JPH08147661A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度記録に対応する為、磁気ヘッドの低浮
上化を可能とし、かつ、磁気ヘッドの貼り付きが起き
ず、更には凹凸層の密着性が良好で剥離し難く、耐久性
に優れたファインな表面粗さを持つ磁気記録媒体を提供
することを目的とする。 【構成】 基板と、この基板上に設けられた表面に凹凸
が形成されたＡｌ−Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得る金
属）系合金材料よりなる凹凸層と、この上に設けられた
金属系磁性層とを具備する磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、摩擦係数が低く、耐久
性に優れた磁気ディスク等の磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【発明の背景】コンピュータ等の外部記憶装置に使用さ
れる磁気ディスクにおいては、磁気ディスクと磁気ヘッ
ドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの浮上高さを低く
することが再生出力などの点から求められている。従っ
て、磁気ディスクの表面は平滑であることが好ましいと
言える。しかし、表面が平滑すぎると、磁気ヘッドが磁
気ディスクに貼り付き、磁気ディスクや磁気ヘッドに損
傷の恐れが有る。よって、表面を適度な粗さにする為、
テクスチャ処理が基板に施されることになる。

【０００３】このテクスチャ処理として、従来より幾つ
かの手法が提案されている。例えば、アルミニウム基板
に対しては機械的研磨法が提案されている。ガラス基板
に対しては、化学的エッチング法（特開昭６４−３７７
１８号公報）や、微粒子含有塗料の塗布法（特開平１−
１９４１２８号公報）が提案されている。又、カーボン
基板に対しては、熱酸化法（特開平４−２１４２２５号
公報）が提案されている。しかし、これらの方法では、
磁気ヘッドの浮上高さの一層の低下が要求される今日に
あっては十分にその要求を満たすことが出来なくなって
いる。

【０００４】すなわち、優れた耐久性を維持しつつ、磁
気ヘッドの一層の低浮上化を可能とするテクスチャ技
術、つまり平滑でありながらも適度な粗さを有する表面
特性が求められている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような要望に沿っ
た技術として、Ｓｎ，Ｉｎ等の低融点金属を真空蒸着さ
せて凹凸を形成する方法（特開昭６０−２１１６１４号
公報、特開昭６１−２４０４２９号公報）、Ａｌ，Ｃｕ
等の低融点金属をスパッタして不連続な島状構造とする
方法（特開平３−７３４１９号公報）、Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ
等の高融点金属を用いて粗面とする方法（特開平２−２
６７７２２号公報）等が提案されている。

【０００６】これらの方法は、テクスチャ処理と磁性層
の形成を真空系で一貫して行える特長が有る。しかし、
低融点の単体金属を用いた場合には、凹凸度が良くな
く、かつ、基板との密着性が悪くて剥離し易く、実用に
耐えない。又、高融点金属を用いた場合には、凹凸度が
良くなく、耐久性（ＣＳＳ特性）が悪いと言う問題が有
った。

【０００７】

【課題を解決する為の手段】前記の問題に対する検討が
本発明者によって鋭意押し進められて行った。すなわ
ち、磁性層、あるいは磁性層の下地層とガラス状カーボ
ン基板との間に凹凸が容易に形成される層を設け、この
層の密着性の向上を図ることを考えた。この指針に沿っ
た研究を精力的に行っている中に、Ａｌ−Ｓｉ系合金材
料をスパッタ等の手段で設けたものは、凹凸形成が容易
で、かつ、適度な凹凸が形成され、更には密着性に富む
ことが判って来た。更に、他の材料についても検討を行
った結果、Ａｌ−Ｓｉ系合金の他にもＡｌ−Ｃｒ系合
金、Ａｌ−Ｔａ系合金、Ａｌ−Ｔｉ系合金、Ａｌ−Ｚｒ
系合金、Ａｌ−Ｙ系合金、Ａｌ−Ｍｏ系合金、Ａｌ−Ｗ
系合金、Ａｌ−Ｖ系合金の層を設けたものにあっても、
凹凸形成が容易で、かつ、適度な凹凸が形成され、更に
は密着性に富むことが判って来た。

【０００８】これらの知見を基にして考察して行く中
に、カーバイドを形成し得る金属Ｍを含有するＡｌ−Ｍ
系金属層（凹凸形成層）がカーボン基板上に設けられて
いると、カーボン基板のＣ成分とカーバイドを形成する
金属Ｍの存在によってカーボン基板とＡｌ−Ｍ系金属層
（凹凸形成層）との間の結合は強く、従ってこの上に金
属磁性層、あるいは下地層（金属層）を介して金属磁性
層を設けた場合には、適度な凹凸が表面に形成されてお
り、摩擦係数が小さく、耐久性に優れ、更には剥離の問
題も解決されると推察された。

【０００９】本発明はこの知見を基にして達成されたも
のであり、高密度記録に対応する為、磁気ヘッドの低浮
上化を可能とし、かつ、磁気ヘッドの貼り付きが起き
ず、更には凹凸層の密着性が良好で剥離し難く、耐久性
に優れたファインな表面粗さを持つ磁気記録媒体を提供
することを目的とする。この本発明の目的は、基板と、
この基板上に表面に凹凸が形成されたＡｌ−Ｍ（Ｍはカ
ーバイドを形成し得る金属）系合金材料よりなる凹凸層
を設け、更に当該凹凸層上に金属系磁性層を設けること
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。

【００１０】特に、カーボン基板（中でも、ガラス状カ
ーボン基板）と、このカーボン基板上に表面に凹凸が形
成されたＡｌ−Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得る金属）
系合金材料よりなる凹凸層を設け、更に当該凹凸層上に
金属系磁性層を設けることを特徴とする磁気記録媒体に
よって達成される。尚、本発明において、凹凸層は、図
１に示す如く、表面に凹凸構造を有し、下層部が連続し
ているタイプが好ましく、そして凹凸層の厚さは５〜１
００ｎｍが好ましい。

【００１１】又、凹凸層と金属系磁性層との間にＣｒあ
るいはＣｒ合金からなるＣｒ系層（下地層）が設けられ
てなることが好ましい。又、金属系磁性層の上には保護
層が設けられてなることが好ましい。以下、本発明につ
いて詳述する。本発明において、基板は磁性を有するも
のでも非磁性のものでも良いが、一般的には非磁性のも
のが用いられる。例えば、カーボン（特公昭６３−４６
００４号公報、特開平３−１１００５号公報など）、強
化ガラス、結晶化ガラス、ＡｌあるいはＡｌ合金、チタ
ンあるいはチタン合金、セラミックス、樹脂、あるいは
前記材料の複合材料が用いられる。中でも、カーボン、
特にガラス状カーボンは、耐熱性、スパッタによって磁
性層などを設ける際の加熱によるガス発生が少ないこと
等から、本発明の場合には最も好ましい。

【００１２】そして、例えばＲａ（中心線平均粗さ）が
０．５〜０．９ｎｍのカーボン基板上に、直接、Ａｌ−
Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得る金属）系合金層が設け
られる。このＡｌ−Ｍ系合金の具体例としては、ＭがＳ
ｉ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｙ，Ｍｏ，Ｗ，Ｖ等の元
素の中から選ばれる少なくとも一種以上を含むＡｌ−Ｍ
系合金が挙げられる。例えば、Ａｌ−Ｓｉ系合金（好ま
しくはＳｉが０．２〜１５ｗｔ％、より好ましくはＳｉ
が１〜１０ｗｔ％）、Ａｌ−Ｃｒ系合金（好ましくはＣ
ｒが０．１〜１０ｗｔ％、より好ましくはＣｒが１〜５
ｗｔ％）、Ａｌ−Ｔａ系合金（好ましくはＴａが０．１
〜３ｗｔ％、より好ましくはＴａが１〜２ｗｔ％）、Ａ
ｌ−Ｔｉ系合金（好ましくはＴｉが０．５〜１５ｗｔ
％、より好ましくはＴｉが１〜１０ｗｔ％）、Ａｌ−Ｚ
ｒ系合金（好ましくはＺｒが０．１〜９ｗｔ％、より好
ましくはＺｒが１〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｙ系合金（好ま
しくはＹが０．１〜１０ｗｔ％、より好ましくはＹが１
〜５ｗｔ％）、Ａｌ−Ｍｏ系合金（好ましくはＭｏが
０．２〜１０ｗｔ％、より好ましくはＭｏが１〜５ｗｔ
％）、Ａｌ−Ｗ系合金（好ましくはＷが０．２〜１０ｗ
ｔ％、より好ましくはＷが１〜８ｗｔ％）、Ａｌ−Ｖ系
合金（好ましくはＶが０．５〜１０ｗｔ％、より好まし
くはＶが１〜５ｗｔ％）等が挙げられる。又、Ａｌ−５
ｗｔ％Ｓｉ−５ｗｔ％Ｃｒ系合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ
−３ｗｔ％Ｍｏ系合金、Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％
Ｗ系合金などの三元以上の系のＡｌ合金も挙げられる。
尚、中でも好ましいものはＡｌ−Ｓｉ系合金、Ａｌ−Ｃ
ｒ系合金である。

【００１３】このＡｌ−Ｍ系合金材料の層は、例えば真
空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーティング
等のＰＶＤ手段で設けられる。この時のカーボン基板の
温度は８０〜５００℃（より好ましくは１２０〜３５０
℃）が好ましい。そして、その厚さは２〜１００ｎｍ、
望ましくは５〜６０ｎｍが好ましい。尚、この層は不連
続な島状構造のものであっても良いが、密着性を考える
と、図１の如く、表面に凹凸構造を有し、下層部が連続
しているタイプが好ましい。すなわち、前記のようなＰ
ＶＤ手段でＡｌ−Ｍ系合金層を形成するに際して、前記
のような厚さに制御することにより、Ａｌ−Ｍ系合金層
の表面には微細な凹凸が形成される。従って、この表面
に凹凸が形成されたＡｌ−Ｍ系合金層の上に磁性層など
を設けていったならば、前記の凹凸がほぼそのまま引き
継がれ、表面が適度に粗面化されたものとなる。従っ
て、磁気ヘッドの貼り付きを防止でき、耐久性に優れた
ものになる。

【００１４】本発明に係る磁気記録媒体は金属薄膜型の
ものである。すなわち、基板上の金属薄膜型磁性層はＰ
ＶＤ手段で設けられる。磁性層を形成する材料として
は、例えばＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＮｉＸ，ＣｏＷ
Ｘ等で表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の磁性合金が
挙げられる。尚、ここでＸとしては、Ｔａ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎ
ｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，Ａｓ，
Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓｂ，Ｈｆ
よりなる群から選ばれる１種又は２種以上の元素が挙げ
られる。中でも、ＣｏＣｒやＣｏＣｒＰｔを好ましいも
のとして挙げることが出来る。このような磁性層の膜厚
は通常３００〜１０００Å程度である。

【００１５】この金属薄膜型の磁性層の下地層（Ａｌ−
Ｍ系合金層の上に設けられる）としてＣｒあるいはＣｒ
合金からなる非磁性のＣｒ系層が、ＰＶＤ手段で設けら
れる。尚、この非磁性の下地層（Ｃｒ系層）は、上層に
設けられる磁性層の配向性などを向上させる為に設けら
れる。そして、その厚さは１００〜１０００Åが好まし
い。

【００１６】金属薄膜型の磁気記録媒体は、一般的に、
磁性層上に保護層がＰＶＤ手段やＣＶＤ手段で設けられ
る。保護層の材料としては、耐摩耗性の点から硬度の高
いものが望ましい。例えば、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物、窒化
物、炭化物などがある。又、カーボンあるいはボロンナ
イトライド等も挙げられる。中でも、ガラス状カーボン
やダイヤモンドライクカーボン、あるいはこれらのカー
ボンとセラミックスとの複合材のようなカーボン系の材
料は好ましいものである。尚、保護層の厚さは１００〜
３００Åが好ましい。

【００１７】走行性を向上させる為に、保護層上には、
例えば厚さが５〜１００Å程度の潤滑剤の層が設けられ
る。潤滑剤としては、分子中に極性基を持つ潤滑剤と極
性基を持たない潤滑剤とを単独で用いても良いが、併用
することが好ましい。例えば、極性基を持つ潤滑剤溶液
を塗布した後、極性基を持たない潤滑剤溶液を塗布した
り、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持たない潤滑剤との
混合溶液を塗布し、主として保護層側に近い下層側に極
性基を持つ潤滑剤を、上層側に極性基を持たない潤滑剤
を存在させるようにしても良い。用いられる極性基を持
つ潤滑剤は、分子量が２０００〜４０００のパーフロロ
ポリエーテル系のものであり、末端に芳香族環を持つも
のが好ましい。すなわち、−（ＣＦ₂ ＣＦ₂ Ｏ）_n −
（ＣＦ₂ Ｏ）_m −の骨格を有し、末端に芳香族環を持
ち、分子量が２０００〜４０００であるものが好まし
い。具体例としては、フォンブリンＡＭ２００１（モン
テカチーニ社製）やデムナムＳＰ（ダイキン工業社製）
等が挙げられる。末端に極性基を持たない潤滑剤は、分
子量が２０００〜１００００のパーフロロポリエーテル
系のものが好ましい。すなわち、ＣＦ₃ −（ＣＦ₂ ＣＦ
₂ Ｏ）_n −（ＣＦ₂ Ｏ）_m−ＣＦ₃ で表され、分子量が
２０００〜１００００であるものが好ましい。具体例と
しては、フォンブリンＺ０３（モンテカチーニ社製）等
が挙げられる。

【００１８】そして、上記のように構成させた磁気記録
媒体は、適度な凹凸（好ましくは中心線平均粗さＲａが
１０〜５０Å）が形成されたＡｌ−Ｍ（Ｍはカーバイド
を形成し得る金属）系合金層を介在させたので、このＡ
ｌ−Ｍ系合金層が基板に強固に結合しており、このＡｌ
−Ｍ系合金層に対して磁性層あるいはＣｒ系の下地層が
強固に結合しているので、密着性が高く、そして表面に
適度な凹凸が形成されているので、摩擦係数が小さく、
走行性に優れ、耐久性（ＣＳＳ耐久性）に優れたものに
なる。

【００１９】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２０】

【実施例】

〔実施例１〕密度１．５ｇ／ｃｍ³ 、ビッカース硬度６
５０の特性のガラス状カーボンを用いてカーボン基板１
を作製した。このカーボン基板１は、Ｒａが０．８ｎｍ
（触針式表面粗さ計により評価）である。

【００２１】このカーボン基板１上に、Ａｒガス圧２ｍ
Ｔｏｒｒ、カーボン基板温度を２５０℃の条件でＤＣマ
グネトロンスパッタリングにより２０ｎｍ厚さのＡｌ−
１ｗｔ％Ｓｉ合金層２を設けた。尚、このＡｌ−１ｗｔ
％Ｓｉ合金層２は、図１のように下層部分が連続し、表
面は多島海状のように凹凸（Ｒａ１５Å）が形成されて
いた。

【００２２】この後、Ａｌ−Ｓｉ層２上に、Ａｒガス圧
２ｍＴｏｒｒ、カーボン基板温度を２６０℃の条件でＤ
Ｃマグネトロンスパッタリングにより４０ｎｍ厚さのＣ
ｒ層３を設け、次いで５０ｎｍ厚さのＣｏＣｒＰｔ系合
金磁性層４を設けた。更に、ＤＣマグネトロンスパッタ
リングによりＣｏＣｒＰｔ系合金磁性層４上に保護層
（ガラス状カーボン層）５を１５ｎｍ厚さ設けた。

【００２３】この後、フォンブリンＺ０３溶液を塗布
し、１５Å厚さの潤滑剤層６を設け、図１に示す如くの
磁気ディスクを得た。 〔実施例２〜３０〕実施例１における２０ｎｍ厚さのＡ
ｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さの下記の表−１
に示すＡｌ−Ｘ合金層にした以外は実施例１に準じて行
い、磁気ディスクを得た。

【００２４】表−１ Ａｌ−Ｘ合金層 実施例２ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ合金層 実施例３ Ａｌ−１０ｗｔ％Ｓｉ合金層 実施例４ Ａｌ−１ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例５ Ａｌ−３ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例６ Ａｌ−５ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例７ Ａｌ−１ｗｔ％Ｗ合金層 実施例８ Ａｌ−４ｗｔ％Ｗ合金層 実施例９ Ａｌ−８ｗｔ％Ｗ合金層 実施例１０ Ａｌ−１ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１１ Ａｌ−５ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１２ Ａｌ−１０ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１３ Ａｌ−１ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１４ Ａｌ−１．５ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１５ Ａｌ−２ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１６ Ａｌ−１ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１７ Ａｌ−３ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１８ Ａｌ−５ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１９ Ａｌ−１ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２０ Ａｌ−３ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２１ Ａｌ−５ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２２ Ａｌ−１ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２３ Ａｌ−３ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２４ Ａｌ−５ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２５ Ａｌ−１ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２６ Ａｌ−３ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２７ Ａｌ−５ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２８ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗｔ％Ｃｒ合
金層 実施例２９ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗｔ％Ｍｏ合
金層 実施例３０ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｗ合金
層 〔実施例３１〕実施例３におけるカーボン基板を強化ガ
ラス基板にした以外は実施例１に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。

【００２５】〔実施例３２〕実施例１におけるカーボン
基板をＮｉＰメッキしたＡｌ合金基板にした以外は実施
例１に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔実施例３３〕実施例６におけるカーボン基板を強化ガ
ラス基板にした以外は実施例６に準じて行い、磁気ディ
スクを得た。

【００２６】〔実施例３４〕実施例６におけるカーボン
基板をＮｉＰメッキしたＡｌ合金基板にした以外は実施
例６に準じて行い、磁気ディスクを得た。 〔比較例１〕実施例１における２０ｎｍ厚さのＡｌ−１
ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例１に準じ
て行い、磁気ディスクを得た。

【００２７】〔比較例２〕実施例１における２０ｎｍ厚
さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例１に準じて行い、磁気
ディスクを得た。 〔比較例３〕実施例３１における２０ｎｍ厚さのＡｌ−
１ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例３１に
準じて行い、磁気ディスクを得た。

【００２８】〔比較例４〕実施例３１における２０ｎｍ
厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例３１に準じて行い、磁
気ディスクを得た。 〔比較例５〕実施例３２における２０ｎｍ厚さのＡｌ−
１ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例３２に
準じて行い、磁気ディスクを得た。

【００２９】〔比較例６〕実施例３２における２０ｎｍ
厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例３２に準じて行い、磁
気ディスクを得た。 〔特性〕上記各例で得た磁気ディスクについて、その表
面粗さＲａ、磁性層の密着性、ＧＨＴ、ＣＳＳ耐久性を
調べたので、その結果を表−２に示す。

【００３０】 表−２ Ｒａ（ｎｍ） 密着性 ＧＨＴ ＣＳＳ耐久性 実施例１ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例２ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例３ １．８ ○ ○ ５００００回以上 実施例４ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例５ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例６ １．８ ○ ○ ５００００回以上 実施例７ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例８ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例９ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例１０ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例１１ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例１２ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例１３ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例１４ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例１５ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例１６ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例１７ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例１８ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例１９ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例２０ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例２１ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例２２ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例２３ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例２４ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例２５ １．４ ○ ○ ５００００回以上 実施例２６ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例２７ １．６ ○ ○ ５００００回以上 実施例２８ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例２９ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例３０ １．５ ○ ○ ５００００回以上 実施例３１ １．７ ○ ○ ４００００回 実施例３２ １．５ ○ △ ２５０００回 実施例３３ １．７ ○ ○ ３５０００回 実施例３４ １．５ ○ △ ２００００回 比較例１ １．０ ○ ○ 貼り付き発生 比較例２ １．８ × 評価出来ず 評価出来ず 比較例３ １．２ ○ ○ 貼り付き発生 比較例４ １．７ × 評価出来ず 評価出来ず 比較例５ １．３ ○ △ 貼り付き発生 比較例６ １．８ × 評価出来ず 評価出来ず ＊Ｒａ：触針式表面粗さ計により評価 ＊密着性の評価：ニチバンセロテープＮｏ．４０５（幅１８ｍｍ、ニチバン製 ）を用い、ＡＳＴＭ Ｄ３３５９−８７に準じて剥離試験を行った。○は剥離な し、×は基板界面で一部または全面剥離。

【００３１】＊ＧＨＴ：ＰＲＯＱＵＩＰ社製ＭＧ１５０
Ｔを用い、５０％スライダヘッドを用いて行った。１．
２μインチの浮上高さで合格のものを○、１．６μイン
チの浮上高さで合格のものを△で表示した。 ＊ＣＳＳテスト：ヤマハ社製の薄膜ヘッド（Ａｌ₂ Ｏ₃
・ＴｉＣ製スライダ）を用い、ヘッド荷重３．５ｇ、ヘ
ッド浮上量２．８μインチ、４５００ｒｐｍで５秒間稼
働、５秒間停止のサイクルを繰り返して行い、静摩擦係
数（μｓ）が０．６になるまでの回数を調べた。 これによれば、本発明になるものは、基板上にＡｌ−Ｍ
系合金層を設け、この上に磁性層を設けたので、この中
間Ａｌ−Ｍ系合金層が基板に強固に結合し、そしてこの
強固に結合した中間Ａｌ−Ｍ系合金層を介して磁性層が
基板に強固に結合しているので、密着性が高く、耐久性
に優れている。

【００３２】しかも、ファインな凹凸を有するＡｌ−Ｍ
系合金層を形成したので、その上に設けられた磁性層な
どにもファインな凹凸が形成され、磁気ヘッドの低浮上
化が達成でき、走行性に優れ、ＣＳＳ耐久性にも優れて
いる。特に、基板としてカーボン基板を採用した場合に
は、一段と優れた効果を奏している。

【００３３】

【効果】本発明によれば、磁気ヘッドの低浮上化が図
れ、高密度記録に対応でき、かつ、走行性及び耐久性に
優れた磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気記録媒体の概略図

【符号の説明】

１ カーボン基板 ２ Ａｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層 ３ Ｃｒ層 ４ ＣｏＣｒＰｔ系合金磁性層 ５ 保護層 ６ 滑剤層

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年１２月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】本発明に係る磁気記録媒体は金属薄膜型の
ものであり、基板上の金属薄膜型磁性層は、例えばＰＶ
Ｄ手段こ設けられる。磁性層を形成する材料としては、
例えばＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＸ，ＣｏＮｉＸ，ＣｏＷＸ等
ぞ表されるＣｏを主成分とするＣｏ系の磁性合金が挙げ
られる。尚、ここでＸとしては、Ｔａ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｔ
ｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｗ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ
ｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｌｉ，Ｓｉ，Ｂ，Ｃａ，Ａｓ，Ｙ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｇ，Ｓｂ，Ｈｆよりな
る群から選ばれる１種又は２種以上の元素が挙げられ
る。中でも、ＣｏＣｒやＣｏＣｒＰｔを好ましいものと
して挙げることが出来る。このような磁性層の膜厚は通
常３００〜１０００Å程度である。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】金属薄膜型の磁気記録媒体では、一般的
に、磁性層上に保護層がＰＶＤ手段やＣＶＤ手段で設け
られる。保護層の材料としては、耐摩耗性の点から硬度
の高いものが望ましい。例えば、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃ
ｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物、窒
化物、炭化物などがある。又、カーボンあるいはボロン
ナイトライド等も挙げられる。中でも、ガラス状カーボ
ンやダイヤモンドライクカーボン、あるいはこれらのカ
ーボンとセラミックスとの複合材のようなカーボン系の
材料は好ましいものである。尚、保護層の厚さは１００
〜３００Åが好ましい。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２３】この後、フォンブリンＺ０３溶液を塗布
し、１５Å厚さの潤滑剤層６を設け、図１に示す如くの
磁気ディスクを得た。 〔実施例２〜３０〕実施例１における２０ｎｍ厚さのＡ
ｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さの下記の表−１
に示すＡｌ−Ｘ合金層にした以外は実施例１に準じて、
磁気ディスクを得た。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２４】表−１ Ａｌ−Ｘ合金層 実施例２ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ合金層 実施例３ Ａｌ−１０ｗｔ％Ｓｉ合金層 実施例４ Ａｌ−１ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例５ Ａｌ−３ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例６ Ａｌ−５ｗｔ％Ｃｒ合金層 実施例７ Ａｌ−１ｗｔ％Ｗ合金層 実施例８ Ａｌ−４ｗｔ％Ｗ合金層 実施例９ Ａｌ−８ｗｔ％Ｗ合金層 実施例１０ Ａｌ−１ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１１ Ａｌ−５ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１２ Ａｌ−１０ｗｔ％Ｔｉ合金層 実施例１３ Ａｌ−１ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１４ Ａｌ−１．５ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１５ Ａｌ−２ｗｔ％Ｔａ合金層 実施例１６ Ａｌ−１ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１７ Ａｌ−３ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１８ Ａｌ−５ｗｔ％Ｚｒ合金層 実施例１９ Ａｌ−１ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２０ Ａｌ−３ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２１ Ａｌ−５ｗｔ％Ｙ合金層 実施例２２ Ａｌ−１ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２３ Ａｌ−３ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２４ Ａｌ−５ｗｔ％Ｖ合金層 実施例２５ Ａｌ−１ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２６ Ａｌ−３ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２７ Ａｌ−５ｗｔ％Ｍｏ合金層 実施例２８ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗｔ％Ｃｒ合
金層 実施例２９ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−５ｗｔ％Ｍｏ合
金層 実施例３０ Ａｌ−５ｗｔ％Ｓｉ−３ｗｔ％Ｗ合金
層 〔実施例３１〕実施例３におけるカーボン基板を強化ガ
ラス基板にした以外は実施例１に準じて、磁気ディスク
を得た。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２５】〔実施例３２〕実施例１におけるカーボン
基板をＮｉＰメッキしたＡｌ合金基板にした以外は実施
例１に準じて、磁気ディスクを得た。 〔実施例３３〕実施例６におけるカーボン基板を強化ガ
ラス基板にした以外は実施例６に準じて、磁気ディスク
を得た。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２６】〔実施例３４〕実施例６におけるカーボン
基板をＮｉＰメッキしたＡｌ合金基板にした以外は実施
例６に準じて、磁気ディスクを得た。 〔比較例１〕実施例１における２０ｎｍ厚さのＡｌ−１
ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例１に準じ
て、磁気ディスクを得た。

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】〔比較例２〕実施例１における２０ｎｍ厚
さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例１に準じて、磁気ディ
スクを得た。 〔比較例３〕実施例３１における２０ｎｍ厚さのＡｌ−
１ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例３１に
準じて、磁気ディスクを得た。

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２８】〔比較例４〕実施例３１における２０ｎｍ
厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例３１に準じて、磁気デ
ィスクを得た。 〔比較例５〕実施例３２における２０ｎｍ厚さのＡｌ−
１ｗｔ％Ｓｉ合金層を設けなかった以外は実施例３２に
準じて、磁気ディスクを得た。

【手続補正９】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２９】〔比較例６〕実施例３２における２０ｎｍ
厚さのＡｌ−１ｗｔ％Ｓｉ合金層を２０ｎｍ厚さのＡｌ
（純Ａｌ）層にした以外は実施例３２に準じて、磁気デ
ィスクを得た。 〔特性〕上記各例で得た磁気ディスクについて、その表
面粗さＲａ、磁性層の密着性、ＧＨＴ、ＣＳＳ耐久性を
調べたので、その結果を表−２に示す。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、この基板上に設けられた表面に
   凹凸が形成されたＡｌ−Ｍ（Ｍはカーバイドを形成し得
   る金属）系合金材料よりなる凹凸層と、この上に設けら
   れた金属系磁性層とを具備することを特徴とする磁気記
   録媒体。
2. 【請求項２】 凹凸層と金属系磁性層との間にＣｒある
   いはＣｒ合金からなるＣｒ系層が設けられてなることを
   特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 凹凸層は、表面に凹凸構造を有し、下層
   部が連続していることを特徴とする請求項１又は請求項
   ２の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 凹凸層は、その厚さが５〜１００ｎｍで
   あることを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの磁
   気記録媒体。
5. 【請求項５】 金属系磁性層の上に保護層が設けられて
   なることを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの磁
   気記録媒体。
6. 【請求項６】 基板がカーボン基板であることを特徴と
   する請求項１〜請求項５いずれかの磁気記録媒体。