JPH05265194A - ガラス端面洗浄装置 - Google Patents
ガラス端面洗浄装置Info
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- JPH05265194A JPH05265194A JP6505492A JP6505492A JPH05265194A JP H05265194 A JPH05265194 A JP H05265194A JP 6505492 A JP6505492 A JP 6505492A JP 6505492 A JP6505492 A JP 6505492A JP H05265194 A JPH05265194 A JP H05265194A
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- Japan
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- face
- glass substrate
- cleaning
- glass
- color photoresist
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】カラーフォトレジストが一定の膜厚に塗布され
たガラス基板の端面に残るカラーフォトレジストの残膜
を、機械的に洗浄することの可能な洗浄装置を提供す
る。 【構成】ガラス基板の端面に残るカラーフォトレジスト
の残膜に、円筒状のスポンジローラの外周面を一定方向
に回転させつつ接触させ、裏面洗浄とは別工程で端面洗
浄を行う。 【効果】製造工程中で機械的に端面洗浄できる事によ
り、製造工程全体の簡略化ができた。
たガラス基板の端面に残るカラーフォトレジストの残膜
を、機械的に洗浄することの可能な洗浄装置を提供す
る。 【構成】ガラス基板の端面に残るカラーフォトレジスト
の残膜に、円筒状のスポンジローラの外周面を一定方向
に回転させつつ接触させ、裏面洗浄とは別工程で端面洗
浄を行う。 【効果】製造工程中で機械的に端面洗浄できる事によ
り、製造工程全体の簡略化ができた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置用カラー
フィルタ等の製造工程におけるガラス基板の端面洗浄に
関するものである。
フィルタ等の製造工程におけるガラス基板の端面洗浄に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の端面洗浄は、カラーフィルタ製造
工程中では図3に示すように、裏面の洗浄と同時に行な
っていたが、端面洗浄に重点を置いた直接的な洗浄方法
ではなかった。また、製品として提供するには、工程中
では十分な洗浄が行われておらず、全製造工程終了後、
手作業で物理的切削による端面清浄を行っていた。
工程中では図3に示すように、裏面の洗浄と同時に行な
っていたが、端面洗浄に重点を置いた直接的な洗浄方法
ではなかった。また、製品として提供するには、工程中
では十分な洗浄が行われておらず、全製造工程終了後、
手作業で物理的切削による端面清浄を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、図2に示すような、カラーフォトレジスト
が一定の膜厚に塗布されたガラス基板1の端面に残るカ
ラーフォトレジストの残膜4を、製造工程中で十分に製
品として提供できる程度にまで除去するのに、手作業で
はなく機械的に洗浄することの可能な洗浄装置を提供す
ることで、品質の安定化、製造工程の簡略化、製造費用
の削減等を目的としている。
する課題は、図2に示すような、カラーフォトレジスト
が一定の膜厚に塗布されたガラス基板1の端面に残るカ
ラーフォトレジストの残膜4を、製造工程中で十分に製
品として提供できる程度にまで除去するのに、手作業で
はなく機械的に洗浄することの可能な洗浄装置を提供す
ることで、品質の安定化、製造工程の簡略化、製造費用
の削減等を目的としている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明が提案するガラス
端面洗浄装置は、図4に示すように、カラーフォトレジ
ストが塗布されたガラス基板1の端面に残るカラーフォ
トレジストの残膜4に、円筒状のスポンジローラ7の外
周面を一定方向に回転させつつ接触させ、裏面洗浄とは
別工程で端面洗浄を行うものである。また、図5に示す
ように、スポンジ10の内部より、加熱された酸またはア
ルカリ水溶液を外側に流出させることにより、物理的且
つ化学的に端面の残膜を除去するものである。
端面洗浄装置は、図4に示すように、カラーフォトレジ
ストが塗布されたガラス基板1の端面に残るカラーフォ
トレジストの残膜4に、円筒状のスポンジローラ7の外
周面を一定方向に回転させつつ接触させ、裏面洗浄とは
別工程で端面洗浄を行うものである。また、図5に示す
ように、スポンジ10の内部より、加熱された酸またはア
ルカリ水溶液を外側に流出させることにより、物理的且
つ化学的に端面の残膜を除去するものである。
【0005】以下、本発明を図面に基づいて詳述する。
本発明が提案するガラス端面洗浄装置の基本構成を図6
に示す。前工程から搬送されてきたガラス基板1は、所
定の固定台の上に置かれ、固定台を回転させることな
く、スポンジローラ7をモータ11により一定方向に回転
させながら、圧力一定の状態で接触させる。支持アーム
12・15に固定することによって、スポンジローラ7の動
作をスライド溝14に沿って移動する支柱13に同調させて
いる。
本発明が提案するガラス端面洗浄装置の基本構成を図6
に示す。前工程から搬送されてきたガラス基板1は、所
定の固定台の上に置かれ、固定台を回転させることな
く、スポンジローラ7をモータ11により一定方向に回転
させながら、圧力一定の状態で接触させる。支持アーム
12・15に固定することによって、スポンジローラ7の動
作をスライド溝14に沿って移動する支柱13に同調させて
いる。
【0006】また、ガラス基板の端面が、非常に平坦で
滑らかであれば、スポンジローラ7の回転運動による物
理的研磨だけで十分であるが、実際のガラスの端面は、
あまり平坦ではないと考えられる。ガラス端面の凹凸に
は塗布したカラーフォトレジストの残膜4が入り込んで
いると考えられるので、薬液による化学的溶解剥離を行
わずして、前記残膜を十分除去することは困難である。
その方法は、図3に示す端面洗浄方法でも良いが、ガラ
ス基板に回転運動をさせられないので、図3の方法は採
用できない。
滑らかであれば、スポンジローラ7の回転運動による物
理的研磨だけで十分であるが、実際のガラスの端面は、
あまり平坦ではないと考えられる。ガラス端面の凹凸に
は塗布したカラーフォトレジストの残膜4が入り込んで
いると考えられるので、薬液による化学的溶解剥離を行
わずして、前記残膜を十分除去することは困難である。
その方法は、図3に示す端面洗浄方法でも良いが、ガラ
ス基板に回転運動をさせられないので、図3の方法は採
用できない。
【0007】本発明で提案するガラス基板端面洗浄装置
において、化学的溶解でカラーフォトレジストの残膜4
を剥離するには、図5に示すように、芯8のまわりにス
ポンジ10を巻いたスポンジローラの内部へ薬液の流路9
になるような経路を形成し、アーム15を経由して薬液を
供給する。このようにして、本発明においては、物理的
且つ化学的にカラーフォトレジストの残膜4を除去す
る。
において、化学的溶解でカラーフォトレジストの残膜4
を剥離するには、図5に示すように、芯8のまわりにス
ポンジ10を巻いたスポンジローラの内部へ薬液の流路9
になるような経路を形成し、アーム15を経由して薬液を
供給する。このようにして、本発明においては、物理的
且つ化学的にカラーフォトレジストの残膜4を除去す
る。
【0008】
【実施例】本発明の実施例を、図面に基づいて説明す
る。サイズ300mm×320mm、厚み1.1mmの
低膨張ガラス基板(コーニング製、コーニング705
9)の上面に、青色のカラーフォトレジスト(富士ハン
ト製、顔料分散型カラーフォトレジスト)を約2.2μ
m塗布し、乾燥させた状態にして、本発明によるガラス
基板端面洗浄装置に投入した。
る。サイズ300mm×320mm、厚み1.1mmの
低膨張ガラス基板(コーニング製、コーニング705
9)の上面に、青色のカラーフォトレジスト(富士ハン
ト製、顔料分散型カラーフォトレジスト)を約2.2μ
m塗布し、乾燥させた状態にして、本発明によるガラス
基板端面洗浄装置に投入した。
【0009】塗布後のガラス基板は、図2に示すように
スピンナーによる塗布のため、カラーフォトレジストの
残膜4がある。所定の固定台の上に置かれたガラス基板
は、固定され、それ自体の運動はない。
スピンナーによる塗布のため、カラーフォトレジストの
残膜4がある。所定の固定台の上に置かれたガラス基板
は、固定され、それ自体の運動はない。
【0010】直接ガラス基板に接するスポンジローラ
は、図5と同様の構造で、芯8の材質は耐熱塩化ビニー
ル、スポンジ10の材質はPVAを用いた。このスポンジ
ローラをモータ11により一定方向に回転させる。回転速
度は、100rpmとし、回転と同時に外部に設置して
ある薬液供給タンクから5wt%NaOH水溶液を50℃
に加熱してアーム15を通してスポンジローラ7に供給し
た。支柱13の移動速度は、10mm/secとした。カ
ラーフィルタ製造工程において、ガラス基板の端面洗浄
を行える箇所が数カ所あるが、本発明の端面洗浄が最も
効果を現したのは、露光前か現像後の時であった。この
時の本発明による端面洗浄を行ったガラス基板は、従来
行っていた、物理的端面洗浄した後のガラス基板と全く
変わらないことが確認できた。
は、図5と同様の構造で、芯8の材質は耐熱塩化ビニー
ル、スポンジ10の材質はPVAを用いた。このスポンジ
ローラをモータ11により一定方向に回転させる。回転速
度は、100rpmとし、回転と同時に外部に設置して
ある薬液供給タンクから5wt%NaOH水溶液を50℃
に加熱してアーム15を通してスポンジローラ7に供給し
た。支柱13の移動速度は、10mm/secとした。カ
ラーフィルタ製造工程において、ガラス基板の端面洗浄
を行える箇所が数カ所あるが、本発明の端面洗浄が最も
効果を現したのは、露光前か現像後の時であった。この
時の本発明による端面洗浄を行ったガラス基板は、従来
行っていた、物理的端面洗浄した後のガラス基板と全く
変わらないことが確認できた。
【0011】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来カラ
ーフィルタ製造工程中でガラス基板の端面洗浄が十分に
行われず、人手に頼ることが多かったが、製造工程中で
機械的に端面洗浄できる事により、製造工程全体の簡略
化ができた。また、納期の短縮にもつながり、製造費用
の削減もできた。
ーフィルタ製造工程中でガラス基板の端面洗浄が十分に
行われず、人手に頼ることが多かったが、製造工程中で
機械的に端面洗浄できる事により、製造工程全体の簡略
化ができた。また、納期の短縮にもつながり、製造費用
の削減もできた。
【0012】
【図1】通常、カラーフィルタの製造に用いるガラス基
板を示す説明図。
板を示す説明図。
【図2】スピンナーによるカラーフォトレジスト塗布後
のガラス基板を示す説明図。
のガラス基板を示す説明図。
【図3】従来の裏面洗浄及び端面洗浄方法を示す説明
図。
図。
【図4】ガラス基板の端面にスポンジローラが回転して
接している状態を示す説明図。
接している状態を示す説明図。
【図5】本発明で用いるスポンジローラの構造を示す説
明図。
明図。
【図6】本発明によるガラス基板端面洗浄装置の基本構
成を示す説明図。
成を示す説明図。
1…ガラス板 2…ガラス端面 3…カラーフォトレジスト 5…ガラス基板固定ステージ 6…洗浄液吐出ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松濤 智江 東京都台東区台東一丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】上面に光重合反応を起こし得る顔料分散型
カラーフォトレジストが一定の膜厚に塗布されたガラス
基板の端面を洗浄するガラス端面洗浄装置であって、所
定の位置に固定された前記ガラス基板の端面に対して、
円筒状のスポンジの外周面を接触させながら回転させる
ことによって端面洗浄を行うことを特徴とするガラス端
面洗浄装置。 - 【請求項2】前記スポンジ内から、加熱された酸または
アルカリ水溶液を外側に流出させ、物理的且つ化学的に
端面洗浄を行うことを特徴とする請求項1に記載のガラ
ス端面洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6505492A JPH05265194A (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | ガラス端面洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6505492A JPH05265194A (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | ガラス端面洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05265194A true JPH05265194A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13275862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6505492A Pending JPH05265194A (ja) | 1992-03-23 | 1992-03-23 | ガラス端面洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05265194A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003103225A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Ebara Corp | 四辺形基板洗浄装置、および四辺形基板の洗浄方法 |
JP2010107613A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Tosoh Corp | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
-
1992
- 1992-03-23 JP JP6505492A patent/JPH05265194A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003103225A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Ebara Corp | 四辺形基板洗浄装置、および四辺形基板の洗浄方法 |
JP2010107613A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Tosoh Corp | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
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