JP2010107613A - フォトマスク用基板およびその製造方法 - Google Patents
フォトマスク用基板およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010107613A JP2010107613A JP2008277733A JP2008277733A JP2010107613A JP 2010107613 A JP2010107613 A JP 2010107613A JP 2008277733 A JP2008277733 A JP 2008277733A JP 2008277733 A JP2008277733 A JP 2008277733A JP 2010107613 A JP2010107613 A JP 2010107613A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- corrugated
- photomask
- side end
- corrugated portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
【解決手段】波型部6の外形形状に合致する外形を備えた回転する研削工具10を用いて、矩形に形成した合成石英ガラス製のガラス基板1の4辺に対し厚さ方向に沿って複数の凹凸部4,5が連なる波型部6を辺の全長にわたって形成し、波型部6にハンドリング時の手のひら、指の腹等が引っ掛かるようにした。
【選択図】図1
Description
図1は本発明の第1の実施形態を示す。
図2は本発明の第2の実施形態を示す。
2 長辺
3 短辺
4 凸部
5 凹部
6,7 波型部
10 研削工具
Claims (7)
- 四辺形に形成され、一辺が400mm以上とする平板状のフォトマスク用基板において、
4辺のうち少なくとも対向する2辺の側端面に厚さ方向に沿って滑り止め用の複数の凹凸部を有する第1の波型部を設け、全辺の側端面を鏡面化したことを特徴とするフォトマスク用基板。 - 前記第1の波型部は、一辺の全長または一部分に設けたことを特徴とする請求項1に記載のフォトマスク用基板。
- 前記第1の波型部は、1周期をなす連接する凸部と凹部の間隔を0.5mm〜5mmとし、該連接する凹凸部を2周期以上設けることを特徴とする請求項1または2に記載のフォトマスク用基板。
- 前記第1の波型部の深さは0.2mm以上としたことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のフォトマスク用基板。
- 前記第1の波型部の形成されている部分に、辺の長さ方向に沿って滑り止め用の複数の凹凸部を有する第2の波型部を形成して複数の独立した突起部を形成したことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のフォトマスク用基板。
- 請求項1から6のいずれかに記載のフォトマスク用基板の製造方法であって、
前記第1の波型部に合致する研削工具を回転させて前記基板側端面を辺の長さ方向に移動させて該第1の波型部を基板側端面に形成後、全辺の側端面を回転ブラシにより鏡面化処理することを特徴とするフォトマスク用基板の製造方法。 - 前記第1の波型部を形成後前記鏡面化処理前に、前記第2の波型部に合致する研削工具を回転させながら前記第1の波型部の形成されている部分の基板厚み方向に移動させて該第2の波型部を基板側端面に形成することにより、該第1の波型部と第2の波型部とが加工された部分に複数の独立した突起部を形成したことを特徴とする請求項6に記載のフォトマスク用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008277733A JP5365137B2 (ja) | 2008-10-29 | 2008-10-29 | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008277733A JP5365137B2 (ja) | 2008-10-29 | 2008-10-29 | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010107613A true JP2010107613A (ja) | 2010-05-13 |
JP5365137B2 JP5365137B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=42297130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008277733A Expired - Fee Related JP5365137B2 (ja) | 2008-10-29 | 2008-10-29 | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5365137B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015089861A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-05-11 | 日本電気硝子株式会社 | 薄板ガラスおよび薄板ガラスの製造方法 |
JP2018104238A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板、及びガラス板の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55158636A (en) * | 1979-05-29 | 1980-12-10 | Nec Corp | Photo-mask for semiconductor device |
JPS5646227A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Mask substrate for electronic device |
JPS6244355U (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-17 | ||
JPS6287339U (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-04 | ||
JPH04116658A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-17 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク用基板 |
JPH05265194A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | ガラス端面洗浄装置 |
JP2003292346A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-10-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型基板及びその製造方法 |
WO2004051369A1 (ja) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Hoya Corporation | フォトマスクブランク、及びフォトマスク |
JP2010044287A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Renesas Technology Corp | フォトマスクの製造方法 |
-
2008
- 2008-10-29 JP JP2008277733A patent/JP5365137B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55158636A (en) * | 1979-05-29 | 1980-12-10 | Nec Corp | Photo-mask for semiconductor device |
JPS5646227A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Mask substrate for electronic device |
JPS6244355U (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-17 | ||
JPS6287339U (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-04 | ||
JPH04116658A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-17 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク用基板 |
JPH05265194A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | ガラス端面洗浄装置 |
JP2003292346A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-10-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型基板及びその製造方法 |
WO2004051369A1 (ja) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Hoya Corporation | フォトマスクブランク、及びフォトマスク |
JP2010044287A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Renesas Technology Corp | フォトマスクの製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015089861A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-05-11 | 日本電気硝子株式会社 | 薄板ガラスおよび薄板ガラスの製造方法 |
JP2018104238A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板、及びガラス板の製造方法 |
WO2018123416A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板、及びガラス板の製造方法 |
CN110088058A (zh) * | 2016-12-27 | 2019-08-02 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃板及玻璃板的制造方法 |
KR20190102208A (ko) * | 2016-12-27 | 2019-09-03 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리판, 및 유리판의 제조 방법 |
TWI735719B (zh) * | 2016-12-27 | 2021-08-11 | 日商日本電氣硝子股份有限公司 | 玻璃板及玻璃板的製造方法 |
CN110088058B (zh) * | 2016-12-27 | 2021-12-10 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃板及玻璃板的制造方法 |
KR102403487B1 (ko) * | 2016-12-27 | 2022-05-30 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리판, 및 유리판의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5365137B2 (ja) | 2013-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201348169A (zh) | 強化玻璃物品及觸控感測器一體型蓋玻璃 | |
KR101755062B1 (ko) | 유리 기판 및 유리 기판의 제조 방법 | |
TWI511840B (zh) | 修整用於半導體晶圓之同時雙面拋光之拋光墊的方法 | |
TWI480127B (zh) | 玻璃基板及其製造方法 | |
TW201500416A (zh) | 磨料製品形成方法及其磨料製品 | |
TWI615893B (zh) | 半導體晶圓之加工方法 | |
TW201412654A (zh) | 強化蓋玻璃之製造方法及強化蓋玻璃 | |
JP2012027176A (ja) | フォトマスク用基板 | |
TW201726307A (zh) | 玻璃基板之製造方法及玻璃基板 | |
JP2002176014A5 (ja) | ||
JP5365137B2 (ja) | フォトマスク用基板およびその製造方法 | |
TWI726118B (zh) | 玻璃基板及玻璃基板的製造方法 | |
CN113851153B (zh) | 间隔件、基板的层积体和基板的制造方法 | |
EP1498775B1 (en) | Large-size substrate for photolithographic applications | |
TW200424751A (en) | Substrate for photomask, photomask blank and photomask | |
JP2008006507A (ja) | ダイヤモンド研磨工具、ダイヤモンド研磨工具の作成方法、ダイヤモンド研磨工具の再生方法 | |
JP2022536496A (ja) | 機械的強度の高い薄型ガラス基板のエッジを仕上げ加工するための方法および装置 | |
JP2003292346A5 (ja) | ||
JP2012027976A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2009141384A (ja) | ウエハ載置台のクリーニング方法 | |
JP6383981B2 (ja) | ガラス板及びガラス板の製造装置並びにガラス板の製造方法 | |
JP4883322B2 (ja) | 露光用大型合成石英ガラス基板 | |
JP4475581B2 (ja) | シリカガラス治具の製造方法 | |
US10112278B2 (en) | Polishing a ceramic component using a formulated slurry | |
JPS63257756A (ja) | フオトマスク用ガラス基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110616 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130826 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5365137 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |