JP4883322B2 - 露光用大型合成石英ガラス基板 - Google Patents
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アレイ側の製造の際には、大型フォトマスクと呼ばれる回路の描かれた原版を光露光により無アルカリ等のマザーガラスに何層も焼き付けるという方法が採られている。一方、カラーフィルター側も同様に染料含浸法と呼ばれるリソグラフィーを用いた方法で製造されている。
このため、洗浄中に発塵が少なく、且つハンドリングが可能な大型基板が望まれていた。
(1)対角長又は直径が500mm以上であり、厚さが1〜20mmである平板状の露光用大型合成石英ガラス基板において、面取り面を有する外周面の面粗さRaが0.05〜0.4μmであると共に、該外周面の面粗さが上記面取り面の面粗さよりも小さいことを特徴とする露光用大型合成石英ガラス基板。
(2)基板外周面の、ハンドリング用手袋と水を介しての静摩擦係数が基板質量(kg)/2×(0.02〜0.03)である(1)記載の露光用大型合成石英ガラス基板。
(3)基板外周面の、ハンドリング用手袋と水を介しての静摩擦係数が0.1〜0.2である(1)記載の露光用大型合成石英ガラス基板。
本発明の大型基板は、平板状のもので、特に大型合成石英ガラス基板に適用され、フォトマスク基板、TFT液晶のアレイ側基板等として好ましい。大きさは、対角長又は直径が500mm以上、好ましくは500〜2,000mmの寸法を有するものである。なお、この基板の平面形状は、正方形、長方形、円形等であってよい。また、この基板の厚さは1〜20mm、特に5〜12mmであることが好ましい。なお、基板外周面の形状は任意であってよいが、外周面の保持性からは各側面が直線状となる角型平板状、特に四角平板状であるものが好ましい。
なお、図1中の人間の挟み込む力は4.5〜5.0kgとした。
面粗さ(Ra)は触針式表面粗さ計を用いて測定した。この結果より、基板の質量によってほぼ一義的にハンドリング可能な基板外周面粗さが決まることがわかった。この関係を整理すると基板の静摩擦係数は、基板質量/2×(0.02〜0.03)になっていることが判明した。なお、図から、任意の基板で質量がわかれば、ハンドリングが可能な基板外周面の面粗さの値を推定することも可能である。
外周面加工を行い、基板外周面を上記表面粗さにコントロールすれば、任意の基板のハンドリングが可能で、且つ外周面からの発塵を抑えることが可能となる。
その結果を図2に示す。縦軸は基板外周面粗さが0.6μmのときのパーティクル発生数を100とした時の相対値を示している。発生パーティクル数は外周面の粗さが粗いほど多く、滑らかになるに従い低減し、Raで0.3μm以下にすることでほぼ発生量を抑えることができる。なお、基板ホルダーからの発生パーティクル数は差し引いてある。
大きさ520×800mm、厚さ10.0mm、質量9.2kgの合成石英基板を#1200のダイヤモンド粒を用いて面取り装置で面取り加工を行い、原料基板を準備した。次いで、ラップ加工、一次ポリッシュ加工を行い、外周面加工を行った。その後、外周面の粗さを触針式粗さ計を用いて測定したところ、Ra=0.05μmであった。
基板の主面表面を最終研磨し、洗浄工程にて手袋を装着した手でハンドリング操作を行った結果、手で持つことは可能であった(推定静摩擦係数0.12)。なお、手袋の材質はポリ塩化ビニル製、ポリエチレン製のものを使用した。基板は、乾燥又は濡れた状態でも同様にハンドリングできた。洗浄後の基板の清浄度も良好で、パーティクルはほとんど発生しなかった。
基板の大きさが700×800mm、厚さ8.0mm、質量9.9kgの合成石英基板を#800のダイヤモンド粒を用いて面取り装置で面取り加工を行い、原料基板を準備した。その後、実施例1と同様の加工を行った結果、Ra=0.09μmであった。得られた基板を実施例1と同様にハンドリング操作を行ったところ、同様の結果が得られた(推定静摩擦係数0.13)。
基板の大きさが800×920mm、厚さ10.0mm、質量13.0kgの合成石英基板を#1200のダイヤモンド粒を用いて面取り装置で面取り加工を行い、原料基板を準備した。その後、実施例1と同様の加工を行った結果、Ra=0.16μmであった。得られた基板を実施例1と同様にハンドリング操作を行ったところ、同様の結果が得られた(推定摩擦係数0.16)。
(外周面加工を行わない場合)
基板の大きさが700×800mm、厚さ8.0mm、質量9.9kgの合成石英基板を#800のダイヤモンド粒を用いて面取り装置で面取り加工を行い、原料基板を準備した。次いで、ラップ加工、一次ポリッシュ加工をした後、外周面加工を行わずに外周面の粗さを触針式粗さ計を用いて測定したところ、Ra=0.5μmであった。
その後、基板の主面表面を最終研磨し、洗浄工程にて手袋を装着した手でハンドリング操作を行った結果、手で持つことは可能であった(推定静摩擦係数0.24)。手袋の材質はポリ塩化ビニル製のものを使用した。基板は乾燥又は濡れた状態でも同様にハンドリングできたが、洗浄後の基板の清浄度は悪く、パーティクルは多数発生した。
Claims (3)
- 対角長又は直径が500mm以上であり、厚さが1〜20mmである平板状の露光用大型合成石英ガラス基板において、面取り面を有する外周面の面粗さRaが0.05〜0.4μmであると共に、該外周面の面粗さが上記面取り面の面粗さよりも小さいことを特徴とする露光用大型合成石英ガラス基板。
- 基板外周面の、ハンドリング用手袋と水を介しての静摩擦係数が基板質量(kg)/2×(0.02〜0.03)である請求項1記載の露光用大型合成石英ガラス基板。
- 基板外周面の、ハンドリング用手袋と水を介しての静摩擦係数が0.1〜0.2である請求項1記載の露光用大型合成石英ガラス基板。
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JP2008207935A JP4883322B2 (ja) | 2008-08-12 | 2008-08-12 | 露光用大型合成石英ガラス基板 |
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