JP2002074649A - 磁気ディスク及び記録再生装置 - Google Patents

磁気ディスク及び記録再生装置

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JP2002074649A
JP2002074649A JP2000266136A JP2000266136A JP2002074649A JP 2002074649 A JP2002074649 A JP 2002074649A JP 2000266136 A JP2000266136 A JP 2000266136A JP 2000266136 A JP2000266136 A JP 2000266136A JP 2002074649 A JP2002074649 A JP 2002074649A
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magnetic disk
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recording
powder
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JP2000266136A
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English (en)
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Yuichi Sasaki
勇一 佐々木
Kazuhiro Okamoto
和広 岡本
Yasuhiro Nishida
康宏 西田
Yutaka Okazaki
裕 岡崎
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 接触型のヘッドスライダと組み合わされて好
適であり、電磁変換特性を維持しつつ摩擦係数の低減を
実現し、優れた耐久性を有する。 【解決手段】 非磁性支持体上に、非磁性粉末が結合剤
に分散されてなる中間層が形成され、当該中間層上に、
強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁性層が形成され
る磁気ディスクにおいて、上記中間層は、潤滑剤として
炭素数が8以上であるアルキル基を1つ以上有する第1
級〜第3級のアルキルアミンを含有し、pHが7.5以
上である非磁性粉末を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体と中
間層と磁性層とを有する磁気ディスクに関する。また、
本発明は、非磁性支持体と中間層と磁性層とを有する磁
気ディスクと、接触型のヘッドスライダとを組み合わせ
た記録再生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、いわゆる3.5インチフロッ
ピーディスク(登録商標)に代表されるような、小型の
磁気ディスクがディスクカートリッジに収容されてなる
フレキシブルディスクが、ワードプロセッサやパーソナ
ルコンピュータ等の外部記憶媒体として広く利用されて
いる。
【0003】そして、近年のコンピュータ等の著しい性
能向上に伴って、その外部記憶媒体であるフレキシブル
ディスクに対しても高容量化、高記録密度化が要求され
ている。このような要求に対し、Zip(登録商標)や
LS−120(登録商標)等、100MBクラスの記録
容量を有する磁気ディスクが登場している。
【0004】ところで、高密度記録が可能な磁気記録再
生システムを構築する有効な方法として、磁気ヘッドと
磁気ディスクとの間のスペーシング量を低減させること
によって、再生時の信号強度を高めることが挙げられ
る。スペーシング量が増大すると、パルス幅PW50の
増大、孤立再生波出力IS TAAの低下、磁界強度の
低下によるオーバーライト特性の劣化等の様々な不都合
が発生し、高記録密度化及び転送レートの高速化は著し
く困難となる。特に、200Mbpsi以上の面記録密
度を達成するためには、磁気ヘッドと磁気ディスクとの
間のスペーシング量を40nm以下に抑えることが好ま
しい。
【0005】そこで、200Mbpsi以上の面記録密
度の向上を達成するために、接触型のヘッドスライダが
提案されている。この接触型のヘッドスライダは、ダイ
ヤモンドライクカーボン(以下、DLCと称する。)等
の硬質材料によって構成される接触パッドと、接触パッ
ドの1つに埋設された磁気ヘッドとを備えている。接触
型のヘッドスライダは、従来のフレキシブルディスクに
対して用いられてきたいわゆる浮上型のヘッドスライダ
とは異なり、正圧による浮上機構を有していない。この
ため、接触型のヘッドスライダは、高い線速度下であっ
ても磁気ヘッドと磁気ディスクとのスペーシング量を4
0nm以下に抑え、極めて低いスペーシング量にて記録
再生が可能である。
【0006】このような接触型のヘッドスライダを用い
た磁気記録再生システムは、ロード荷重が極めて低くな
るように設計されているため、ヘッドスライダの接触パ
ッドが磁気ディスクの表面を摺動する際の摩擦を低く抑
えられる。接触パッドと磁気ディスクとの高速摺動にお
ける摩擦を低減することは、消費電力の節約が可能にな
るために、携帯パソコン等への搭載の観点から重要であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、既存の
磁気ディスクと接触型のヘッドスライダとを組み合わせ
ただけでは、摺動時の摩擦係数の低減が不充分であり、
消費電力の大幅な節約にはならない。
【0008】そこで、摺動時の摩擦を低減するために、
ヘッドスライダのロード荷重をさらに小さくすることが
考えられるが、磁気ヘッドと磁気ディスクとの安定な接
触を確保することが困難となり、PW50の劣化を招く
等、電磁変換特性が悪化する虞がある。
【0009】また、従来の浮上型のヘッドスライダを採
用した磁気記録再生システムに比べると、上述した接触
型のヘッドスライダを採用した磁気記録再生システム
は、磁気ヘッドと磁気ディスクとのスペーシング量が極
めて小であるため、磁気ヘッドの摩耗や磁気ディスクの
摩耗が生じる危険性が大であり、信頼性に劣っている。
【0010】そこで本発明はこのような従来の実状に鑑
みて提案されたものであり、接触型のヘッドスライダと
組み合わされて好適であり、電磁変換特性を維持しつつ
摩擦係数の低減を実現し、優れた耐久性を有する磁気デ
ィスクを提供することを目的とする。また、磁気ヘッド
及び磁気ディスク双方の摩耗が低減され、高記録密度化
及び転送レートの高速化を実現する記録再生装置を提供
することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る磁気ディスクは、非磁性支持体上
に、非磁性粉末が結合剤に分散されてなる中間層が形成
され、当該中間層上に、強磁性粉末が結合剤に分散され
てなる磁性層が形成される磁気ディスクにおいて、上記
中間層は、潤滑剤として炭素数が8以上であるアルキル
基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンを
含有し、pHが7.5以上である非磁性粉末を含有する
ことを特徴とする。
【0012】以上のように構成された磁気ディスクで
は、潤滑剤として炭素数が8以上であるアルキル基を1
つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンを少なく
とも中間層に含有するとともに、中間層がpHが7.5
以上である非磁性粉末を含有している。このように、中
間層の非磁性粉末がpH7.5以上とされているため、
潤滑剤が中間層に吸着されることなく、適量の潤滑剤が
磁気ディスク表面に供給される。
【0013】また、上記中間層はカーボンブラックを含
有し、上記カーボンブラックの体積は、上記非磁性粉末
の体積以下であることが好ましい。
【0014】中間層が適量のカーボンブラックを含有す
るため、磁気ディスクの表面平滑性を損なうことなく磁
気ディスクが帯電することを防止できる。
【0015】また、本発明に係る記録再生装置は、磁気
ヘッドが埋設された接触パッドを搭載したヘッドスライ
ダを磁気ディスクに相対向させ、上記接触パッドを上記
磁気ディスクに接触させた状態で、上記磁気ヘッドによ
り信号の記録及び/又は再生が行われ、上記磁気ヘッド
と磁気ディスクとの相対速度が、1.3m/s〜25m
/sである記録再生装置において、上記磁気ディスクは
着脱自在な記録媒体として用いられる。上記磁気ディス
クは、非磁性支持体上に、非磁性粉末が結合剤に分散さ
れてなる中間層が形成され、当該中間層上に、強磁性粉
末が結合剤に分散されてなる磁性層が形成され、上記中
間層は、潤滑剤として炭素数が8以上であるアルキル基
を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンを含
有し、pHが7.5以上である非磁性粉末を含有するこ
とを特徴とする。
【0016】以上のように構成された記録再生装置は、
電磁変換特性を維持しつつ摩擦係数の低減を実現し、優
れた耐久性を有する磁気ディスクを用いている。このた
め、いわゆる接触型のヘッドスライダを磁気ディスクに
対して接触摺動させた場合であっても、磁気ヘッドの摩
耗や磁気ディスクの摩耗が防止され、安定して記録再生
が行われる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気ディスク
及び記録再生装置の具体的な実施の形態について、図面
を参照しながら詳細に説明する。
【0018】本発明を適用した磁気ディスク1は、図1
に示すように、非磁性支持体2の両主面上に、非磁性粉
末が結合剤に分散されてなる中間層3が形成され、この
中間層3上に、強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁
性層4が形成されて構成される、いわゆる重層塗布型の
磁気ディスクである。
【0019】上述した磁気ディスク1において、少なく
とも中間層3は、潤滑剤として炭素数が8以上であるア
ルキル基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルア
ミンを含有している。
【0020】上記の炭素数が8以上であるアルキル基を
1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンは、磁
気ディスク1表面に適量を供給され、保持されることに
よって、磁気ディスク1の摩擦係数を低減することがで
きる。それとともに、磁気ディスク1及び磁気ディスク
1に対して高速で接触摺動する磁気ヘッドの双方の摩耗
を抑制することができる。
【0021】アルキルアミンを構成するアルキル基の炭
素数が8未満である場合には、潤滑剤としての作用が不
充分であり、磁気ディスク1の摩擦係数を低減できな
い。また、アルキルアミンを構成するアルキル基の炭素
数は、24以下であることが好ましい。アルキル基の炭
素数が24を上回る場合には、逆に磁気ディスク1の摩
擦係数を増大させてしまう虞がある。なお、アルキルア
ミンを構成するアルキル基は、直鎖であっても分岐して
いても構わない。また、炭素数が8以上であるアルキル
基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンの
含有量は、中間層3が含有する非磁性粉末100重量部
に対して1重量部〜20重量部であることが好ましく、
特に2重量部〜15重量部であることが好ましい。
【0022】炭素数が8以上であるアルキル基を1つ以
上有する第1級〜第3級のアルキルアミンとしては、例
えば、ジメチルステアリルアミン、トリラウリルアミ
ン、トリオクチルアミン、ドデシルアミン、メチルステ
アリルアミン、オレイルアミン等が挙げられる。
【0023】なお、上記の炭素数が8以上であるアルキ
ル基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミン
は、中間層3のみならず、中間層3及び磁性層4の両層
に含有させることも可能である。
【0024】また、本実施の形態において、中間層3
は、上記の潤滑剤を含有するとともに、pHが7.5以
上である非磁性粉末を含有している。
【0025】ここで、非磁性粉末のpHは、非磁性粉末
の表面に存在する酸性の官能基と塩基性官能基との相対
量を表す指標となる。例えば、非磁性粉末のpHが7よ
り高いということは、非磁性粉末表面に塩基性の官能基
が相対的に多いことを示している。一方、非磁性粉末の
pHが7よりも低いということは、非磁性粉末表面に酸
性の官能基が相対的に多いことを示している。
【0026】上記の潤滑剤は、構造中にアミンを有する
ために塩基性を呈する。そして、中間層3の主成分であ
る非磁性粉末がpH7.5以上を示すため、塩基性の潤
滑剤は、中間層3に吸着されることが抑制され、磁気デ
ィスク1の表面に確実に供給される。したがって、磁気
ディスク1は、従来の磁気ディスクに比べて少量の潤滑
剤を含有することで所望の潤滑効果を得ることができる
ため、電磁変換特性の劣化を招くことなく、摩擦係数の
低減を実現できる。
【0027】なお、非磁性粉末のpHは、7.5以上で
あれば特に限定されないが、例えば、非磁性粉末として
アルミナを使用した場合、非磁性粉末のpHは11以下
であることが好ましい。
【0028】中間層3中の非磁性粉末のpHが7.5未
満である場合、すなわち中間層3中の酸性の官能基が相
対的に多い場合、塩基性の潤滑剤は、非磁性粉末表面の
酸性の官能基と酸塩基相互作用を引き起こす。この結
果、潤滑剤が中間層3に吸着されてしまい、磁気ディス
ク1の表面に供給されないために、所望の潤滑効果を得
ることができない。そこで、非磁性粉末のpHが7.5
未満である場合において所望の潤滑効果を得るために、
潤滑剤の含有量を増加させることが考えられる。しか
し、潤滑剤の含有量を増加させると、中間層3及び磁性
層4における潤滑剤の分散性が劣化し、磁気ディスク1
の表面粗度の悪化や塗膜強度の低下を引き起こしてしま
う。その結果、電磁変換特性の劣化や塗膜強度の低下に
伴う耐久性の低下を引き起こしてしまうという不都合が
発生する。
【0029】ところで、非磁性粉末のpHは、非磁性粉
末表面に金属酸化物を被着させることによって調整する
ことができる。例えば、pHを高くする場合には、非磁
性粉末表面にAl23を被着させる。また、pHを低く
する場合には、非磁性粉末表面にSiO2を被着させ
る。なお、非磁性粉末のpHの調整は、上記の金属酸化
物に限定されることなく、いかなる方法を適用しても構
わない。
【0030】中間層3に含有される非磁性粉末として
は、従来公知のいかなる材料を用いることも可能であ
る。具体的な非磁性粉末として、例えば、α−Fe23
等の非磁性酸化鉄、ゲータイト、ルチル型酸化チタン、
アナターゼ型酸化チタン、酸化錫、酸化タングステン、
酸化珪素、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、チタ
ンカーバイド、BN、α−アルミナ、β−アルミナ、γ
−アルミナ、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モ
リブデン、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バ
リウム、炭酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等が挙
げられる。これらの非磁性粉末は、単独で用いることも
可能であるし、複数種を混合して用いることも可能であ
る。
【0031】非磁性粉末の形状は、針状、球状、サイコ
ロ状等、任意のものを使用できる。また、非磁性粉末の
比表面積は、10m2/g〜80m2/gであることが好
ましく、特に20m2/g〜70m2/gであることが好
ましい。また、非磁性粉末の平均粒子径は0.5μm以
下であることが好ましい。
【0032】中間層3に含有される非磁性粉末の比表面
積及び平均粒子径が上記の範囲内とされることで、中間
層3の表面平滑性が良好となり結果として磁気ディスク
1の表面平滑性が良好となる。したがって、変調ノイズ
特性に優れ、スペーシングロスの少ない磁気ディスク1
を得られる。非磁性粉末は磁気的な凝集力を有さず、強
磁性粉末に比べ分散が容易であるとはいえ、比表面積が
上記の範囲より大きい場合には分散が困難となる虞があ
る。一方、非磁性粉末の比表面積が小さすぎると、磁気
ディスク1の表面平滑性が劣化し、高記録密度システム
に対応できなくなる虞がある。
【0033】中間層3は、磁気ディスク1の帯電を防止
するためにカーボンブラックを含有することも可能であ
る。そして、中間層3が含有するカーボンブラックの体
積は、中間層3が含有する非磁性粉末の体積以下である
ことが好ましい。言い換えると、カーボンブラックの体
積をV1とし、非磁性粉末の体積をV2としたとき、V 1
及びV2は、V1:V2=50:50〜0:100の関係
を満たすことが好ましい。カーボンブラックの含有量を
上記の範囲とすることにより、電磁変換特性を損なうこ
となく、磁気ディスク1の帯電を防止することができ
る。カーボンブラックの体積が非磁性粉末の体積を上回
る場合、すなわちカーボンブラックの含有量が相対的に
過剰である場合、中間層3の表面平滑性が損なわれ、電
磁変換特性の劣化を生じる虞がある。特に、後述するよ
うな同時重層塗布によって中間層3及び磁性層4を形成
する場合は、中間層3の流動特性のコントロールが困難
となり、磁性層4の表面平滑性がさらに悪化する虞があ
る。
【0034】また、カーボンブラックのpHは、7.5
以上であることが好ましい。カーボンブラックのpHが
7.5以上とされることで、塩基性の潤滑剤であるアル
キルアミンが中間層3の副成分であるカーボンブラック
に吸着されることが防止される。このため、磁気ディス
ク1の表面に適量の潤滑剤をより確実に供給することが
でき、摩擦係数を確実に低減することができる。カーボ
ンブラックのpHが7.5未満である場合、潤滑剤が中
間層3のカーボンブラックに吸着されてしまい、所望の
潤滑効果を得られない虞がある。
【0035】中間層3に含有されるカーボンブラックと
しては、従来公知のいかなる材料を用いることも可能で
ある。具体的なカーボンブラックとして、ゴム用ファー
ネス、熱分解カーボン、カラー用ブラック、アセチレン
ブラック等が挙げられる。また、カーボンブラックの比
表面積は10m2/g〜1000m2/gであることが好
ましく、DBP吸油量は20ml/100g〜1000
ml/100gであることが好ましく、平均粒子径は
0.05μm以下であることが好ましい。なお、上記の
DBP吸油量は、カーボンブラックにジブチルフタレー
トを少量ずつ加え、練り合わせながらカーボンブラック
の状態を観察し、ばらばらに分散した状態から1つの塊
をなす点を見いだした時点でのジブチルフタレートの含
有量(ml)を意味する。
【0036】中間層3に含有されるカーボンブラックの
比表面積及び平均粒子径が上記の範囲内とされること
で、中間層3の表面平滑性が良好となり結果として磁気
ディスク1の表面平滑性が良好となる。したがって、変
調ノイズ特性に優れ、スペーシングロスの少ない磁気デ
ィスク1を得られる。一方、カーボンブラックの比表面
積が小さすぎると、表面平滑性が劣化し、高記録密度シ
ステムに対応できなくなる虞がある。
【0037】さらに具体的なカーボンブラックとして
は、BLACKPEARLS 1000、900、80
0、700、及びVULCANXC−72(キャボット
社製)、♯60、♯70、及び♯80(旭カーボン社
製)、MA−600、100、♯3950B、♯375
0B、♯3250B、♯2400B、♯2300B、♯
1000、♯900、♯40、及び♯30(三菱化成社
製)、CONDUCTEXSC、RAVEN 700
0、5750、5250、3500、2000、100
0、及び850(コンロンビアカーボン社製)、ケッチ
ェンブラックEC及びケッチェンブラックECDJ−6
00(ライオンアグゾ社製)、Printex90、8
0、75、55、45(デグサ社製)、トーカブラック
(東海カーボン社製)等を挙げることができる。
【0038】磁性層4に含有される強磁性粉末として
は、Fe、Co、Ni等の金属、Fe−Co、Fe−N
i、Fe−Al、Fe−Ni−Al、Fe−Al−P、
Fe−Ni−Si−Al、Fe−Ni−Si−Al−M
n、Fe−Mn−Zn、Fe−Ni−Zn、Co−N
i、Co−P、Fe−Co−Ni、Fe−Co−Ni−
Cr、Fe−Co−Ni−P、Fe−Co−B、Fe−
Co−Cr−B、Mn−Bi、Mn−Al、Fe−Co
−V等の合金等が挙げられる。もちろん、還元時の焼結
防止又は形状維持等の目的で添加されるAl、Si、
P、B、Y等の金属元素が適当量含有したとしても、本
発明の効果を妨げるものではない。これら強磁性金属粉
末は公知の製造方法によって得られたものが使用可能
で、その例としては、下記の方法が挙げられる。 (1)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)と水素等と
の還元性気体で還元する方法。 (2)酸化鉄を水素等の還元性気体で還元してFe或い
はFe−Co粒子等を得る方法。 (3)金属カルボニル化合物を熱分解する方法。 (4)強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、
次亜リン酸塩或いはヒドラジン等の還元剤を添加して還
元する方法。 (5)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法。
【0039】このようにして得られた強磁性金属粉末
は、公知の徐酸化処理により化学的に安定なものとする
ためにその粒子表面に酸化被膜を形成せしめられる。そ
の徐酸化処理法としては、通常、(1)有機溶剤に浸漬
した後、酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化被膜を形
成し、乾燥させる方法、(2)有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスとの分圧を調整して表面に酸化被膜を形
成する方法、のいずれかで行われることが多い。
【0040】さらに、磁性層4に含有される強磁性粉末
としては、γ−Fe23、Fe34、γ−Fe23とF
34とのベルトライド化合物、Co含有γ−Fe
23、Co含有Fe34、Coを含有するγ−Fe23
とFe34とのベルトライド化合物、CrO2に1種以
上の金属元素(例えばTe、Sb、Fe、B等)を含有
させた酸化物等を用いることも可能である。さらに、強
磁性粉末としては、六方晶系板状フェライトも使用可能
であり、M型、W型、Y型、Z型のバリウムフェライ
ト、ストロンチウムフェライト、カルシウムフェライ
ト、鉛フェライト、及びこれらに保磁力を制御する目的
でCo−Ti、Co−Ti−Zn、Co−Ti−Nb、
Co−Ti−Zn−Nb、Cu−Zr、Ni−Ti等を
添加したものも使用可能である。強磁性粉末の保磁力は
何れの値でも使用可能であるが、高記録密度に好適な磁
気ディスク1用としては、1500Oe〜3500Oe
であることが好ましく、特に1700Oe〜3000O
eであることが好ましい。したがって、上記のうち強磁
性金属粉末、或いは六方晶系板状フェライト等を用いる
ことが好ましい。
【0041】また、本発明を適用した磁気ディスク1に
用いられる強磁性粉末の比表面積は、20m2/g〜8
0m2/gであることが好ましく、特に30m2/g〜7
0m2/gであることが好ましい。比表面積を上記範囲
とすると、強磁性粉末の形状の微粒子化を伴い、高記録
密度が可能となり、ノイズ特性の優れた磁気ディスク1
を得ることが可能である。
【0042】さらに、本実施の形態に係る磁気ディスク
1に用いられる強磁性粉末は、長軸長が0.05μm〜
0.3μmであることが好ましく、軸比が4〜15であ
ることが好ましい。強磁性粉末の長軸長を0.05μm
未満とすると、磁性塗料中の分散が困難となる虞があ
り、一方、強磁性粉末の長軸長が0.30μmを超える
とノイズ特性が劣化する虞がある。強磁性粉末の軸比が
5未満であると、強磁性粉末の配向性が低下し出力の低
下となり、一方、軸比が15を超えると短波長信号出力
が低下する虞がある。六方晶系板状フェライトの場合
は、板径が0.01μm〜0.5μmであることが好ま
しく、板厚が0.001μm〜0.2μm程度であるこ
とが好ましい。なお、ここでは長軸長、軸比、板径及び
板厚は、透過型電子顕微鏡写真から無作為に選んだ10
0サンプル以上の平均値とする。また、強磁性粉末の含
水率は0.1%〜3%とすることが好ましい。
【0043】また、磁性層4の厚さは0.1μm〜0.
5μmであることが好ましい。磁性層4の厚さが上記の
範囲内であることで、記録減磁の低減が可能であり、短
波長での出力、オーバーライト等の電磁変換特性が向上
する。磁性層4の厚さが0.5μmを上回る場合、記録
減磁により電磁変換特性の低下を招く虞があるととも
に、潤滑剤を中間層3のみに含有させた場合に充分な量
の潤滑剤を磁気ディスク1表面に供給できない虞があ
る。一方、磁性層4の厚さが0.1μm未満である場
合、均一な磁性層を形成できない虞がある。
【0044】磁性層4中には、研磨剤を含有させること
も可能である。研磨剤としては、モース硬度7以上の非
磁性粉末が好ましく、例えば酸化アルミニウム、酸化ク
ロム(Cr23)、炭化珪素、ダイヤモンド、窒化珪
素、窒化チタン、チタンカーバイド、炭化チタン、酸化
チタン等が挙げられる。これらの研磨剤の含有量は、強
磁性粉末100重量部に対して20重量部以下であるこ
とが好ましく、特に10重量部以下であることが好まし
い。研磨剤の比重は2〜6であることが好ましく、特に
3〜5の範囲であることが好ましい。研磨剤の平均一次
粒径は、0.05μm〜0.8μmであることが好まし
い。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状の何れであ
っても構わない。研磨剤の具体的な例としては、AKP
−30、AKP−50、HIT−50、HIT−55、
HIT−60、HIT−82、HIT−100(住友化
学工業社製)を挙げることができる。なお、これら研磨
剤は強磁性粉末とともに混合し、分散処理する手法にて
用いても良く、予め結合剤中に分散し、塗料化した上
で、主として強磁性粉末と結合剤とからなる磁性塗料に
添加しても良い。
【0045】中間層3及び磁性層4に含有される結合剤
としては、従来より磁気記録媒体用の結合剤として使用
される公知の熱可塑性樹脂、熱硬化製樹脂、反応型樹脂
等が使用可能であり、その中でも数平均分子量が500
0〜100000のものが好ましい。熱可塑性樹脂の例
としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル
共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、
ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロールアセ
テートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等のセルロース誘導体、スチレンブタジエ
ン共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ア
ミノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。また熱硬化性樹脂
又は反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン
樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。なお、
これらの樹脂については改訂新版「プラスチックハンド
ブック」(朝倉書店)に記載されている。
【0046】上記の結合剤に含まれる極性官能基として
は、−SO3M、−OSO3M、−COOM、P=O(O
M)2(ここで、式中Mは、水素原子或いはリチウム、
カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属である。)、−
NR12、−NR123 + -、の末端基を有する側鎖
型のもの、>NR12 +-の主鎖型のものが挙げられる
(ここで、式中R1、R2、R3、は、水素原子或いは炭
化水素基であり、X-は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
等のハロゲン元素イオン或いは無機・有機イオンであ
る。)。また、−OH、−SH、−CN、エポキシ基等
の極性官能基もある。これら極性官能基の量は、10-1
mol/g〜10-8mol/g、好ましくは10-2mo
l/g〜10-6mol/gである。極性官能基の量がこ
れより少ないと、磁性粉末の分散に対する効果が発現せ
ず、一方、多い場合は塗料粘度の増大や強磁性粉末の分
散低下等につながる。これら結合剤は、1種単独で用い
ることが可能であるが、2種以上を併用することも可能
である。中間層3又は磁性層4におけるこれら結合剤の
含有量は、上記強磁性粉末又は非磁性粉末100重量部
に対して1重量部〜200重量部であることが好まし
く、特に10重量部〜50重量部であることが好まし
い。
【0047】具体的な結合剤の商品名としては、VAG
H、VYHH、VMCH、VAGF、VAGD、VRO
H、VYES、VYNC、VMCC、XYHL、XYS
G、PKHH、PKHJ、PKHC、及びPKFE(ユ
ニオンカーバイド社製)、MR110、MR100、M
R112、MR555、及びMR104(日本ゼオン社
製)、ニッポランN2301、N2302、及びN23
04(日本ポリウレタン工業社製)、バイロンUR82
00、UR8300、RV530、及びRV280(東
洋紡社製)、ダイフェラミン4020、9020、90
22、及び7020(大日精化社製)、サランF31
0、及びF210(旭化成社製)等を挙げることができ
る。
【0048】また、上記結合剤を架橋硬化させるための
ポリイソシアネートを併用することも可能である。具体
的なポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシア
ネート、アルキレンジイソシアネート、4,4’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート並びにこれらの付加体等
である。これらのイソシアネート類の具体例としては、
コロネートL、コロネートHL、コロネート2030、
及びコロネート2031(日本ポリウレタン工業社
製)、タケネートD−102、タケネートD−110
N、タケネートD−200、タケネートD−202(武
田薬品工業社製)を挙げることができる。これらポリイ
ソシアネートの上記結合剤への配合量は、上記結合剤1
00重量部に対して5重量部〜80重量部、好ましくは
10重量部〜60重量部である。これらポリイソシアネ
ート類は、中間層3及び磁性層4の両層に用いることが
可能であるし、何れか1層のみに限定して用いることも
可能である。中間層3及び磁性層4の両層に用いる場合
の配合量は、各層に等量投入することも可能であるし、
任意の比率で変えることも可能である。
【0049】また、潤滑剤としては、上記の炭素数が8
以上であるアルキル基を1つ以上有する第1級〜第3級
のアルキルアミンとともに、従来公知の潤滑剤を併用す
ることが可能である。具体的には、黒鉛、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン等の微粉末、炭素数10〜炭
素数22の脂肪酸、並びにこれと炭素数2〜炭素数26
のアルコールとからなる脂肪酸エステル、フルオロカー
ボン類、ジアルキルポリシロキサン、フルオロアルキル
ポリシロキサン等のシリコンオイル等が挙げられる。こ
れらの潤滑剤は、磁性層4のみに含有させることも可能
であるし、磁性層4及び中間層3の両層に含有させるこ
とも可能である。
【0050】また、中間層3及び磁性層4に含有させる
粉末を良好に分散させるために、分散剤を用いることも
可能である。具体的な分散剤としては、ポリオキシアル
キレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンフェノ
ールエーテル等のノニオン系界面活性剤、ポリオキシア
ルキレンリン酸エステル、スルフォン酸、各種脂肪酸等
のアニオン系界面活性剤、トリアルキル第4級アンモニ
ウム塩等のカチオン系界面活性剤、さらに両性の界面活
性剤が挙げられる。また、シランカップリング剤、チタ
ンカップリング剤、アルミニウムカップリング剤等の各
種カップリング剤も分散剤として使用可能である。これ
らは目的に応じて種類、量を磁性層4及び中間層3の両
層に使い分けることが可能であるし、1層のみに使用し
ても構わない。分散剤の含有量は、強磁性粉末又は非磁
性粉末100重量部に対して、0.5重量部〜20重量
部であることが好ましい。また、磁気ディスク1の表面
における潤滑剤の存在量を最適化するために、カレンダ
ー処理後に潤滑剤を磁気ディスク1の表面に塗布するこ
ともできる。この場合、潤滑剤は溶剤中に溶解されて塗
布されるが、その溶剤としては磁気ディスク1に用いら
れている結合剤を溶解しないものが選択される。
【0051】非磁性支持体2としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等
のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
ト等のセルロース類、ビニル系樹脂、ポリアミド類、ポ
リイミド類、ポリカーボネート類に代表されるような高
分子材料が挙げられる。上記中間層3及び磁性層4の形
成に際しては、非磁性支持体2と中間層3又は磁性層4
の間に密着性を向上させるために下塗り層を設けても良
い。この下塗り層の厚みは、0.01μm〜1μmであ
ることが好ましく、特に0.03μm〜0.5μmであ
ることが好ましい。下塗り層の形成に際しては、従来か
ら磁気テープ、磁気ディスクにおいて用いられている公
知のものを使用することができる。
【0052】非磁性支持体2の表面粗さはZygo社製
Maxim 3D5700で測定したRaで8nm以
下、好ましくは5nm以下である。さらにこれらの非磁
性支持体2には、高さ0.4μm以上の粗大突起が無い
ことが好ましい。非磁性支持体2上に0.4μm以上の
粗大突起があると、磁性層4或いは中間層3を塗布して
も当該粗大突起の形状が表面におよび、走行耐久性の悪
化やドロップアウト等の原因となる。非磁性支持体2の
表面粗さや粗大突起の形状は、非磁性支持体に添加され
るフィラーの大きさと量によりコントロールされる。こ
れらのフィラーとしてはCa、Si、Ti等の酸化物や
炭酸塩の他、アクリル系等の有機微粉末が挙げられる。
【0053】上述の説明のように、本実施の形態に係る
磁気ディスク1は、潤滑剤として炭素数が8以上である
アルキル基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキル
アミンを、少なくとも中間層3に含有するとともに、p
Hが7.5以上である非磁性粉末を中間層3に含有して
いる。このため、潤滑剤が中間層3に吸着されることな
く、適量の潤滑剤が磁気ディスク1表面に供給され、保
持される。したがって、電磁変換特性を劣化させること
なく低摩擦係数を実現し、磁気ディスク1及び磁気ディ
スク1に対して摺動する磁気ヘッド双方の摩耗を防止す
ることができる。
【0054】以下、上記の構成の磁気ディスク1の製造
方法について説明する。
【0055】上記のような非磁性支持体2上に中間層3
及び磁性層4を形成するためには、先ず中間層材料及び
磁性層材料を溶剤を用いて塗料化する。この塗料を非磁
性支持体2上に塗布、乾燥することによって、中間層3
及び磁性層4を形成する。塗料化に用いられる溶剤とし
ては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、イソプロパノール、イソブチルア
ルコール等のアルコール系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレン
グリコールアセテート等のエステル系溶剤、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、2−エトキシエタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
系溶剤、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四
塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は必ず
しも純度100%である必要はなく、異性体、未反応
物、酸化物、水分等の不純成分が20%以下であれば含
まれていても構わない。
【0056】上記塗料の作製は、混練工程、分散工程及
びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程に
よって行われる。本実施の形態において使用する強磁性
粉末、非磁性粉末、カーボンブラック、結合剤、潤滑
剤、溶剤等、全ての原料は何れの工程の最初又は途中で
添加しても構わない。また、個々の原料を2つ以上の工
程に分割して添加しても構わない。分散及び混練には、
ロールミル、ボールミル、サンドミル、アジター、ニー
ダー、エクストルーダー、ホモジナイザー、超音波分散
機等、従来公知の装置を用いることができる。
【0057】このようにして作製された塗料は、従来公
知の塗布方式、例えばグラビア塗布、ロール塗布、ブレ
ード塗布、ダイコーティング等の各種方式によって非磁
性支持体2上に塗布される。中でも、ダイコータによる
同時重層塗布方式がが好ましい。ダイコータのリップ構
成は、2リップ方式、3リップ方式、4リップ方式等が
用いられる。
【0058】例えば、2リップ方式のダイコータを用い
たいわゆるウェット・オン・ウェット方式の重層塗布方
式について、図2を参照しながら説明する。押し出しコ
ーター10には、液溜まり部11,11が設けられ、中
間層用塗料3’及び磁性層用塗料4’を貯留する。先
ず、図示しない供給ロールから繰り出された非磁性支持
体2を、図中の矢印A方向へ送りながら、エクストルー
ジョン方式の押し出しコーター10により中間層用塗料
3’及び磁性層用塗料4’を、スリット12,12を介
して非磁性支持体2上に供給し、ウェット・オン・ウェ
ット方式で同時に重ねる。このようなウェット・オン・
ウェット方式は、中間層3が湿潤状態のまま磁性層用塗
料4’を塗布するので、中間層3の表面、すなわち中間
層3と磁性層4との境界面が滑らかになる。この結果、
磁性層4の表面性が良好となるとともに、中間層3と磁
性層4との接着性も向上する。したがって、中間層3及
び磁性層4の剥離が防止され、塗膜強度が向上するとと
もに、ドロップアウトを低減することが可能であり、信
頼性を向上させることができる。
【0059】上記のウェット・オン・ウェット方式に対
して、特開平6−236543号公報に開示されるよう
ないわゆるウェット・オン・ドライ方式によって磁気デ
ィスクを製造する場合、中間層として上層の磁性層用の
塗料に対して充分な耐溶剤性を有する材料を選択する必
要があり、中間層の材料設計の幅を狭めてしまう。ま
た、ウェット・オン・ドライ方式によって製造された磁
気ディスクは、磁性層の表面平滑性が不充分となり、電
磁変換特性に支障をきたす虞がある。
【0060】なお、上記のウェット・オン・ウェット方
式よって形成される中間層3と磁性層4との間には、明
確な境界が実質的に存在する場合以外に、一定の厚みを
もって両層の成分が混在してなる境界領域が存在する場
合がある。本実施の形態においては、このような境界領
域を除いた磁性層側及び非磁性支持体側を、それぞれ磁
性層4及び中間層3とする。また、本実施の形態は、中
間層3と磁性層4との間に明確な境界が存在する場合、
中間層3と磁性層4との間に境界領域が存在する場合の
何れであっても構わない。
【0061】次に、磁性層4が未乾燥状態であるうち
に、磁性層4に対して磁場配向処理が行われる。磁場配
向処理は、交流磁場発生装置の中に、中間層3及び磁性
層4が形成された非磁性支持体2を通過させることによ
り行われる。交流磁場の周波数は10Hz〜150Hz
であることが好ましく、磁界強度は50Oe〜500O
eであることが好ましい。また、必要に応じて、磁場配
向処理の前に長手方向に印加された磁場中に、中間層3
及び磁性層4が形成された非磁性支持体2を通過させて
も構わない。これにより、磁気ディスク1の表面がさら
に平滑化される。磁場配向処理による強磁性粉末の配向
度比、すなわち長手方向の角形比とそれと直交する方向
の角形比との比は、0.9以上、1.1以下であること
が好ましく、特に0.95以上、1.05以下であるこ
とが好ましい。
【0062】つぎに、中間層3及び磁性層4が形成され
た非磁性支持体2に対して、加熱したロールの間を加圧
しながら通過させる、いわゆるカレンダー処理を行う。
カレンダー処理に用いられるロールとしては、通常、エ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミドイミド等の耐熱性を有
するプラスチックロールが使用される。また、カレンダ
ー処理に用いられるロールとして、金属製のロールを使
用することもできる。カレンダー処理の処理温度は、一
般に70℃〜120℃とされ、特に80℃〜110℃と
されることが好ましい。線圧力は、通常200kg/c
m〜450kg/cmであることが好ましい。また、カ
レンダー処理を行うカレンダー処理機は、処理速度が3
0m/分〜500m/分であることが好ましく、且つ、
5段〜10段のロールを備えていることが好ましい。
【0063】カレンダー処理後、スリット工程又は打ち
抜き工程、バーニッシュ工程、最後にカートリッジ組み
込み工程を経ることによって、本実施の形態に示す磁気
ディスク1が完成する。得られる磁気ディスク1の表面
固有抵抗値は、104Ω/sq〜1012Ω/sqである
ことが好ましい。
【0064】ところで、磁気ディスクの記録密度のさら
なる向上や転送レートの高速化を図るためには、磁気ヘ
ッドを備えるヘッドスライダを磁気ディスクの表面に接
触摺動させ、信号の記録再生を行うことが好ましい。
【0065】そして、本実施の形態に係る磁気ディスク
は充分な低摩擦係数と優れた耐久性とを実現しているた
め、いわゆる接触型のヘッドスライダに対して着脱自在
なフレキシブルディスクとして用いられた場合であって
も、摩擦係数を低く抑え、長期に亘って磁気ヘッド及び
磁気ディスク双方の摩耗を抑制し、信頼性を確保でき
る。したがって、本実施の形態に係る磁気ディスクと、
いわゆる接触型のヘッドスライダとを組み合わせること
により、長期に亘って信頼性を確保しつつ、低消費電力
にてこれまでにない高記録密度及び転送レートの高速化
を実現する記録再生装置を構築することが可能となる。
【0066】以下、接触型のヘッドスライダについて説
明する。
【0067】上記接触型のヘッドスライダは、例えば、
直動型アクチュエータにより磁気ディスクの半径方向に
移動自在に設けられた、ヘッドスライダサスペンション
(以下、「HGA(Head Gimbal Assembly )」と略
す。)の先端に支持される。
【0068】図3は、その先端にヘッドスライダ21を
取着するHGA22を示す。HGA22は、磁気ディス
ク1の半径方向の延長方向に長い矩形板状のベースプレ
ート23と、当該ベースプレート23の先端部下面に重
ね合わされた状態で貼着されたサスペンションビーム2
4とからなる。上記ヘッドスライダ21はサスペンショ
ンビーム24の先端部に支持される。
【0069】なお、ヘッドスライダ21及びHGA22
は上下に対向するように一対配設される。ヘッドスライ
ダ21は、磁気ディスク1を両主面側から狭持するよう
になっている。しかし、以下の説明は、特に記述しない
限り、上側のヘッドスライダ21及びHGA22につい
てのみ行い、下側のものについてはその説明を省略す
る。
【0070】ベースプレート23は、図4にその基端部
に左右両側部がくびれた狭隘部25が形成されており、
狭隘部25より基端側部分が図示しないリニアモータの
キャリッジに保持され、また、先端部の左右側部のうち
一方の端部に突出する片持ち腕部26が一体に形成され
ている。
【0071】そして、図示は省略するが、リニアモータ
の前後方向の移動により、片持ち腕部26がリフタによ
り相対的に持ち上げられると、ベースプレート23は狭
隘部25が主に曲がろうとして、片側縁が持ち上げられ
るにもかかわらず捻れることなくほぼ水平のまま先端側
が上方へ押し上げられるようになっている。
【0072】なお、図中に示す「D1方向」がリニアモ
ータの前後方向であり、磁気ヘッド32により記録又は
再生のためのシーク方向である。また、「D2方向」は
磁気ディスク1の走行方向(回転方向)を示す。なお、
磁気ディスク1の走行方向(D2)は逆向きであっても
良い。
【0073】また、上記図示しないリニアモータは、磁
気ディスク1の半径方向と平行に移動するようになって
おり、リニアモータの駆動によりベースプレート23が
磁気ディスク1の延長方向に移動するようになってい
る。
【0074】サスペンションビーム24は、上記ベース
プレート23の先端部下面に後述するピボットスプリン
グ35を介して貼着される被貼着部27と、先端に行く
に従い幅狭になるサスペンション部28と、サスペンシ
ョン部28の先端部でヘッドスライダ21を支持するス
ライダ支持部29とからなる。
【0075】サスペンション部28には複数の孔30が
形成されており、これによりサスペンション部28に適
度な弾性が付与されるようになっている。特に、サスペ
ンション部28の先端部には、先端が開口するリンク部
31が形成され、リンク部31の先端間にほぼ矩形の上
記スライダ支持部29が形成されている。
【0076】サスペンションビーム24の材料として
は、SUS/接着剤/SUS等の3層からなる、バネ定
数200mgf/mm程度の非常に柔らかいラミネート
材により構成されている。リンク部31は、ロール剛性
0.1μN・m/degree、ピッチ剛性0.04μ
N・m/degreeという柔軟性が確保されている。
【0077】また、サスペンションビーム24は、ヘッ
ドスライダ21の磁気ディスク1と対向する側と反対側
に機械的に接続されるとともに後述する磁極パッドの中
心に埋め込まれた磁気ヘッド32から伸びたリード端子
に電気的にも接続され、信号線としての機能も果たして
いる。
【0078】ヘッドスライダ21は、図5及び図6に示
すように、磁気ディスク1との摺動面側から見て縦長な
台形形状である。台形形状のヘッドスライダ21の、互
いに平行な一組の辺のうち、短い辺を上底とし、長い辺
を下底としたとき、上底側に磁気ヘッド32が埋設され
て接触パッド(磁極パッド)33が形成され、また、下
底の両端の角付近に接触パッド34,34がそれぞれ形
成されている。
【0079】ヘッドスライダ21は、薄膜プロセスによ
るスパッタ・アルミナボディ等で形成されている。ヘッ
ドスライダ21は、厚さを50μm以下と極薄にされて
いるため、ハードディスクで使用されている厚さ300
μm程度のピコスライダと比較して3桁ほど柔らかい剛
性を有し、且つヘッドスライダ21の自重は500μg
以下と軽量である。その結果、磁気ディスク1の表面を
滑らかに追従することが可能であるとともに、極めて軽
量であるため、外部から印加される加速度に対して発生
する力が非常に弱く、その結果、特にポータブルユース
において重要な耐衝撃性に優れている。
【0080】接触パッド33,34,34は、ダイヤモ
ンドライクカーボン(以下、DLCと称する。)等で形
成されており、接触パッド(磁極パッド)33には記録
及び/又は再生を行う磁気ギャップを有する磁気ヘッド
32が埋め込まれており、摺動面での磁気コアの周囲が
DLC等で囲まれている。
【0081】接触パッド33,34,34の硬度は、耐
摩耗性の観点からビッカース硬度が700以上であるこ
とが好ましく、特に1000以上であることが好まし
い。なお、接触パッド33,34,34の材料として
は、上記のような特性を与えるのであればDLCに限定
されず、いかなる材料を用いることも可能である。
【0082】また、図6中、円E部分を拡大して示す図
7に示すように、接触パッド33,34,34の磁気デ
ィスク1と接触する側の角度αは、媒体に対する削れ性
を抑えるために90度以上の鈍角であることが好まし
く、特に115度以上であることが好ましい。接触パッ
ド33,34,34の磁気ディスク1と接触する側の角
度αを上記のように規定することにより、接触パッド3
3,34,34が磁気ディスク1との摺動によって受け
る摩耗が最適化される。
【0083】また、図5において、接触パッド(磁極パ
ッド)33の摺動面形状を略楕円とし、接触パッド3
4,34の摺動面形状を略真円として図示したが、これ
らの形状に限定されるものではなく、接触パッドの形状
は、長方形、正方形、三角形等、いかなる形状であって
も構わない。
【0084】上記磁気ヘッド32は、薄いヘッドスライ
ダ21の内部に構造がおさまるように、巻線がヘッドス
ライダ21の面に平行となされたいわゆるプレーナ型薄
膜インダクティブヘッドを採用しているが、その他のい
かなる磁気ヘッドを用いることも可能である。
【0085】そして、このようなヘッドスライダ21
は、上記サスペンションビーム24の先端のスライダ支
持部29の摺動面側に貼着される。
【0086】サスペンションビーム24に対して接触圧
力を付与するためのピボットスプリング35は、長さ方
向のほぼ半分の長さをした基部と、基部の先端縁の左右
側端部からそれぞれさらに先端に向かい、且つ互いに近
づくように延出されたリンク片36と、リンク片36の
先端間に架設された押圧片37とが一体に形成されてい
る。
【0087】ピボットスプリング35のリンク片36は
その基部との間で折り曲げられて先端に行くに従い下方
へ偏倚され、また、押圧片37はそのリンク片36との
間で折り曲げられて先端に行くに従い下方へ偏倚されて
いる。
【0088】ピボットスプリング35の押圧片37の先
端側縁の中央部には三角形状の押圧部37aが形成され
ており、押圧部の尖端部がサスペンションビーム24の
スライダ支持部29に対応した所定の位置に形成されて
いる。
【0089】そして、ピボットスプリング35の基部
は、ベースプレート23の先端とサスペンションビーム
24の基端部とに狭持される。これにより、サスペンシ
ョンビーム24は、そのスライダ支持部29がピボット
スプリング35の押圧部に押圧されて下方に可撓され
て、磁気ディスク1に対する適度なロード荷重がかかる
ようになっている。
【0090】ピボットスプリング35は、バネ定数25
0mgf/mm程度の極薄のステンレス材からなること
が好ましい。これにより、200mgfという低いロー
ド荷重がヘッドスライダ21の重心位置に加えられ、磁
気ディスク1のランアウト変動に伴うヘッドスライダ2
1の高さ変動、いわゆるZ−height変動が起こっ
たとしても、荷重変動幅が100mgf〜300mgf
程度の狭い範囲内に抑えられ、各接触パッド33,3
4,34に対して均等な接触圧力が付与される。したが
って、ヘッドスライダ21は、磁気ディスク1の定常及
び非定常なランアウト変動に極めて良く追従し、磁気デ
ィスク1に対して安定した記録及び/又は再生を実現す
る。
【0091】上述の説明のような接触型のヘッドスライ
ダ21を用いる記録再生装置に本実施の形態に係る磁気
ディスク1を適用する際には、磁気ヘッド32を埋設さ
れた接触パッド(磁極パッド)33が磁気ディスク1表
面に対向するように、ヘッドスライダ21を磁気ディス
ク1に対向させる。次に、相対速度を1.3m/s〜2
5m/sとなるように、磁気ディスク1を回転させ、磁
気ヘッド32を磁気ディスク1表面に接触させた状態で
信号の記録再生を行う。相対速度を上記の範囲内とする
ことで、ヘッドスライダ21が磁気ディスク1の表面か
ら浮上することなく一定量のスペーシング量が維持さ
れ、安定な接触摺動が行われる。
【0092】電磁変換特性を維持しつつ低摩擦係数を実
現した磁気ディスク1と上述のような接触型のヘッドス
ライダ21とを組み合わせることにより、長期に亘って
信頼性を確保しつつ、低消費電力にてこれまでにない高
記録密度及び転送レートの高速化を実現する記録再生措
置を構築することが可能となる。
【0093】特に、接触パッド33,34,34と磁気
ディスク1との接触圧力を1gf/mm2以上、30g
f/mm2以下とすることが好ましい。接触パッド3
3,34,34と磁気ディスク1との接触圧力を上記の
範囲とすることで、電磁変換特性を維持しつつ、磁気ヘ
ッド32及び磁気ディスク1双方の摩耗が防止され、磁
気ディスク1に対するダメージを抑えることができる。
【0094】また、ヘッドスライダ21の自重を500
μg以下とすることが好ましい。ヘッドスライダ21の
自重を上記のように軽量とすることで、磁気ディスク1
にダメージを与えることなく、信頼性を維持できる。
【0095】また、ヘッドスライダ21のロード荷重を
400mgf以下とすることが好ましい。ヘッドスライ
ダ21のロード荷重を低くすることでモータ消費電力を
低減できる。また、ヘッドスライダ21のロード荷重を
400mgf以下とすることで、例えば従来の3.5イ
ンチフロッピーディスク(登録商標)の摩擦力が100
00mgfであったのに対して、その1/50である2
00mgfの低摩擦力を達成することができる。
【0096】また、ヘッドスライダ21を支持するサス
ペンションのバネ定数を1000mgf/μm2以下と
することが好ましく、特に500mgf/μm2以下と
することが好ましい。ヘッドスライダ21を支持するサ
スペンションのバネ定数を小さくすることで、ヘッドス
ライダ21の接触パッド33,34,34と磁気ディス
ク1との接触圧力が適当となり、磁気ディスク1に与え
るダメージを抑制できる。
【0097】また、ヘッドスライダを支持するサスペン
ションのロール方向の剛性を0.8μN・m/degr
ee以下とすることが好ましく、特に0.4μN・m/
degree以下とすることが好ましい。ヘッドスライ
ダを支持するサスペンションのロール方向の剛性を低く
することで、ヘッドスライダ21は磁気ディスク1に対
して良好な追従性を示し、磁気ディスク1にダメージを
与えることなく、信頼性を維持できる。
【0098】また、ヘッドスライダを支持するサスペン
ションのピッチ方向の剛性を0.2μN・m/degr
ee以下とすることが好ましく、特に0.1μN・m/
degree以下とすることが好ましい。ヘッドスライ
ダを支持するサスペンションのピッチ方向の剛性を低く
することで、ヘッドスライダ21は磁気ディスク1に対
して良好な追従性を示し、磁気ディスク1にダメージを
与えることなく、信頼性を維持できる。
【0099】なお、上述の説明では、HGA22からピ
ボットスプリング35を介して接触圧力を付与されるヘ
ッドスライダ21を例に挙げたが、本実施の形態に係る
ヘッドスライダは、ピボットスプリング35を用いるこ
となくサスペンションビーム24自身の曲げ加工を精度
良く行うことによって所望の接触圧力を実現するように
しても構わない。
【0100】なお、上述の説明では、リニアモータ(直
動型アクチュエータ)にHGA22を支持させた場合を
例に挙げたが、本実施の形態に係るヘッドスライダは、
回動型のアクチュエータを使用することも可能である。
【0101】なお、上述の説明では、接触パッドを3つ
有するヘッドスライダ21を例に挙げたが、ヘッドスラ
イダは、例えば接触パッドを1つ有しても、2つ有して
も、また、4つ以上有していても構わない。
【0102】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例及び比較例に
ついて、実験結果に基づいて説明するが、本発明はこの
実施例に限定されないことは言うまでもない。
【0103】〈実験1〉まず、磁気ディスクが、潤滑剤
として炭素数が8以上であるアルキル基を1つ以上有す
るアルキルアミンを含有する効果について検討した。
【0104】サンプル1 先ず、顔料、研磨剤、結合剤、添加剤、有機溶媒を所定
量混合し、エクストルーダーにより混練した後、残りの
原料を加えてサンドミルにより分散処理を行い、磁性層
用塗料及び中間層用塗料を得た。磁性層用塗料及び中間
層用塗料の組成を、下記に示す。
【0105】 〈磁性層用塗料組成〉 Fe系メタル強磁性粉末 100重量部 (保磁力=170kA/m、飽和磁化量=150Am2/kg、長軸長=0.1 μm) ポリ塩化ビニル樹脂 15重量部 (官能基〔−OSO3K〕=6×10-2mmol/g α−Al23(平均粒径=0.3μm、モース硬度9) 8重量部 ミリスチン酸 1重量部 ジメチルステアリルアミン(潤滑剤として添加) 7重量部 メチルエチルケトン 150重量部 シクロヘキサノン 150重量部 〈中間層用塗料組成〉 針状α−Fe23 80重量部 (比表面積=53m2/g、長軸長=0.15μm、針状比=7、pH=8.1 ) カーボンブラック 20重量部 (三菱化成社製 MA100、粒子径=0.022μm、pH=3.5) ポリ塩化ビニル樹脂 15重量部 (官能基〔−OSO3K〕=6×10-2mmol/g) ポリエステルポリウレタン樹脂 10重量部 (官能基〔−OSO3Na〕=15×10-2mmol/g) ミリスチン酸 1重量部 ジメチルステアリルアミン(潤滑剤として添加) 7重量部 メチルエチルケトン 150重量部 シクロヘキサノン 150重量部 上記の磁性層用塗料及び中間層用塗料に、ポリイソシア
ネート(商品名コロネートL、日本ポリウレタン工業社
製)をそれぞれ3重量部、5重量部添加し、図2に示す
ようなダイコータを用いてポリエチレンテレフタレート
フィルム上に中間層の厚さが1.5μm、磁性層の厚さ
が0.2μmとなるように塗布した。なお、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムとしては、62μmの厚さの
ものを用いた。
【0106】次に、塗料が未乾燥であるうちに、交流磁
場150Oe、周波数60Hzの条件にて磁場配向処理
を行った。乾燥後、5段のカレンダー処理機にて90
℃、200kg/cmの条件にてカレンダー処理を行っ
た。さらに、カレンダー処理により平滑化された磁気記
録媒体原反を、直径2インチの大きさに打ち抜き、これ
を60℃で48時間アニール処理した後、バーニッシュ
処理を行い、サンプル1の磁気ディスクを得た。
【0107】サンプル2〜サンプル7 中間層及び磁性層に含有させる潤滑剤の種類を下記の表
1に示す組成にしたこと以外は、サンプル1と同様にし
て磁気ディスクを作製した。
【0108】サンプル8 潤滑剤を中間層のみに含有させたこと以外は、サンプル
1と同様にして磁気ディスクを作製した。
【0109】サンプル9〜サンプル11 中間層及び磁性層に含有させる潤滑剤の種類を下記の表
1に示す組成にしたこと以外は、サンプル1と同様にし
て磁気ディスクを作製した。
【0110】上記のサンプル1〜サンプル11の磁気デ
ィスクの構成を、まとめて表1に示す。
【0111】
【表1】
【0112】以上のように作製されたサンプル1〜サン
プル11の磁気ディスクに対して、電磁変換特性(IS
TAA、PW50)、中心線平均粗さ(Ra)、信頼
性(ヘッド摩耗レート、スチルモード摺動試験)、及び
摩擦係数を、以下に示すようにして評価を行った。
【0113】(1)電磁変換特性(IS TAA、PW
50) 電磁変換特性は、回転数を制御可能なモータと、磁気ヘ
ッドを磁気ディスク表面の所望の位置にマウントするた
めの治具と、信号の入出力を検出するための回路とを備
えるスピンスタンドタイプの測定機を用いて測定した。
なお、モータ回転数を4800rpmとし、測定位置を
磁気ディスクの中心から20mmの位置とした。磁気ヘ
ッドとしてはトラック幅が6μmである薄膜ヘッドを用
いた。当該磁気ヘッドは、図5及び図6に示すようなヘ
ッドスライダに搭載され、CVD法によって形成したD
LCからなる接触パッドの中に埋設されている。
【0114】そして、接触パッドが形成されたヘッドス
ライダを磁気ディスクと接触させた状態にて、波長10
μmの孤立再生波形のベースライン(=GND)からピ
ークまでの振幅IS TAAと、IS TAAの半分の
レベルにおけるパルス幅PW50とを測定した。一般
に、IS TAAはSN比の指標に用いられ、PW50
は磁気スペーシングに非常に敏感なことから、接触状態
の指標に用いられる。以下の表2中、IS TAA及び
PW50は、サンプル1の値をそれぞれ0dB、100
%とした相対値として表した。
【0115】(2)中心線平均粗さ(Ra) 中心線平均粗さ(Ra)は、光干渉方式による非接触型
表面粗さ計(Zygo社製Maxim 3D5700)
を用いて測定した。
【0116】(3)信頼性(ヘッド摩耗レート、スチル
モード摺動試験) 信頼性の評価は、上記の電磁変換特性の試験で用いたも
のと同様のスピンスタンドタイプの測定機及びヘッドス
ライダを用いた。
【0117】ヘッド摩耗レートは、回転する磁気ディス
クに対しヘッドスライダを磁気ディスクの中心から所定
の範囲で往復運動させる、いわゆるシークモードで所定
時間摺動試験を行ったときのヘッド摩耗量を測定するこ
とにより算出した。なお、ヘッドスライダは、磁気ディ
スクの中心から10mm〜20mmを移動範囲とし、こ
の範囲で周波数5Hzにて往復運動を行った。また、磁
気ディスクの回転数は3600rpmとし、試験環境は
常温常湿とし、摺動時間は48時間とした。
【0118】スチル耐久時間は、回転する磁気ディスク
に対しヘッドスライダを固定して摺動させるいわゆるス
チルモードで摺動試験を行ったときのIS TAAの経
時変化を調べ、初期値から1dB低下するまでの時間と
した。なお、スチル耐久時間の測定は、摺動時間300
時間まで行った。
【0119】また、上述のスチル耐久時間の測定の終了
時点での磁気ディスクの表面状態を目視により観察し、
スクラッチ傷の有無を確認した。下記の表2中、磁気デ
ィスクの表面にスクラッチ傷が認められなかったものを
○とし、磁気ディスクの表面にスクラッチ傷が認められ
たものを×として表した。
【0120】(4)摩擦係数 摩擦係数の測定は、上記の電磁変換特性の試験で用いた
ものと同様のスピンスタンドタイプの測定機を用いた。
磁気ディスクを3600rpmにて回転させ、ヘッドス
ライダを磁気ディスクに対して摺動させたときのヘッド
スライダに加わる力、すなわち摩擦力を歪みゲージによ
り求めた。この摩擦力とロード荷重との比から、摩擦係
数を算出した。
【0121】上記の評価結果を、表2に示す。なお、表
2中カーボンブラックの品名に関しては、XはMA10
0(三菱化成社製)を表す。
【0122】
【表2】
【0123】表2の結果から、中間層が、潤滑剤として
炭素数が8以上であるアルキル基を1つ以上有する第1
級〜第3級のアルキルアミンを含有するサンプル1〜サ
ンプル8は、優れた表面平滑性及び高い再生出力を有
し、PW50も低い値で維持していることがわかった。
また、サンプル1〜サンプル8は、低摩擦係数を実現
し、ヘッド摩耗レートが少なく、スチルモードでの耐久
性にも優れていることがわかった。なお、サンプル7か
ら、炭素数が8以上であるアルキル基を1つ以上有する
第1級〜第3級のアルキルアミンとともに、公知の潤滑
剤を併用しても所望の効果が得られることがわかった。
【0124】一方、潤滑剤として脂肪酸エステルのみを
含有するサンプル9及びサンプル10は、摩擦係数及び
ヘッド摩耗レートの著しい上昇が見られた。また、アル
キルアミンのアルキル基の炭素数が8未満であるサンプ
ル11は、摩擦係数の低減が不充分であり、結果として
スチルモード摺動試験後に磁気ディスク表面にスクラッ
チ傷を生じてしまった。
【0125】〈実験2〉つぎに、中間層が含有する非磁
性粉末のpHについて検討した。
【0126】サンプル12〜サンプル15 中間層に含有させる非磁性粉末のpHを下記の表3に示
すpHにしたこと以外は、サンプル1と同様にして磁気
ディスクを作製した。
【0127】サンプル16 中間層及び磁性層に含有させる潤滑剤の量を下記の表3
に示す量にしたこと以外は、サンプル15と同様にして
磁気ディスクを作製した。
【0128】上記のサンプル12〜サンプル16の磁気
ディスクの構成を、まとめて表3に示す。
【0129】サンプル17 中間層に含有させる非磁性粉末のpHを下記の表3に示
すpHにしたこと、並びに中間層及び磁性層に含有させ
る潤滑剤の種類を下記の表3に示すようにしたこと以外
は、サンプル1と同様にして磁気ディスクを作製した。
【0130】
【表3】
【0131】以上のように作製されたサンプル12〜サ
ンプル17の磁気ディスクに対して、電磁変換特性(I
S TAA、PW50)、中心線平均粗さ(Ra)、磁
気ヘッド摩耗レート、信頼性(ヘッド摩耗レート、スチ
ルモード摺動試験)、及び摩擦係数を、上記の実験1と
同様にして評価を行った。評価結果を、表4に示す。
【0132】
【表4】
【0133】表4の結果から、中間層が含有する非磁性
粉末のpHが7.5以上であるサンプル12及びサンプ
ル13は、優れた表面平滑性及び高い再生出力を有し、
PW50も低い値で維持していることがわかった。ま
た、サンプル12及びサンプル13は、低摩擦係数を実
現し、ヘッド摩耗レートが少なく、スチルモードでの耐
久性にも優れていることがわかった。
【0134】一方、中間層が含有する非磁性粉末のpH
が7.5未満であるサンプル14及びサンプル15は、
摩擦係数の低減が不充分であり、結果としてスチルモー
ド摺動試験での耐久時間の短縮と磁気ディスク表面の損
傷とを引き起こした。サンプル14及びサンプル15の
特性が劣る理由として、潤滑剤が非磁性粉末との酸塩基
相互作用により中間層に吸着されるため、磁気ディスク
の表面に供給される潤滑剤量が不充分となることが挙げ
られる。非磁性粉末のpHが7.5未満の場合であって
も磁気ディスク表面に充分量の潤滑剤を存在させるため
の対策として、多量の潤滑剤を添加したサンプル16
は、摩擦係数及びヘッド摩耗レートについては改善され
たものの、潤滑剤の分散性が劣化したため、磁気ディス
クの表面平滑性が損なわれ、電磁変換特性が劣化してし
まった。
【0135】また、中間層が含有する非磁性粉末のpH
が7.5未満であり、且つ潤滑剤としてアルキル基の炭
素数が8未満であるアルキルアミンを含有するサンプル
17は、摩擦係数の低減が不充分であり、結果としてス
チルモード摺動試験後に磁気ディスク表面にスクラッチ
傷を生じてしまった。
【0136】以上の実験1及び実験2の結果から、中間
層が潤滑剤として炭素数が8以上であるアルキル基を1
つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミンを含有す
るとともに、pHが7.5以上である非磁性粉末を含有
することで、電磁変換特性を劣化させることなく摩擦係
数の低減を実現し、優れた信頼性を有する磁気ディスク
を得られることが明らかとなった。また、いわゆる接触
型のヘッドスライダに当該磁気ディスクを組み合わせる
ことによって、磁気ヘッドの摩耗や磁気ディスクの摩耗
を防止し、安定した記録再生が行われる記録再生装置を
構築できることが明らかとなった。
【0137】〈実験3〉つぎに、磁気ディスクのさらに
好ましい条件について検討した。
【0138】サンプル18〜サンプル22 中間層に含有させる非磁性粉末とカーボンブラックとの
体積比を下記の表5に示す組成にしたこと以外は、サン
プル1と同様にして磁気ディスクを作製した。
【0139】サンプル23〜サンプル26 中間層に含有させるカーボンブラックのpHを下記の表
5に示すpHにしたこと以外は、サンプル1と同様にし
て磁気ディスクを作製した。
【0140】サンプル27 非磁性粉末として粒径0.04μmの球状酸化チタン粉
末を用いたこと以外は、サンプル1と同様にして磁気デ
ィスクを作製した。
【0141】サンプル28 磁性層の厚さを0.5μmとしたこと以外は、サンプル
1と同様にして磁気ディスクを作製した。
【0142】サンプル29 潤滑剤を中間層のみに含有させ、磁性層の厚さを0.6
μmとしたこと以外は、サンプル1と同様にして磁気デ
ィスクを作製した。
【0143】上記のサンプル18〜サンプル29の磁気
ディスクの構成を、まとめて表5に示す。なお、表5
中、カーボンブラックの品名に関しては、XはMA10
0(三菱化成社製)を表し、YはPrintex55
(デグサ社製)を表し、ZはBLACK PEARLS
−800(キャボット社製)を表し、WはMA600
(三菱化成社製)を表し、Vはトーカブラック(東海カ
ーボン社製)を表す。
【0144】
【表5】
【0145】以上のように作製されたサンプル18〜サ
ンプル29の磁気ディスクに対して、電磁変換特性(I
S TAA、PW50)、中心線平均粗さ(Ra)、磁
気ヘッド摩耗レート、信頼性(ヘッド摩耗レート、スチ
ルモード摺動試験)、及び摩擦係数を、上記の実験1と
同様にして評価を行った。評価結果を、表6に示す。
【0146】
【表6】
【0147】先ず、カーボンブラックの体積比率につい
て検討する。
【0148】表6の結果から、非磁性粉末とカーボンブ
ラックとの体積比率において、カーボンブラックの占め
る体積が、非磁性粉末の占める体積以下であるサンプル
18〜サンプル21は、優れた表面平滑性を有し、再生
出力を維持し、PW50も低い値で維持していることが
わかった。また、サンプル18〜サンプル21は、摩擦
係数、ヘッド摩耗レートが少なく、スチルモードでの耐
久性にも優れていることがわかった。一方、カーボンブ
ラックの占める体積が非磁性粉末が占める体積を上回る
サンプル22は、サンプル18〜サンプル21に比べて
磁気ディスクの表面平滑性が損なわれ、PW50にやや
劣ることがわかった。
【0149】次に、カーボンブラックのpHについて検
討する。
【0150】表6の結果から、カーボンブラックのpH
が7.5以上であるサンプル23〜サンプル25は、カ
ーボンブラックのpHが7.5未満であるサンプル26
に比べて潤滑剤がさらに中間層に吸着され難くなったた
め、磁気ディスクの摩擦係数が低減し、さらに優れた電
磁変換特性を有することがわかった。このことから、カ
ーボンブラックのpHは、7.5以上であることが好ま
しいことが明らかとなった。
【0151】次に、非磁性粉末の種類について検討す
る。
【0152】非磁性粉末として、pHが9.3であり、
粒径0.04μmの球状酸化チタン粉末を用いたサンプ
ル27は、摩擦係数、ヘッド摩耗レートが少なく、スチ
ルモードでの耐久性にも優れていることがわかった。し
たがって、非磁性粉末の種類については特に限定される
ことなく、pHが7.5以上の非磁性粉末であれば、い
かなる種類の非磁性粉末も使用可能であることがわかっ
た。
【0153】次に、磁性層の厚さについて検討する。
【0154】表6の結果から明らかなように、潤滑剤を
中間層のみに含有するとともに磁性層の厚さが0.6μ
mであるサンプル29は、磁性層の厚さが0.5μmで
あるサンプル29に比べて、PW50の劣化を招くとと
もに、中間層中の潤滑剤が磁気ディスク表面に充分に供
給されず、耐久性の悪化と摩擦係数の上昇とを引き起こ
してしまった。また、磁性層の厚さを0.1μm未満と
して磁気ディスクを作製したところ、均一な磁性層を形
成することができなかった。このことから、磁性層の厚
さは0.1μm〜0.5μmであることが好ましいこと
が明らかとなった。
【0155】以上の実験3の結果から、カーボンブラッ
クの体積は、非磁性粉末の体積以下であることが好まし
いことが明らかとなった。また、カーボンブラックのp
Hは、7.5以上であることが好ましいことが明らかと
なった。さらにまた、磁性層の厚さは、0.1μm〜
0.5μmであることが好ましいことが明らかとなっ
た。
【0156】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明を適用した磁気ディスクは、潤滑剤としてのアルキル
アミンが中間層の非磁性粉末に吸着されることなく適量
の潤滑剤が磁気ディスクの表面に供給される。したがっ
て、本発明によれば、電磁変換特性を劣化させることな
く摩擦係数の低減を実現し、優れた信頼性を有する磁気
ディスクを提供することが可能である。特に中間層が上
記の非磁性粉末とともにカーボンブラックを含有するこ
とで、電磁変換特性を劣化させることなく磁気ディスク
の帯電を防止することができる。
【0157】また、本発明を適用した記録再生装置は、
いわゆる接触型のヘッドスライダを磁気ディスクに対し
て接触摺動させた場合であっても、磁気ヘッドの摩耗や
磁気ディスクの摩耗が防止され、安定して記録再生が行
われる。したがって、本発明によれば、信頼性に優れ、
低消費電力にて高記録密度化及び転送レートの高速化が
実現された記録再生装置を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態に係る磁気ディスクの要部概略断
面図である。
【図2】非磁性支持体上に、ダイコータによって、中間
層及び磁性層を形成する方法を説明するための概念図で
ある。
【図3】HGAの先端部分を拡大して示す斜視図であ
る。
【図4】ベースプレートを拡大して示す平面図である。
【図5】ヘッドスライダを磁気ディスクとの摺動面から
見た平面図である。
【図6】ヘッドスライダの側面図である。
【図7】図6中、円E部を拡大して示す図である。
【符号の説明】
1 磁気ディスク、2 非磁性支持体、3 中間層、4
磁性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C10M 105/58 C10M 105/58 G11B 17/32 G11B 17/32 A 21/20 21/20 F // C10N 40:18 C10N 40:18 (72)発明者 西田 康宏 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 岡崎 裕 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 4D075 AE03 CA47 DA04 DB31 DC28 EA37 EC01 EC07 4H104 BE03A PA16 4J038 HA026 HA076 HA216 HA246 HA286 HA356 HA376 HA446 JB03 KA07 KA08 KA20 PB11 5D006 BA19 CA04 DA02 FA02 FA06 5D039 AA01 BA01 BB01 BC09 BC26 CA09 DA01

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性支持体上に、非磁性粉末が結合剤
    に分散されてなる中間層が形成され、当該中間層上に、
    強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁性層が形成され
    る磁気ディスクにおいて、 上記中間層は、潤滑剤として炭素数が8以上であるアル
    キル基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミ
    ンを含有し、pHが7.5以上である非磁性粉末を含有
    することを特徴とする磁気ディスク。
  2. 【請求項2】 上記中間層はカーボンブラックを含有
    し、上記カーボンブラックの体積は、上記非磁性粉末の
    体積以下であることを特徴とする請求項1記載の磁気デ
    ィスク。
  3. 【請求項3】 上記カーボンブラックのpHは、7.5
    以上であることを特徴とする請求項2記載の磁気ディス
    ク。
  4. 【請求項4】 上記磁性層の厚さは、0.1μm〜0.
    5μmであることを特徴とする請求項1記載の磁気ディ
    スク。
  5. 【請求項5】 磁気ヘッドが埋設された接触パッドを搭
    載したヘッドスライダを上記磁性層に相対向させ、上記
    接触パッドを上記磁性層に接触させた状態で上記磁気ヘ
    ッドにより信号の記録/再生が行われる記録再生装置に
    おいて、着脱自在な記録媒体として用いられ、上記磁気
    ヘッドとの相対速度が、1.3m/s〜25m/sとさ
    れた状態で、上記磁気ヘッドにより信号の記録/再生が
    行われることを特徴とする請求項1記載の磁気ディス
    ク。
  6. 【請求項6】 上記接触パッドとの間の接触圧力が1g
    f/mm2〜30gf/mm2とされた状態で、上記磁気
    ヘッドにより信号の記録/再生が行われることを特徴と
    する請求項5記載の磁気ディスク。
  7. 【請求項7】 磁気ヘッドが埋設された接触パッドを搭
    載したヘッドスライダを磁気ディスクに相対向させ、上
    記接触パッドを上記磁気ディスクに接触させた状態で、
    上記磁気ヘッドにより信号の記録及び/又は再生が行わ
    れ、上記磁気ヘッドと磁気ディスクとの相対速度が、
    1.3m/s〜25m/sである記録再生装置におい
    て、上記磁気ディスクは着脱自在な記録媒体として用い
    られ、 上記磁気ディスクは、非磁性支持体上に、非磁性粉末が
    結合剤に分散されてなる中間層が形成され、当該中間層
    上に、強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁性層が形
    成され、 上記中間層は、潤滑剤として炭素数が8以上であるアル
    キル基を1つ以上有する第1級〜第3級のアルキルアミ
    ンを含有し、pHが7.5以上である非磁性粉末を含有
    することを特徴とする記録再生装置。
  8. 【請求項8】 上記中間層はカーボンブラックを含有
    し、 上記非磁性粉末と上記カーボンブラックとの体積比率に
    おいて、上記カーボンブラックの占める体積比率が50
    %以下であることを特徴とする請求項7記載の記録再生
    装置。
  9. 【請求項9】 上記カーボンブラックのpHは、7.5
    以上であることを特徴とする請求項8記載の記録再生装
    置。
  10. 【請求項10】 上記磁性層の厚さは、0.1μm〜
    0.5μmであることを特徴とする請求項7記載の記録
    再生装置。
  11. 【請求項11】 上記接触パッドと上記磁気ディスクと
    の間の接触圧力が1gf/mm2〜30gf/mm2であ
    ることを特徴とする請求項7記載の記録再生装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7092210B2 (en) 2003-07-14 2006-08-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Magnetic recording and reproduction method
JP2013049832A (ja) * 2011-07-29 2013-03-14 Fujifilm Corp カーボンブラック組成物、カーボンブラック含有塗膜、およびこれを有する磁気記録媒体
JP2014067472A (ja) * 2012-09-27 2014-04-17 Fujifilm Corp 磁気記録媒体用塗料組成物および磁気記録媒体

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