JPH05251319A - 電子ビーム露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光方法Info
- Publication number
- JPH05251319A JPH05251319A JP4050454A JP5045492A JPH05251319A JP H05251319 A JPH05251319 A JP H05251319A JP 4050454 A JP4050454 A JP 4050454A JP 5045492 A JP5045492 A JP 5045492A JP H05251319 A JPH05251319 A JP H05251319A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＣＡＤデータをＥＢデータに変換するデータ
変換時間を低減するデータ変換システムを有する電子ビ
ーム露光方法を提供する。 【構成】 オーバーラップ部分を有する描画データを描
画する場合には、２重露光を行うとともに、その２重露
光の照射量に応じた線幅増加量をあらかじめＣＡＤデー
タに組み込むようにする。
変換時間を低減するデータ変換システムを有する電子ビ
ーム露光方法を提供する。 【構成】 オーバーラップ部分を有する描画データを描
画する場合には、２重露光を行うとともに、その２重露
光の照射量に応じた線幅増加量をあらかじめＣＡＤデー
タに組み込むようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム露光方法に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム露光装置により、ウェハ上に
直接、描画するシステムでは、設計データとしてＣＡＤ
データを作成し、そのＣＡＤデータを直接ＥＢデータに
変換し、そのＥＢデータに基づいてＥＢ露光することに
より、マスクレス化された電子ビーム露光が行われてい
る。
直接、描画するシステムでは、設計データとしてＣＡＤ
データを作成し、そのＣＡＤデータを直接ＥＢデータに
変換し、そのＥＢデータに基づいてＥＢ露光することに
より、マスクレス化された電子ビーム露光が行われてい
る。
【０００３】図４は従来における電子ビーム露光方法を
説明する図である。まず、ＣＡＤデータの設計を行う。
このＣＡＤデータの設計時には図３（ａ）に示すよう
に、コンタクトホール３およびパッド１を１組としてシ
ンボル化する。この時、シンボル化せずに、オーバーラ
ップなしでＣＡＤデータを作ると、パターンが分離する
恐れがあるため、図に示すようなオーバーラップ部分を
形成する。次に図３（ｂ）に示すように、このシンボル
化したパッド１と配線パターン２とを組み合わせる（ST
EP10) 。
説明する図である。まず、ＣＡＤデータの設計を行う。
このＣＡＤデータの設計時には図３（ａ）に示すよう
に、コンタクトホール３およびパッド１を１組としてシ
ンボル化する。この時、シンボル化せずに、オーバーラ
ップなしでＣＡＤデータを作ると、パターンが分離する
恐れがあるため、図に示すようなオーバーラップ部分を
形成する。次に図３（ｂ）に示すように、このシンボル
化したパッド１と配線パターン２とを組み合わせる（ST
EP10) 。
【０００４】次に、ＣＡＤデータに基づいて、ＥＢデー
タを作成するためのＥＢデータ変換前処理を行う。この
前処理は図５（ａ）に示すように、シンボル化したパッ
ド１と配線パターン２とを組み合わせた状態において、
パターン間のオーバーラップ５０があるので、このオー
バーラップ５０を取り除くための演算処理を行って、Ｅ
Ｂ変換用データを作成する（STEP11) 。
タを作成するためのＥＢデータ変換前処理を行う。この
前処理は図５（ａ）に示すように、シンボル化したパッ
ド１と配線パターン２とを組み合わせた状態において、
パターン間のオーバーラップ５０があるので、このオー
バーラップ５０を取り除くための演算処理を行って、Ｅ
Ｂ変換用データを作成する（STEP11) 。
【０００５】次に、このＥＢ変換用データに基づいて、
ＥＢデータを作成する（STEP12) 。次いで、ＥＢデータ
に基づいて露光処理を行う。この露光処理では図６に示
すように分割されたパターン１ａ，１ｂ，１ｃ，２ａ，
２ｂのそれぞれに対し、露光を行う（STEP13) 。
ＥＢデータを作成する（STEP12) 。次いで、ＥＢデータ
に基づいて露光処理を行う。この露光処理では図６に示
すように分割されたパターン１ａ，１ｂ，１ｃ，２ａ，
２ｂのそれぞれに対し、露光を行う（STEP13) 。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来技術で
は、オーバーラップがある場合には、これらを取り除い
て描画用データを作成しているが、このデータ変換にか
なりの時間を要する問題があった。
は、オーバーラップがある場合には、これらを取り除い
て描画用データを作成しているが、このデータ変換にか
なりの時間を要する問題があった。
【０００７】この対応として、ＣＡＤデータ作成時にオ
ーバーラップのない方法でデータを作成する方法もとら
れているが、たとえば、コンタクトホールをメタルで覆
う箇所等は、アライメント余裕を見込む必要があり、さ
らにオーバーラップを取り除いてデータを作成する必要
がある。
ーバーラップのない方法でデータを作成する方法もとら
れているが、たとえば、コンタクトホールをメタルで覆
う箇所等は、アライメント余裕を見込む必要があり、さ
らにオーバーラップを取り除いてデータを作成する必要
がある。
【０００８】本発明はこれらの点に鑑みてなされたもの
であり、ＣＡＤデータをＥＢデータに変換するデータ変
換時間を低減するデータ変換システムを有する電子ビー
ム露光方法を提供することを目的とする。
であり、ＣＡＤデータをＥＢデータに変換するデータ変
換時間を低減するデータ変換システムを有する電子ビー
ム露光方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の電子ビーム露光方法は、電子ビーム露光
に必要なパターンデータにより構成されたＣＡＤデータ
を描画データに変換し、その描画データに基づいて露光
処理を行う電子ビーム露光方法において、オーバーラッ
プ部分を有する上記描画データを描画する場合には、２
重露光を行うとともに、その２重露光の照射量に応じた
線幅増加量をあらかじめ上記ＣＡＤデータに組み込むよ
うにすることによって特徴付けられる。
めに、本発明の電子ビーム露光方法は、電子ビーム露光
に必要なパターンデータにより構成されたＣＡＤデータ
を描画データに変換し、その描画データに基づいて露光
処理を行う電子ビーム露光方法において、オーバーラッ
プ部分を有する上記描画データを描画する場合には、２
重露光を行うとともに、その２重露光の照射量に応じた
線幅増加量をあらかじめ上記ＣＡＤデータに組み込むよ
うにすることによって特徴付けられる。
【００１０】
【作用】オーバーラップ部分の露光処理は、２重露光の
照射量に応じた線幅増加量があらかじめ組み込まれたＣ
ＡＤデータを描画データに変換して行うので、オーバー
ラップ部分のみの演算の必要はなく、直接描画するＣＡ
Ｄデータを描画データにデータ変換するための演算を行
えばよい。
照射量に応じた線幅増加量があらかじめ組み込まれたＣ
ＡＤデータを描画データに変換して行うので、オーバー
ラップ部分のみの演算の必要はなく、直接描画するＣＡ
Ｄデータを描画データにデータ変換するための演算を行
えばよい。
【００１１】
【実施例】本発明実施例は、コンタクトホールをメタル
で覆う箇所、すなわち、コンタクトホール・配線パター
ンのＥＢ露光処理に関し、以下に詳細に説明する。
で覆う箇所、すなわち、コンタクトホール・配線パター
ンのＥＢ露光処理に関し、以下に詳細に説明する。
【００１２】図１は本発明実施例のシステム構成図であ
る。本発明実施例の電子ビーム露光方法は、ＥＢ露光を
行うためのデータ変換システムおよびＥＢ露光処理とに
より構成されている。
る。本発明実施例の電子ビーム露光方法は、ＥＢ露光を
行うためのデータ変換システムおよびＥＢ露光処理とに
より構成されている。
【００１３】まず、データ変換システムでは、ＣＡＤデ
ータの設計を行う。このＣＡＤデータのデータフォーマ
ットには、たとえば、図形コード、繰り返し数、位置、
寸法等の情報により形成されている。このＣＡＤデータ
の設計時には図３（ａ）に示すように、オーバーラップ
部分を形成した状態で、コンタクトホール３およびパッ
ド１を１組としてシンボル化する。次に、図３（ｂ）に
示すように、このシンボル化したパッド１と配線パター
ン２とを組み合わせて、ＣＡＤデータを作成する。
ータの設計を行う。このＣＡＤデータのデータフォーマ
ットには、たとえば、図形コード、繰り返し数、位置、
寸法等の情報により形成されている。このＣＡＤデータ
の設計時には図３（ａ）に示すように、オーバーラップ
部分を形成した状態で、コンタクトホール３およびパッ
ド１を１組としてシンボル化する。次に、図３（ｂ）に
示すように、このシンボル化したパッド１と配線パター
ン２とを組み合わせて、ＣＡＤデータを作成する。
【００１４】なお、このＣＡＤデータを作成するにあた
って、あらかじめテストパターンを用いて、２重露光の
照射量に応じた線幅の変化量を検討して、シンボル化す
るパターンのサイズにフィードバックし、ＣＡＤデータ
に組み込む（STEP1)。
って、あらかじめテストパターンを用いて、２重露光の
照射量に応じた線幅の変化量を検討して、シンボル化す
るパターンのサイズにフィードバックし、ＣＡＤデータ
に組み込む（STEP1)。
【００１５】次に、このＣＡＤデータを基づいて、ＥＢ
データ変換処理によりＥＢデータの作成を行う。なお、
この工程では従来のように、オーバーラップ部分の除去
のための演算処理を行う必要はない（STEP2)。
データ変換処理によりＥＢデータの作成を行う。なお、
この工程では従来のように、オーバーラップ部分の除去
のための演算処理を行う必要はない（STEP2)。
【００１６】その後、作成したＥＢデータに基づいて、
ＥＢ露光処理を行う。この工程では、配線パターン２お
よびパッド１のそれぞれに対し、ＥＢ露光処理を行うた
め、オーバーラップ部分は２重露光がなされる（STEP
3)。
ＥＢ露光処理を行う。この工程では、配線パターン２お
よびパッド１のそれぞれに対し、ＥＢ露光処理を行うた
め、オーバーラップ部分は２重露光がなされる（STEP
3)。
【００１７】この２重露光に要する露光時間の増加は少
なく、また、オーバーラップ部分のデータ変換に要する
演算時間を必要としないことから、データ変換を高速化
することができる。
なく、また、オーバーラップ部分のデータ変換に要する
演算時間を必要としないことから、データ変換を高速化
することができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
オーバーラップ部分を有する描画データを描画する場合
には、２重露光を行うとともに、その２重露光の照射量
に応じた線幅増加量をあらかじめＣＡＤデータに組み込
むようにしたので、従来のようにオーバーラップ部分の
除去を行うために、そのオーバーラップ部分のコンピュ
ータによる演算を行う必要がなく、データ変換の時間を
短縮できる。その結果、ＬＳＩの集積化にともないパタ
ーンデータ量が増加しても、ＣＡＤデータから描画デー
タへの高速変換を行うことができ、実行時間の高速化を
実現できる。
オーバーラップ部分を有する描画データを描画する場合
には、２重露光を行うとともに、その２重露光の照射量
に応じた線幅増加量をあらかじめＣＡＤデータに組み込
むようにしたので、従来のようにオーバーラップ部分の
除去を行うために、そのオーバーラップ部分のコンピュ
ータによる演算を行う必要がなく、データ変換の時間を
短縮できる。その結果、ＬＳＩの集積化にともないパタ
ーンデータ量が増加しても、ＣＡＤデータから描画デー
タへの高速変換を行うことができ、実行時間の高速化を
実現できる。
【図１】本発明実施例を説明する図
【図２】本発明実施例によって得られるパターン例
【図３】本発明実施例を説明する図
【図４】従来例を説明する図
【図５】従来例を説明する図
【図６】従来例によって得られるパターン例
１・・・・パッド ２・・・・配線パターン ３・・・・コンタクトホール
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビーム露光に必要なパターンデータ
により構成されたＣＡＤデータを描画データに変換し、
その描画データに基づいて露光処理を行う電子ビーム露
光方法において、オーバーラップ部分を有する上記描画
データを描画する場合には、２重露光を行うとともに、
その２重露光の照射量に応じた線幅増加量をあらかじめ
上記ＣＡＤデータに組み込むようにすることを特徴とす
る電子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050454A JPH05251319A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 電子ビーム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050454A JPH05251319A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 電子ビーム露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251319A true JPH05251319A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=12859316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4050454A Pending JPH05251319A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 電子ビーム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05251319A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100393716B1 (ko) * | 1999-12-20 | 2003-08-02 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 포토마스크 위에 형성된 노광패턴들의 점검방법 |
| KR100407885B1 (ko) * | 1998-02-26 | 2003-12-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광방법 및 노광장치 |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP4050454A patent/JPH05251319A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100407885B1 (ko) * | 1998-02-26 | 2003-12-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광방법 및 노광장치 |
| KR100393716B1 (ko) * | 1999-12-20 | 2003-08-02 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 포토마스크 위에 형성된 노광패턴들의 점검방법 |
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