JPH10335206A - マスクパタンデータ生成方法とその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電子ビーム描画用マスクパタンデータを生成す
る処理をより高速化したい。 【解決手段】入力パタンデータよりＹ軸に平行でない線
分を抽出し（ステップＳ１）、各線分の端点をＸ軸方向
でソートし（ステップＳ２）、その端点に沿って走査線
を動かしながら、現在の走査線と直前の走査線の間に存
在する線分に対して図形演算処理を行う（ステップＳ
３）。引き続き他の図形演算処理を行う場合には（ステ
ップＳ４）、得られた線分のＩＤが一時線分リスト１１
に記録されていればその線分とつなぐ（ステップＳ
５）。最後の図形演算処理の場合は、得られた線分の組
の両方のＩＤが一時線分リスト１１に記録されている場
合のみそれらをつなぐ（ステップＳ６）。全ての図形演
算処理が終了したら（ステップＳ８）、線分リスト１２
に基づいて矩形／台形化処理を行う（ステップＳ９）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のフォ
トマスク製造時に、原マスクパタンデータから電子線ビ
ームにより描画を行うための描画用マスクパタンデータ
を効率よく生成するためのマスクパタンデータ生成方
法、および、マスクパタンデータ生成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子線レジストが膜材料上に塗布された
フォトマスク基板に、電子ビームを照射することにより
マスクパタンを転写する際には、設計された原マスクパ
タンデータを描画装置用のマスクパタンデータに変換す
る必要がある。このマスクパタンデータの変換処理にお
いては、たとえば多重描画防止のため設計マスクパタン
データで許されているパタンの重なりを除去する処理
や、他の層のマスクパタンデータに基づいてパタンデー
タを生成する層間処理などの図形演算処理が行われる。

【０００３】このような図形演算処理を効率よく行うた
めに、様々な方法が考えられてきているが、その中に平
面走査法を用いたものがある。この平面走査法につい
て、図４を参照して説明する。図４（Ａ）に示すような
パタンデータを処理対象とする場合、図４（Ｂ）に示す
ようにＸ軸またはＹ軸（図４（Ｂ）ではＹ軸）に平行な
走査線と呼ぶ線を各パタンの頂点に沿って移動させてい
く。そして、現在の走査線とその直前の走査線との間に
ある図形に対して、任意の図形演算処理を行う。図４
（Ａ）に示すパタンデータに、図４（Ｂ）のように走査
線が設けられた場合、走査線を移動させながらその走査
線で区切られた各領域ごとに、たとえば重なりを判定し
て除去する処理などを行う。その結果、図４（Ｃ）に示
すような重なりのない矩形または台形の集合として記述
される描画用のマスクパタンデータが生成される。

【０００４】しかし、前述した単純な平面走査法におい
ては、各パタンが走査線により全て分断されており、そ
の結果図形数が膨大になっている。図形数が膨大になる
と、データ量が増大し、その後のデータ転送時間や描画
時間などの増大を引き起こし、ひいてはマスク作成、ウ
エハ作成のＴＡＴに大きな影響を及ぼす。そのために、
一旦分断された図形を統合化し、図形数を少なくする処
理がしばしば行われている。

【０００５】平面走査法に基づきそのような統合化の処
理を含む図形演算処理を行う、描画用マスクパタンデー
タ生成方法について、図５に示すフローチャート、およ
び、図６および図７に示す具体例を参照して説明する。
まず、設計パタンとして図６（Ａ）に示すような、重な
りを有するパタンが入力されると、図６（Ｂ）に示すよ
うにＹ軸に平行な線分を切り捨てて、それ以外の線分の
みのデータとする図形データの線分ベクトル化の処理を
行う（ステップＳ９１）。次に、それらの線分の端点を
Ｘ軸方向でソートする線分ソート処理を行う（ステップ
Ｓ９２）。

【０００６】次に、ソートされた線分に基づいて、走査
線間での図形演算処理を行う（ステップＳ９３）。ここ
では、最初の図形演算処理として重なり除去処理を行
う。その場合、ソートされた端点に沿って走査線を動か
していき、現在の走査線とその直前の走査線の間に存在
する線分に対して、重なりを形成する部分の線分を除去
し最外郭の線分だけを残していく処理を行う。そして、
この重なり除去処理にて得られた上下の線分対が、前の
走査線での処理で得られたものと同一線上にあるか否か
を調べ、同一線上にあるものは統合していく線分つなぎ
処理を行う（ステップＳ９４）。

【０００７】この重なり除去処理と、線分つなぎ処理を
全ての走査線について順次行っていくことにより（ステ
ップＳ９５）、図６（Ｂ）に示したような線分データか
らは図６（Ｃ）に示すような重なり除去後のデータが抽
出され、さらに図７（Ｄ）に示すような線分つなぎ処理
後のデータが得られる。全ての走査線についてこのよう
な処理が終了したら（ステップＳ９５）、次の図形演算
処理、たとえば層間処理などの処理を行う（ステップＳ
９６）。そして、全ての図形演算処理が終了したら（ス
テップＳ９６）、それまでに得られた図７（Ｄ）に示す
ようなデータより、各線分対を矩形または台形に変換す
る線分の矩形／台形か処理を行う（ステップＳ９７）。
その結果、図７（Ｅ）に示すような、電子ビーム描画用
のマスクパタンデータが得られる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このような処理によ
り、設計マスクパタンデータを電子ビーム描画用マスク
パタンデータに変換しているが、近年、半導体装置のパ
タンが微細かつ複雑になっており、このような処理を行
っても変換時間が膨大になっており、より高速化したい
という要望がある。

【０００９】具体的に述べると、前述したような処理に
おいては、前後の走査線での図形演算処理により得られ
た線分が同一線上にあるか否かを調べるステップＳ９４
の線分つなぎ処理において、非常に処理時間がかかり、
全体の処理時間が遅くなっているという問題がある。特
に、斜め線の場合には、直線判定の処理が複雑な演算処
理となり、より時間がかかる。また、その線分つなぎ処
理において、線分が十分つなげられておらず、図形数を
削減できていないという問題もある。図形数が多くなる
とソート時間がその図形数の増大割合以上に長くなり、
線分ソート処理に時間がかかるという問題がある。

【００１０】したがって、本発明の目的は、より高速に
電子ビーム描画用のマスクパタンデータを生成すること
ができるマスクパタンデータ生成方法を提供することに
ある。また本発明の他の目的は、より高速に電子ビーム
描画用のマスクパタンデータを生成することができるマ
スクパタンデータ生成方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、幾何学的に線分の直線性を判定するのではなく、元
のパタンデータに基づいて各線分にＩＤを付与してお
き、これに基づいて統合するか否かを直ちに判定できる
ようにした。また、描画用マスクパタンデータを書き出
す場合と、引き続き図形演算処理を行う場合で、線分を
接続する条件を変え、引き続き図形演算処理を行う場合
はより多くの線分を統合し、線分数を少なくし、ソート
時間を短縮できるようにした。

【００１２】したがって、本発明のマスクパタンデータ
生成方法は、入力マスクパタンデータを線分のデータに
変換し、その線分データより所定の方向の線分以外の線
分を抽出し、抽出された各線分に識別コードを付与し、
そのパタンデータを抽出された線分の両端点を通過する
前記所定の方向と平行な線で分割し、前記分割された領
域ごとにその領域に存在する線分に対して所望の処理を
１つずつ順次行い、各処理の結果得られた線分データに
対して、前記識別コードが一致するか否かを判定するこ
とにより前記領域間で連続する線分を検出し、検出され
た連続する線分を統合化して１本の線分とし、これによ
り得られた線分のパタンデータに対して前記一連の処理
を繰り返して前記所望の処理を順次行うことにより、最
終的に前記所望の処理を施し、所望の形式に変換された
描画用マスクパタンデータを生成するものである。

【００１３】特定的には、前記所望の処理は、重なりの
許容されたパタンデータより重なり部分を除去し、重な
りの無いパタンデータに変換する処理や、他の層のマス
クパタンデータに基づいて、当該層のマスクパタンデー
タを生成する層間処理などの処理である。また好適に
は、前記繰り返し行う処理の最後の処理の時には、その
処理の結果に基づいて、前記領域間の線分ではなく、幅
を有するパタンの連続性を、前記識別コードを参照して
検出し、そのパタンが連続しているもののみ、そのパタ
ンを示す線分を実質的に統合かして連続させ、このよう
に形成された線分パタンデータに基づいて、矩形、台
形、菱形などの多角形パタンを抽出し描画用マスクパタ
ンデータを生成する。

【００１４】また、本発明のマスクパタンデータ生成装
置は、設計用マスクパタンデータに所望の処理を順次行
い描画用マスクパタンデータを生成する装置であって、
線分で示されたパタンデータより所定の方向の線分以外
の線分を抽出する手段と、抽出された各線分に識別コー
ドを付与する手段と、抽出された各線分からなるパタン
データをその線分の両端点を通過する前記所定の方向と
平行な線で分割する手段と、前記分割された領域ごとに
その領域に存在する線分に対して、前記所望の処理の中
のいずれかの処理を順次行う手段と、その処理が最後の
処理でない場合に、前記領域間で連続する処理結果の線
分を元のパタンデータの線分に付与された前記識別コー
ドの一致性に基づいて検出する手段と、前記検出された
前記領域間で連続する線分を統合化して新たな線分で示
されたパタンデータを生成する手段と、その処理が前記
所望の処理の中の最後の処理の場合に、当該処理の結果
の線分で示されるパタンで前記領域間で連続するパタン
を、線分に付与された識別コードの一致性に基づいて検
出する手段と、前記検出された前記領域間で連続するパ
タンを示す線分を統合化して新たなパタンデータを生成
する手段と、当該パタンデータを構成する矩形、台形、
菱形などの多角形のパタンを抽出し描画用マスクパタン
データを生成する手段とを有する。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図１〜図
３を参照して説明する。図１は、本実施の形態のマスク
パタンデータ生成方法を示すフローチャートである。な
お、実際のパタンデータの生成の処理は、図１に示すよ
うな本実施の形態のマスクパタンデータ生成方法の処理
が実施可能なように、たとえば汎用の計算機装置などに
その処理手続きが設定されて構成された、本発明に係わ
るマスクパタンデータ生成装置により実施される。

【００１６】まず、図１を参照して、本実施の形態のマ
スクパタンデータ生成方法の各ステップについて説明す
る。設計の結果得られる、たとえば重なりを許すような
形式のマスクパタンデータが入力されると、まず、その
パタンデータの線分ベクトル化処理を行う（ステップＳ
１）。具体的には、入力されたパタンデータよりＹ軸に
平行な線分を切り捨てて、それ以外の線分のみのデータ
とする。この時、抽出された各線分には、各線分ごとの
ＩＤを付与しておく。また、元のパタンの頂点列の順番
をそろえてから線分化することにより、線分の上下どち
ら側が図形の内側部分であるかを分かるようにしてお
く。

【００１７】このように抽出された各線分のデータに対
して、順次所望の図形演算処理を行う（ステップＳ２〜
ステップＳ８）。ここでは、多重露光を防止するため
に、重なっているパタンデータを除去する重なり除去の
処理を例として以降、図形演算処理について説明する。
まず、処理対象とする線分を、平面走査法による図形演
算処理に適した順序に並べるために、線分ソート処理を
行う（ステップＳ２）。すなわち、各線分の端点をＸ軸
方向でソートする。

【００１８】次に、ソートされた線分に対してその端点
に沿って走査線を動かしていきながら、現在の走査線と
その直前の走査線の間に存在する線分に対して順次所望
の図形演算処理を行う（ステップＳ３〜ステップＳ
７）。重なり除去処理の場合には、現在の走査線とその
直前の走査線の間に存在する線分に対して、パタンの内
部にさらにパタンが存在するような関係の線分を検出
し、検出された場合にはその内部の線分を除去して最も
外側の線分のみを残すような線分の取捨選択の処理を行
う（ステップＳ３）。なお、この図形演算処理により選
択され抽出された線分は、その線分に付与されているＩ
Ｄとともに、一時線分リスト１１に記録しておく。

【００１９】そして、各走査線位置ごとの重なり除去処
理が終了したら、それまでに既に取捨選択された線分と
のつなぎ処理を行う（ステップＳ４〜ステップＳ６）。
この線分つなぎ処理を行うために、まず、現在の図形演
算処理が最後の図形演算処理か、あるいは、まだ次に他
の図形演算処理を行う予定があるのかをチェックする
（ステップＳ４）。まだ次に他の図形演算処理を行う場
合には、現在の図形演算処理が終了すると次の図形演算
処理のための線分ソート処理（ステップＳ２）に移るの
で、線分の数を少なくすることに着目して線分つなぎ処
理を行う。

【００２０】すなわち、図形演算処理（ステップＳ３）
で得られた線分の各々について、前回の走査線の位置ま
での処理で既に得られている線分とつながるか否かをチ
ェックし、つながる場合にその線分とつなげる処理を行
う（ステップＳ５）。そのために、一時線分リスト１１
を参照し、今回の図形演算処理により選択された線分の
ＩＤが既に一時線分リスト１１に記録されているか否か
をチェックする。そして、その一時線分リストにすでに
同じＩＤの線分が入っていれば、今回得られた線分をそ
の既存の線分と統合して１つの線分とし、一時線分リス
ト１１に再びその線分のＩＤを記録しておく。

【００２１】なお、このステップＳ５においては、一時
線分リスト１１に記録されていた線分データの中で、今
回統合処理されなかった線分については、その線分デー
タを一時線分リスト１１から線分リスト１２に移動させ
ておく。なお、最後の走査線についての処理の時には、
統合した線分のデータも同時に線分リスト１２に記録し
ておく。

【００２２】一方、現在行っている図形演算処理が最後
の図形演算処理である場合には、次の処理として線分ソ
ート処理は行わず、抽出された線分より描画用マスクデ
ータに適した矩形および台形のデータを抽出する処理を
行うので、その矩形化および台形化に適したように線分
を統合する第２の線分つなぎ処理を行う（ステップＳ
６）。

【００２３】この第２の線分つなぎ処理においては、図
形演算処理（ステップＳ３）で得られた上下の線分の対
が、前回の走査線の位置までの処理で既に得られている
線分の対とつながるか否かをチェックし、その両方がつ
ながる場合にのみそれらの線分をつなげる。そのため
に、一時線分リスト１１を参照し、今回の図形演算処理
により選択された上下の線分のＩＤの両方ともが、既に
一時線分リスト１１に記録されている他の線分と同一か
否かをチェックする。そして、上下の線分の両方のＩＤ
が、一時線分リストにすでに記録されていれば、それら
上下の線分を各々統合する。統合された線分のデータ
は、線分リスト１２に記録される。なお、第２の線分つ
なぎ処理においては、一時線分リスト１１に記録されて
いた線分データの中で統合処理されなかった線分のデー
タも、最終的に一時線分リスト１１から線分リスト１２
に移動させておく。

【００２４】このような線分つなぎ処理を行いながら、
走査線を動かしていき、現在の走査線とその直前の走査
線の間に存在する線分に対して順次所望の図形演算処理
を行う（ステップＳ３〜ステップＳ７）。そして、その
図形演算処理の最後の走査線について処理を終了した
ら、さらに他の図形演算処理を行うか否かをチェックし
（ステップＳ８）、行う場合にはステップＳ２に戻って
その次の所望の図形演算処理を行う。本実施の形態にお
いては、重なり除去処理の次に、層間処理を行う。

【００２５】そして、全ての図形演算処理が終了したら
（ステップＳ８）、線分リスト１２に記録されている得
られたデータに基づいて描画用マスクパタンデータを生
成するために、線分の矩形／台形化処理を行う（ステッ
プＳ９）。線分の矩形／台形化処理においては、最終的
に得られた上下対の線分を検出し、それらの端点同志を
結ぶＹ軸に平行な線分を付加することにより、矩形また
は台形のパタンデータを得る。得られた矩形または台形
のパタンデータは、描画用パタンデータとして出力され
る。

【００２６】次に、図２および図３を参照しながら、前
述したマスクパタンデータ生成方法について具体的に説
明する。図２および図３は、図１に示した設計の結果の
マスクパタンデータを描画用マスクパタンデータに変換
する処理の具体例を示す図である。図２（Ａ）に示すよ
うな、設計の結果得られる重なりを許すような形式のマ
スクパタンデータが入力されると、まず、そのパタンデ
ータよりＹ軸に平行な線分を切り捨てて、図２（Ｂ）に
示すような、それ以外の線分のみのデータに変換する。
なお、図２（Ｂ）においては、各パタンの頂点は時計回
りでソートされており、矢印方向に対して右側が図形内
部を示している。

【００２７】このように抽出された各線分のデータに対
して、第１の図形演算処理として重なり除去処理を行
う。そこでまず、各線分の端点をＸ軸方向でソートし、
ソートされた線分に対してその端点に沿って走査線を動
かしていきながら、現在の走査線とその直前の走査線の
間に存在する線分に対して、パタンの内部にさらにパタ
ンが存在するような関係の線分を除去して、最も外側の
上下の線分のみを残す。そして、一時線分リスト１１を
参照して、残された上下２本の線分と各々同一のＩＤが
一時線分リスト１１に記録されていた場合には、残され
た線分をその同じＩＤの線分と統合して１つの線分とす
る。全ての走査線に対してこのような処理が終了する
と、図２（Ｂ）に示したパタンデータからは図２（Ｃ）
に示すような重なり除去され線分が統合された結果のパ
タンデータが得られる。

【００２８】このような線分つなぎ処理を行いながら、
順次所望の図形演算処理を行うが、最後の図形演算処理
の時のみは、図形演算処理により残された２本の線分の
両方について、そのＩＤが一時線分リスト１１に既に記
録されている時のみ、それらの線分を既に記録されてい
る線分と統合する。その結果、たとえば前述した重なり
除去処理と同じ処理については、図３（Ｄ）に示すよう
に線分が統合されたパタンデータが得られる。そして最
後に、上下の線分の組みを抽出し、その端点同志をＹ軸
に平行な線分で結合することにより、図３（Ｅ）に示す
ような矩形または台形で示される電子描画用のパタンデ
ータが得られる。

【００２９】このように、本実施の形態においては、各
線分を走査線間の位置で区切って処理する平面走査法に
よる図形演算処理を行った後、さらに図形演算処理を行
う、すなわち再び線分ソートおよび平面走査法による処
理を行う場合と、矩形／台形化処理を行って描画用パタ
ンデータを生成する場合とに分けて、線分つなぎ処理を
行っている。したがって、前者の場合に、各線分にのみ
着目して統合化処理ができるので、より多くの線分を統
合化して線分数を少なくすることができる。その結果、
ソート時間を短縮し、パタンデータの変換時間を短縮す
ることができる。なお後者の場合は、これまで通り矩形
／台形化するのに適したような線分の統合化を行うの
で、最終的な描画用パタンデータ生成は適切に行える。

【００３０】また、そのどちらの場合においても、線分
が統合できるか否か、すなわちつなげることができるか
否かは、元の入力パタンに基づいて各線分に付与された
ＩＤを比較するのみで行える。したがって、たとえば斜
めの線分であっても何ら幾何学的な計算を行うことなく
つながりの判定を行うことができ、従来より格段に高速
に判定が行える。

【００３１】なお、本発明は本実施の形態に限られるも
のではなく、種々の改変が可能である。たとえば、図形
演算処理の具体的内容として本実施の形態においては、
重なり除去処理と層間処理を例示したが、これ以外の任
意の処理を行ってよい。また、本発明のマスクパタンデ
ータ生成装置は、汎用の計算機装置などにより構成する
ものとしたが、専用の装置により構成してもよい。

【００３２】

【発明の効果】本発明によれば、設計時のマスクパタン
データから描画用マスクパタンデータを生成する時の平
面走査法を用いた図形演算処理において、走査線により
分割された線分を接続する際に、幾何学的に線分の連続
性を判定するのではなく、元のパタンデータに基づいて
各線分に付与されたＩＤの一致、不一致を検出すること
によりその接続性を判定しているため、高速に判定が行
える。また、図形演算処理前のソート処理の時には、よ
り多くの線分を統合し線分数を少なくするようにしてい
るので、ソート時間を短縮することもできる。その結
果、短時間で高速に描画用マスクパタンデータを生成す
ることができ、ひいてはマスクの製造、ウエハの製造を
効率よく行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態のマスクパタンデータ生
成方法を説明するためのフローチャートである。

【図２】図１に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ａ）は入力パタンデータの例を
示す図であり、（Ｂ）は線分ベクトル化の処理結果を示
す図であり、（Ｃ）は第１の線分つなぎ処理結果を示す
図である。

【図３】図１に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ｄ）は第２の線分つなぎ処理結
果を示す図であり、（Ｅ）は生成された電子ビーム描画
用のマスクパタンデータを示す図である。

【図４】平面走査法を説明するための図であり、（Ａ）
はパタンデータの例を示す図であり、（Ｂ）は走査線を
説明するための図であり、（Ｃ）は（Ａ）に示したパタ
ンデータに対して（Ｂ）に示した走査線に基づく処理を
した結果の状態を示す図である。

【図５】従来のマスクパタンデータの生成方法を説明す
るためのフローチャートである。

【図６】図５に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ａ）は入力パタンデータの例を
示す図であり、（Ｂ）は線分ベクトル化の処理結果を示
す図であり、（Ｃ）は重なり除去処理結果を示す図であ
る。

【図７】図５に示したマスクパタンデータ生成方法の具
体例を示す図であり、（Ｄ）は線分つなぎ処理結果を示
す図であり、（Ｅ）は生成された電子ビーム描画用のマ
スクパタンデータを示す図である。

【符号の説明】

１１…一時線分リスト、１２…線分リスト

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】描画用マスクパタンデータの生成に係わる
   所望の処理を順次行い、マスクパタンデータより描画用
   マスクパタンデータを生成する方法であって、 線分で示されたパタンデータより、当該マスクパタンデ
   ータを構成する線分の中の所定の方向の線分以外の線分
   を抽出し、 前記抽出された各線分に識別コードを付与し、 前記抽出された各線分からなるパタンデータを、当該線
   分の両端点を通過する前記所定の方向と平行な線で分割
   し、 前記平行な線で挟まれた前記分割された領域ごとに、当
   該領域に存在する線分に対して、前記所望の処理の中の
   所定の処理を行い、 前記処理の結果の線分で前記領域間で連続する線分を、
   当該線分に係わる前記処理の前の元のパタンデータの線
   分に付与された前記識別コードの一致性に基づいて検出
   し、 前記検出された前記領域間で連続する線分を統合化し
   て、該統合化された線分、および、前記統合化がされな
   かった前記処理の結果の線分で構成される新たな線分で
   示されたパタンデータを生成し、 前記線分の抽出から前記新たな線分で示されたパタンデ
   ータの生成までの前記処理を、順次繰り返し行い、 前記所望の処理が順次施された描画用マスクパタンデー
   タを生成するマスクパタンデータ生成方法。
2. 【請求項２】前記描画用マスクパタンデータを生成する
   所望の処理は、重なりの許容されたパタンデータより重
   なり部分を除去し、重なりの無いパタンデータに変換す
   る処理を包含する請求項１記載のマスクパタンデータ生
   成方法。
3. 【請求項３】前記描画用マスクパタンデータを生成する
   所望の処理は、他の層のマスクパタンデータに基づい
   て、当該層のマスクパタンデータを生成する処理を包含
   する請求項１記載のマスクパタンデータ生成方法。
4. 【請求項４】前記繰り返し行われる前記処理の最後の処
   理の際に、当該最後の前記所定の処理の結果に基づい
   て、前記処理の結果の線分で示されるパタンで前記領域
   間で連続するパタンを、当該パタンを示す前記処理の結
   果の線分に係わる前記処理の前の元のパタンデータの線
   分に付与された前記識別コードの一致性に基づいて検出
   し、 前記検出された前記領域間で連続するパタンを示す線分
   を統合化して、該統合化された線分、および、前記統合
   化がされなかった前記処理の結果の線分で構成される新
   たな線分で示されたパタンデータを生成し、 前記生成されたパタンデータより、当該パタンデータを
   構成する前記線分に基づいて、当該パタンデータを構成
   する多角形のパタンを抽出し描画用マスクパタンデータ
   を生成する請求項１記載のマスクパタンデータ生成方
   法。
5. 【請求項５】入力されたマスクパタンデータに対して、
   所望の処理を順次行い、描画用マスクパタンデータを生
   成するマスクパタンデータ生成装置であって、 入力されたマスクパタンデータに係わる線分で示された
   パタンデータ、または、生成された新たな線分で示され
   たパタンデータより、所定の方向の線分以外の線分を抽
   出する手段と、 前記抽出された各線分に識別コードを付与する手段と、 前記抽出された各線分からなるパタンデータを、当該線
   分の両端点を通過する前記所定の方向と平行な線で分割
   する手段と、 前記平行な線で挟まれた前記分割された領域ごとに、当
   該領域に存在する線分に対して、前記所望の処理の中の
   いずれかの処理を順次行う手段と、 少なくとも前記処理が前記所望の処理の中の最後の処理
   でない場合に、前記処理の結果の線分で前記領域間で連
   続する線分を、当該線分に係わる前記処理の前の元のパ
   タンデータの線分に付与された前記識別コードの一致性
   に基づいて検出する手段と、 前記検出された前記領域間で連続する線分を統合化し
   て、該統合化された線分、および、前記統合化がされな
   かった前記処理の結果の線分で構成される前記新たな線
   分で示されたパタンデータを生成する手段と、 少なくとも前記処理が前記所望の処理の中の最後の処理
   の場合に、当該処理の結果に基づいて、前記処理の結果
   の線分で示されるパタンで前記領域間で連続するパタン
   を、当該パタンを示す前記処理の結果の線分に係わる前
   記処理の前の元のパタンデータの線分に付与された前記
   識別コードの一致性に基づいて検出する手段と、 前記検出された前記領域間で連続するパタンを示す線分
   を統合化して、該統合化された線分、および、前記統合
   化がされなかった前記処理の結果の線分で構成される新
   たな線分で示されたパタンデータを生成する手段と、 前記生成されたパタンデータを構成する前記線分に基づ
   いて、当該パタンデータを構成する多角形のパタンを抽
   出し描画用マスクパタンデータを生成する手段とを有す
   るマスクパタンデータ生成装置。