JP2009158030A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】スクラブ洗浄に用いられるスクラブパッドに付着している汚れを適切に除去する。また、これにより、例えば、研磨工程後に、スクラブ洗浄を適切に行う。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板２０の主表面を研磨する研磨工程と、研磨工程の後に、研磨工程で主表面が研磨されたガラス基板２０に対するスクラブ洗浄を行う洗浄工程とを有し、洗浄工程は、一対の洗浄用のスクラブパッド１１ａ、１１ｂとガラス基板２０とを接触させて、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを回転させる接触回転工程と、スクラブパッド１１ａ、１１ｂと、ガラス基板２０とを接触させずに、接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度でスクラブパッドを回転させる非接触回転工程とを含む。
【選択図】図２

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法に関する。

情報処理機器の記録媒体として使用される情報記録媒体の一つとして、磁気ディスクがある。磁気ディスクは、基板上に磁性層等の薄膜を形成して構成されたものであり、その基板としてはアルミやガラス基板が用いられてきた。

しかし、近年では、高記録密度化の要求に呼応して、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔をアルミと比べてより狭くすることが可能なガラス基板の開発が急速に進められている。ガラス基板を用いる場合、必要な低フライングハイト化のためには、ガラス基板の高い平滑性が必要とされる。しかし、もはや、高精度にガラス基板表面を研磨するだけでは、十分な高い平滑性を得ることは難しくなってきている。つまり、いくら、高精度に研磨していても、ガラス基板上に異物が付着していては高い平滑性を得ることはできず、精密研磨後の洗浄方法が大変重要になってきている。

尚、従来、洗浄方法に関して、スクラブ洗浄という洗浄方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この洗浄方法は、例えば、洗浄用スポンジ（スクラブパッド）を回転運動させながら、洗浄液を流しつつ、回転したガラス基板に押し当てて強制的にガラス基板表面を洗浄する。
特開２００２−７４６５３号公報

スクラブパッドを用いた従来の洗浄工程において、洗浄中は、洗浄水がスクラブパッドに直接送られて、ガラス基板表面の汚れを除去する。しかし、かかる汚れの一部は、パッド表面からパッド内部へと吸い込まれる。

そのため、例えば洗浄前のガラス基板に大量の異物等が付着していると、洗浄により洗い流される汚れである異物が、スクラブパッドの表面や内部に再付着されることとなる。そして、スクラブパッドの表面や内部に汚れが再付着した場合、汚れたスクラブパッドを使用することとなり、ガラス基板表面を適切に洗浄できないおそれがある。更には、その上、スクラブパッドに再付着した汚れにより、かえってガラス基板表面が傷つけられるおそれもある。

例えば、精密研磨等の研磨工程（ポリッシュ）後の洗浄方法としてスクラブ洗浄を行おうとする場合、表面に大量の研磨滓や研磨工程の遊離砥粒等が付着しているガラス基板を洗浄することとなるため、スクラブパッドに、大量の研磨滓や遊離砥粒等が付着するおそれがある。そのため、この場合には、スクラブパッドに再付着する汚れの問題が特に重大になる。

尚、スクラブパッドヘの汚れの再付着の問題に対処する手段としては、例えば、未使用のスクラブパッドへの交換を行うことも考えられる。しかし、未使用のスクラブパッドでガラス基板を洗浄したとしても、スクラブパッドヘの汚れの再付着の問題は、洗浄開始と同時に生じてしまう。特に、研磨工程後にスクラブ洗浄を行う場合には、大量の研磨滓や遊離砥粒等によってスクラブパッドが早い段階で汚れてしまい、結局、ガラス基板表面を洗浄できないばかりか、かえって基板表面を傷つけてしまうこととなる。

また、スクラブパッドの交換は、例えば、洗浄装置を停止させて手作業で行う必要がある。そのため、交換により、作業性が大きく低下するおそれもある。また、交換時にスクラブパッドを破損してしまうおそれもある。

そのため、従来、より適切な方法で、スクラブパッドヘの汚れの再付着の問題を解決することが求められていた。そこで、本発明は、上記の課題を解決できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程と、研磨工程の後に、研磨工程で主表面が研磨されたガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う洗浄工程とを有し、洗浄工程は、一対の洗浄用のスクラブパッドとガラス基板とを接触させて、スクラブパッドを回転させる接触回転工程と、スクラブパッドとガラス基板とを接触させずに、接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度でスクラブパッドを回転させる非接触回転工程とを含む。接触回転工程は、一対のスクラブパッドとガラス基板とが接触している間に、スクラブパッドを回転させる。非接触回転工程は、例えば、接触回転工程においてスクラブパッドと接触していたガラス基板をスクラブパッドから抜き取った後に、一対のスクラブパッドとガラス基板とが接触していない間に、スクラブパッドを回転させる。

このようにすれば、接触回転工程において、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を適切に行うことができる。また、非接触回転工程において、スクラブパッドを高速で回転させることで、遠心力により、例えば、スクラブパッドに付着している研磨滓や遊離砥粒等の汚れを除去できる。そのため、非接触回転工程の後に行われる次の接触回転工程においては、汚れを除去したスクラブパッドにより、スクラブ洗浄を行うことができる。

従って、このようにすれば、スクラブパッドヘの汚れの再付着を抑え、適切にスクラブ洗浄を行うことができる。更には、このようにした場合、スクラブパッドヘの汚れの再付着を抑えることにより、大量の研磨滓や遊離砥粒等が付着している研磨直後の状態であっても、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を適切に行うことができる。

ここで、研磨工程において発生する異物である研磨滓や遊離砥粒等は、時間の経過に伴い、ガラス基板に強固に付着する。そのため、このようにすれば、例えば、研磨工程の直後にスクラブ洗浄を行うことにより、これらの異物がガラス基板に強固に付着する前の段階で、これらの異物をより適切に除去できる。また、これにより、例えば一平方インチあたり１６０Ｇビット以上の高い記録密度を実現しようとする場合に求められる精度で、研磨工程後の洗浄を適切に行うことができる。

更には、このようにした場合、洗浄装置から取り外すことなく、スクラブパッドの汚れを除去できる。そのため、このようにすれば、スクラブパッドの交換の頻度を低減し、スクラブパッドの寿命を延ばすことができる。また、これにより、ガラス基板の製造コストを適切に低減できる。

尚、接触回転工程におけるスクラブパッドの回転速度は、例えば４００〜５００ｒｐｍである。このようにすれば、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を適切に行うことができる。非接触回転工程におけるスクラブパッドの回転速度は、例えば８００〜２０００ｒｐｍである。このようにすれば、遠心力により、スクラブパッドの汚れを適切に除去できる。

洗浄工程における接触回転工程は、研磨工程後、最初にガラス基板を洗浄する工程であることが好ましい。このようにすれば、異物が強固に付着する前の早い段階において、適切にスクラブ洗浄を行うことができる。また、これにより、より高い精度でガラス基板をスクラブ洗浄できる。

（構成２）研磨工程は、ガラス基板に対する最終の研磨工程である精密研磨工程を含み、洗浄工程は、精密研磨工程後のガラス基板の主表面を濡れた状態に保ったまま、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う。

研磨後にガラス基板の表面が乾燥すると、ガラス基板の表面に異物が強固に付着することとなる。これに対し、このようにすれば、研磨工程後のガラス基板の乾燥を適切に防ぐことができる。また、これにより、異物が強固に付着していない状態で、適切にスクラブ洗浄を行うことができる。

尚、研磨工程後、研磨機から取り外されたガラス基板は、例えば、一時的に水中保管される。このようにすれば、洗浄工程においてスクラブ洗浄を行う前に、ガラス基板上における研磨滓や遊離砥粒等の異物を適切に減らすことができる。また、これにより、スクラブ洗浄をより適切に行うことができる。

（構成３）磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程と、研磨工程の後に、ガラス基板の強度を強くする化学強化工程と、化学強化工程の後に、化学強化工程で強化されたガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う洗浄工程とを有し、洗浄工程は、一対の洗浄用のスクラブパッドとガラス基板とを接触させて、スクラブパッドを回転させる接触回転工程と、スクラブパッドとガラス基板とを接触させずに、接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度でスクラブパッドを回転させる非接触回転工程とを含む。

このようにすれば、例えば、スクラブパッドヘの汚れの再付着を抑え、適切にスクラブ洗浄を行うことができる。そのため、化学強化後のガラス基板に対し、より適切にスクラブ洗浄を行うことができる。尚、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、研磨工程の後、及び化学強化工程の後のそれぞれに、洗浄工程を有することが好ましい。この場合、研磨工程の後の洗浄工程も、例えば、上記の接触回転工程及び非接触回転工程を含む。

（構成４）非接触回転工程は、洗浄液をスクラブパッドに流しつつ、スクラブパッドを回転させる。この洗浄液は、例えば洗剤又は純水等である。このようにすれば、非接触回転工程において、スクラブパッドに付着した汚れを、より適切に除去できる。

（構成５）非接触回転工程は、ガラス基板とスクラブパッドとが接触していない間に、一対のスクラブパッドを互いに押し当てる。非接触回転工程は、例えば、一対のスクラブパッドの回転軸間の距離を接触回転工程時よりも小さくすることにより、一対のスクラブパッドを互いに押し当てる。

このようにすれば、例えば、スクラブパッドの内部に入り込んだ汚れを、適切に押し出すことができる。また、これにより、スクラブパッドの汚れを、より適切に除去できる。

（構成６）磁気ディスクの製造方法であって、構成１から５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されるガラス基板上に、少なくとも磁気記録層を形成する。このようにすれば、例えば、高い記録密度の実現に適した磁気ディスクを適切に提供できる。

本発明によれば、例えば、スクラブ洗浄に用いられるスクラブパッドに付着している汚れを適切に除去できる。また、これにより、例えば、研磨工程後に、スクラブ洗浄を適切に行うことができる。

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。本例の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、研削工程Ｓ１０２、研磨工程Ｓ１０４、洗浄工程Ｓ１０６、及び化学強化工程Ｓ１０８を備える。

研削工程Ｓ１０２は、ガラス基板に対するラッピング及び形状加工等の研削加工を行う工程であり、例えば、例えば公知の研削方法により、中心に円孔を有する円板状のガラス基板に対し、主表面を所定の表面粗さにラッピングする。尚、本例において、研削工程Ｓ１０２は、更に、ガラス基板の内周端面及び外周端面を、ブラシ研磨により、鏡面加工する。また、研削工程Ｓ１０２は、ラッピングされたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、各槽において超音波洗浄を行う。

研磨工程Ｓ１０４は、ガラス基板の主表面に対する研磨を行う工程であり、第１研磨工程、及び第２研磨工程を含む。第１研磨工程は、研削工程で残留した傷や歪みの除去を目的とする工程であり、例えば、硬質ポリシャと、酸化セリウム砥粒を含む研磨液とを用いて、両面研磨装置により、ガラス基板の両主表面を研磨する。第２研磨工程は、ガラス基板に対する最終の研磨工程である精密研磨工程である。第２研磨工程は、第１研磨工程で得られた平坦な表面を維持しつつ、ガラス基板の主表面の表面粗さを所定の値以下に低減することを目的とする工程であり、例えば、軟質ポリシャと、酸化セリウム砥粒を含む研磨液とを用いて、両面研磨装置により、ガラス基板の両主表面を研磨する。

尚、第２研磨工程は、ガラス基板の主表面を、算術平均表面粗さＲａで、０．５ｎｍ以下、より好ましくは０．４ｎｍ以下、更に好ましくは０．３ｎｍ以下に研磨する。また、最大高さＲｍａｘで、５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、更に好ましくは３ｎｍ以下に研磨する。算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘは、例えば、それぞれ日本工業規格ＪＩＳＢ０６０１の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘに準拠して算出される。

洗浄工程Ｓ１０６は、研磨工程Ｓ１０４で主表面が研磨されたガラス基板の洗浄を行う。本例において、洗浄工程Ｓ１０６は、先ず、第２研磨工程後に両面研磨装置から取り外されたガラス基板を一時的に水中保管する。これにより、研磨後にガラス基板の表面が乾燥することを防ぎつつ、ガラス基板をリンスして、研磨後のガラス基板に付着している研磨滓や遊離砥粒等の異物を低減する。そして、洗浄工程Ｓ１０６は、水中保管されたガラス基板をスクラブ洗浄装置に移し、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う。

これにより、洗浄工程Ｓ１０６は、研磨工程Ｓ１０４後のガラス基板の主表面を濡れた状態に保ったまま、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う。この場合、乾燥により異物がガラス基板の表面に強固に付着することがないため、スクラブ洗浄の効果を高めることができる。また、本例においては、研磨工程とスクラブ洗浄との間に超音波洗浄等の他の洗浄等を行うことなく、研磨工程後、時間をおかずにスクラブ洗浄を行う。これにより、時間の経過によって異物が強固に付着する前に、スクラブ洗浄を行うことができる。そのため、本例によれば、高い精度で異物の除去を行うことができる。

洗浄工程Ｓ１０６は、スクラブ洗浄として、例えば、例えば洗剤又は純水等の洗浄液を用いたスクラブ洗浄を行う。洗浄工程Ｓ１０６は、スクラブ洗浄として、洗剤によるスクラブ洗浄と、純水によるスクラブ洗浄とを行ってよい。このようにすれば、より適切にガラス基板を洗浄できる。また、洗浄工程は、洗剤によるスクラブ洗浄と、純水によるスクラブ洗浄との間に、ガラス基板を純水でリンスしてもよい。

尚、スクラブ洗浄の方法については、後に更に詳しく説明する。洗浄工程Ｓ１０６は、例えばスクラブ洗浄を行った後に、超音波洗浄等を更に行ってもよい。例えば、洗浄工程Ｓ１０６は、洗剤及び純水によるスクラブ洗浄を行った後に、硫酸水溶液等の薬液による超音波洗浄、純水による超音波洗浄、洗剤による超音波洗浄、ＩＰＡによる超音波洗浄、及びＩＰＡによる蒸気乾燥等を更に行ってよい。

化学強化工程Ｓ１０８は、洗浄工程Ｓ１０６後のガラス基板に対し、例えば公知の方法により、化学強化を行う。また、化学強化工程Ｓ１０８は、例えば、化学強化を終えたガラス基板を洗浄する。例えば、化学強化工程Ｓ１０８は、ガラス基板を、硫酸、中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄する。また、その後、ＩＰＡによる蒸気乾燥を行う。ここで、化学強化工程Ｓ１０８後の洗浄は、洗浄工程Ｓ１０６と同一又は同様の洗浄工程として行ってもよい。この場合、この洗浄工程は、例えば洗浄工程Ｓ１０６と同一又は同様の方法により、ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う。このようにすれば、化学強化後のガラス基板をより適切に洗浄できる。

以上の工程を経て、ガラス基板は製造される。そして、製造されたガラス基板は、磁気ディスクの製造に用いられる。磁気ディスクの製造工程においては、ガラス基板上に、少なくとも磁気記録層が形成される。

図２は、洗浄工程においてスクラブ洗浄を行うスクラブ洗浄装置１０の構成の一例を示す。図２（ａ）は、スクラブ洗浄装置１０の主要部を示す斜視図である。図２（ｂ）は、スクラブ洗浄装置１０の上面図である。本例において、スクラブ洗浄装置１０は、一対の軸１６ａ、１６ｂと、一対の洗浄用のスクラブパッド１１ａ、１１ｂと、支持ローラ１３と、ノズル１４と、パッド制御部１５とを備える。尚、図示は省略したが、スクラブ洗浄装置１０は、例えば、軸１６ａ、１６ｂを回転駆動させるためのパッド用回転駆動手段、支持ローラ１３を回転駆動させるための支持ローラ用回転駆動手段、ノズル１４から洗浄液を供給する洗浄液供給機構等を備える。

一対の軸１６ａ、１６ｂは、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂが取り付けられる回転軸である。一対の軸１６ａ、１６ｂは、互いに平行に保持されており、パッド制御部１５の制御に応じて、回転する。また、本例において、一対の軸１６ａ、１６ｂは、パッド制御部１５の制御に応じて、お互いの間の距離を変化させる。

一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂは、円筒状の洗浄パッドであり、一対の軸１６ａ、１６ｂに取り付けられることにより、洗浄対象たるガラス基板２０をその間に挟むように対向配置される。また、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂは、互いに逆回転して、ガラス基板２０の表裏面に接触することにより、ガラス基板２０に対するスクラブ洗浄を行う。

尚、本例において、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂは、２枚のガラス基板２０を間に挟み、２枚のガラス基板２０に対するスクラブ洗浄を同時に行う。スクラブ洗浄装置１０の変形例においては、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂの間に１枚又は３枚以上のガラス基板２０を挟んで、スクラブ洗浄を行ってもよい。

支持ローラ１３は、ガラス基板２０を回転駆動しながら支持するローラである。支持ローラ１３は、ガラス基板２０を回転駆動することにより、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転と合わせて、ガラス基板２０の表裏面全体をスクラブパッド１１ａ、１１ｂに接触させる。本例によれば、ガラス基板２０の表裏全体を適切にスクラブ洗浄できる。ノズル１４は、スクラブパッド１１ａ、１１ｂやガラス基板２０に洗浄液を供給する。この洗浄液は、例えば洗剤又は純水等である。パッド制御部１５は、軸１６ａ、ｂの動作を制御することにより、洗浄工程におけるスクラブパッド１１ａ、１１ｂの動作を制御する。

以下、洗浄工程におけるスクラブパッド１１ａ、１１ｂの動作について説明する。本例において、洗浄工程は、接触回転工程及び非接触回転工程を含む。接触回転工程は、一対の洗浄用のスクラブパッド１１ａ、１１ｂとガラス基板２０とを接触させて、ガラス基板２０に対するスクラブ洗浄を行う工程である。本例の接触回転工程において、パッド制御部１５は、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂとガラス基板２０とが接触している間に、例えば４００〜５００ｒｐｍの回転速度で、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを回転させる。

非接触回転工程は、スクラブ洗浄を行わない状態でスクラブパッド１１ａ、１１ｂを回転させる工程であり、例えば、接触回転工程後にガラス基板２０を抜き取った後に、スクラブパッド１１ａ、１１ｂとガラス基板２０とを接触させずに、接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度でスクラブパッドを回転させる。非接触回転工程は、この高速回転による遠心力により、スクラブパッド１１ａ、１１ｂに付着している研磨滓や遊離砥粒等の汚れを除去する。本例の非接触回転工程において、パッド制御部１５は、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂとガラス基板２０とが接触していない間に、例えば８００〜２０００ｒｐｍの顔移転速度で、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを回転させる。

また、非接触回転工程において、パッド制御部１５は、一対の軸１６ａ、１６ｂ間の距離を、例えば、接触回転工程時よりも小さくする。これにより、パッド制御部１５は、非接触回転工程において、一対のスクラブパッド１１ａ、１１ｂを互いに押し当てる。このようにすれば、例えば、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの内部に入り込んだ汚れを、適切に押し出すことができる。また、これにより、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れを、より適切に除去できる。

尚、パッド制御部１５は、例えば、軸１６ａ、１６ｂ間の距離の距離を一旦小さくした後、再度接触回転工程時と同じ距離に戻して、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを高速回転させる。このようにすれば、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを適切に高速回転させることができる。パッド制御部１５は、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを互いに押し当てた状態のまま、スクラブパッド１１ａ、１１ｂを高速回転させてもよい。

本例によれば、例えば、スクラブパッド１１ａ、１１ｂヘの汚れの再付着を抑え、適切にスクラブ洗浄を行うことができる。そのため、例えば、大量の研磨滓や遊離砥粒等が付着している研磨直後の状態であっても、ガラス基板２０に対するスクラブ洗浄を適切に行うことができる。

また、これにより、例えば一平方インチあたり１６０Ｇビット以上の高い記録密度を実現しようとする場合に求められる精度で、研磨工程後の洗浄を適切に行うことができる。更には、本例によれば、洗浄装置から取り外すことなく、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れを除去できる。そのため、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの交換の頻度を低減し、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの寿命を延ばすことができる。また、これにより、ガラス基板２０の製造コストを適切に低減できる。

尚、非接触回転工程は、例えば、接触回転工程において予め設定された枚数のガラス基板２０に対するスクラブ洗浄が行われる毎に、定期的に行われる。このようにすれば、スクラブパッド１１ａ、１１ｂに再付着した汚れを適切に除去できる。非接触回転工程は、接触回転工程で洗浄するガラス基板２０を交換する毎に、行われてもよい。このようにすれば、スクラブパッド１１ａ、１１ｂに再付着した汚れをより適切に除去できる。

スクラブパッド１１ａ、１１ｂの材質としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ビニルアルコール、ポリプロピレン、ナイロン等を用いることができる。スクラブパッド１１ａ、１１ｂの表面形状としては、全面又は一部の面に突起が形成された形状や、平坦な形状等を使用することができる。突起が形成された形状のスクラブパッド１１ａ、１１ｂを用いる場合、突起の隙間から異物が落下しやすくなるため、スクラブパッド１１ａ、１１ｂへの異物の再付着を更に適切に抑えることができる。一方、表面が平坦な形状の場合、異物が下に落下しにくくなり、異物が付着しやすくなる。そのため、この場合には、非接触回転工程において汚れを除去する効果が特に大きくなる。

図３は、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度の設定について説明する図である。図３（ａ）は、接触時回転工程における回転速度について説明するグラフであり、回転速度と洗浄後の不合格率との関係の概略を示す。

この不合格率は、研磨工程までを終えたガラス基板に対するスクラブ洗浄を行い、洗浄結果を検査した場合の不合格率である。この検査は、例えば、光学式表面検査解析装置（ＯＳＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行う。そして、所定サイズ以上の大きさの異物やガラス基板の欠陥の個数を計数し、異物及び欠陥の個数が所定数以下である場合に合格とする。異物及び欠陥のサイズ及び個数の基準としては、例えば、一平方インチあたり１６０Ｇビットの記録密度を実現しようとする場合に求められる精度に対応する基準を用いる。この基準は、例えば、０．３μｍ以上の異物又は欠陥の個数が５０個以下である場合に合格とする基準である。

このような検査を行った場合、回転速度が小さいと、不合格率が高くなる。これは、回転速度が小さい場合、洗浄が不十分となり、研磨工程で付着した研磨滓や遊離砥粒等の異物を十分に除去できないためであると考えられる。そのため、回転速度が小さすぎると、スクラブ洗浄を適切に行えなくなる。

また、回転速度が大きすぎる場合にも、不合格率が高くなる。これは、回転速度が大きすぎると、異物の除去ができたとしても、ガラス基板に傷がつき、新たな不良原因が発生してしまうためであると考えられる。そのため、回転速度を必要以上に大きくした場合も、適切なスクラブ洗浄を行えなくなる。本例において、接触時回転工程でのスクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度は、例えば、４００〜５００ｒｐｍとすることが好ましい。

図３（ｂ）は、非接触時回転工程における回転速度について説明するグラフであり、回転速度と汚れの除去率との関係の概略を示す。除去率の評価においては、先ず、それぞれの回転速度に対する評価用に、同条件のガラス基板及びスクラブパッド１１ａ、ｂを準備する。このガラス基板としては、例えば、研磨工程の後に水中保管されたガラス基板を準備する。また、スクラブパッド１１ａ、ｂとしては、例えば、一定枚数（例えば１００枚）のガラス基板に対するスクラブ洗浄を行った直後のスクラブパッド１１ａ、ｂを準備する。また、除去率の比較対象として用いるために、準備されたガラス基板の一部に対し、光学式表面検査解析装置を用いた検査を行い、所定サイズ以上の大きさの異物やガラス基板の欠陥の個数を計数する。異物及び欠陥のサイズ及び個数の基準としては、例えば、一平方インチあたり１６０Ｇビットの記録密度を実現しようとする場合に求められる精度に対応する基準を用いる。

そして、スクラブパッド１１ａ、ｂの回転速度をそれぞれに設定して非接触回転工程を行い、スクラブパッド１１ａ、ｂの汚れを除去する。その後、回転速度を同じ（例えば５００ｒｐｍ）に設定して接触回転工程を行い、一定枚数（例えば１０枚）のガラス基板に対し、再度スクラブ洗浄を行う。そして、スクラブ洗浄後のガラス基板に対し、光学式表面検査解析装置を用いた検査を行い、所定サイズ以上の大きさの異物やガラス基板の欠陥の個数を計数する。そして、上記のように予め計数した除去率の比較対象との比較により、除去率を算出する。

グラフに示すように、回転速度が小さい場合、除去率が小さくなる。これは、非接触回転工程で十分に汚れを除去することができず、汚れたスクラブパッド１１ａ、１１ｂによりスクラブ洗浄が行われているためであると考えられる。例えば、接触回転工程と同程度の回転速度では、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れを十分に除去できない。本例において、非接触時回転工程でのスクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度は、例えば、１５００〜２０００ｒｐｍとすることが好ましい。

以下、洗浄工程についての実施例及び比較例を示すことにより、本発明を更に詳しく説明する。
（実施例１）
研磨工程後のガラス基板に対し、図２を用いて説明したスクラブ洗浄装置１０を使用して、スクラブ洗浄を行った。洗浄工程中の接触回転工程におけるスクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度は、５００ｒｐｍとした。また。１回のスクラブ洗浄において２枚のガラス基板を同時に洗浄した。

更に、接触回転工程により５０回（１００枚）のスクラブ洗浄を行う毎に、非接触回転工程を行い、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れを除去した。非接触回転工程におけるスクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度は、１０００ｒｐｍとした。実施例１においては、この洗浄方法により、合計３００枚のガラス基板のスクラブ洗浄を行った。

（比較例１）
非接触回転工程によってスクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れを除去しない以外は実施例１と同様にして、ガラス基板のスクラブ洗浄を行った。比較例１においては、この洗浄方法により、合計３００枚のガラス基板のスクラブ洗浄を行った。

（評価）
実施例１及び比較例１のそれぞれの方法で洗浄されたガラス基板に対し、光学式表面検査解析装置を用いて、洗浄後の検査を行った。この検査では、所定サイズ以上の大きさの異物やガラス基板の欠陥の個数を計数し、異物及び欠陥の個数が所定数以下である場合に合格とする。異物及び欠陥のサイズ及び個数の基準としては、一平方インチあたり１６０Ｇビットの記録密度を実現しようとする場合に求められる精度に対応する基準を用いた。

実施例１において、合格率は、１００％であった。そのため、実施例１においては、ガラス基板を適切にスクラブ洗浄できていることが確認できた。

一方、比較例１において、合格率は、約６０％であった。また、合格の基準を満たすガラス基板であっても、スクラブ洗浄を行った枚数が増えるに従って、異物や欠陥の個数が徐々に増加した。また、２００枚目を超えると、スクラブパッド１１ａ、１１ｂの汚れが強くなり、合格率が特に低下した。そのため、比較例１においては、ガラス基板の枚数が多くなると、ガラス基板を適切にスクラブ洗浄できない場合があった。

以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

本発明は、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に好適に用いることができる。

本発明の一実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。 洗浄工程においてスクラブ洗浄を行うスクラブ洗浄装置１０の構成の一例を示す図である。図２（ａ）は、スクラブ洗浄装置１０の主要部を示す斜視図である。図２（ｂ）は、スクラブ洗浄装置１０の上面図である。 スクラブパッド１１ａ、１１ｂの回転速度の設定について説明する図である。図３（ａ）は、接触時回転工程における回転速度について説明するグラフである。図３（ｂ）は、非接触時回転工程における回転速度について説明するグラフである。

符号の説明

１０・・・スクラブ洗浄装置、１１・・・スクラブパッド、１３・・・支持ローラ、１４・・・ノズル、１５・・・パッド制御部、１６・・・軸、２０・・・ガラス基板

Claims (6)

1. 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
   ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程と、
   前記研磨工程の後に、前記研磨工程で主表面が研磨された前記ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う洗浄工程と
   を有し、
   前記洗浄工程は、
   一対の洗浄用のスクラブパッドと前記ガラス基板とを接触させて、前記スクラブパッドを回転させる接触回転工程と、
   前記スクラブパッドと前記ガラス基板とを接触させずに、前記接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度で前記スクラブパッドを回転させる非接触回転工程と
   を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
2. 前記研磨工程は、前記ガラス基板に対する最終の研磨工程である精密研磨工程を含み、
   前記洗浄工程は、前記精密研磨工程後の前記ガラス基板の主表面を濡れた状態に保ったまま、前記ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
3. 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
   ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程と、
   前記研磨工程の後に、前記ガラス基板の強度を強くする化学強化工程と、
   前記化学強化工程の後に、前記化学強化工程で強化された前記ガラス基板に対するスクラブ洗浄を行う洗浄工程と
   を有し、
   前記洗浄工程は、
   一対の洗浄用のスクラブパッドと前記ガラス基板とを接触させて、前記スクラブパッドを回転させる接触回転工程と、
   前記スクラブパッドと前記ガラス基板とを接触させずに、前記接触回転工程における回転速度よりも速い回転速度で前記スクラブパッドを回転させる非接触回転工程と
   を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
4. 前記非接触回転工程は、洗浄液を前記スクラブパッドに流しつつ、前記スクラブパッドを回転させることを特徴とする請求項１から３のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
5. 前記非接触回転工程は、前記ガラス基板と前記スクラブパッドとが接触していない間に、一対の前記スクラブパッドを互いに押し当てることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
6. 磁気ディスクの製造方法であって、
   請求項１から５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されるガラス基板上に、少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

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