JP2002074643A

JP2002074643A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2002074643A
Application number: JP2000264827A
Authority: JP
Inventors: Naoto Maeda; 直人前田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-09-01
Filing date: 2000-09-01
Publication date: 2002-03-15

Abstract

(57)【要約】【課題】重層塗布磁気記録媒体、とくに磁気ディス
クの高密度、大容量記録を達成するため、走行耐久性を
向上させ、磁気ヘッドの磨耗を抑制すること。【解決手段】非磁性支持体２２の両主面に下層２１
と上層（磁性層）２０を形成した磁気ディスクにおい
て、上層２０に、モース硬度が７を超えて９未満の非磁
性粉末とモース硬度が９以上の非磁性粉末とが含有され
ている磁気ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記録に好適
な磁気ディスクなどの重層塗布型磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】強磁性金属粉末を利用した磁気記録媒体
は、昨今の高密度記録に対する強い要望から、オーディ
オ用、ビデオ用の各種フォーマットのみならず、高密度
フロッピー（登録商標）ディスク、或いはバックアップ
用データカートリッジ等のコンピュータ周辺機器にも利
用され始め、現在における磁気記録媒体の主流になると
同時に、特性の向上も目ざましいものがある。

【０００３】このような高密度記録技術の発展は、媒体
の進歩によるだけでなく、ヘッド−ディスクインターフ
ェイスの技術的進歩に負うところが大きいことも見逃す
ことはできない。中でも、高密度フロッピーディスクに
対して、極少量の高さをもって浮上する浮上型ヘッド
と、マイクロフロッピーディスクドライブで採用されて
いる摺動型ヘッドとの双方で研究開発が進み、これらが
高密度記録技術の要と考えられている。

【０００４】しかしながら、浮上型ヘッドを用いたシス
テムでは、磁気記録媒体はフレキシブルディスクである
が故に、高速回転させた際に僅かな変形に起因して上下
のブレが生じ、そのためヘッドと衝突し合い、両者は過
酷な状態にさらされる。

【０００５】それに対し、摺動型ヘッドを用いたシステ
ムでは、ある一定の荷重でディスクを上下両面から挟み
込むので、上述したような浮上型ヘッドシステムに生じ
る問題点は回避できる。

【０００６】

【発明に至る経過】本出願人は先に、磁気ヘッドを埋設
した接触パッドを有する摺動型ヘッドスライダーを提案
したので（特願平１１−２５１８１５号）、以下、この
先願発明の概要の説明を以って、上記摺動型ヘッドのシ
ステムの特徴を述べることにする。

【０００７】先願発明のフレキシブル磁気ディスク用ヘ
ッドスライダーは、磁気ヘッドが埋設されたパッドがフ
レキシブル磁気ディスクの対向面に設けられており、こ
のパッドが、磁気ヘッドとの間の相対速度が１．９ｍ／
ｓ〜２５．０ｍ／ｓであるフレキシブル磁気ディスクに
接触した状態で、磁気ヘッドのフレキシブル磁気ディス
クに対する信号の記録又は再生を行うようにしたもので
ある。先願発明によれば、従来のハードディスク用ヘッ
ドスライダーのようなテーパフラットや負圧機構を有す
る浮上機構を持たず、フレキシブル磁気ディスクの表面
に接触させた状態で磁気ヘッドによる記録／再生を低速
から高速まで広い範囲にわたって安定に長期間行うこと
ができ、フレキシブル磁気ディスクの高密度化及び転送
レートの高速化を実現することができ、低消費電力化も
図ることができる。

【０００８】図３は、一実施の形態のヘッドスライダー
１を先端に取着したＨＧＡ（ヘッドスライダーサスペン
ション）２を示すもので、ＨＧＡ２は、フレキシブル磁
気ディスク３（図４参照）の径方向の延長方向に長い矩
形板状のベースプレート４と、このベースプレート４の
先端部下面に重ね合わせ状に貼着されたサスペンション
ビーム５とから成り、ヘッドスライダー１はサスペンシ
ョンビーム５の先端部に支持される。尚、ヘッドスライ
ダー１及びＨＧＡ２は上下に対向するように２つ配設さ
れ、図４に示すようにフレキシブル磁気ディスク３をそ
の両面から挟持するようになっている。

【０００９】ベースプレート４はその基端部に左右両側
部がくびれた狭隘部が形成されており、この狭隘部より
基端側部分が図示しないリニアモータのキャリッジに保
持され、また、先端部の左右側部のうち一方の側部に側
方に突出する片持ち腕部７が一体に形成されている。

【００１０】そして、図示は省略するが、リニアモータ
の前後方向の移動により、片持ち腕部７がリフターによ
り相対的に持ち上げられると、ベースプレート４は上記
狭隘部が主に曲がろうとして、片側縁が持ち上げられる
にもかかわらず捻れることなくほぼ水平のまま先端側が
上方へ押し上げられるようになっている。

【００１１】尚、図中に示す「Ｄ₁方向」がリニアモー
タの前後方向であり、磁気ヘッドにより記録又は再生の
ためのシーク方向である。また、「Ｄ₂方向」はフレキ
シブル磁気ディスク３の走行方向（回転方向）を示す。
かかるフレキシブル磁気ディスク３の走行方向（Ｄ₃）
は逆向きであっても良い。また図示しないリニアモータ
はフレキシブル磁気ディスク３の径方向と平行に移動す
るようになっており、リニアモータの駆動によりベース
プレート４がフレキシブル磁気ディスク３の径方向の延
長方向に移動するようになっている。

【００１２】サスペンションビーム５は、ベースプレー
ト４の先端部分下面にピボットスプリング１６を介して
貼着される被貼着部８と、先端に行くに従い幅狭になる
サスペンション部９と、サスペンション部９の先端部で
ヘッドスライダー１を支持するスライダー支持部１０と
から成る。サスペンション部９にはいくつかの孔１１が
形成されており、これにより適度な弾性が付与されるよ
うになっている。特に、サスペンション部９の先端部に
は、先端が開口するコ字状のリンク部１２が形成され、
このリンク部１２の先端間にほぼ矩形のスライダー支持
部１０が形成されている。

【００１３】サスペンションビーム５は、ＳＵＳ／接着
剤／ＳＵＳ等の３層からなるバネ定数２００ｍｇｆ／ｍ
ｍ程度の非常に柔らかいラミネート材で構成され、さら
に先端部のリンク部１２は、ロール剛性０．２μＮ・ｍ
／ｄｅｇｒｅｅ、ピッチ剛性０．０４μＮ・ｍ／ｄｅｇ
ｒｅｅという柔軟性が確保されている。また、詳細は省
略するが、サスペンションビーム５は、ヘッドスライダ
ー１の背面に機械的に接続されるとともに、後述する磁
極パッドの中心に埋め込まれた磁気ヘッドから伸びたリ
ード端子に電気的にも接続され、信号線としての機能も
果たしている。

【００１４】ヘッドスライダー１は、平面から見て縦長
な台形を成し、その先端の部分に磁気ヘッド１３が埋設
された接触パッド（磁極パッド）１４が、また、その反
対側の角部に接触パッド１５、１５がそれぞれ支持され
ている。ヘッドスライダー１は、薄膜プロセスによるス
パッタ・アルミナボディ等で形成されており、５０μｍ
以下と極薄の為、剛性がハードディスクで使用されてい
る厚み３００μｍ程度のピコスライダーと比較して８桁
ほど柔らかく、かつ自重は５００μｇ以下と軽量であ
る。その結果、フレキシブル磁気ディスク９の表面を滑
らかに追従することが可能であるとともに、極めて軽量
であるため、外部から印加される加速度に対して発生す
る力が非常に弱く、その結果時にポータブルユースにお
いて重要な耐衝撃性に優れている。

【００１５】接触パッド１４、１５、１５はダイヤモン
ドライクカーボン（以下ＤＬＣと略す）等で形成されて
おり、接触パッド１４には記録／再生を行う磁気ギャッ
プを有する磁気ヘッド１３が埋め込まれており、摺動面
で磁気コアの周囲がＤＬＣなどで囲まれている。図４
は、記録／再生を行う際の、接触パッド１４とフレキシ
ブル磁気ディスク３との位置関係を示すものである。

【００１６】接触パッド１４、１５、１５の硬度は、耐
磨耗性からビッカス硬度７００以上が必要であり、１０
００以上が望ましく、このような特性を与えるものであ
れば材質はＤＬＣに限るものではない。接触パッド１
４、１５、１５のフレキシブル磁気ディスク３と接触す
る側の角部の角度αは、媒体に対する削れ性を抑えるた
めに図４に示す角度αは９０度以上の鈍角であることが
必要であり、１１５度以上であることが好ましい。ま
た、接触パッド１４の摺動面形状は楕円、接触パッド１
５、１５の摺動面形状は真円に形成したが、これに限ら
ず、長方形、正方形、あるいは三角形のいずれの形であ
ってもよい。磁気ヘッド１３は、このような薄いヘッド
スライダー１の内部に構造が収まるように巻線がヘッド
スライダー１の面に平行ないわゆるプレーナ型薄膜イン
ダクティブヘッドを採用しているが、それに限定される
ものではない。ヘッドスライダー１はサスペンションビ
ーム５の先端のスライダー支持部１０の下面に貼着され
る。

【００１７】ピボットスプリング１６は長さ方向のほぼ
半分の長さをした基部と、この基部の先端縁の左右側端
部からそれぞれさらに先端に向かいかつ互いに近づくよ
うに延出されたリンク片１８、１８と、該リンク片１
８、１８の先端間に架設された押圧片１９とが一体に形
成されている。

【００１８】ピボットスプリング１６のリンク片１８、
１８はその基部との間で折り曲げられて先端に行くに従
い下方へ偏倚され、また、押圧偏１９はそのリンク片１
８、１８との間で折り曲げられて先端に行くに従い下方
へ偏倚されている。ピボットスプリング１６の押圧片１
９の先端側縁の中央部には三角形状の押圧部１９ａが形
成されており、この押圧部１９ａの尖端部がサスペンシ
ョンビーム５のスライダー支持部１０に対応した位置に
形成されている。そして、ピボットスプリング１６の基
部は上記ベースプレート４の先端とサスペンションビー
ム５の基端部とに挟持され、これにより、サスペンショ
ンビーム５は、そのスライダー支持部１０がピボットス
プリング１６の押圧部１９ａに押圧されて下方に可撓さ
れて、フレキシブル磁気ディスク９に対する適度なロー
ド荷重がかかるようになっている。ピボットスプリング
１６はバネ定数２５０ｍｇｆ／ｍｍ程度の極薄のステン
レス材で形成され、よって、２００ｍｇｆという低いロ
ード荷重がヘッドスライダー１の重心位置に加えられ、
フレキシブル磁気ディスク３のランアウト変動が起こっ
ても、荷重変動幅が１００〜８００ｍｇｆと狭く、各接
触パッド１４、１５、１５に均等な接触圧力が与えられ
る。これによって、フレキシブル磁気ディスク３の定常
及び非定常なランアウト変動にきわめて良く追従し、安
定した記録／再生が実現される。

【００１９】以上説明した先願発明の接触型磁気ヘッド
スライダーは、毎分３０００回転（３０００ｒｐｍ）以
上と高速で磁気ディスクに摺動できるもので、耐久性の
観点からロード荷重が極めて小さくなるよう設計されて
おり、磁気ディスクの表面形状に柔軟に追従することが
できる。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記摺
動（接触）型磁気ヘッドスライダーに適用される塗布型
の磁気ディスクは、走行耐久性の観点からその磁性層に
高硬度の粒子（モース硬度９のＡｌ₂Ｏ₃粉末）を研磨剤
として配合しているので、３０００ｒｐｍ以上に高速回
転すると、その研磨剤が磁気ヘッドを磨耗させてしま
い、磁気記録再生が不可能になることがあった。

【００２１】本発明は上記事情を改善するためになされ
たもので、その目的は、上記摺動型磁気ヘッドスライダ
ーと組み合せて用いるのに好適であって、ヘッドの磨耗
を抑制し、走行耐久性を向上させて、高密度大容量記録
を可能にした磁気記録媒体を提供することにある。

【００２２】磁気ヘッドの磨耗を抑制し、磁気ディスク
の走行耐久性を高める可能性を秘めた手法として、さし
あたり、次の四つの方法を挙げることができる。（イ）磁気ヘッドを高硬度の膜でコーティングする方
法。（ロ）研磨剤を軟化する方法。（ハ）研磨剤を始めとする添加剤の粒子のサイズや添加
量を調整し、磁気ディスクの表面性を制御する方法。（ニ）潤滑剤の種類や添加量を調整し、潤滑性を向上さ
せる方法。

【００２３】しかしながら、本発明者の検討によると、
これらの方法では次のような不都合が生じる。

【００２４】すなわち、前記（イ）の方法は、磁気ヘッ
ドの磨耗を単に減らすだけのことなら、磁気ヘッドにた
とえばＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の保護膜
を施すことにより目的が達成されるが、その他の特性の
改善となると、満足すべき対策とは言えない。

【００２５】（ロ）の方法も、磁気ヘッドの磨耗抑制に
効果はあるが、高速回転による磁気ヘッドとの摺動によ
り磁気ディスクの塗膜が破壊され、走行耐久性が劣化す
る。

【００２６】（ハ）の方法においては、添加剤を増量す
ることで走行耐久性が向上する傾向にあるが、その反
面、電磁変換特性が劣化してしまう。また、磁気ディス
クの表面性が電磁変換特性と密な関係にあるため、ある
程度とは言え添加剤の使用量に制約が生じる。

【００２７】（ニ）の方法は未だ研究途上にあり、その
有効性は未知数であり、迅速な改善策にはなり得ない。

【００２８】このような点から、本発明者は前記（イ）
〜（ニ）の方法に代り得る対策につき鋭意検討を重ねた
結果、重層塗布型磁気記録媒体の磁性層に対し、モース
硬度が互いに且つ特殊に異なる一組の非磁性粉末を配合
すれば、前記発明の目的が達成されることを知見でき
た。

【００２９】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の磁気記録
媒体は、重層塗布によって第１層上に第２層が形成さ
れ、少なくともこの第２層が磁性層として形成されてい
る重層塗布型の磁気記録媒体において、前記磁性層に、
モース硬度が７を超えて９未満の第１の非磁性粉末と、
モース硬度が９以上（好ましくは９〜１０）の第２の非
磁性粉末とが含有されていることを特徴とするものであ
る。

【００３０】本発明の磁気記録媒体によると、その磁性
層にモース硬度が互いに異なる（望ましくは、モース硬
度の差が１．５以上である）前記第１及び第２の非磁性
粉末が配合されている（即ち、軟質研磨剤と硬質研磨剤
を組み合わせて配合されている）ので、高硬度の研磨剤
（前記第２の非磁性粉末）により走行耐久性を確保し、
低硬度の研磨剤（前記第１の非磁性粉末）によりヘッド
磨耗を大幅に改善でき、磁気ヘッドの磨耗抑制と磁気記
録媒体の走行耐久性の向上とを両立させることができ、
高密度、大容量記録が可能になる。従って、ヘッド磨耗
の大幅な改善により、摺動型磁気ヘッドを使用するシス
テムにおいても優れた電磁変換特性と走行耐久性を得る
ことができ、高密度大容量記録に好適な磁気記録媒体と
なる。

【００３１】なお、本発明の磁気記録媒体、中でも磁気
ディスクは、特に既述した先願発明の接触型ヘッドスラ
イダーを用いる次世代記録システム、即ち、磁気ディス
クが毎分３０００回転以上で高速回転するヘッドディス
クインターフェイスで、なおかつ表面がいわゆるＤＬＣ
（ダイアモンドライクカーボン膜で保護されたヘッドを
用いる次世代磁気記録システムに適用した場合に、その
効果を顕著に発揮することができ、システムの性能アッ
プに多大の貢献をすることが可能である。なお、従来の
低速回転系のヘッド−ディスクインターフェイス、また
はヘッドの表面がＤＬＣコーティングされていない磁気
記録システムにあっても、本発明の磁気記録媒体を適用
した場合に、潜在的に本発明の効果が発揮されると考え
られる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態に基づ
いて更に詳しく説明する。

【００３３】本発明の磁気記録媒体の磁性層に配合すべ
き非磁性粉末のうち、モース硬度が７を超えて９未満の
非磁性粉末としては、たとえば電気石（モース硬度７．
３）、紅柱石（同７．５）、緑柱石（同７．８）、金鋼
砂（同７〜９）、黄玉（同８）、焼結タングステンカー
バイド（同８）、ＺｒＢ₂（同８）などの粉末を挙げる
ことができる。

【００３４】また、モース硬度が９以上の非磁性粉末と
しては、たとえば、Ｃｒ₂Ｏ₃（モース硬度９）、ＳｉＣ
（同９）、Ａｌ₂Ｏ₃（同９）、ＴａＣ（同９）、ＡｌＢ
（同９）、ＴｉＮ（同９）、ＺｒＣ（同９）、ＷＣ（同
９）、Ｂ₄Ｃ（同９）、コランダム（同９）、ダイアモ
ンド（同１０）などを挙げることができる。

【００３５】以上に明らかなように、本発明の磁気記録
媒体では、その磁性層に言わば軟質の第１の非磁性粉末
（モース硬度が７を超えて９未満）と硬質の第２の非磁
性粉末（モース硬度９以上）とが配合されており、主に
前者によって磁気ヘッドの磨耗を抑制し、後者によって
媒体の走行耐久性を確保している。軟質の非磁性粉末も
硬質の非磁性粉末もそれぞれ一種単独のみならず、複数
の非磁性粉末からなっていてもよい。

【００３６】本発明においては、磁気記録媒体の磁性層
に、モース硬度９以上の前記第２の非磁性粉末が、モー
ス硬度が７を超えて９未満の前記第１の非磁性粉末との
合計体積に対し、１／１０以上、９／１０以下の体積比
で含有されていることが好ましい。

【００３７】また、本発明の磁気記録媒体では、第１層
を磁性層にすることが可能であるが、通常はそれを非磁
性層として形成することが好ましい。このように第１層
が非磁性層であると、その上に積層する第２層を効果的
に平滑にしたり薄膜にすることができる。

【００３８】本発明の磁気記録媒体は、たとえば図１に
示す如く、非磁性支持体２２の両主面に、下層（非磁性
層）２１と上層（磁性層）２０を形成してもよいし、ま
た図示はしないがどちらか一方の主面に下層と上層とが
形成されていてもよい。

【００３９】本発明の磁気記録媒体において、その磁性
層（第２層）は、強磁性金属粉末と結合剤とを主体と
し、かつ前述したモース硬度の特定された非磁性粉末を
含有する層である。

【００４０】強磁性金属粉末としては、例えば、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ等の金属、Ｆｅ‐Ｃｏ、Ｆｅ‐Ｎｉ、Ｆｅ‐
Ａｌ、Ｆｅ‐Ｎｉ‐Ａｌ、Ｆｅ‐Ａｌ‐Ｐ、Ｆｅ‐Ｎｉ
‐Ｓｉ‐Ａｌ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ、Ｆｅ‐
Ｍｎ‐Ｚｎ、Ｆｅ‐Ｎｉ‐Ｚｎ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−
Ｐ、Ｆｅ‐Ｃｏ‐Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ‐Ｎｉ‐Ｃｒ、Ｆｅ
‐Ｃｏ‐Ｎｉ‐Ｐ、Ｆｅ‐Ｃｏ‐Ｂ、Ｆｅ‐Ｃｏ‐Ｃｒ
‐Ｂ、Ｍｎ‐Ｂｉ、Ｍｎ‐Ａｌ、Ｆｅ‐Ｃｏ‐Ｖ等の合
金、窒化鉄、炭化鉄等が挙げられる。もちろん、これら
還元時の焼結防止または形状維持等の目的で、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｐ、Ｂ等の軽金属元素を適当量含有させてもよい。
最も一般的には、Ｆｅ単独あるいは、Ｆｅ‐Ｃｏ、Ｆｅ
‐Ｎｉ、Ｆｅ‐Ｃｏ−Ｎｉの合金にＡｌ及び／又はＳｉ
が焼結防止の目的で添加される。

【００４１】これらの強磁性金属粉末の比表面積は、２
０〜９０ｍ²／ｇ、好ましくは２５〜７０ｍ²／ｇであ
る。比表面積が上記範囲にあると、強磁性粉末は微粒子
化し、高密度記録が可能となり、ノイズ特性の優れた磁
気記録媒体を得ることが可能である。

【００４２】また、強磁性金属粉末は、それぞれ一種を
単独で用いることが可能であるが、二種以上を併用して
もかまわない。さらに、六方晶系板状フェライトも使用
可能であり、Ｍ型、Ｗ型、Ｙ型、Ｚ型のバリウムフェラ
イト、ストロンチウムフェライト、カルシウムフェライ
ト、鉛フェライト、及びこれらに保磁力を制御する目的
でＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｎｂ、
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ−Ｎｂ、Ｃｕ−Ｚｒ、Ｎｉ−Ｔｉ等を
添加したものも使用可能である。

【００４３】一方、本発明において下層を非磁性層とし
て形成する場合、この下層は非磁性粉末と結合剤を主体
とするか、又は磁化量及び保磁力が小さい磁性粉末と結
合剤とを主体とする層である。なお、前述したように表
面平滑性及び塗膜強度を有する下層を非磁性支持体上に
設ければ、その上に設ける磁性層を平滑にしたり薄膜に
することができる。

【００４４】下層に用いる代表的な非磁性粉末として
は、α−酸化鉄、ゲータイト、針状酸化チタン等が挙げ
られる。これらの非磁性粉末には、分散性の改良、導電
性の付与、光透過率の調整等の目的で表面処理を施して
もよい。

【００４５】これら非磁性粉末は、塗布後の表面平滑性
を確保するために、平均粒子サイズ（平均長軸長）が、
０．３μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下であること
が必要である。

【００４６】また、針状比が５以上、好ましくは１０以
上の場合には、磁気記録媒体の反りを抑制する効果が発
現する。針状比が３０以上の場合には、分酸性が劣化
し、表面粗度が悪化するので好ましくない。

【００４７】また、下層に用いられる磁性粉末として
は、上層に用いられる磁性粉末を何れも利用することが
可能であるが、磁性層である上層への影響を最小限にす
るために、磁化量及び保磁力の小さいものが利用され
る。例えば、比較的出力小さい材料、γ酸化鉄、コバル
ト変性γ酸化鉄、マグネタイト、コバルト変性マグネタ
イト、二酸化クロムなど、比較的出力の小さい材料が用
いられる。また、これらの磁性粉末は、同時に分散する
非磁性粉末との分散安定性を考慮して、表面処理するこ
とも可能である。

【００４８】これらの磁性粉末も、塗布後の表面平滑性
を確保するために、平均粒子サイズ（平均長軸長）が
０．３μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下であること
が必要である。

【００４９】また、磁気記録媒体の反りを抑制するため
には、磁性粉末の針状比は５以上が好ましく、１０以上
がより好ましい。但し、針状比が３０以上になると、か
えって分酸性が劣化し、表面粗度が悪化するので好まし
くない。

【００５０】さらに、上記非磁性粉末は、以下に例示す
る粉末と併用することも可能である。例えば、カーボン
ブラック、特に限定してストラクチャー構造を持つカー
ボンブラック、ゲータイト、ルチル型酸化チタン、アナ
ターゼ型酸化チタン、酸化錫、酸化タングステン、酸化
珪素、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、チタンカ
ーバイト、ＢＮ、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−ア
ルミナ、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブ
デン、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等と併用し
てもその効果は変わらない。

【００５１】このように、上記粉末を併用する場合は、
併用する粒子のサイズに留意する必要があり、塗布後の
表面平滑性を確保するためには、平均粒子サイズ（針状
粒子ならば、平均長軸長）が、０．３μｍ以下、好まし
くは０．２μｍ以下であることが必要である。

【００５２】また、上記非磁性粉末には、目的に応じて
適当量の不純物をドープすることも可能である。非磁性
粉末の比表面積は、５〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは２
０〜７０ｍ²／ｇである。比表面積が上記範囲にある場
合には、非磁性粉末は微粒子化し、下層２による平滑化
を阻害しない。

【００５３】また、下層は、高密度記録に耐えうる平滑
な表面を有すると同時に、その表面が高い電気伝導度を
有する必要がある。電気伝導性が低く、即ち表面電気抵
抗が高い場合には、放電ノイズやはりつき現象が起こり
易いばかりでなく、静電気に起因する集塵現象も発生す
るため、いわゆるドロップアウトの原因となり、信頼性
に優れた磁気ディスクを提供することができなくなる。

【００５４】したがって、下層には、非磁性粉末に加え
てカーボンブラック等を添加してもよい。例えば、導電
性に効果のあるカーボンブラックとしては、ストラクチ
ャー構造を有するカーボンブラックが公知である。特
に、電気抵抗に効果を持たせるには、１００ｍｌ／１０
０ｇ以上の吸油量を持つ、ストラクチャー構造のカーボ
ンブラックの使用が好ましい。一方、ストラクチャー構
造を持つカーボンブラックの添加は、必然的に表面性を
損なうことになることから、添加量は必要最小限に抑え
なければならない。

【００５５】また、上述した上層及び下層に用いられる
結合剤には、従来より磁気記録媒体用の結合剤として使
用される公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂等が使用可能であり、数平均分子量が５０００〜１０
００００のものが好ましく使用される。但し、一般に粒
子が微細化すると、その幾何学的配置に変化がなけれ
ば、粒子間の空隙も微細化する。したがって、粒子間の
微細空間を濡らし、結合剤で均一に被覆、分散するため
には、非磁性粉末、磁性粉末、強磁性金属粉末に対して
強い親和性を持ち、なおかつ優れた流動性を有する結合
剤を用いる必要がある。

【００５６】なお、熱可塑性樹脂としては、塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル
共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、
ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アルリロニトリル共
重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリ
アミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体
（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイア
セテート、セルローストリアセテート、セルロースプロ
ピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン
共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アミ
ノ樹脂、合成ゴム等が挙げられる。

【００５７】熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂
等が挙げられる。

【００５８】また、上記の全ての結合剤には、磁性粉
末、非磁性粉末等の分酸性を向上させる目的で、−ＳＯ
₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂等
の極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍ
は、水素原子、あるいは、リチウム、カリウム、ナトリ
ウム等のアルカリ金属である。更に上記極性官能基とし
ては−ＮＲ¹Ｒ²、−ＮＲ¹Ｒ²Ｒ³⁺Ｘ^-の末端基を有する
側鎖型のもの、＞ＮＲ¹Ｒ ²⁺Ｘ^-の主鎖型のものがある。
ここで式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、水素原子あるいは炭化水
素基であり、Ｘ^-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロ
ゲン元素イオンあるいは無機・有機イオンである。ま
た、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基等の極性官能
基もある。これら極性官能基の量は、１０^-1〜１０^-8モ
ル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇであ
る。これらの結合剤は単独で用いることもできるし、複
数の結合剤をブレンドして用いることも可能である。

【００５９】また、上層及び下層の塗料調製の際に用い
られる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のア
ルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールア
セテート等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロ
ロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶
媒等が挙げられ、これらを適宜混合して使用する。

【００６０】さらに、上層及び下層には、必要に応じて
潤滑剤、研磨剤として非磁性補強粒子等を含有させるこ
とが可能である。

【００６１】潤滑剤としては、黒鉛、二硫化モリブデ
ン、二硫化タングステン、シリコーンオイル、炭素数１
０〜２２までの脂肪酸、ならびにこれと炭素数２〜２６
までのアルコールからなる脂肪酸エステル、テルペン系
化合物、ならびにこれらのオリゴマー、フッ素系滑剤等
ある。

【００６２】上記非磁性補強粒子としては、酸化アルミ
ニウム（α、β、γ）、酸化クロム、炭化珪素、ダイヤ
モンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、値タンカ
ーバイト、炭化チタン、酸化チタン（ルチル、アナター
ゼ）等がある。この粒子は、強磁性金属粉末１００重量
部に対して、２０重量部以下、好ましくは１０重量部以
下、さらに好ましくは、５重量部以下である。また、比
重は、２〜６ｇ／ｃｍ ³、好ましくは３〜５ｇ／ｃｍ³の
範囲であり、平均一次粒径は１．０μｍ以下、好ましく
は、０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下
である。

【００６３】また、上記結合剤を架橋硬化させるポリイ
ソシアネートを併用することが可能である。このポリイ
ソシアネートとしては、トルエンジイソシアネート及び
これの付加体、並びにアルキレンジイソシアネート及び
これの付加体等がある。これらポリイソシアネートの上
記結合剤への配合量は、上記結合剤１００重量部に対し
て、５〜８０重量部、好ましくは１０〜５０重量部であ
る。これらポリイソシアネート類は、上下両層に用いる
ことも可能であるし、上層のみに用いることも可能であ
る。上下両層に用いる場合の配合量は、各層に等量投入
することも可能であるし、任意の比率で変えることも可
能である。このように、上記上層と下層には、ディスク
の走行耐久性を改善するために、通常、この種の磁気記
録媒体で用いられている各種添加剤を添加しても良い。

【００６４】次に、非磁性支持体としては、従来より磁
気記録媒体の支持体として使用される公知の材料を使用
することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエス
テル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースジアセテート等のセル
ロース類、ビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリカーボネ
ート類に代表されるような高分子フィルム又は基板、或
いは金属、ガラス、セラミックス等により形成される基
板が挙げられる。

【００６５】次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法を
磁気ディスクを例にとって、詳細に説明する。ただし、
以下の製造方法は代表例を示すものであり、これに限定
されるものではない。

【００６６】（１）塗料の調製先ず始めに、上層塗料及び下層塗料を用意する。上層塗
料及び下層塗料は、それぞれ常法に従って調製すること
ができる。上層塗料においては強磁性金属粉末、結合
剤、溶剤、各種添加剤を混合し、混練後分散することに
より、また下層塗料においては、非磁性粉末、結合剤、
溶剤、各種添加剤を混合し、混練後分散することにより
得ることができる。ただし、本発明では既述したように
上層塗料にモース硬度が７を超えて９未満の非磁性粉末
とモース硬度が９以上の非磁性粉末とを体積比で１０：
９０〜９０：１０の割合で添加することが望ましい。

【００６７】この混練工程に用いられる混合装置として
は、例えば連続二軸混練機、多階段で希釈可能な連続二
軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダー等
が挙げられる。

【００６８】また、分散工程において使用される分散装
置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サ
ンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、
タワーミル、ＤＣＰ、アジター、ホモジナイザー、超音
波分散機等が挙げられる。

【００６９】（２）重層塗布、乾燥工程非磁性支持体の一方の面上に下層用塗料及び上層用塗料
を重層塗布し、乾燥機に導入する。これを巻取ったの
ち、非磁性支持体のもう一方の面に同様に下層用塗料及
び上層用塗料を重層塗布し、乾燥機に導入する。そし
て、両面に磁性層が形成された非磁性支持体をカレンダ
ー装置に導き、磁性層表面の平滑化を行った後、巻取り
ロールに巻取る。なお、上記の製造順序ではなく、片面
塗布−乾燥−カレンダー後に、反対面塗布−乾燥−カレ
ンダーの順で製造することも可能である。

【００７０】上述した上層用塗料及び下層用塗料を非磁
性支持体上に重層塗布する塗布装置としては、グラビア
コーター、ナイフコーター、ブレードコーター、リバー
スロールコーター、ダイコーター等が挙げられる。ダイ
コーターのリップ構成としては、２リップ方式、３リッ
プ方式、４リップ方式等がある。

【００７１】本発明のように、上層用塗料、下層用塗料
といった２種類の塗料を重層塗布するには、一層ずつ塗
布乾燥を行う方式（いわゆるウエット・オン・ウエット
塗布方式＝同時湿潤重層塗布方式）を適用してもよい。
但し、塗膜の均質性、上下イ界面の接着性、生産性の観
点からウエット・オン・ウエット重層塗布方式による同
時湿潤重層塗布を行うのが好ましい。

【００７２】このウエット・オン・ウエット方式を適用
する場合には、例えば、図２に示すように、下層用塗料
２１と上層用塗料２０とをそれぞれ供給する２つの塗料
溜り２５、２６と、各塗料２１、２０を非磁性支持体２
２に向って吐出させる２つのスリット３１、３２とを有
するダイコーター３０を用い、矢印Ａ方向に走行する非
磁性支持体２２に向って、上記２つのスリット３１、３
２から下層用塗料２１と上層用塗料２０を同時に吐出さ
せ、下層用塗料２１の塗膜に上層用塗料２０の塗膜を形
成すればよい。

【００７３】このウエット・オン・ウエット方式におい
ては、湿潤状態にある下層用塗料２１の塗膜上に、上層
用塗料２０を塗布するので、下層の表面（すなわち、上
層との境界面）が滑らかになると共に上層の表面性が良
好となり、かつ上下層間の接着性も向上する。この結
果、特に高密度記録のために高出力、低ノイズの要求さ
れる磁気記録媒体としての要求性能を満たしたものとな
り、かつ膜剥離がなくなり、膜強度が向上する。またド
ロップアウトも低減することが可能であり、信頼性も向
上する。

【００７４】これに対し、ウエット・オン・ドライ方式
による場合、下層用塗料として、上層用塗料に対して十
分な対溶剤性のあるものを選択する必要がある。

【００７５】なお、ウエット・オン・ウエット重層塗布
方式によって形成される上下層間には、明確な境界が実
質的に存在する場合以外に、一定の厚みを以って両層の
成分が混在してなる境界領域が存在する場合があるが、
何れの場合も本発明の範囲に含まれるものである。

【００７６】（３）打抜き工程次に、このように作製された原反を所定の寸法に打ち抜
く。そして最後に、このようにして作製された磁気ディ
スクをディスケット内に収容する。

【００７７】以上、（１）〜（３）の工程を経ることに
より、磁気ヘッド磨耗を大幅に改善させ、尚且つ走行耐
久性を持たせた磁気ディスクを得ることができる。この
ように、上層磁性層にモース硬度が７を超えて９未満の
非磁性粒子とモース硬度が９以上の非磁性粒子を組み合
せて使用することにより、走行耐久性を損なわずにヘッ
ド磨耗を大幅に改善させることができる。その結果、摺
動型ヘッドを用いたシステムでも、優れた走行耐久性や
電磁変換特性を得ることができ、高密度大容量記録に好
適な磁気記録媒体となる。

【００７８】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例を説明する。
尚、本発明はこの実施例に限定されるものではないこと
は言うまでもない。

【００７９】例１図１に示すような磁気ディスクを作製し、非磁性粉末の
硬度が及ぼす影響について検討する。先ず始めに、下記
に示される組成に従って上層（磁性層）及び下層（非磁
性層）の塗料をそれぞれ調製する。塗料の調製は、常法
に従い、磁性粉末又は非磁性粉末、結合剤、添加剤（研
磨剤）、溶剤を混合し、連続式ニーダーにより混練した
後、サンドミルで分散した。なお、上層塗料は、サンド
ミルで５時間分散し、下層塗料はサンドミルで３時間分
散した。

【００８０】＜上層塗料組成＞Ｆｅ系金属強磁性粉末（平均長軸長＝０．２μ、針状比＝９、飽和磁化量＝１３０Ａｍ²／ｋｇ、保持力＝１３５ｋＡ／ｍ）１００重量部ポリ塩化ビニル樹脂（重合度１５０、極性官能基としてオキシスルホン酸カリウム塩を５×１０^-5ｍｏｌ／ｇ含む）１４重量部ポリエステルポリウレタン樹脂（極性官能基としてスルホン酸ナトリウム塩を１ ×１０^-4ｍｏｌ／ｇ含む）６重量部添加剤（一次粒径０．４μｍ、α−Ａｌ₂Ｏ₃（モース硬度：９）、スラリーとして添加）１０重量部ステアリン酸３重量部ヘプチルステアレート３重量部メチルエチルケトン１５０重量部シクロヘキサノン１５０重量部

【００８１】＜下層塗料組成＞ α酸化鉄（平均長軸長＝０．１５μ、針状比＝１２、ｐＨ＝５．７）１００重量部カーボンブラック１１重量部ポリ塩化ビニル樹脂（重合度１５０、極性官能基としてオキシスルホン酸カリウム塩を５×１０^-5ｍｏｌ／ｇ含む）１７重量部ステアリン酸１重量部ヘプチルステアレート１重量部メチルエチルケトン１５０重量部シクロヘキサノン１５０重量部

【００８２】次に、上述のようにして調製された上層用
塗料に４重量部、下層用塗料に２重量部のポリイソシア
ンネートをそれぞれ加え、４リップ方式ダイコーターを
用いて、厚さ６２μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に各塗料を同時重層塗布し、ソレノイドコイル
により無配向処理した後、乾燥した。裏面にも同じ塗膜
を形成後、カレンダー処理を行った。ここで各層乾燥後
の塗布厚は、上層を０．２５μｍ、下層を２．０μｍに
設定した。

【００８３】次に、上述のようにして、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムの両面に上下両層が形成された原
反を、直径２インチのディスク状に打ち抜いた。その
後、恒温設備内にこの磁気ディスクを設置し、６０℃の
処理温度で４８時間放置した。その後、磁気ディスクを
室温まで冷却した。

【００８４】例２添加剤（粉末状）に電気石（モース硬度：７．３）を用
い、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【００８５】＜特性評価＞例１及び例２の磁気ヘッドの
磨耗両及び走行耐久性を調べた。ヘッド、ディスクの走
行には、ＣＳＳテスター（Intevac製Lotus7300）を用い
た。この測定装置は、磁気ディスクの片面に磁気ヘッド
を接触させ、磁気ディスクを一定の速度で回転させるも
のである。ここでは、上記試験機による走行前後での磁
気ヘッドの寸法を測量し、その差分をヘッド磨耗量とし
た。また、走行開始時から塗膜にスクラッチ傷が入るま
での時間を計測し、これを走行耐久時間とした。結果を
表１に示す。

【００８６】

【表１】表１

【００８７】表１より、研磨剤に用いる非磁性粉末の硬
度を下げると、磁気ヘッドの磨耗量が大幅に減少するこ
とがわかる。しかしその反面磁気ディスクは研磨性を失
い、走行耐久性が劣化する。

【００８８】例３添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を７：３として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの磨耗量及
び走行耐久性を上記と同様にして調べた。結果を表２に
示す。

【００８９】

【表２】表２

【００９０】表２より、研磨剤として低硬度の非磁性粉
末に高硬度の非磁性粉末を組み合せることにより、ヘッ
ドの磨耗を低く抑えつつ、低硬度の非磁性粉末のみのデ
ィスクに比べ走行耐久性が向上することがわかる。

【００９１】例４添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を１：９として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの磨耗量及
び走行耐久性を上記と同様にして調べた（以下の各例も
同様）。

【００９２】例５添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を２：８として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９３】例６添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を３：７として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９４】例７添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を４：６として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９５】例８添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を５：５として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９６】例９添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を６：４として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９７】例１０添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を８：２として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９８】例１１添加剤に電気石とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率（体
積比）を９：１として用いた以外は、例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

【００９９】

【表３】表３

【０１００】表３より、低硬度の非磁性粉末の割合を上
げる程、磁気ヘッドの磨耗量が減少し、走行耐久性は劣
化し易い。高硬度の非磁性粉末の割合を上げるほど走行
耐久性は向上するが、磁気ヘッドの磨耗量が増加し易
い。これら両者は相反する関係にあることが分かる。高
硬度の非磁性粉末と低硬度の非磁性粉末の比率は体積比
で（１：９）〜（９：１）がよく、（４：６）〜（８：
２）が更によく、（６：４）〜（７：３）が最もよい。

【０１０１】例１２添加剤にダイアモンド（モース硬度：１０）を用い、例
１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１０２】例１３添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を１：９として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０３】例１４添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を２：８として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０４】例１５添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を３：７として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０５】例１６添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を４：６として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０６】例１７添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を５：５として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０７】例１８添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を６：４として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０８】例１９添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を７：３として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１０９】例２０添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を８：２として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１１０】例２１添加剤に電気石とダイアモンドを用い、両者の混合比率
（体積比）を９：１として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１１１】＜特性評価＞例１と同様に例１２〜２１の
磁気ヘッド磨耗量と走行耐久性を調べた。結果を表４に
示す。

【０１１２】

【表４】表４

【０１１３】表４より、高硬度の非磁性粉末のモース硬
度を９から１０に上げると、全体的に走行耐久性が向上
することがわかる。しかしその反面、磁気ヘッド磨耗量
は増加し易い。

【０１１４】例２２添加剤に焼結タングステンカーバイド（モース硬度８）
を用い、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１１５】例２３添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を１：９として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１１６】例２４添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を２：８として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１１７】例２５添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を３：７として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１１８】例２６添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を４：６として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１１９】例２７添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を５：５として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２０】例２８添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を６：４として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２１】例２９添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を７：３として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２２】例３０添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を８：２として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２３】例３１添加剤に焼結タングステンカーバイドとダイアモンドを
用い、両者の混合比率（体積比）を９：１として用いた
以外は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２４】＜特性評価＞例１と同様に例２２〜例３１
の磁気ヘッド磨耗量と走行耐久性を調べた。結果を表５
に示す。

【０１２５】

【表５】表５

【０１２６】表５より、モース硬度８のみの例２２で
は、走行耐久性が劣化することがわかる。しかし、モー
ス硬度１０の粒子を配合すれば、走行耐久性が向上する
が、その反面、磁気ヘッド磨耗量が増大し易い。

【０１２７】例３２添加剤にＳｉＯ₂（モース硬度７）とＡｌ₂Ｏ₃を用い、
両者の混合比率（体積比）を１：９として用いた以外
は、例１と同様にして磁気ディスクを作製した。

【０１２８】例３３添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を２：８として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１２９】例３４添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を３：７として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３０】例３５添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を４：６として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３１】例３６添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を５：５として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３２】例３７添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を６：４として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３３】例３８添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を７：３として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３４】例３９添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を８：２として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３５】例４０添加剤にＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃を用い、両者の混合比率
（体積比）を９：１として用いた以外は、例１と同様に
して磁気ディスクを作製した。

【０１３６】例４１添加剤にＳｉＯ₂を用い、例１と同様にして磁気ディス
クを作製した。

【０１３７】＜特性評価＞例１と同様に例３２〜４１の
磁気ヘッド磨耗量と走行耐久性を調べた。結果を表６に
示す。

【０１３８】

【表６】表６

【０１３９】この表６より、低硬度の添加剤のモース硬
度が７と比較的小さいため、この低硬度粒子の割合を上
げる程、磁気ヘッドの磨耗量が減少するが、走行耐久性
は例３〜１１、１３〜２１、２３〜３１sに比べてより
劣化することが分る。但し、高硬度粒子の割合を上げる
ほど、走行耐久性は向上するが、磁気ヘッドの磨耗量は
増加する。

【０１４０】

【発明の効果】以上に明らかな如く、本発明の重層塗布
型磁気記録媒体は、その磁性層にモース硬度が７を超え
て９未満の非磁性粉末と、モース硬度が９以上の非磁性
粉末とが配合されているので、走行耐久性の向上と磁気
ヘッドの磨耗抑制とを両立させることができ、高密度、
大容量記録が可能である。

【０１４１】そして、本発明の磁気記録媒体、中でも磁
気ディスクは特に既述した先願発明の接触型ヘッドスラ
イダーを用いる次世代記録システム、即ち、磁気ディス
クが毎分３０００回転以上で高速回転するヘッドディス
クインターフェイスで、なおかつ、ＤＬＣ（ダイヤモン
ドライクカーボン）膜で保護されたヘッドを用いる次世
代磁気記録システムに適用した場合に、その効果を顕著
に発揮することができ、システムの性能アップに多大の
貢献をすることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の磁気ディスクを示す断面
図である。

【図２】同、磁気ディスクの製造に用いられる重層塗布
装置の概略構成図である。

【図３】ＨＧＡの先端に取付けられたフレキシブル磁気
ディスク用ヘッドスライダーの斜視図である。

【図４】同、スライダーに取付けられた磁気ヘッドとフ
レキシブル磁気ディスクとの接触状態を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１…ヘッドスライダー、３…フレキシブル磁気ディス
ク、５…サスペンションビーム、１３…磁気ヘッド、１
４…磁気パッド、２０…上層、２１…下層、２２…非磁
性支持体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重層塗布によって第１層上に第２層が形
成され、少なくともこの第２層が磁性層として形成され
ている重層塗布型の磁気記録媒体において、前記磁性層
に、モース硬度が７を超えて９未満の第１の非磁性粉末
と、モース硬度が９以上の第２の非磁性粉末とが含有さ
れていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記第１の非磁性粉末と、前記第２の非
磁性粉末とのモース硬度の差が１．５以上である、請求
項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記第２の非磁性粉末のモース硬度が９
〜１０である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記第２の非磁性粉末が、前記第１の非
磁性粉末との合計体積に対し、１／１０以上、９／１０
以下の体積比で含有されている、請求項１に記載の磁気
記録媒体。
【請求項５】前記第１層が非磁性層として形成されて
いる、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】前記第１層及び前記第２層が、非磁性支
持体の両主面に形成されている、請求項１に記載の磁気
記録媒体。
【請求項７】磁気ディスクとして構成されている、請
求項１に記載の磁気記録媒体。