重以下で質量が２．０ｍ
ｇ以上１８１ｍｇ以下であることを特徴としている。ま
た大質量でかつ小型の磁気ヘッドを実現するために、磁
気ヘッドスライダー母材料として、高密度の単体または
複合材料を用いるかまたは前記磁気ヘッドに高密度の質
量付与層を付加することを特徴としている。
置に用いられる接触型磁気ヘッドは、押しつけ荷重が
０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重以下で質量が２．０ｍ
ｇ以上１８１ｍｇ以下であることを特徴としている。ま
た大質量でかつ小型の磁気ヘッドを実現するために、磁
気ヘッドスライダー母材料として、高密度の単体または
複合材料を用いるかまたは前記磁気ヘッドに高密度の質
量付与層を付加することを特徴としている。
【００１０】
【作用】本発明の磁気ディスク装置０１は、図１の側面
図および図２の正面図に示すように、磁気ディスク媒体
０２とそれを回転させるモータ０８と、さらに接触型磁
気ヘッド０３とそれを支えるヘッドアーム０４とそれら
を磁気ディスク媒体の半径方向に移動（以下トラッキン
グと称する）させるアクチュエータ０５と、前記モータ
０８およびアクチュエータ０５を固定するベース０７と
磁気ディスク装置内を外気から遮断するためのカバー０
６からなる。またフィルタ０９を通して、塵埃あるいは
ＳＯx ，ＮＯx ，Ｈ2 Ｏ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性
のガスや有機物ガスを除去して外気と圧力を一定に保
つ。
図および図２の正面図に示すように、磁気ディスク媒体
０２とそれを回転させるモータ０８と、さらに接触型磁
気ヘッド０３とそれを支えるヘッドアーム０４とそれら
を磁気ディスク媒体の半径方向に移動（以下トラッキン
グと称する）させるアクチュエータ０５と、前記モータ
０８およびアクチュエータ０５を固定するベース０７と
磁気ディスク装置内を外気から遮断するためのカバー０
６からなる。またフィルタ０９を通して、塵埃あるいは
ＳＯx ，ＮＯx ，Ｈ2 Ｏ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性
のガスや有機物ガスを除去して外気と圧力を一定に保
つ。
【００１１】本発明の接触型磁気ヘッド０３は、押しつ
け荷重が０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重以下で質量が
２．０ｍｇ以上１８１ｍｇ以下であることを特徴として
いるが、その構成は例えば図３に示すように磁気的記録
再生素子１１が設けられた磁気ヘッドスライダー（以下
スライダーと称する）１２の表面に接触パッド１３が形
成され該スライダーを支持する支持機構１４からなる。
接触パッド１３の別の形態は、図４に示すようにｎ個の
平面または曲面を有する凸部からなり、その数（ｎ）お
よび配置は任意である。また前記磁気ヘッドスライダー
１２は、Ｓｉ，Ｇｅ，ダイアモンド，ダイアモンド状カ
ーボン，非晶質カーボン，Ｔａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，
Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒ
ｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，また
はＬｕなどの単体またはＡｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，フェライト，ＢｅＯ，ガラス，ＢａＴｉ
Ｏ3 ，ＣａＴｉＯ3 などの酸化物またはＳｉＣ，Ｔｉ
Ｃ，ＺｒＣ，ＨｆＣ，ＷＣ，Ｂ4 Ｃなどの炭化物または
キュービックＢＮ，ＴｉＮ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＡｌＮなどの
窒化物またはそれらの複合体、例えばＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ，Ａｌ2Ｏ3 −ＴｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3 −ＳｉＣ，Ａｌ2
Ｏ3 −ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 −キュービックＢＮ，Ｂｅ
Ｏ−ＴｉＣ，ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 などを使用することが
できる。また前記磁気ヘッドスライダー１２は、図４に
示すように上記の母材料にＴａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，
Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒ
ｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，また
はＬｕなどの高密度の質量付与層２０を被覆あるいは張
り付けた構造を有して質量を大きくすることができる。
また磁気ヘッドスライダー支持機構（以下支持バネと称
する）１４は、バネとして有効な材料であるステンレ
ス，燐青銅，シリコン，アルミナなどの材料を用いる事
が出来る。磁気的記録再生素子１１で発生した電気信号
は、電極１６から導線１７を通じ電極１５へ伝えられ、
さらに支持バネに被覆された配線膜１８から電極１９を
通して回路へ送られる。また前記接触パッド１３の表面
に非晶質カーボン，ダイアモンドライクカーボン，ダイ
アモンド，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＳｉＣ，
Ｂ4 Ｃなどの被膜を被覆しても良い。
け荷重が０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重以下で質量が
２．０ｍｇ以上１８１ｍｇ以下であることを特徴として
いるが、その構成は例えば図３に示すように磁気的記録
再生素子１１が設けられた磁気ヘッドスライダー（以下
スライダーと称する）１２の表面に接触パッド１３が形
成され該スライダーを支持する支持機構１４からなる。
接触パッド１３の別の形態は、図４に示すようにｎ個の
平面または曲面を有する凸部からなり、その数（ｎ）お
よび配置は任意である。また前記磁気ヘッドスライダー
１２は、Ｓｉ，Ｇｅ，ダイアモンド，ダイアモンド状カ
ーボン，非晶質カーボン，Ｔａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，
Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒ
ｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，また
はＬｕなどの単体またはＡｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，フェライト，ＢｅＯ，ガラス，ＢａＴｉ
Ｏ3 ，ＣａＴｉＯ3 などの酸化物またはＳｉＣ，Ｔｉ
Ｃ，ＺｒＣ，ＨｆＣ，ＷＣ，Ｂ4 Ｃなどの炭化物または
キュービックＢＮ，ＴｉＮ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＡｌＮなどの
窒化物またはそれらの複合体、例えばＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ，Ａｌ2Ｏ3 −ＴｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3 −ＳｉＣ，Ａｌ2
Ｏ3 −ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 −キュービックＢＮ，Ｂｅ
Ｏ−ＴｉＣ，ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 などを使用することが
できる。また前記磁気ヘッドスライダー１２は、図４に
示すように上記の母材料にＴａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，
Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒ
ｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，また
はＬｕなどの高密度の質量付与層２０を被覆あるいは張
り付けた構造を有して質量を大きくすることができる。
また磁気ヘッドスライダー支持機構（以下支持バネと称
する）１４は、バネとして有効な材料であるステンレ
ス，燐青銅，シリコン，アルミナなどの材料を用いる事
が出来る。磁気的記録再生素子１１で発生した電気信号
は、電極１６から導線１７を通じ電極１５へ伝えられ、
さらに支持バネに被覆された配線膜１８から電極１９を
通して回路へ送られる。また前記接触パッド１３の表面
に非晶質カーボン，ダイアモンドライクカーボン，ダイ
アモンド，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＳｉＣ，
Ｂ4 Ｃなどの被膜を被覆しても良い。
【００１２】また図５に、本発明の磁気ディスク装置０
１に用いる接触型磁気ヘッド０３を用いて情報を磁気的
に蓄積する磁気ディスク媒体０２の内、ハード磁気ディ
スク媒体３４の構成を示す。アルミニウム合金にＮｉＰ
またはアルマイトを被覆して表面を鏡面仕上げした、あ
るいはＴｉ合金，ガラス，カーボンなどからなるハード
型磁気ディスク基板３０とその上に磁性薄膜（例えばＣ
ｏＣｒ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＮｉＰｔ，ＣｏＣｒＰｔ，
ＣｏＮｉＰなどのＣｏ系磁性薄膜またはγ−Ｆｅ2 Ｏ3
やＢａフェライトなどのフェライト類）３１とその上に
被覆された保護膜（非晶質カーボン，水素化カーボン，
ダイアモンドライクカーボン，ダイアモンド，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＺｒＯ2 など）３２とその上に被覆された潤滑剤
（例えばパーフロロポリエーテルなど）３３から構成さ
れている。
１に用いる接触型磁気ヘッド０３を用いて情報を磁気的
に蓄積する磁気ディスク媒体０２の内、ハード磁気ディ
スク媒体３４の構成を示す。アルミニウム合金にＮｉＰ
またはアルマイトを被覆して表面を鏡面仕上げした、あ
るいはＴｉ合金，ガラス，カーボンなどからなるハード
型磁気ディスク基板３０とその上に磁性薄膜（例えばＣ
ｏＣｒ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＮｉＰｔ，ＣｏＣｒＰｔ，
ＣｏＮｉＰなどのＣｏ系磁性薄膜またはγ−Ｆｅ2 Ｏ3
やＢａフェライトなどのフェライト類）３１とその上に
被覆された保護膜（非晶質カーボン，水素化カーボン，
ダイアモンドライクカーボン，ダイアモンド，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＺｒＯ2 など）３２とその上に被覆された潤滑剤
（例えばパーフロロポリエーテルなど）３３から構成さ
れている。
【００１３】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。
【００１４】（実施例１）図１および図２に示す本発明
の磁気ディスク装置の部品として、図３に示す接触型磁
気ヘッド０３の基本構成に従って試料を作製した。磁気
的記録再生素子１１が設けられた、表１に示す長さＬm
m、幅Ｗmm、高さＨmmのＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣからなるス
ライダー１２の表面にそれぞれ表１〜表４に示す幅２０
μm ，長さ２０μm の面積を有する３つの平面からなる
接触パッド１３を機械加工により形成した。質量は同じ
く表１に示す値である。さらに該スライダー４３を厚さ
Ｄmm，幅０．５mm，長さ１０mmのステンレスの支持バネ
１４に接着して、表１〜表４に示すような荷重および質
量を変化させた接触型磁気ヘッドを作製した。さらに磁
気ディスク媒体０２としてハード磁気ディスク媒体３４
を、図６に示す基本構成に従って作製した。即ち、ハー
ド磁気ディスク基板３０として外径１．８インチのガラ
ス基板の上に磁性薄膜３１として、ＣｏＰｔＣｒをスパ
ッタ法により２０nm成膜し、その上に保護膜３２として
スパッタ法により水素を１０％添加したカーボンを５nm
成膜し、その上に潤滑剤３３としてパーフロロポリエー
テルを浸漬法により２nm被覆したものを用いた。上記の
接触型磁気ヘッド０３をヘッドアーム０６に取り付け、
さらに該ヘッドアーム０６をベース０７に取り付けられ
たアクチュエータ０５に取り付けた。また上記磁気ディ
スク媒体０２を、ベース０７に取り付けられたモータ０
８の軸に取り付け、前記接触型磁気ヘッド０３を磁気デ
ィスク媒体０２に接触させて組立を行った。最後に、フ
ィルタ０９を装着したカバー０６をベース０７に取り付
け、外気がフィルタ０９を通してのみ通気されるように
して磁気ディスク装置０１を作製した。
の磁気ディスク装置の部品として、図３に示す接触型磁
気ヘッド０３の基本構成に従って試料を作製した。磁気
的記録再生素子１１が設けられた、表１に示す長さＬm
m、幅Ｗmm、高さＨmmのＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣからなるス
ライダー１２の表面にそれぞれ表１〜表４に示す幅２０
μm ，長さ２０μm の面積を有する３つの平面からなる
接触パッド１３を機械加工により形成した。質量は同じ
く表１に示す値である。さらに該スライダー４３を厚さ
Ｄmm，幅０．５mm，長さ１０mmのステンレスの支持バネ
１４に接着して、表１〜表４に示すような荷重および質
量を変化させた接触型磁気ヘッドを作製した。さらに磁
気ディスク媒体０２としてハード磁気ディスク媒体３４
を、図６に示す基本構成に従って作製した。即ち、ハー
ド磁気ディスク基板３０として外径１．８インチのガラ
ス基板の上に磁性薄膜３１として、ＣｏＰｔＣｒをスパ
ッタ法により２０nm成膜し、その上に保護膜３２として
スパッタ法により水素を１０％添加したカーボンを５nm
成膜し、その上に潤滑剤３３としてパーフロロポリエー
テルを浸漬法により２nm被覆したものを用いた。上記の
接触型磁気ヘッド０３をヘッドアーム０６に取り付け、
さらに該ヘッドアーム０６をベース０７に取り付けられ
たアクチュエータ０５に取り付けた。また上記磁気ディ
スク媒体０２を、ベース０７に取り付けられたモータ０
８の軸に取り付け、前記接触型磁気ヘッド０３を磁気デ
ィスク媒体０２に接触させて組立を行った。最後に、フ
ィルタ０９を装着したカバー０６をベース０７に取り付
け、外気がフィルタ０９を通してのみ通気されるように
して磁気ディスク装置０１を作製した。
【００１５】（実施例２）実施例１と同様にして但し図
６に示すような４つの平面からなる接触パッド１３を機
械加工により形成して接触型磁気ヘッドスライダー１２
を作製して磁気ディスク装置０１を作製した。また実施
例３において実施例１と同様にして但し、図７に示すよ
うな１つの平面からなる接触パッド１３を機械加工によ
り形成して接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して
磁気ディスク装置０１を作製した。
６に示すような４つの平面からなる接触パッド１３を機
械加工により形成して接触型磁気ヘッドスライダー１２
を作製して磁気ディスク装置０１を作製した。また実施
例３において実施例１と同様にして但し、図７に示すよ
うな１つの平面からなる接触パッド１３を機械加工によ
り形成して接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して
磁気ディスク装置０１を作製した。
【００１６】（実施例３）実施例１と同様にして但し図
４の磁気ヘッドスライダー１２の変形として、曲面を有
する接触パッド１３として曲率５０nmからなる図３に示
す３つの接触パッドを機械加工により形成し、接触型磁
気ヘッドスライダー１２を作製して磁気ディスク装置０
１を作製した。
４の磁気ヘッドスライダー１２の変形として、曲面を有
する接触パッド１３として曲率５０nmからなる図３に示
す３つの接触パッドを機械加工により形成し、接触型磁
気ヘッドスライダー１２を作製して磁気ディスク装置０
１を作製した。
【００１７】（実施例４）実施例１と同様に但し、図４
に示すような質量付与層２０としてそれぞれＴａ，Ｗ，
Ｈｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉ
ｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，
Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔ
ｌ，Ｍｎ，またはＬｕ片を貼りあわせた図３に示す３つ
の平面からなる接触パッド１３を機械加工により形成
し、接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して磁気デ
ィスク装置０１を作製した。
に示すような質量付与層２０としてそれぞれＴａ，Ｗ，
Ｈｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉ
ｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，
Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔ
ｌ，Ｍｎ，またはＬｕ片を貼りあわせた図３に示す３つ
の平面からなる接触パッド１３を機械加工により形成
し、接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して磁気デ
ィスク装置０１を作製した。
【００１８】質量付与層の厚さをＤｍ，質量付与層の密
度をｄｍ、また磁気ヘッドスライダーの密度をｄｓとす
ると、本実施例の接触型スライダー１２の寸法を長さ
Ｌ′、幅Ｗ′、高さＨとしＨは実施例１と同一とする
と、本実施例の磁気ヘッドスライダーの実施例１の磁気
ヘッドスライダーに対する寸法縮小率Ｓ＝（Ｌ・Ｗ−
Ｌ′・Ｗ′）／（Ｌ・Ｗ）は、質量付加層の厚さとスラ
イダーの高さの比をＳｍ＝Ｄｍ／Ｈ，質量付加層とスラ
イダー母材の密度の比をＳｓ＝ｄｍ／ｄｓとすると、Ｓ
＝Ｓｍ（Ｓｓ−１）／（１＋Ｓｍ（Ｓｓ−１））で表さ
れる。従って、本実施例の場合ｄｓ＝４．２５ｇ／cm3
であり、Ｓｍを０．２即ちスライダー母材の高さの２０
％を質量付加層にしたので、質量付加層Ｔａ，Ｗ，Ｈ
ｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，
Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒ
ｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔ
ｌ，Ｍｎ，またはＬｕのｄｍはそれぞれ１６．６，１
９．３，１３．３，２１．４，１９．３，１０．５，
８．９，１１．３，９．７，１９．０，２２．４，２
２．６，１２．０，８．６，７．９，８．９，８．９，
６．１，１０．２，１２．４，２１．０，１２．４，
６．５，７．２，８．６，７．１，１１．８，７．４，
９．８ｇ／cm3 であるから、Ｓはそれぞれ０．３７，
０．４１，０．３０，０．４５，０．４１，０．２３，
０．１８，０．２５，０．２０，０．４１，０．４６，
０．４６，０．２７，０．１７，０．１５，０．１８，
０．１８，０．０８，０．２２，０．２８，０．４４，
０．２８，０．０９，０．１２，０．１７，０．１２，
０．２６，０．１３，０．１３および０．２１となる。
即ち質量付加層を設ける事により８〜５０％程度磁気ス
ライダーを小型化する事ができた。
度をｄｍ、また磁気ヘッドスライダーの密度をｄｓとす
ると、本実施例の接触型スライダー１２の寸法を長さ
Ｌ′、幅Ｗ′、高さＨとしＨは実施例１と同一とする
と、本実施例の磁気ヘッドスライダーの実施例１の磁気
ヘッドスライダーに対する寸法縮小率Ｓ＝（Ｌ・Ｗ−
Ｌ′・Ｗ′）／（Ｌ・Ｗ）は、質量付加層の厚さとスラ
イダーの高さの比をＳｍ＝Ｄｍ／Ｈ，質量付加層とスラ
イダー母材の密度の比をＳｓ＝ｄｍ／ｄｓとすると、Ｓ
＝Ｓｍ（Ｓｓ−１）／（１＋Ｓｍ（Ｓｓ−１））で表さ
れる。従って、本実施例の場合ｄｓ＝４．２５ｇ／cm3
であり、Ｓｍを０．２即ちスライダー母材の高さの２０
％を質量付加層にしたので、質量付加層Ｔａ，Ｗ，Ｈ
ｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，
Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒ
ｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔ
ｌ，Ｍｎ，またはＬｕのｄｍはそれぞれ１６．６，１
９．３，１３．３，２１．４，１９．３，１０．５，
８．９，１１．３，９．７，１９．０，２２．４，２
２．６，１２．０，８．６，７．９，８．９，８．９，
６．１，１０．２，１２．４，２１．０，１２．４，
６．５，７．２，８．６，７．１，１１．８，７．４，
９．８ｇ／cm3 であるから、Ｓはそれぞれ０．３７，
０．４１，０．３０，０．４５，０．４１，０．２３，
０．１８，０．２５，０．２０，０．４１，０．４６，
０．４６，０．２７，０．１７，０．１５，０．１８，
０．１８，０．０８，０．２２，０．２８，０．４４，
０．２８，０．０９，０．１２，０．１７，０．１２，
０．２６，０．１３，０．１３および０．２１となる。
即ち質量付加層を設ける事により８〜５０％程度磁気ス
ライダーを小型化する事ができた。
【００１９】（実施例５）実施例１と同様にして但しス
ライダー材料をＴａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃ
ｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃ
ｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，またはＬｕを用い
て接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して磁気ディ
スク装置０１を作製した。これにより磁気ヘッドスライ
ダーをｄｓ／ｄｍだけ小型化する事が出来た。
ライダー材料をＴａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃ
ｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃ
ｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，またはＬｕを用い
て接触型磁気ヘッドスライダー１２を作製して磁気ディ
スク装置０１を作製した。これにより磁気ヘッドスライ
ダーをｄｓ／ｄｍだけ小型化する事が出来た。
【００２０】（実施例６）実施例１と同様にして但し、
磁気ヘッドスライダー支持機構１４としてステンレスの
代わりに燐青銅，シリコン，またはアルミナからなる材
質の上記磁気ヘッドスライダー支持機構を用いて接触型
磁気ヘッドスライダー１２を作製し磁気ディスク装置を
作製した。
磁気ヘッドスライダー支持機構１４としてステンレスの
代わりに燐青銅，シリコン，またはアルミナからなる材
質の上記磁気ヘッドスライダー支持機構を用いて接触型
磁気ヘッドスライダー１２を作製し磁気ディスク装置を
作製した。
【００２１】（実施例７）実施例１と同様にして但しハ
ード磁気ディスク媒体３４のハード磁気ディスク基板３
０に、ＮｉＰを１０μm 無電解メッキしさらにその表面
を２nmの表面粗さ（Ｒｔｍ）に鏡面研磨したアルミニウ
ム合金基板を用いて磁気ディスク装置を作製した。
ード磁気ディスク媒体３４のハード磁気ディスク基板３
０に、ＮｉＰを１０μm 無電解メッキしさらにその表面
を２nmの表面粗さ（Ｒｔｍ）に鏡面研磨したアルミニウ
ム合金基板を用いて磁気ディスク装置を作製した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】
【表３】
【００２５】
【表４】
【００２６】（実施例８）実施例１と同様にして但しハ
ード磁気ディスク媒体３４のハード磁気ディスク基板３
０に、カーボン基板を用いて磁気ディスク装置を作製し
た。
ード磁気ディスク媒体３４のハード磁気ディスク基板３
０に、カーボン基板を用いて磁気ディスク装置を作製し
た。
【００２７】（実施例９）実施例１と同様に但し、磁気
ディスク媒体０２として図６のハード磁気ディスク媒体
３４の代わりにハード磁気ディスク基板３０のかわりに
外径３．５インチ，厚さ７０μm のポリエステルを用い
た可撓型磁気ディスク媒体を用いて、さらに接触型磁気
ヘッドスライダーを接触させる該媒体面の裏面に繊維か
らなるパッドを当てて磁気ディスク装置を作製した。
ディスク媒体０２として図６のハード磁気ディスク媒体
３４の代わりにハード磁気ディスク基板３０のかわりに
外径３．５インチ，厚さ７０μm のポリエステルを用い
た可撓型磁気ディスク媒体を用いて、さらに接触型磁気
ヘッドスライダーを接触させる該媒体面の裏面に繊維か
らなるパッドを当てて磁気ディスク装置を作製した。
【００２８】なお、実施例２〜８においてはスライダー
材料または磁気ヘッドスライダー支持機構の大きさを変
化させて荷重および質量は実施例１の試料１〜９０と同
一にした。
材料または磁気ヘッドスライダー支持機構の大きさを変
化させて荷重および質量は実施例１の試料１〜９０と同
一にした。
【００２９】上記実施例１から８で作製した接触型磁気
ヘッドとハード型磁気ディスク媒体を用いて、磁気ディ
スク装置を作製し、該ハード磁気ディスク媒体を毎分５
４００回転で連続接触させ、１０００時間後の各接触パ
ッド１３の合計摩耗深さ、および接触型磁気ヘッドの跳
躍量を調べた。また実施例７に関しては作製した接触型
磁気ヘッドと３．５インチの可撓型磁気ディスク媒体に
毎分３６０回転で連続接触させ、摩耗の軽重に合わせて
１分から２０００時間と試験条件を適宜変えて連続摺動
試験を行い、各接触パッド１３の合計摩耗深さから磨耗
速度、および接触型磁気ヘッドの跳躍量および再生信号
の変動（波形の最小振幅と最大振幅の比）を調べた。
ヘッドとハード型磁気ディスク媒体を用いて、磁気ディ
スク装置を作製し、該ハード磁気ディスク媒体を毎分５
４００回転で連続接触させ、１０００時間後の各接触パ
ッド１３の合計摩耗深さ、および接触型磁気ヘッドの跳
躍量を調べた。また実施例７に関しては作製した接触型
磁気ヘッドと３．５インチの可撓型磁気ディスク媒体に
毎分３６０回転で連続接触させ、摩耗の軽重に合わせて
１分から２０００時間と試験条件を適宜変えて連続摺動
試験を行い、各接触パッド１３の合計摩耗深さから磨耗
速度、および接触型磁気ヘッドの跳躍量および再生信号
の変動（波形の最小振幅と最大振幅の比）を調べた。
【００３０】なお、摩耗深さは原子間力顕微鏡または走
査型電子顕微鏡を用いて測定し、また跳躍量はレーザー
ドップラー振動計により測定した。その結果を表５〜表
８に、また質量と荷重の組み合わせによる結果の代表値
を図８および図９に示す。
査型電子顕微鏡を用いて測定し、また跳躍量はレーザー
ドップラー振動計により測定した。その結果を表５〜表
８に、また質量と荷重の組み合わせによる結果の代表値
を図８および図９に示す。
【００３１】
【表５】
【００３２】
【表６】
【００３３】
【表７】
【００３４】
【表８】
【００３５】その結果、図８に示すように摩耗速度は荷
重の減少により急激に減少するが、その減少傾向は質量
が大きいときは一定に減少するが、質量が小さいときは
荷重１ｇ重以下から摩耗速度の減少傾向が緩くなる事が
分かった。また跳躍量についても荷重が大きい時は質量
の大小に関わらず小さい値を示したが、荷重が１ｇ重以
下では質量の大きい場合は荷重を小さくしても一定の小
さい跳躍量を示したが、質量の小さい場合は荷重の減少
とともに急激に跳躍量が大きくなる事が分かった。また
図９に示すように摩耗速度は荷重が大きい場合、絶対値
は大きいが質量に関わらず一定であった。荷重の軽い場
合は質量が２ｍｇ以上では摩耗速度は極めて小さいが、
質量が１ｍｇ以下では摩耗速度は２桁ほど大きくなる事
が分かった。また跳躍量についても質量が大きい領域で
は荷重の大小に関わらず小さい値を示したが、質量が小
さい領域では荷重が大きい場合は質量の依存性は見られ
なかったが、荷重が小さい場合は質量が１ｍｇ以下では
急激に跳躍量が増加する事が分かった。即ち、荷重が１
ｇ重以下でかつ質量が２ｍｇ以上の領域において、摩耗
速度が小さくかつ跳躍量が小さいことが分かった。ま
た、従来試みられていた、荷重および質量がともに小さ
い領域では摩耗速度は荷重の大きい領域に比べれば小さ
いが跳躍量は大きく、また荷重が１ｇ重以下でかつ質量
が２ｍｇ以上の即ち軽荷重、大質量の領域に比べれば摩
耗速度、跳躍量ともに大きい事が分かった。これは摩耗
速度は荷重の大きい領域では単純に荷重の減少とともに
減少するが、質量の小さい領域では跳躍による衝撃エネ
ルギーが大きくなり摩耗はそれほど減少しなくなる事を
示している。
重の減少により急激に減少するが、その減少傾向は質量
が大きいときは一定に減少するが、質量が小さいときは
荷重１ｇ重以下から摩耗速度の減少傾向が緩くなる事が
分かった。また跳躍量についても荷重が大きい時は質量
の大小に関わらず小さい値を示したが、荷重が１ｇ重以
下では質量の大きい場合は荷重を小さくしても一定の小
さい跳躍量を示したが、質量の小さい場合は荷重の減少
とともに急激に跳躍量が大きくなる事が分かった。また
図９に示すように摩耗速度は荷重が大きい場合、絶対値
は大きいが質量に関わらず一定であった。荷重の軽い場
合は質量が２ｍｇ以上では摩耗速度は極めて小さいが、
質量が１ｍｇ以下では摩耗速度は２桁ほど大きくなる事
が分かった。また跳躍量についても質量が大きい領域で
は荷重の大小に関わらず小さい値を示したが、質量が小
さい領域では荷重が大きい場合は質量の依存性は見られ
なかったが、荷重が小さい場合は質量が１ｍｇ以下では
急激に跳躍量が増加する事が分かった。即ち、荷重が１
ｇ重以下でかつ質量が２ｍｇ以上の領域において、摩耗
速度が小さくかつ跳躍量が小さいことが分かった。ま
た、従来試みられていた、荷重および質量がともに小さ
い領域では摩耗速度は荷重の大きい領域に比べれば小さ
いが跳躍量は大きく、また荷重が１ｇ重以下でかつ質量
が２ｍｇ以上の即ち軽荷重、大質量の領域に比べれば摩
耗速度、跳躍量ともに大きい事が分かった。これは摩耗
速度は荷重の大きい領域では単純に荷重の減少とともに
減少するが、質量の小さい領域では跳躍による衝撃エネ
ルギーが大きくなり摩耗はそれほど減少しなくなる事を
示している。
【００３６】また実施例２〜６の接触パッド形状、磁気
ヘッドスライダーの材料、質量付与層を取り付けた構
造、あるいは磁気ヘッドスライダー支持機構の材料を変
えた接触型磁気ヘッドについても同様の結果が得られ
た。
ヘッドスライダーの材料、質量付与層を取り付けた構
造、あるいは磁気ヘッドスライダー支持機構の材料を変
えた接触型磁気ヘッドについても同様の結果が得られ
た。
【００３７】また実施例９の可撓型磁気ディスク媒体を
使用した磁気ディスク装置は、摩耗速度および跳躍量や
実施例１〜８のハード磁気ディスク媒体を用いた磁気デ
ィスク装置に比べ２桁程度大きかったが、１ｇ重以下の
荷重および２ｍｇ以上の質量を有する領域がそれ以外の
領域よりも摩耗速度および跳躍量がともに小さくなる傾
向は同一であった。これは、基板の柔らかさが摩耗や跳
躍量を増加させるがその相対的な傾向は変わらないこと
を示している。
使用した磁気ディスク装置は、摩耗速度および跳躍量や
実施例１〜８のハード磁気ディスク媒体を用いた磁気デ
ィスク装置に比べ２桁程度大きかったが、１ｇ重以下の
荷重および２ｍｇ以上の質量を有する領域がそれ以外の
領域よりも摩耗速度および跳躍量がともに小さくなる傾
向は同一であった。これは、基板の柔らかさが摩耗や跳
躍量を増加させるがその相対的な傾向は変わらないこと
を示している。
【００３８】また実施例１〜９の磁気ディスク装置を用
いて、トラック密度１０００ＴＰＩ（１インチ当たりの
トラック密度）における磁気ヘッドスライダの跳躍によ
る磁気的記録再生素子からの再生信号の変動（波形の最
小振幅と最大振幅の比）を調べたところ、表５から表８
に示すように荷重１ｇ重以下および質量２ｍｇ以上で該
変動値が最小になる事が分かった。またトラック密度１
００００ＴＰＩのより振動によるトラックずれが顕著な
条件で再生信号変動を調べたところ、前記低トラック密
度の場合の２０％増加することが分かった。なお、上記
再生信号変動は、１トラック一周の再生信号電圧の最大
値ＶX と最小の再生出力電圧ＶN について１００×（Ｖ
X −ＶN ）／ＶX で表される。
いて、トラック密度１０００ＴＰＩ（１インチ当たりの
トラック密度）における磁気ヘッドスライダの跳躍によ
る磁気的記録再生素子からの再生信号の変動（波形の最
小振幅と最大振幅の比）を調べたところ、表５から表８
に示すように荷重１ｇ重以下および質量２ｍｇ以上で該
変動値が最小になる事が分かった。またトラック密度１
００００ＴＰＩのより振動によるトラックずれが顕著な
条件で再生信号変動を調べたところ、前記低トラック密
度の場合の２０％増加することが分かった。なお、上記
再生信号変動は、１トラック一周の再生信号電圧の最大
値ＶX と最小の再生出力電圧ＶN について１００×（Ｖ
X −ＶN ）／ＶX で表される。
【００３９】また実施例４および５の磁気ディスク装置
は、磁気ヘッドスライダーの小型化により、使用できる
トラック数が増加したため磁気ディスク１面当たりの記
録容量が５〜１０％増加した。
は、磁気ヘッドスライダーの小型化により、使用できる
トラック数が増加したため磁気ディスク１面当たりの記
録容量が５〜１０％増加した。
【００４０】なお、上記実施例以外に、磁気ディスク媒
体に用いられる磁性薄膜３１、保護膜３２、潤滑剤３
３、または磁気ヘッドスライダー１２の接触パッド１３
に被覆される保護膜などの種類、形成方法などは特に限
定されるものではなく、公知の材料、形成方法を特別な
制限なく用いることができる。
体に用いられる磁性薄膜３１、保護膜３２、潤滑剤３
３、または磁気ヘッドスライダー１２の接触パッド１３
に被覆される保護膜などの種類、形成方法などは特に限
定されるものではなく、公知の材料、形成方法を特別な
制限なく用いることができる。
【００４１】したがって、本発明の磁気ディスク装置で
は、従来の磁気ディスク装置と比較して少なくとも数百
分の一から数千分の一の摩耗量と跳躍量と数十分の一か
ら数百分の一の跳躍量を確保することができた。また本
発明の磁気ディスク装置を用いて、従来の１０倍の面記
録密度（線記録密度とトラック密度の積）を得る事が出
来た。
は、従来の磁気ディスク装置と比較して少なくとも数百
分の一から数千分の一の摩耗量と跳躍量と数十分の一か
ら数百分の一の跳躍量を確保することができた。また本
発明の磁気ディスク装置を用いて、従来の１０倍の面記
録密度（線記録密度とトラック密度の積）を得る事が出
来た。
【００４２】
【発明の効果】以上本発明の磁気ディスク媒体、接触型
磁気ヘッド、ヘッドアーム、アクチュエータ、カバー、
ベース、モータ、フィルタから構成された磁気ディスク
装置は、接触型磁気ヘッドを構成する磁気ヘッドスライ
ダーの押しつけ荷重が０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重
以下で質量が２．０ｍｇ以上１８１ｍｇ以下とすること
により摩耗と跳躍を防止しさらに高トラック密度による
再生信号出力変動を最小にする事が出来、線記録密度、
およびトラック密度ともに高記録密度を達成することが
できた。
磁気ヘッド、ヘッドアーム、アクチュエータ、カバー、
ベース、モータ、フィルタから構成された磁気ディスク
装置は、接触型磁気ヘッドを構成する磁気ヘッドスライ
ダーの押しつけ荷重が０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重
以下で質量が２．０ｍｇ以上１８１ｍｇ以下とすること
により摩耗と跳躍を防止しさらに高トラック密度による
再生信号出力変動を最小にする事が出来、線記録密度、
およびトラック密度ともに高記録密度を達成することが
できた。
【００４３】さらに高密度のスライダー材料または質量
付加層を設ける事により磁気ヘッドスライダーの小型化
により記録容量を増加させる事が出来た。
付加層を設ける事により磁気ヘッドスライダーの小型化
により記録容量を増加させる事が出来た。
【図１】本発明の磁気ディスク装置の側面を表す図であ
る。
る。
【図２】本発明の磁気ディスク装置の正面を表す図であ
る。
る。
【図３】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドの一例を示す図である。
ヘッドの一例を示す図である。
【図４】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
【図５】本発明の磁気ディスク装置に用いるハード磁気
ディスク媒体の一例を示す図である。
ディスク媒体の一例を示す図である。
【図６】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
【図７】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
ヘッドスライダーの一例を示す図である。
【図８】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドスライダーの摩耗速度と跳躍量の荷重依存性を、
質量をパラメータに表した図である。
ヘッドスライダーの摩耗速度と跳躍量の荷重依存性を、
質量をパラメータに表した図である。
【図９】本発明の磁気ディスク装置に用いる接触型磁気
ヘッドスライダーの摩耗速度と跳躍量の荷重依存性を、
荷重をパラメータに表した図である。
ヘッドスライダーの摩耗速度と跳躍量の荷重依存性を、
荷重をパラメータに表した図である。
０１ 磁気ディスク装置 ０２ 磁気ディスク媒体 ０３ 接触型磁気ヘッド ０４ ヘッドアーム ０５ アクチュエータ ０６ カバー ０７ ベース ０８ モータ ０９ フィルタ １１ 磁気的記録再生素子 １２ 磁気ヘッドスライダー １３ 接触パッド １４ 磁気ヘッドスライダー支持機構 １５ 電極 １６ 電極 １７ 導線 １８ 配線膜 １９ 電極 ２０ 質量付与層 ３０ ハード磁気ディスク基板 ３１ 磁性薄膜 ３２ 保護膜 ３３ 潤滑剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安食 賢 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−349221（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−298620（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−55704（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−187450（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−198509（ＪＰ，Ｕ)
Claims (4)
- 【請求項１】磁気記録再生素子と、該磁気記録再生素子
を装着した接触型磁気ヘッドスライダーと、該接触型磁
気ヘッドスライダーを支持する磁気ヘッドスライダー支
持機構からなる磁気ヘッドと、磁気ディスク媒体とを少
なくとも備えた磁気ディスク装置において、押しつけ荷
重が０．０７１ｇ重以上０．１４ｇ重以下で質量が２．
０ｍｇ以上１８１ｍｇ以下である接触型磁気ヘッドスラ
イダーを用いることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項２】接触型磁気ヘッドスライダー母材料とし
て、Ｔａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，
Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，
Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍｎ，またはＬｕの単体，窒化物，
炭素化合物および／またはそれらの複合材料を用いるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項３】接触型磁気ヘッドスライダー材料として、
Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ，Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3−Ｓ
ｉＣ，Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2，Ａｌ2Ｏ3−キュービックＢ
Ｎ，ＢｅＯ−ＴｉＣ，ＳｉＣ，ダイアモンド状カーボ
ン，非晶質カーボン，アルミナ，キュービックＢＮ，Ｂ
ｅＯなどの母材料に質量付与層を有することを特徴とす
る請求項１記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項４】質量付与層として、Ｔａ，Ｗ，Ｈｆ，Ｐ
ｔ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｕ，Ｉｒ，Ｏｓ，
Ｐｄ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒ
ｅ，Ｒｈ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｃｄ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｌ，Ｍ
ｎ，またはＬｕの単体，および／またはそれらの複合体
を用いることを特徴とする請求項３記載の磁気ディスク
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7065795A JP3058046B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気ディスク装置 |
| US08/617,242 US5673161A (en) | 1995-03-24 | 1996-03-18 | Low wear rate magnetic head slider with high recording density |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7065795A JP3058046B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08263819A JPH08263819A (ja) | 1996-10-11 |
| JP3058046B2 true JP3058046B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=13297332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7065795A Expired - Fee Related JP3058046B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気ディスク装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5673161A (ja) |
| JP (1) | JP3058046B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5886856A (en) * | 1994-09-19 | 1999-03-23 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head slider assembly for magnetic disk recording/reproducing apparatus |
| JP3139323B2 (ja) * | 1995-04-07 | 2001-02-26 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク装置及びスライダ |
| US6760193B1 (en) * | 1995-04-07 | 2004-07-06 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic head gimbal assembly and magnetic disk unit |
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