JP2001325715A

JP2001325715A - ディスク状磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2001325715A
Application number: JP2000143619A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Nishida; 康宏西田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-05-16
Filing date: 2000-05-16
Publication date: 2001-11-22

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】重層塗布型ディスク状磁気記録媒体の高記録密
度及び高転送レートを維持しつつ、高速摺動による磁気
ディスク及び磁気ヘッドの磨耗を効果的に小さく抑制
し、耐久性と信頼性を向上させる。【解決手段】回転数が１分間に２４００回転以上であり
かつ磁気ヘッド１３が相対的に接触摺動するように構成
され、磁性粉末を結合剤中に分散させてなる磁性層２０
中又は／及びディスク３の表面に、一般式（Ｉ）又は
（II）で表されるアミノアルコールを含有するディスク
状磁気記録媒体。（Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵は水素原子又は炭素数２４以下の炭
化水素基、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁶は炭素数２４以下の炭化水
素基、Ｒ¹〜Ｒ³、Ｒ⁴〜Ｒ⁶の炭素数の合計はそれぞれ６
以上。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はディスク状磁気記録
媒体、例えば高記録密度塗布型磁気ディスクに関するも
のであり、さらに詳しくは、接触式記録システムに供さ
れる磁気ディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータ用又はワードプロセッサ用
の持ち運び可能な磁気記録媒体として、磁気ディスクが
用いられている。従来から用いられている磁気ディスク
は、２ＨＤと称されるフロッピー（登録商標）ディスク
が主流であり、これは１．４４ＭＢ（メガバイト）の記
録容量である。しかしながら、近年、文字だけでなく、
音声データや画像データの取り扱い、アプリケーション
ソフトの高度化を背景として、従来の記録容量では不足
感が否めず、高容量化への要求が強くなってきている。

【０００３】さらに、データの高容量化に伴い、データ
転送速度の高速化が求められる。これは、高容量化に伴
う作業性の劣化を出来るだけ防ぐ必要があるためであ
る。その為には、ディスク回転数を上げる必要がある。

【０００４】従来のフロッピーディスクドライブシステ
ムはヘッドスライダーがディスクに接触摺動している、
いわゆるコンタクトシステムである。しかしながら、高
容量化に伴ってディスク回転数を増加させると、ヘッド
スライダーは浮上してしまい、この際の浮上量（スペー
シング）が記録再生時の効率を低下させてしまう。そこ
で浮揚型磁気ヘッドスライダーを用いず、接触記録型磁
気ヘッドスライダーを用いれば、浮上量はゼロとなり、
更なる高密度化がはかれる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな高速回転かつ接触摺動型のフロッピーディスクドラ
イブシステムは実現されていないのが現状である。

【０００６】従来から、磁性層中に脂肪酸エステルを添
加する方法（特開昭50-22603号公報、特開昭50-153905
号公報、特開昭55-139637号公報、特公昭39-28367号公
報、特公昭41-18065号公報、特公昭47-12950号公報）、
脂肪酸や炭化水素を添加する方法、さらに、高分子量で
かつ分岐した炭化水素基あるいは不飽和炭化水素基を有
した脂肪酸エステルを磁性層に添加する方法が特公昭47
-12950号公報、特開昭58-160425号公報、特開昭58-2180
38号公報、特開昭60-205827号公報、特開昭61-294637号
公報、特開昭62-125529号公報に開示されている。しか
しながら、従来のこれらの方法をもってしても、高速回
転下で接触摺動させることにより、走行耐久性が悪化
し、何よりもヘッド摩耗量が増大し、ヘッド特性を保証
できなくなってしまうという問題が生じてしまう。すな
わち、従来の技術では上記問題に対処するのに限界があ
ったのである。

【０００７】本発明は、接触式記録システムに供されて
好適な高密度塗布型ディスク状磁気記録媒体において、
巾広い環境条件下における優れたヘッド摩耗特性と走行
耐久性を併せ持つ磁気デイスク等のディスク状磁気記録
媒体を提供することを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、回転数
が１分間に２４００回転以上でありかつ磁気ヘッドが相
対的に接触摺動するように構成され、磁性粉末を結合剤
中に分散させてなる磁性層中又は／及び媒体表面に、下
記一般式（Ｉ）又は（II）で表される含窒素アルコール
（以下、本発明のアミノアルコールと称する。）を少な
くとも１種類含有することを特徴とするディスク状磁気
記録媒体（以下、磁気ディスクを代表例として説明す
る。）に係るものである。

【化３】（但し、前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹は水素原子又
は炭素数２４以下の炭化水素基、Ｒ²及びＲ³は互いに同
一の若しくは異なる炭素数２４以下の炭化水素基であ
り、Ｒ¹〜Ｒ³の炭素数の合計は６以上である。）

【化４】（但し、前記一般式（II）において、Ｒ⁴及びＲ⁵は互い
に同一の若しくは異なる水素原子又は炭素数２４以下の
炭化水素基、Ｒ⁶は炭素数２４以下の炭化水素基であ
り、Ｒ⁴〜Ｒ⁶の炭素数の合計は６以上である。）

【０００９】本発明者は、ディスク回転数が１分間に２
４００回転以上と高速でありかつ磁気ヘッドスライダー
が接触摺動する記録システムを実現させるべく検討を行
った結果、高速摺動させた際の磁気ディスクの摩耗によ
る出力低下もさることながら、ヘッドの摩耗によるヘッ
ド特性劣化が最も大きな問題であることを認識した。し
かも、同一トラックを摺動させた時よりも、シークさせ
ながら摺動させることにより、一桁以上摩耗速度が速く
なってしまうことを認識するに至った。

【００１０】したがって、このシーク時のヘッド摩耗を
低減するために鋭意検討した結果、少なくとも磁気ディ
スク表面に存在させる本発明のアミノアルコールが、従
来の潤滑剤である脂肪酸エステルや脂肪酸等に比べて、
ヘッド摩耗速度を一桁以上低減させる効果があることを
見出し、本発明に至ったのである。また、ヘッドの摩耗
速度には接触面圧の効果も大きい。ヘッド摩耗速度は接
触面圧にほぼ比例すると考えてよく、接触面圧が大きす
ぎるとヘッド摩耗速度は速くなり、本発明のアミノアル
コール（潤滑剤）を用いたとしても、実用レベルの磨耗
速度は得られない。また、接触面圧が逆に小さすぎると
安定した接触摺動が出来なくなり、ヘッドスライダーが
跳躍してしまったり、浮上してしまう。

【００１１】本発明のアミノアルコールの構造としては
上記一般式（Ｉ）又は(II)で示されるものであり、上記
一般式で示されるアミノアルコール中のＲ¹〜Ｒ⁶の構造
は直鎖状のみならず、分岐構造や不飽和結合、芳香環の
有無、異性体の種類や脂環構造についても自由に選択す
ることが可能である。ただし、炭素数はＲ¹〜Ｒ⁶は２４
以下が好ましく、これより大きくなると、製造上困難と
なり、実用性に欠ける。また、Ｒ¹〜Ｒ³及びＲ⁴〜Ｒ⁶の
炭素数の合計が６より小さくなると、揮発しやすく磨耗
低減効果が期待できない。

【００１２】本発明のアミノアルコールを磁性層中又は
／及び磁気ディスク表面に含有させる手法としては、大
きく分けて2種類の方法が存在する。一つは、磁気ディ
スク作製途中の磁性塗料中又は／及び下層非磁性塗料中
に添加する方法であり、もう一つは、アミノアルコール
を単体もしくは溶媒に溶かして、磁気ディスク表面にエ
アードクターコート、グラビアコート、スプレーコー
ト、スピンコートもしくはディップコート等の手法を用
いて含有させる方法である。また、これら２種類の方法
を併用しても構わない。下層非磁性層中にのみ添加する
方法は、磁性層中の空孔を通って表面に供給されること
が知られており、また磁性塗料に直接添加することによ
る分散劣化等も回避できるため、アミノアルコールを磁
性層中又は／及び磁気ディスク表面に含有させる有効な
手段の一つである。

【００１３】本発明では、重層塗布によって第１層上に
第２層が形成され、少なくともこの第２層が前記磁性層
として形成されていることがよい。好ましくは、磁性層
と非磁性支持体の間に、実質的に非磁性である下層非磁
性層を第１層として設けることが好ましい。実質的に非
磁性である下層非磁性層とは記録に関与しない程度に磁
性をもっていてもよいという意味であり、以降、これを
単に下層非磁性層という。

【００１４】本発明の磁気ディスクが使用される装置と
しては、回転数が２４００ｒｐｍ以上、好ましくは２４
００〜８０００ｒｐｍである。ヘッドは、ハードディス
クで用いられるようなスライダーに取りつけられたタイ
プのものが好適であり、２４００ｒｐｍ以上の回転数で
あっても浮上することなく安定して接触摺動する接触式
磁気ヘッドスライダーをディスクの上下から挟み込むこ
とにより、安定して走行することができる。スライダー
の接触面（コンタクトパッド）の材質はダイヤモンド状
カーボン（DLC）、非晶質カーボン、Al₂O₃・TiC、Al₂O₃
、Si、SiC、BNなどが好適であるが、これらに限るもの
ではない。また、従来のインダクティブヘッドに加え、
ＭＲヘッド、GMRヘッド、TMRヘッドの使用も可能であ
る。

【００１５】接触面圧（押し付け荷重／接触総面積）は
１〜４０ｇｆ／ｍｍ²が好ましい。接触面圧がこれより
大きすぎると、ヘッド摩耗速度は速くなり、本発明の潤
滑剤を用いたとしても実用レベルの磨耗速度は得られ難
い。また、接触面圧が逆にこれより小さすぎると、安定
した接触摺動が出来なくなり、ヘッドスライダーが跳躍
してしまったり、浮上し易くなる。

【００１６】本発明に基づく磁気ディスクに対して好適
に用いられる磁気ヘッドは、本出願人が既に提案した、
磁気ヘッドを埋設した接触パッドを有する接触型ヘッド
スライダー（特願平１１−２５１８１５号）である。以
下、この先願発明の概要を説明する。

【００１７】先願発明のフレキシブル磁気ディスク用ヘ
ッドスライダーは、磁気ヘッドが埋設されたパッドがフ
レキシブル磁気ディスクの対向面に設けられており、こ
のパッドが、磁気ヘッドとの間の相対速度が１．３ｍ／
ｓ〜２５．０ｍ／ｓであるフレキシブル磁気ディスクに
接触した状態で、磁気ヘッドのフレキシブル磁気ディス
クに対する信号の記録又は再生を行うようにしたもので
ある。先願発明によれば、従来のハードディスク用ヘッ
ドスライダーのようなテーパフラットや負圧機構を有す
る浮上機構を持たず、フレキシブル磁気ディスクの表面
に接触させた状態で磁気ヘッドによる記録／再生を低速
から高速まで広い範囲にわたって安定に長期間行うこと
ができ、フレキシブル磁気ディスクの高密度化及び転送
レートの高速化を実現することができ、低消費電力化も
図ることができる。

【００１８】図３は、一実施の形態のヘッドスライダー
１を先端に取着したＨＧＡ（ヘッドスライダーサスペン
ション）２を示すもので、ＨＧＡ２は、フレキシブル磁
気ディスク３の径方向の延長方向に長い矩形板状のベー
スプレート４と、このベースプレート４の先端部下面に
重ね合わせ状に貼着されたサスペンションビーム５とか
ら成り、磁気ヘッドスライダー１はサスペンションビー
ム５の先端部に支持される。尚、ヘッドスライダー１及
びＨＧＡ２は上下に対向するように２つ配設され、図４
に示すように、磁性層２０（上層）及び非磁性層２１
（下層）が非磁性支持体２２の両主面上に積層されたフ
レキシブル磁気ディスク３をその両面から挟持するよう
になっている。

【００１９】ベースプレート４はその基端部に左右両側
部がくびれた狭隘部が形成されており、この狭隘部より
基端側部分が図示しないリニアモータのキャリッジに保
持され、また、先端部の左右側部のうち一方の側部に側
方に突出する片持ち腕部７が一体に形成されている。

【００２０】そして、図示は省略するが、リニアモータ
の前後方向の移動により、片持ち腕部７がリフターによ
り相対的に持ち上げられると、ベースプレート４は上記
狭隘部が主に曲がろうとして、片側縁が持ち上げられる
にもかかわらず捻れることなくほぼ水平のまま先端側が
上方へ押し上げられるようになっている。

【００２１】尚、図中に示す「Ｄ₁方向」がリニアモー
タの前後方向であり、磁気ヘッドにより記録又は再生の
ためのシーク方向である。また、「Ｄ₂方向」はフレキ
シブル磁気ディスク３の走行方向（回転方向）を示す。
かかるフレキシブル磁気ディスク３の走行方向（Ｄ₃）
は逆向きであっても良い。また図示しないリニアモータ
はフレキシブル磁気ディスク３の径方向と平行に移動す
るようになっており、リニアモータの駆動によりベース
プレート４がフレキシブル磁気ディスク３の径方向の延
長方向に移動するようになっている。

【００２２】サスペンションビーム５は、ベースプレー
ト４の先端部分下面にピボットスプリングを介して貼着
される被貼着部８と、先端に行くに従い幅狭になるサス
ペンション部９とサスペンション部９の先端部でヘッド
スライダー１を支持するスライダー支持部１０とから成
る。サスペンション部９にはいくつかの孔１１、１１、
・・・が形成されており、これにより適度な弾性が付与
されるようになっている。特に、サスペンション部９の
先端部には、先端が開口するコ字状のリンク部１２が形
成され、このリンク部１２の先端間にほぼ矩形のスライ
ダー支持部１０が形成されている。

【００２３】サスペンションビーム５の材料としては、
ＳＵＳ／接着剤／ＳＵＳ等の３層からなるバネ定数２０
０ｍｇｆ／ｍｍ程度の非常に柔らかいラミネート材で構
成され、さらに先端部のリンク部１２は、ロール剛性
０．２μＮ・ｍ／ｄｅｇｒｅｅ、ピッチ剛性０．０４μ
Ｎ・ｍ／ｄｅｇｒｅｅという柔軟性が確保されている。
また、詳細は省略するが、サスペンションビーム５は、
ヘッドスライダー１の背面に機械的に接続されるととも
に、後述する磁極パッドの中心に埋め込まれた磁気ヘッ
ドから伸びたリード端子に電気的にも接続され、信号線
としての機能も果たしている。

【００２４】磁気ヘッドスライダー１は、図５に明示す
るように、平面から見て縦長な台形を成し、その先端の
部分に磁気ヘッド１３が埋設された接触パッド（磁極パ
ッド）１４が、また、その反対側の角部に接触パッド１
５、１５がそれぞれ支持されている。磁気ヘッドスライ
ダー１は、薄膜プロセスによるスパッタ・アルミナボデ
ィ等で形成されており、５０μｍ以下と極薄の為、剛性
がハードディスクで使用されている厚み３００μｍ程度
のピコスライダーと比較して８桁ほど柔らかく、かつ自
重は５００μｇ以下と軽量である。その結果、フレキシ
ブル磁気ディスク９の表面を滑らかに追従することが可
能であるとともに、極めて軽量であるため、外部から印
加される加速度に対して発生する力が非常に弱く、その
結果時にポータブルユースにおいて重要な耐衝撃性に優
れている。

【００２５】接触パッド１４、１５、１５はダイヤモン
ドライクカーボン（以下ＤＬＣと略す）等で形成されて
おり、磁極パッド１４には記録／再生を行う磁気ギャッ
プを有する磁気ヘッド１３が埋め込まれており、摺動面
で磁気コアの周囲がＤＬＣなどで囲まれている。図４
は、記録／再生を行う際の、磁極パッド１４とフレキシ
ブル磁気ディスク３との位置関係を示すものである。

【００２６】接触パッド１４、１５、１５の硬度は、耐
磨耗性からビッカース硬度７００以上が必要であり、１
０００以上が望ましく、このような特性を与えるもので
あれば材質はＤＬＣと限るものではない。接触パッド１
４、１５、１５のフレキシブル磁気ディスク３と接触す
る側の角部の角度αは、媒体に対する削れ性を抑えるた
めに図４に示す角度αは９０度以上の鈍角であることが
必要であり、１１５度以上であることが好ましい。ま
た、磁極パッド１４の摺動面形状は楕円、接触パッド１
５、１５の摺動面形状は真円に形成したが、これに限ら
ず、長方形、正方形、あるいは三角形のいずれの形であ
ってもよい。磁気ヘッド１３は、このような薄いヘッド
スライダー１の内部に構造が収まるように巻線が磁気ヘ
ッドスライダー１の面に平行ないわゆるプレーナ型薄膜
インダクティブヘッドを採用しているが、それに限定さ
れるものではない。磁気ヘッドスライダー１はサスペン
ションビーム５の先端のスライダー支持部１０の下面に
貼着される。

【００２７】ピボットスプリング１６は長さ方向のほぼ
半分の長さをした基部と、基部の先端縁の左右側端部か
らそれぞれさらに先端に向かいかつ互いに近づくように
延出されたリンク片１８、１８と、該リンク片１８、１
８の先端間に架設された押圧片１９とが一体に形成され
ている。

【００２８】ピボットスプリング１６のリンク片１８、
１８はその基部との間で折り曲げられて先端に行くに従
い下方へ偏倚され、また、押圧片１９はそのリンク片１
８、１８との間で折り曲げられて先端に行くに従い下方
へ偏倚されている。ピボットスプリング１６の押圧片１
９の先端側縁の中央部には三角形状の押圧部１９ａが形
成されており、この押圧部１９ａの尖端部がサスペンシ
ョンビーム５のスライダー支持部１０に対応した位置に
形成されている。そして、ピボットスプリング１６の基
部は上記ベースプレート４の先端とサスペンションビー
ム５の基端部とに挟持され、これにより、サスペンショ
ンビーム５は、そのスライダー支持部１０がピボットス
プリング１６の押圧部１９ａに押圧されて下方に可撓さ
れて、フレキシブル磁気ディスク３に対する適度なロー
ド荷重がかかるようになっている。ピボットスプリング
１６はバネ定数２５０ｍｇｆ／ｍｍ程度の極薄のステン
レス材で形成され、よって、２００ｍｇｆという低いロ
ード荷重がヘッドスライダー１の重心位置に加えられ、
フレキシブル磁気ディスク３のランアウト変動が起こっ
ても、荷重変動幅が１００〜８００ｍｇｆと狭く、各接
触パッド１４、１５、１５に均等な接触圧力が与えられ
る。これによって、フレキシブル磁気ディスク３の定常
及び非定常なランアウト変動にきわめて良く追従し、安
定した記録／再生が実現される。

【００２９】以上説明した先願発明の接触型磁気ヘッド
スライダーは、２４００ｒｐｍ以上、たとえば３０００
ｒｐｍ以上と高速回転する磁気ディスクに相対的に高速
で摺動するもので、耐久性の観点からロード荷重が極め
て小さくなるよう設計されており、磁気ディスクの表面
形状に柔軟に追従することができる。

【００３０】以下に、本発明に基づく磁気ディスクの構
成材料とその製法について詳細に述べる。＜磁性層＞まず、磁性層の構成材料について述べる。

【００３１】磁性層に含有される強磁性体に特に制限は
ない。例示するならば、強磁性合金粉末、強磁性六方晶
系フェライト粉末、強磁性酸化鉄粒子、強磁性Ｃｒ
Ｏ₂、強磁性コバルトフェライト（ＣｏＯ−Ｆｅ
₂Ｏ₃）、コバルト吸着酸化物、窒化鉄等の微粒子を挙げ
ることができる。

【００３２】強磁性合金粉末としては、Ｆｅ合金粉末、
Ｃｏ合金粉末、Ｎｉ合金粉末、並びに、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆ
ｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｂ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｖ等の合金粉末、或いはこれらの合金と他の元
素との化合物である合金粉末を使用することができる。
更に特性を改良するために、組成中にＡｌ、Ｓｉ、Ｐ、
Ｂ、Ｃ等の非金属が添加されることもある。通常、前記
金属粉末の粒子表面は、化学的に安定させるために、酸
化物の層が形成されている。酸化物の形成方法として
は、公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した後
に乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬した後に酸素含有ガ
スを送り込んで表面に酸化膜を形成してから乾燥させる
方法、有機溶剤を用いずに酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化被膜を形成する方法等が挙げら
れ、いずれを施したものでも用いることができる。

【００３３】前記強磁性六方晶系フェライト粉末として
は、平板状で、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸が
ある強磁性粉末であって、バリウムフェライト、ストロ
ンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェラ
イト又はそれらのコバルト置換体等があり、中でも特に
バリウムフェライトのコバルト置換体、ストロンチウム
フェライトのコバルト置換体が好ましい。更に必要に応
じて、その特性を改良するためにＩｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｎ
ｂ、Ｖ等の元素を添加してもよい。六方晶系フェライト
粉末は、長波長記録の場合、出力は他の磁性粒子に比例
して低めではあるが、高周波帯域の記録波長が１．５μ
ｍ以下、好ましくは１．０μｍ以下の短波長記録となる
と、他の磁性粒子よりもむしろ高出力が期待できるとい
う特徴がある。

【００３４】強磁性体の形状に特に制限はなく、例示す
るならば、針状、粒状、サイコロ状、米粒状及び板状の
ものなどを挙げることができる。針状の場合、針状比３
／１〜３０／１程度、更には４／１以上が好ましい。こ
の強磁性体の比表面積は、４０ｍ²／ｇ以上が電磁変換
特性上好ましく、更に４５m²／ｇ以上が好ましい。

【００３５】また、磁性層中の結合剤としては、従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電子線等による放
射線架橋型樹脂や、これらの混合物が使用可能である。

【００３６】上記熱可塑性樹脂としては、軟化点温度が
１５０℃以下、平均分子量が５０００〜５００００、重
合度が約５０〜５００程度のものが好ましい。例示する
ならば、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニルー酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニルー塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニルーアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステルーアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステ
ルー塩化ビニルー塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
ーアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルーア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルー塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステルー塩化ビニリ
デン共重合体、メタクリル酸エステルー塩化ビニル共重
合体、メタクリル酸エステルーエチレン共重合体、ポリ
弗化ビニル、塩化ビニリデンーアルリロニトリル共重合
体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セ
ルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重
合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹
脂、合成ゴム、及びこれらの混合物等が挙げられる。

【００３７】また、熱硬化性樹脂の例としては、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹
脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。

【００３８】また、上記結合剤として使用される樹脂の
分子中に−ＳＯ₃Ｈ、−ＯＳＯ₃Ｈ、−ＰＯ₃Ｈ、−ＯＰ
Ｏ₃Ｈ₂、−ＣＯＯＨ等の酸性基又はそれらの塩、或いは
ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、等の極性基を
持つものが、より優れた分散性と塗膜耐久性を与える。
この中でも−ＳＯ₃Ｎａ、−ＣＯＯＨ、−ＯＰＯ₃Ｎ
ａ ₂、−ＮＨ₂基を持つものが好ましい。

【００３９】本発明の磁気記録媒体の磁性層には、さら
にモース硬度５以上の無機質粒子を含有させることが好
ましい。

【００４０】使用される無機質粒子は、モース硬度が5
以上であれば特に制限はない。モース硬度が5以上の無
機質粒子の例としては、Ａｌ₂Ｏ₃（モース硬度９）、Ｔ
ｉＯ（同６）、ＴｉＯ₂（同６．５）、ＳｉＯ₂（同
７）、ＳｎＯ₂（同６．５）、Ｃｒ₂Ｏ₃（同９）及びα
−Ｆｅ₂Ｏ₃（同５．５）を挙げることができ、これらを
単独若しくは混合して用いることができる。なお、特に
好ましくは、モース硬度が８以上の無機質粒子である。
モース硬度が5よりも低い比較的軟らかい無機質粒子を
用いた場合には、磁性層から無機質粒子が脱落しやす
く、またヘット゛研磨作用も殆どないため、ヘッド目詰ま
りを発生しやすく、また走行耐久性も乏しくなる。

【００４１】このような無機質粒子の含有量は、通常、
強磁性体１００重量部に対して０．１〜２０重量部の範
囲であり、好ましくは１〜１０重量部の範囲である。

【００４２】上記磁性層用の塗料を調製する際には、前
記した成分のほかに、帯電防止剤を併せて使用すること
もできる。帯電防止剤の例としては、カーボンブラッ
ク、カーボンブラックグラフトポリマーなどの導電性微
粉末；サポニンなどの天然界面活性剤；アルキレンオキ
サイド系、グリセリン系及びグリシドール系などのノニ
オン系界面活性剤；高級アルキルアミン類、第4級アン
モニウム塩類、ピリジンその他の複素環化合物の塩類、
ホスホニウム又はスルホニウム類などのカチオン性界面
活性剤；カルボン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン性界面活性剤；アミノ
酸類、アミノスルホン酸類、含アミノエステルの硫酸又
は燐酸エステル類等の両性界面活性剤等を挙げることが
できる。

【００４３】また、磁性層に内添される潤滑剤として、
前述のアミノアルコール以外にも、以下のものが併用可
能である。併用可能な潤滑剤としては、脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸又は脂肪酸アミド、脂肪族
アルコール等が使用できる。又、シリコンオイル、グラ
フアイト、二硫化モリブデン、チッ化硼素、フッ化黒
鉛、フッ素アルコール、ポリオレフイン（ポリエチレン
ワツクス等）、ポリグリコール（ポリエチレンオキシド
ワツクス等）、アルキル燐酸エステル、チオ亜燐酸エス
テル、ポリフエニルエーテル、二硫化タングステンも使
用できる。

【００４４】これら有機化合物からなる潤滑剤の具体例
としては、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リ
ノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エス
テル類ではブチルステアレート、オクチルステアレー
ト、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、
ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシ
エチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、
２ーエチルヘキシルステアレート、２ーオクチルドデシ
ルパルミテート、２ーヘキシルドデシルパルミテート、
イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、
ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、アル
コール類ではオレイルアルコ−ル、ステアリルアルコー
ル、ラウリルアルコ−ルなどが挙げられる。

【００４５】＜下層非磁性層＞次に、本発明に基づく下
層非磁性層の構成材料について述べる。

【００４６】下層非磁性層中に含有される非磁性顔料と
しては、例えば、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、カーボンブ
ラック、グラファイト、硫酸バリウム、ＺｎＳ、ＭｇＣ
Ｏ₃、ＣａＣＯ₃、ＺｎＯ、ＣａＯ、二硫化タングステ
ン、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、ＭｇＯ、Ｓｎ
Ｏ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α−Ａｌ₂Ｏ₃、α−ＦｅＯＯＨ、Ｓｉ
Ｃ、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α
−酸化鉄、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒化ケイ
素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化モリブデン、炭化ホ
ウ素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリボ
リ、ケイソウ土、ドロマイト等を挙げることができる。
それらの中で好ましいのはα−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、カ
ーボンブラック、ＣａＣＯ₃、硫酸バリウム、α−Ａｌ₂
Ｏ₃、α−ＦｅＯＯＨ、Ｃｒ₂Ｏ₃等の無機粉末やポリエ
チレン等のポリマー粉末等である。

【００４７】下層非磁性層中の結合剤としては、下層の
表面性、即ち下層顔料の分散能及び上下層の界面の一様
性を満たすことを第一義に考える必要がある。これらを
満たす結合剤としては、上層の結合剤と同様従来公知の
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電子線等による放射線
架橋型樹脂や、これらの混合物が使用可能である。

【００４８】また、下層非磁性層に内添される潤滑剤と
して、前述の含アミノエステル以外にも以下のものが併
用可能である。併用可能な潤滑剤としては、脂肪酸エス
テル、炭素数８〜２２の脂肪酸、又は脂肪酸アミド、脂
肪族アルコール等が使用できる。又、シリコンオイル、
グラフアイト、二硫化モリブデン、チッ化硼素、フッ化
黒鉛、フッ素アルコール、ポリオレフイン（ポリエチレ
ンワツクス等）、ポリグリコール（ポリエチレンオキシ
ドワツクス等）、アルキル燐酸エステル、チオ亜燐酸エ
ステル、ポリフエニルエーテル、二硫化タングステンも
使用できる。

【００４９】これら有機化合物からなる潤滑剤の具体例
としては、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リ
ノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エス
テル類ではブチルステアレート、オクチルステアレー
ト、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、
ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシ
エチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、
２ーエチルヘキシルステアレート、２ーオクチルドデシ
ルパルミテート、２ーヘキシルドデシルパルミテート、
イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、
ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、アル
コール類ではオレイルアルコ−ル、ステアリルアルコー
ル、ラウリルアルコ−ルなどが挙げられる。

【００５０】また、上記非磁性層用の塗料を調製する際
には、前記した成分のほかに、帯電防止剤を併せて使用
することが好ましい。帯電防止剤の例としては、カーボ
ンブラック、カーボンブラックグラフトポリマーなどの
導電性微粉末；サポニンなどの天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系な
どのノニオン系界面活性剤；高級アルキルアミン類、第
4級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環化合物
の塩類、ホスホニウム又はスルホニウム類などのカチオ
ン性界面活性剤；カルボン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン性界面活性
剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸又は燐酸エステル類等の両性界面活性剤等を挙
げることができる。

【００５１】帯電防止剤として上記の導電性微粉末を使
用する場合には、例えば非磁性顔料１００重量部に対し
1〜15重量部の範囲で使用され、界面活性剤を使用する
場合にも同様に1〜15重量部の範囲で使用される。

【００５２】また、上層磁性層と同様、モース硬度５以
上の無機質粒子を含有させてもよい。

【００５３】モース硬度５以上の無機質粒子としては、
Ａｌ₂Ｏ₃（モース硬度９）、ＴｉＯ（同６）、ＴｉＯ₂
（同６．５）、ＳｉＯ₂（同７）、ＳｎＯ₂（同６．
５）、Ｃｒ₂Ｏ₃（同９）及びα−Ｆｅ₂Ｏ₃（同５．５）
を挙げることができ、これらを単独あるいは混合して用
いることができる。

【００５４】＜磁気記録媒体の製造＞次に、本発明の磁
気記録媒体を製造する方法の例を述べる。

【００５５】上記した強磁性体と結合剤、そして必要に
応じて、他の充填材、添加剤などを溶剤と混練して、磁
性塗料を調製する。

【００５６】混練の際に使用する溶剤としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチ
ル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶
媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エト
キシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられ、これらを
適宜混合して使用してよい。

【００５７】混練の方法にも特に制限はなく、また各成
分の添加順序などは適宜設定することができる。磁性塗
料の調製には、通常の混練機、例えぱ、サンドミル、ダ
イノミル、ダブルシリンダーパールミル、二本ロールミ
ル、三本ロールミル、ボールミル、高速インペラー分散
機、高速スト−ンミル、高速度衝撃ミル、エクストルー
ダー、ディスパーニーダー、高速ミキサ−、ホモジナイ
ザー及び超音波分散機などを挙げることができる。

【００５８】使用する非磁性支持体の厚さは、媒体の使
用目的に応じて適宜定めてよく、１０〜１２０μmとさ
れることが多いが、より好ましくは３０〜１００μmで
ある。

【００５９】非磁性支持体の構成素材としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル
系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルホ
ン等のプラスチツクのほかに、アルミニウム、銅等の金
属、ガラス等のセラミツクス等も使用できる。これらの
支持体は、塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ
処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、
アルカリ処理を行なってもよい。

【００６０】塗布は、前記非磁性支持体上に直接行なう
ことも可能であるが、接着剤層などを介して非磁性支持
体上に塗布することも可能である。非磁性支持体上への
塗布法の例としては、エアードクターコート、ブレード
コート、ロッドコート、押し出しコート、エアナイフコ
ート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコ
ート、トランスファーロールコート、グラビアコート、
キスコート、キャストコート、スプレーコート及びスピ
ンコート法等を挙げることができ、特に下層用非磁性塗
料と上層用磁性塗料を湿潤状態で重畳して塗布する、い
わゆるウェット・オン・ウェット塗布方式を用いてもよ
い。

【００６１】図２は、ウェットオンウェット塗布方式の
一例を示すものである。この製造方法においては、図１
に示すディスクを製造するに当たり、まず供給ロールか
ら繰り出されたフィルム状支持体２２は、矢印A方向へ
送りながら、エクストルージョン方式の押し出しコータ
ー３０により、下層及び磁性層用の各塗料２１’及び２
０’を同時に重層塗布する。押し出しコーター３０に
は、液溜まり部２５、２６が設けられ、各塗料２０’、
２１’をスリット３１、３２を介して供給し、ウエット
・オン・ウエット方式で同時に重ねる。

【００６２】こうしたウエット・オン・ウエット方式に
おける同時重層塗布方式においては、下層が湿潤状態２
１’のまま上層の磁性塗料２０’を塗布するので、下層
の表面（即ち、上層との境界面）が滑らかになると共に
上層の表面性が良好となり、かつ上下層間の接着性も向
上する。この結果、特に高密度記録のために高出力、低
ノイズの要求される磁気記録媒体としての要求性能を満
たしたものとなり、かつ膜剥離がなくなり、膜強度が向
上する。またドロップアウトも低減することが可能であ
り、信頼性も向上する。

【００６３】本発明に基づく磁気ディスクは、配向装置
を用いず、無配向でも十分に等方的な配向性が得られる
こともあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置するこ
と、ソレノイドで交流磁場を印加するなど、公知のラン
ダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向と
しては、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、
垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもでき
る。また、異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配
向とすることにより、円周方向に等方的な磁気特性を付
与することもできる。特に高密度記録を行う場合は、垂
直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配
向してもよい。

【００６４】配向は、乾燥風の温度、風量、塗布速度を
制御することにより、塗膜の乾燥位置を制御できるよう
にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ/分〜１００
０ｍ/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た、磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行なうこと
もできる。

【００６５】カレンダ処理は、ロールとしてエポキシ、
ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性
のあるプラスチックロール又は金属ロールで処理する
が、特に両面磁性層とする場合は、金属ロール同士で処
理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃
以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力
は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましく
は３００ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００６６】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分、割合、操作順序等は本発明の
精神から逸脱しない範囲において変更しうるものである
ことは当業界に携わるものにとっては容易に理解される
ことである。従って、本発明は下記の実施例に制限され
るべきものではない。

【００６７】例１本例においては、非磁性支持体上に下層非磁性層と上層
磁性層が形成される磁気ディスクをサンプルとして作成
することとした。まず、磁性層を形成する磁性塗料と非
磁性層を形成する非磁性塗料の製造を行った。各塗料の
製造は、通常の製造方法に従って行うものとし、両者と
も、まず、顔料（強磁性粉末又は非磁性粉末）、結合
剤、添加剤、溶剤等を混合し、次いで混練時の不揮発成
分が８５重量％となるようニーダーにより混練した。そ
して、この後、磁性塗料においてはサンドミルで５時
間、非磁性塗料においてはサンドミルで３時間の分散を
行い、各塗料を得た。各塗料の配合を下記に示す。

【００６８】＜磁性塗料配合＞ Fe系メタル強磁性粉末（保磁力＝170kA/m 、飽和磁化量１００重量部＝150Am²/kg、長軸長＝0.1μｍ）結合剤：ポリ塩化ビニル樹脂（官能基[-OSO₃K]=6×10^-5mol/g）１５重量部無機質粒子：α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径=0.3μm、モース硬度9）５重量部溶剤：メチルエチルケトン１５０重量部溶剤：シクロヘキサノン１５０重量部

【００６９】＜非磁性塗料配合＞非磁性顔料：針状α−酸化鉄（比表面積＝53m²/g、長軸長=0.15μm、針状比＝11）１００重量部結合剤：ポリ塩化ビニル樹脂（官能基[-OSO₃K]=6×10^-5mol/g）２５重量部帯電防止剤：カーボンブラック（ライオンアグゾ製ケッチェンブラックEC）１５重量部溶剤：メチルエチルケトン１５０重量部溶剤：シクロヘキサノン１５０重量部

【００７０】そして、上記のようにして得られた非磁性
塗料に対し、アミノアルコールとして下記表１の化合物
（１）を５重量部添加し３０分間撹拌し、さらに磁性塗
料及び非磁性塗料に硬化剤としてポリイソシアネート
（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を３．５重
量部ずつ加えて、磁性塗料と非磁性塗料を完成した。

【００７１】そして、これら磁性塗料及び非磁性塗料を
図２に示すダイコーターを用いて、非磁性支持体である
厚さ６０μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、非磁性塗料が下層、磁性塗料が上層となるように同
時重層塗布し、塗料が未乾燥のうちに交流磁場１５０O
e、周波数６０Ｈｚの条件で無配向処理を行った。乾燥
後、５段の金属ロールカレンダーにて９０℃、２００ｋ
ｇ／ｃｍの条件で平滑化処理を行った。

【００７２】このとき、磁性層の乾燥後の厚さが０．２
μm、非磁性層の乾燥後の厚さが２．０μmとなるように
設定した。その後、３．５インチのフロツピーデイスク
に打ち抜き、６０℃の恒温層に４８ｈ入れ、アニール処
理をした後、磁気デイスクとした。この磁気ディスクサ
ンプルを磁気ディスク-１と称する。

【００７３】例２〜１６アミノアルコールとして、下記表１の化合物（１）の代
わりに化合物（２）〜（８）及び下記表２の化合物
（９）〜（１６）をそれぞれ５重量部添加した以外は磁
気ディスク-１と同様にサンプルを作成し、磁気ディス
ク-２〜１６とした。

【００７４】例１７磁性塗料に対しても、アミノアルコールとして下記表１
の化合物（１）を２重量部添加した以外は磁気ディスク
−１と同様にサンプルを作成し、磁気ディスク−１７と
した。

【００７５】例１８磁性塗料に対しても、アミノアルコールとして下記表２
の化合物（１３）を２重量部添加した以外は磁気ディス
ク−１と同様にサンプルを作成し、磁気ディスク−１８
とした。

【００７６】例１９アミノアルコールとして下記表１の化合物（１）を５重
量部添加する代わりに２．５重量部添加し、さらに下記
表２の化合物（１３）を２．５重量部添加した以外は磁
気ディスク-１と同様にサンプルを作成し、磁気ディス
ク−１９とした。

【００７７】例２０非磁性塗料に対し、アミノアルコールとして下記表１の
化合物（１）を５重量部添加しないこと以外は磁気ディ
スク-１と同様にカレンダー処理まで行った後、上記サ
ンプルの両磁性層に、アミノアルコールとして下記表１
の化合物（１）の０．３重量％ｎ−ヘキサン溶液を塗布
量が各々１００ｍｇ／ｍ²となるように塗布（トップコ
ート）した以外は磁気ディスク−１と同様にサンプルを
作成し、磁気ディスク−２０とした。

【００７８】例２１非磁性塗料に対し、アミノアルコールとして下記表１の
化合物（１）を５重量部添加しないこと以外は磁気ディ
スク-１と同様にカレンダー処理まで行った後、上記サ
ンプルの両磁性層に、アミノアルコールとして下記表２
の化合物（１３）の０．３重量％ｎ−ヘキサン溶液を塗
布量が各々１００ｍｇ／ｍ²となるように塗布（トップ
コート）した以外は磁気ディスク−１と同様にサンプル
を作成し、磁気ディスク−２１とした。

【００７９】例２２潤滑剤としてイソヘキサデシルステアレートを２重量部
非磁性塗料に添加した以外は磁気ディスク-１と同様に
サンプルを作成し、磁気ディスク-２２とした。

【００８０】例２３潤滑剤としてイソヘキサデシルステアレートを２重量部
非磁性塗料に添加した以外は磁気ディスク-１３と同様
にサンプルを作成し、磁気ディスク-２３とした。

【００８１】例２４磁性塗料にアミノアルコールとして下記表１の化合物
（１）を５重量部添加した以外は磁気ディスク−１と同
様に磁性塗料を作成し、グラビアコーターを用いて乾燥
後の厚みが３．０μｍになるように磁性塗料だけを塗布
した以外は磁気ディスク−１と同様にサンプルを作成
し、磁気ディスク-２４とした。

【００８２】例２５磁性塗料にアミノアルコールとして下記表２の化合物
（１３）を５重量部添加した以外は磁気ディスク−１と
同様に磁性塗料を作成し、グラビアコーターを用いて乾
燥後の厚みが３．０μｍになるように磁性塗料だけを塗
布した以外は磁気ディスク−１と同様にサンプルを作成
し、磁気ディスク-２５とした。

【００８３】例２６磁性塗料だけを使用し、グラビアコーターを用いて乾燥
後の厚みが３．０μｍになるように塗布した後、カレン
ダー処理まで行った。次いで、上記サンプルの両磁性層
に、アミノアルコールとして下記表１の化合物（１）の
０．３重量％ｎ−ヘキサン溶液を塗布量が各々１００ｍ
ｇ／ｍ²となるように塗布（トップコート）した以外は
磁気ディスク−１と同様にサンプルを作成し、磁気ディ
スク-２６とした。

【００８４】例２７磁性塗料だけを使用し、グラビアコーターを用いて乾燥
後の厚みが３．０μｍになるように塗布した後、カレン
ダー処理まで行った。次いで、上記サンプルの両磁性層
に、アミノアルコールとして下記表２の化合物（１３）
の０．３重量％ｎ−ヘキサン溶液を塗布量が各々１００
ｍｇ／ｍ²となるように塗布（トップコート）した以外
は磁気ディスク−１と同様にサンプルを作成し、磁気デ
ィスク-２７とした。

【００８５】比較例１下記表１の化合物（１）の代わりにイソヘキサデシルス
テアレートを５重量部添加した以外は磁気ディスク-１
と同様にサンプルを作成し、比較ディスク-１とした。

【００８６】比較例２下記表１の化合物（１）の代わりにブチルステアレート
を５重量部添加した以外は磁気ディスク-１と同様にサ
ンプルを作成し、比較ディスク-２とした。

【００８７】比較例３下記表１の化合物（１）の代わりにミリスチン酸を５重
量部添加した以外は磁気ディスク-１と同様にサンプル
を作成し、比較ディスク-３とした。

【００８８】上記した方法で作成した各磁気ディスクを
下記表３及び表４の磁気ヘッドスライダーと下記表５に
示すように組み合わせて評価した。

【００８９】磁気ヘッドスライダー：図５に示す磁気ヘ
ッドスライダー部は、コンタクトパッドＩ、II、IIIが
円盤状に設置され、かつ磁気ヘッドスライダーの面上で
二等辺三角形の各頂点に相当する位置に設けられてい
る。各コンタクトパッドは、磁気ディスクと接触する部
分の面（先端面）が各々平坦に形成されている。磁気ヘ
ッド（記録再生素子）１３を具備したコンタクトパッド
Ｉは、面積が他の二つのコンタクトパッドII、IIIの面
積よりも大きく設定されている。これらのコンタクトパ
ッドＩ、II、IIIはエッチング法によって形成され、総
面積は下記表２及び３に示したようになっている。ま
た、スライダーの押し付け荷重も下記表３及び４に示し
た。コンタクトパッドの材質としてはダイアモンド状カ
ーボンを用いた。

【００９０】上記のように作成した例１〜２７、例２８
〜３９及び比較例１〜３の各ディスクを以下の方法で評
価した。評価結果を下記表５に示す。

【００９１】ヘッド磨耗テスト（シークモード）：図５
の磁気ヘッドスライダーを磁気ディスク両面に、コンタ
クトパッドがディスク表面と接触するように装着し、デ
ィスク回転数を３６００ｒｐｍで一定に保ち、スライダ
ーをディスク中心から１８ｍｍ〜３８ｍｍの範囲で１０
Hzで繰り返し摺動させた。この動作を連続で４８時間行
った。試験前後のパッドの高さを非接触型汎用三次元表
面構造解析装置（NewView5020、Zygo社製）を用いて測
定し、その差をパッドの磨耗高さとした。パッドＩ〜II
Iの磨耗高さに各々のパッド面積を乗じた総和を求め、
磨耗体積とした。磨耗体積をパッドＩ〜IIIの総面積で
割って磨耗量とし、さらに摺動時間48時間で割り、ヘッ
ド磨耗速度（ｎｍ／ｈ）とした。（５回測定の平均値）

【００９２】走行耐久性テスト（スチルモード）：ヘッ
ド磨耗テストと同様に、磁気ヘッドスライダーを磁気デ
ィスク両面に装着し、ディスク回転数を３６００ｒｐｍ
で一定に保ち、スライダー位置をディスク中心から３５
ｍｍのところに固定して連続摺動させる、いわゆるスチ
ルモードでの摺動試験を行い、中心から３５ｍｍのとこ
ろにあるトラックの出力が初期値の８０％に低下するま
での時間を測定した。（５回測定の平均値）

【００９３】電磁変換特性：電磁変換特性は、プリアン
プ（SSI2010）を通して、市販の記録再生評価装置（Guz
ik1601+PRML）、ディジタルストレージオシロスコープ
（Lecroy9345）、スペクトラムアナライザー（Advantes
t）を使って解析／評価した。モーター回転数を３６０
０ｒｐｍとし、測定位置はディスクの中心から２０ｍｍ
とした。ヘッドは、トラック幅が６μｍの薄膜ヘッドを
用いた。このパッドを搭載したスライダーを磁気記録デ
ィスクと接触させ、波長１０μｍの孤立再生波形のベー
スライン（＝GND）からピークまでの振幅：IS TAAと、I
S TAAの半分のレベルに於けるパルス幅：ＰＷ₅₀を測定
した。一般にIS TAAはＳ／Ｎの指標に使われ、またＰＷ
₅₀はヘッドと媒体の間隔、いわゆる磁気スペーシングに
非常に敏感なことから、接触状態の指標に使われてい
る。IS TAA及びＰＷ₅₀は例１の値をそれぞれ０ｄＢ、１
００％として相対値で表した。

【００９４】

【表１】表１一般式（Ｉ）のアミノアルコール

【００９５】

【表２】表２一般式（II）のアミノアルコール

【００９６】

【表３】表３磁気ヘッドスライダー

【００９７】

【表４】表４磁気ヘッドスライダー

【００９８】

【表５Ａ】

【００９９】

【表５Ｂ】

【０１００】

【表５Ｃ】

【０１０１】表５に示された結果から明らかなように、
本発明に基づく例１〜３３のように、磁性層中又は／及
び磁気ディスク表面に一般式（Ｉ）又は（II）で示され
るアミノアルコールを少なくとも１種含有することによ
り、ディスク回転数が１分間に２４００回転以上でかつ
磁気ヘッドスライダーが接触摺動する記録システムに供
されても、巾広い環境条件下においてシークモードにお
いてでさえ、ヘッド磨耗速度が３ｎｍ／ｈ以下という優
れたヘッド磨耗特性と走行耐久性を有する磁気ディスク
が得られる。また、いずれの環境においても走行耐久時
間として１００ｈを上回っており、良好な結果である。

【０１０２】一方、塗布型媒体に多く用いられている脂
肪酸エステルや脂肪酸を使用した比較例１〜３ではヘッ
ド磨耗速度が２０ｎｍ／ｈ又は３０ｎｍ／ｈ近くに達す
る。従って、本発明のアミノアルコールを用いることに
より約１桁、ヘッド磨耗速度を抑えることが可能とな
る。

【０１０３】例３４及び３５においては、ヘッド磨耗特
性及び走行耐久性ともに非常に良好であるが、再生信号
のＰＷ₅₀が増大しており、接触記録再生が不十分である
ことがわかった。これは、低接触面圧であるためにヘッ
ドスライダーが跳躍してしまい、安定な接触摺動が得ら
れ難いためと考えられる（ＰＷ₅₀は孤立再生波形の半値
幅のことであり、一般にＰＷ₅₀はヘッドと媒体の間隔、
いわゆる磁気スペーシングに非常に敏感なことから接触
状態の指標に使われている。）。例３６〜３９では、接
触面圧が高いため、ヘッド磨耗速度が３ｎｍ／ｈ以下と
ならないことがあり、実用上あまり好ましくない。

【０１０４】

【発明の効果】本発明によるデイスク状磁気記録媒体
は、ディスク回転数が１分間に２４００回転以上であり
かつ磁気ヘッドスライダーが接触摺動する記録システム
用に供されても、巾広い環境条件下における優れたヘッ
ド磨耗特性と走行耐久性を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の磁気ディスクを示す断面
図である。

【図２】同、磁気ディスクの製造に用いられる重層塗布
装置の概略構成図である。

【図３】同、ヘッドスライダーサスペンション（ＨＧ
Ａ）の先端に取付けられたフレキシブル磁気ディスク用
ヘッドスライダーの斜視図である。

【図４】同、スライダーに取付けられた磁気ヘッドとフ
レキシブル磁気ディスクとの接触状態を示す断面図であ
る。

【図５】同、スライダーの斜視図である。

【符号の説明】

１…磁気ヘッドスライダー、３…フレキシブル磁気ディ
スク、５…サスペンションビーム、１３…磁気ヘッド、
１４、１５…コンタクトパッド、２０…上層、２０’…
上層塗料、２１…下層、２１’…下層塗料、２２…非磁
性支持体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4J038 BA021 CC041 CD021 CD081 CD101 CE071 CF021 CG141 CG161 DA031 DA111 DA141 DA161 DB001 DD001 DG001 DH001 DJ011 DL031 HA066 JB09 KA07 KA20 NA11 PB11 PC08 5D006 BA09 DA02 EA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回転数が１分間に２４００回転以上であ
りかつ磁気ヘッドが相対的に接触摺動するように構成さ
れ、磁性粉末を結合剤中に分散させてなる磁性層中又は
／及び媒体表面に、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表さ
れる含窒素アルコールを少なくとも１種類含有すること
を特徴とするディスク状磁気記録媒体。【化１】（但し、前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹は水素原子又
は炭素数２４以下の炭化水素基、Ｒ²及びＲ³は互いに同
一の若しくは異なる炭素数２４以下の炭化水素基であ
り、Ｒ¹〜Ｒ³の炭素数の合計は６以上である。）【化２】（但し、前記一般式（II）において、Ｒ⁴及びＲ⁵は互い
に同一の若しくは異なる水素原子又は炭素数２４以下の
炭化水素基、Ｒ⁶は炭素数２４以下の炭化水素基であ
り、Ｒ⁴〜Ｒ⁶の炭素数の合計は６以上である。）
【請求項２】重層塗布によって第１層上に第２層が形
成され、少なくともこの第２層が前記磁性層として形成
されている、請求項１に記載したディスク状磁気記録媒
体。
【請求項３】前記第１層が非磁性層として形成されて
いる、請求項２に記載したディスク状磁気記録媒体。
【請求項４】接触面圧（押し付け荷重／接触総面積）
が１〜４０ｇｆ／ｍｍ²である磁気ヘッドスライダーと
組み合わせて用いられる、請求項１〜３のいずれか１項
に記載したディスク状磁気記録媒体。