JPH11258769A - マスクパタンデータ生成方法とその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 描画用マスクパタンデ−タを生成する処理を
より高速化する。 【解決手段】 入力パタンデ−タからＸ軸に平行でない
線分を抽出すると共に該線分につながり情報を付与し
（ステップＳ１１）、各線分の端点をＹ軸方向にソ−ト
し（ステップＳ１１）、その端点に沿って走査線を移動
させ、現在の走査線と直前の走査線との間にある線分に
ついて重なり除去処理を行うと共に新しく生成された線
分を検出して当該線分につながり情報を付与し（ステッ
プＳ１３）、現在の走査線と直後の走査線との間にある
線分についてサイジング処理を行い（ステップＳ１
４）、最後の走査線である場合はサイジング処理で形成
された線分について重なり除去処理を行い（ステップＳ
１５、Ｓ１６）、描画用マスクパタンデ−タを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路
（以下、「ＬＳＩ」という。）のフォトマスク製造時
に、原マスクパタンデ−タから電子ビ−ムまたはレ−ザ
により描画を行うための描画用マスクパタンデ−タを高
速に生成することのできるマスクパタンデ−タ生成方
法、および、マスクパタンデ−タ生成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子線レジストが膜材料上に塗布された
フォトマスク基板に、電子ビ−ムを照射することにより
マスクパタンを転写する際には、設計された原マスクパ
タンデ−タを描画装置用のマスクパタンデ−タに変換す
る必要がある。このマスクパタンデ−タの変換処理にお
いては、例えば多重描画防止のため設計マスクパタンデ
−タで許されているパタンの重なりを除去する処理や、
他の層のマスクパタンデ−タに基づいてパタンデ−タを
生成する層間処理などの図形演算処理が行われる。ま
た、リソグラフィプロセスのために図形幅の変更を行う
サイジング処理がある。

【０００３】近年、ＬＳＩのパタンは微細かつ複雑にな
ってきており、ＬＳＩの原マスクパタンデ−タから描画
装置用のマスクパタンデ−タに変換する変換処理にかか
る時間が大きくなってきている。そのため、変換処理に
費やされる時間を短縮することが望まれる。

【０００４】このような図形演算処理を行うため、種々
の方法が提案されているが、その中に平面走査法を用い
たものがある。この平面走査法について、図６〜図９を
参照して説明する。平面走査法では、図６（Ａ）のよう
に、原マスクパタンデ−タとして複数の多角形が入力さ
れると、所定方向例えばＸ軸に平行な線分を切り捨て
て、それ以外の線分を抽出し、Ｘ軸に平行な走査線をＬ
１〜Ｌ８の順に移動させ、走査線間に存在する線分に対
して各種処理を行う。図７は、従来の描画用マスクパタ
ンデ−タの生成方法を説明する概略フロ−チャ−トであ
る。

【０００５】先ず、原マスクパタンデ−タである設計デ
−タとして図８（Ａ）に示すような、重なりを有するパ
タンが入力される。図８（Ａ）では、点Ｃ１１〜Ｃ１４
を結んだ矩形と、点Ｃ２１〜Ｃ２４を結んだ矩形と、点
Ｃ３１〜Ｃ３４を結んだ矩形のパタンデ−タが示されて
いる。点Ｃ１１〜Ｃ１４を結んだ矩形と、点Ｃ２１〜Ｃ
２４を結んだ矩形はパタンが重なっている。

【０００６】次に、図８（Ｂ）に示すようにＸ軸に平行
な線分を切り捨てて、それ以外の線分のみのデ−タとす
る図形デ−タの線分ベクトル化の処理を行う（ステップ
Ｓ９１）。このとき、元のパタンの頂点列の順番を揃え
てから線分化することで、線分の左右どちら側が図形の
内側部分であるかを判るようにしておく。図８（Ｂ）で
は、端点Ｃ１２，Ｃ１３間の線分と、端点Ｃ２２，Ｃ２
３間の線分と、端点Ｃ３２，Ｃ３３間の線分と、端点Ｃ
１４，Ｃ１１間の線分と、端点Ｃ２４，Ｃ２１間の線分
と、端点Ｃ３４，Ｃ３１間の線分と、が切り捨てられて
いる。図８（Ｂ）では、端点Ｃ１１，Ｃ１２間の線分
と、端点Ｃ２１，Ｃ２２間の線分と、端点Ｃ３１，Ｃ３
２間の線分と、端点Ｃ１３，Ｃ１４間の線分と、端点Ｃ
２３，Ｃ２４間の線分と、端点Ｃ３３，Ｃ３４間の線分
とが抽出されている。次に、それらの線分の端点をＹ軸
方向でソ−トする線分ソ−ト処理を行う（ステップＳ９
２）。

【０００７】次に、ソ−トされた線分に基づいて、走査
線間での重なり除去処理を行う（ステップＳ９３）。そ
の場合、ソ−トされた端点に沿って走査線を動かしてい
き、現在の走査線とその直前の走査線の間に存在する線
分に対して、重なりを形成する部分の線分を除去し、最
外郭の線分だけを残していく処理を行う。すなわち、図
８（Ｃ）に示すように、パタンの内側にさらにパタンが
存在するような関係の線分を検出し、検出された場合に
はその内部の線分を除去して最も外側の線分のみを残す
ような線分の取捨選択の処理を行う。図８（Ｃ）では、
図８（Ｂ）における端点Ｃ２１，Ｃ２５間の線分と、端
点Ｃ１３，Ｃ１５間の線分が除去されている。

【０００８】そして、図９（Ａ）に示すように、この重
なり除去処理にて得られた左右の線分対の端点と、前の
走査線間での処理で得られた左右の線分対の端点とを結
ぶＸ軸に平行な線分を付加することにより、図形を再構
築する処理を行う（ステップＳ９４）。図９（Ａ）で
は、端点Ｃ１１，Ｃ１２，Ｃ２５，Ｃ２２，Ｃ２３，Ｃ
２４，Ｃ１５，Ｃ１４を結び、端点Ｃ３１，Ｃ３２，Ｃ
３３，Ｃ３４を結ぶ。

【０００９】次に再構築された図形に対して、図９
（Ｂ）に示すように、当該図形の幅を変更するサイジン
グ処理を行う（ステップＳ９５、Ｓ９６）。この重なり
除去処理と図形再構築処理を順次行っていくことにより
（ステップＳ７９）、サイジング済みの図形が形成され
る。図９（Ｂ）では、端点Ｃ１１，Ｃ１２，Ｃ２５，Ｃ
２２，Ｃ２３，Ｃ２４，Ｃ１５，Ｃ１４を結んだ多角形
を拡大した、端点Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ２５，Ｄ２２，Ｄ
２３，Ｄ２４，Ｄ１５，Ｄ１４を結んだ多角形が得られ
る。また、図９（Ｂ）では、端点Ｃ３１，Ｃ３２，Ｃ３
３，Ｃ３４を結んだ多角形を拡大した、端点Ｄ３１，Ｄ
３２，Ｄ３３，Ｄ３４を結んだ多角形が得られる。

【００１０】全ての走査線についてこのような処理が終
了したら（ステップＳ９７）、サイジング処理された図
形群について重なり除去処理を行う（ステップＳ９
８）。図９（Ｂ）では、端点Ｄ３２，Ｄ３１間の線分と
端点Ｄ２４，Ｄ２３間の線分が重なり除去処理により除
去される。そして、図９（Ｃ）に示すような、電子ビ−
ム描画用またはレ−ザ描画用のマスクパタンデ−タが得
られる。図９（Ｃ）では、端点Ｄ１１，Ｄ１２，Ｄ２
５，Ｄ２２，Ｄ３３，Ｄ３４，Ｄ１５，Ｄ１４を結んだ
多角形が得られる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従来、サイジング処理
を行う場合には、いったん演算対象の全図形をＯＲ（論
理和）処理し、走査線上の線分を取り除き、その結果得
られる線分をつなぎ直し、各図形を再構築する処理を行
う。この線分をつなぎ直す処理に多大な時間が費やされ
ている。このため、サイジング処理に費やされる時間を
短縮することが望まれる。

【００１２】本発明の目的は、より高速に描画用のマス
クパタンデ−タを生成することができるマスクパタンデ
−タ生成方法を提供することにある。本発明の他の目的
は、より高速に描画用のマスクパタンデ−タを生成する
ことができるマスクパタンデ−タ生成装置を提供するこ
とにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明のマスクパタンデ
−タ生成方法は、前記原マスクパタンデ−タに係わる線
分で示されたパタンデ−タから、当該原マスクパタンデ
−タを構成する線分の中の所定方向の線分以外の線分を
抽出し、前記抽出された各線分に、該線分の両端の線分
のつながり方に対応するつながり情報を付与し、前記抽
出された各線分からなるパタンデ−タを、当該線分の端
点を通過する前記所定方向に平行な複数の線で分割し、
前記平行な線で挟まれた前記分割された領域ごとに、当
該領域に存在する線分に対して、パタンの重なりを形成
する部分の線分を除去し、当該除去により生成された新
たな線分を検出して該線分に対し該線分の両端の線分の
つながり方に対応するつながり情報を付与し、前の前記
分割領域の線分を当該線分の前記つながり情報に応じて
サイジング処理して当該処理により生成された線分から
なるパタンデ−タを生成し、前記線分の除去から前記パ
タンデ−タの生成までの処理を順次繰り返して行い、前
記生成されたパタンデ−タに基づいて描画用マスクパタ
ンデ−タを生成する。

【００１４】本発明のマスクパタンデ−タ生成装置は、
入力された原マスクパタンデ−タに係わる線分で示され
たパタンデ−タから、所定方向の線分以外の線分を抽出
する線分抽出手段と、前記抽出された各線分に、該線分
の両端の線分のつながり方に対応するつながり情報を付
与するつながり検出手段と、前記抽出された各線分から
なるパタンデ−タを、当該線分の端点を通過する前記所
定方向に平行な線分で分割する線分分割手段と、前記平
行な線分で挟まれた前記分割領域ごとに、当該領域に存
在する線分に対して、パタンの重なりを形成する部分の
線分を除去する重なり除去手段と、当該除去により生成
された新たな線分を検出して該線分に対し該線分の両端
の線分のつながり方に対応するつながり情報を付与する
手段と、前の前記分割領域の線分を当該線分の前記つな
がり情報に応じてサイジング処理して当該処理により生
成された線分からなるパタンデ−タを生成するサイジン
グ処理手段とを有する。

【００１５】本発明では、マスクパタンデ−タを構成す
る線分の中から抽出された線分につながり情報を付与す
る。パタンの重なりを除去する処理により、線分の一部
が切り取られて新たに生成された線分には、つながり情
報を付与する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を、添付
図面を参照して説明する。図１は、本実施形態のマスク
パタンデ−タ生成方法を示す概略フロ−チャ−トであ
る。なお、実際のパタンデ−タの生成の処理は、例えば
汎用の計算機装置などに、図１に示すようなマスクパタ
ンデ−タ生成の処理手続が設定されて構成された、本発
明に係わるマスクパタンデ−タ生成装置により実施され
る。

【００１７】先ず、図１を参照して、本実施形態のマス
クパタンデ−タ生成方法の各ステップについて説明す
る。回路設計の結果得られる、図２（Ａ）に示すような
たとえば重なりを許すような形式の原マスクパタンデ−
タが入力される。図２（Ａ）では、端点Ｃ１１〜Ｃ１４
を結んだ矩形と、端点Ｃ２１〜Ｃ２４を結んだ矩形と、
端点Ｃ３１〜Ｃ３４を結んだ矩形のパタンデ−タが示さ
れている。

【００１８】次に、そのパタンデ−タの線分ベクトル化
処理を行う（ステップＳ１１）。具体的には、入力され
たパタンデ−タからＸ軸（不図示）に平行な線分を切り
捨てて、それ以外の線分のみのデ−タとする。このと
き、元のパタンの端点列の順番をそろえてから線分化す
ることにより、線分の左右どちら側が図形の内側部分で
あるかを判るようにしておく。図２（Ｂ）では、端点Ｃ
１２，Ｃ１３間の線分と、端点Ｃ２２，Ｃ２３間の線分
と、端点Ｃ３２，Ｃ３３間の線分と、端点Ｃ１４，Ｃ１
１間の線分と、端点Ｃ２４，Ｃ２１間の線分と、端点Ｃ
３４，Ｃ３１間の線分と、が切り捨てられている。

【００１９】次に図２（Ｂ）に示すように、各線分に対
し、該線分の両端の切り捨てた線分のつながり方に対応
するつながり情報を付与する（ステップＳ１１）。この
とき、図形の頂点列はソ−トされているので、容易に線
分のつながり方を検出することができる。図４に、つな
がり情報の分類を例示する。つながり情報の付与につい
ては、各線分に対して一定の容量のメモリを割り当て
て、当該メモリにつながり情報を書き込む構成としても
よい。

【００２０】図２（Ｂ）では、端点Ｃ１１，Ｃ１２間の
線分と、端点Ｃ２１，Ｃ２２間の線分と、端点Ｃ３１，
Ｃ３２間の線分と、端点Ｃ１３，Ｃ１４間の線分と、端
点Ｃ２３，Ｃ２４間の線分と、端点Ｃ３３，Ｃ３４間の
線分と、が抽出されている。そして、端点Ｃ１１，Ｃ１
２間の線分と、端点Ｃ２１，Ｃ２２間の線分と、端点Ｃ
３１，Ｃ３２間の線分とには、つながり情報０４が各々
付与されており、端点Ｃ１３，Ｃ１４間の線分と、端点
Ｃ２３，Ｃ２４間の線分と、端点Ｃ３３，Ｃ３４間の線
分とには、つながり情報０５が各々付与されている。

【００２１】次に、処理対象とする線分を、平面走査法
による図形演算処理に適した順序に並べるために、線分
ソ−ト処理を行う（ステップＳ１２）。すなわち、各線
分の端点をＹ軸方向でソ−トする。

【００２２】次に、ソ−トされた線分に対してその端点
に沿って走査線を動かしていきながら、現在の走査線と
その直前の走査線の間に存在する線分に対して所定の処
理を行う（ステップＳ１３〜Ｓ１５）。まず、多重露光
を防止するために、重なっているパタンデ−タを除去す
る重なり除去処理を行う。具体的には、現在の走査線と
その直前の走査線の間に存在する線分に対して、図２
（Ｃ）に示すように、パタンの内部にさらにパタンが存
在するような関係の線分を検出し、検出された場合には
その内部の線分を除去して最も外側の線分のみを残すよ
うな線分の取捨選択の処理を行う（ステップＳ１３）。
図２（Ｃ）では、図２（Ｂ）において端点Ｃ２１，Ｃ２
５間の線分と、端点Ｃ１３，Ｃ１５間の線分とが除去さ
れている。

【００２３】さらに、現在の走査線とその直前の走査線
の間、即ち今回の走査線間に存在する線分と、前（前
回）の走査線間に存在する線分とを比較し、重なり除去
処理によって新しく生成された線分に対し、つながり情
報を付与する（ステップＳ１３）。図２（Ｃ）では、新
しく生成された線分に対して、つながり情報を付与して
おり、変更されたつながり情報を丸印で囲んで示してい
る。図２（Ｃ）では、端点Ｃ２５，Ｃ２２間の線分と端
点Ｃ１５，Ｃ１４間の線分が新しく生成されており、端
点Ｃ２５，Ｃ２２間の線分にはつながり情報０２が付与
され、端点Ｃ１５，Ｃ１４間の線分にはつながり情報０
６が付与されている。

【００２４】そして、前回の走査線間に存在する線分群
に対し、つながり情報に応じてサイジング処理を行い、
線分の位置を変更し、または線分の位置および長さを変
更することで（ステップＳ１４）、図３（Ａ）に示すよ
うな、サイジング処理で形成された線分を得ることがで
きる。最後の走査線間に存在する線分群に対しても、つ
ながり情報に応じてサイジング処理を行い、線分の位置
を変更し、または線分の位置および長さを変更する。

【００２５】図３（Ａ）では、端点Ｃ１１，Ｃ１２間の
線分をサイジング処理した線分は、端点Ｄ１１，Ｄ１２
間の線分である。図３（Ａ）では、端点Ｃ２５，Ｃ２２
間の線分をサイジング処理した線分は、端点Ｄ２５，Ｄ
２２間の線分である。図３（Ａ）では、端点Ｃ２３，Ｃ
２４間の線分をサイジング処理した線分は、端点Ｄ２
３，Ｄ２４間の線分である。図３（Ａ）では、端点Ｃ３
１，Ｃ３２間の線分をサイジング処理した線分は、端点
Ｄ３１，Ｄ３２間の線分である。図３（Ａ）では、端点
Ｃ３３，Ｃ３４間の線分をサイジング処理した線分は、
端点Ｄ３３，Ｄ３４間の線分である。

【００２６】これらの一連の処理を最後の走査線まで行
った後に（ステップＳ１５）、サイジング処理後の線分
群について重なり除去処理を行い、また線分の端点同志
をＸ軸に平行な線分で結び（ステップＳ１６）、図３
（Ｂ）に示すような、多角形のパタンデ−タからなる描
画用マスクパタンデ−タを得る。なお、線分の端点同志
をＸ軸に平行な線分で結ぶ処理は、現在の走査線上にお
いて行うこととしてもよい。図３（Ａ）では、端点Ｄ３
１，Ｄ３２間の線分と端点Ｄ２３，Ｄ２４間の線分は、
重なり除去処理により除去される。図３（Ａ）では、端
点Ｄ２２，Ｄ３３間と、端点Ｄ１２，Ｄ２５間と、端点
Ｄ１５，Ｄ３４間と、端点Ｄ１１，Ｄ１４間とがＸ軸に
平行な線分で結ばれて、図３（Ｂ）のパタンデ−タが得
られる。

【００２７】以上説明したように、線分で示されたパタ
ンデ−タから、図２（Ａ）に示すマスクパタンデ−タを
構成する線分の中の所定方向の線分以外の線分を抽出
し、前記抽出された各線分に、該線分の両端の線分のつ
ながり方に対応するつながり情報を図２（Ｂ）に示すよ
うに付与する。次に、前記抽出された各線分からなるパ
タンデ−タを、当該線分の端点を通過する前記所定方向
に平行な複数の線で分割し、前記平行な線で挟まれた前
記分割された領域ごとに、当該領域に存在する線分に対
して、パタンの重なりを形成する部分の線分を除去し、
当該除去により生成された新たな線分に、該線分の両端
の線分のつながり方に対応するつながり情報を図２
（Ｃ）に示すように付与する。次に、前の前記分割領域
の線分を当該線分の前記つながり情報に応じてサイジン
グ処理して当該処理により生成された線分からなるパタ
ンデ−タを図３（Ａ）に示すように生成し、前記パタン
の重なりを形成する部分の線分の除去から前記パタンデ
−タの生成までの処理を、順次繰り返して行い、サイジ
ング処理で形成された各線分の重なり除去処理を行い、
残された線分の端点間にＸ軸方向に平行な線分を付加し
て多角形を示すパタンデ−タからなる描画用マスクパタ
ンデ−タを図３（Ｂ）に示すように生成する。

【００２８】このように、本実施形態では元の図形の線
分をベクトル化して抽出した際に、線分のつながり情報
を付与しておき、重なり除去処理による変更があった線
分のみつながり情報を検知して変更していけばよい。し
たがって、従来では重なり除去処理後の全ての線分に対
して分割領域毎に線分の端点での他の線分とのつながり
を検出して再構築していたが、それに比べて本実施形態
では描画用マスクパタンデ−タを生成する時間を短縮で
きる。

【００２９】図４は、つながり情報を示す説明図であ
る。実線の矢印は抽出された線分を示し、点線は切り捨
てられた線分を示す。ベクトル化処理により、抽出され
た線分は方向が付与されている。

【００３０】図４のつながり情報は、０１〜０８からな
る。つながり情報が０１の場合は、線分の矢印は上向き
であり、線分の始点の左側と終点の左側に、前記切り捨
てた線分があったことを示す。つながり情報が０２の場
合は、線分の矢印は上向きであり、線分の始点の左側と
終点の右側に、前記切り捨てた線分があったことを示
す。つながり情報が０３の場合は、線分の矢印は上向き
であり、線分の始点の右側と終点の左側に、前記切り捨
てた線分があったことを示す。つながり情報が０４の場
合は、線分の矢印は上向きであり、線分の始点の右側と
終点の右側に、前記切り捨てた線分があったことを示
す。

【００３１】つながり情報が０５の場合は、線分の矢印
は下向きであり、線分の始点の左側と終点の左側に、前
記切り捨てた線分があったことを示す。つながり情報が
０６の場合は、線分の矢印は下向きであり、線分の始点
の左側と終点の右側に、前記切り捨てた線分があったこ
とを示す。つながり情報が０７の場合は、線分の矢印は
下向きであり、線分の始点の右側と終点の左側に、前記
切り捨てた線分があったことを示す。つながり情報が０
８の場合は、線分の矢印は下向きであり、線分の始点の
右側と終点の右側に、前記切り捨てた線分があったこと
を示す。なお、上向きの方向はＹ軸の正方向に対応し、
下向きの方向はＹ軸の負方向に対応し、右側はＸ軸の正
方向に対応し、左側はＸ軸の負方向に対応している。

【００３２】原マスクパタンデ−タにおいて、Ｘ軸方向
に平行な線分と該線分の両端の線分とは直角をなし、す
なわち原マスクパタンデ−タの図形が矩形からなること
で、つながり情報は上記した８タイプで表すことができ
る。つながり情報は、Ｘ軸方向に平行な線分と該線分の
両端の線分との角度に対応している。

【００３３】図５は、図４のつながり情報と、サイジン
グ処理で形成される線分との関係を示す説明図である。
点線の矢印に対して、サイジング処理された線分を実線
の矢印で表す。ここでは、元のパタンに対して図形幅を
広げてオ−バ−サイズを行う場合を示している。点線の
矢印で示される線分に対し、サイジング処理された実線
の矢印で示される線分の関係、たとえば線分の位置また
は位置と長さなどのパラメ−タは、演算部で設定可能と
してもよく、拡大縮小の倍率により設定可能としてもよ
い。

【００３４】図１０は、本発明の一実施形態に係るマス
クパタンデ−タ生成装置のブロック図である。このマス
クパタンデ−タ生成装置は、記憶手段１１，１６と、線
分抽出手段１７と、線分分割手段１３と、重なり除去手
段１４と、線分追加手段１５と、記憶手段１６と、つな
がり検出手段１２，１９と、サイジング処理手段１８と
を備える。

【００３５】記憶手段１１は、原マスクパタンデ−タを
入力して記憶し、その記憶デ−タを線分抽出手段１７と
つながり検出手段１２に供給する。線分抽出手段１７
は、線分で示されたマスクパタンデ−タから、当該マス
クパタンデ−タを構成する線分の中の所定方向の線分以
外の線分を抽出し、抽出した線分のデ−タをつながり検
出手段１２に供給する。線分抽出手段１７では、パタン
デ−タの頂点列の順番をそろえてから線分ベクトル化処
理を行い、線分を抽出してもよい。

【００３６】つながり検出手段１２は、記憶手段１１の
記憶デ−タと前記抽出された各線分に基づいて、該線分
の両端の線分のつながり方に対応するつながり情報を付
与し、つながり情報とつながり情報が付与された線分の
デ−タを線分分割手段１３に供給する。つながり検出手
段１２には、その内部メモリに図４に示されるつながり
情報のデ−タが記憶されている。

【００３７】線分分割手段１３は、 前記抽出された各
線分からなるパタンデ−タを、当該線分の端点を通過す
る前記所定方向に平行な複数の線で分割し、各分割領域
に存在する線分のデ−タを重なり除去手段１４と、つな
がり検出手段１８とに供給する。

【００３８】重なり除去手段１４では、前記平行な線で
挟まれた前記分割された領域ごとに、当該領域に存在す
る線分に対して、パタンの重なりを形成する部分の線分
を除去する処理を行い、当該処理後の線分のデ−タをつ
ながり検出手段１８に供給する。

【００３９】つながり検出手段１８では、重なり除去手
段１４からの重なり除去後の線分のデ−タと線分分割手
段１３からのデ−タに基づいて当該除去により生成され
た新たな線分を検出し、該線分のデ−タに、該線分の両
端の線分のつながり方に対応するつながり情報を付与
し、該つながり情報が付与された線分のデ−タをサイジ
ング処理手段１９に供給する。

【００４０】サイジング処理手段１９では、つながり検
出手段１８からの線分のデ−タに基づいて、該線分のサ
イジング処理を行い、該線分の位置または位置と長さを
変更した線分のデ−タを生成し、該デ−タを重なり除去
手段２０に供給する。サイジング処理手段１９には、そ
の内部メモリに、図５のつながり情報とサイジング処理
で形成される線分との関係を示すデ−タが記憶されてい
る。重なり除去手段２０では，サイジング処理手段１９
からの線分のデ−タに基づいて、該線分に対してパタン
の重なりが生じないようにした重なり除去された線分対
のデ−タを線分付加手段１５に供給する。なお、重なり
除去手段１４と重なり除去手段２０とを併用してもよ
い。

【００４１】線分付加手段１５は、隣接する分割領域の
線分対のデ−タに基づいて、線分対の端点に対し、前記
所定方向に平行な線分を付加して、描画用のマスクパタ
ンデ−タを生成し、記憶手段１６に供給する。つながり
検出手段１２，１８と、線分分割手段１３と、重なり除
去手段１４，２０と、線分付加手段１５と、線分抽出手
段１７と、サイジング処理手段１９は、例えばマイクロ
コンピュ−タを用いて構成する。記憶手段１６のマスク
パタンデ−タは、電子ビ−ム描画装置またはレ−ザ描画
装置に供給され、マスクパタンデ−タに基づいて描画装
置は描画を行う。

【００４２】なお、上記実施形態は本発明の一例であ
り、本発明は上記実施形態に限定されない。上記実施形
態では、Ｘ軸に平行に走査線を設けたが、これに代えて
Ｙ軸に平行に走査線を設けてもよい。本発明のマスクパ
タンデ−タ生成装置は、汎用の計算機装置などにより構
成してもよく、専用の装置により構成してもよい。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、元のパタンデ−タから
線分を抽出する際に、線分のつながり情報を付与し、重
なり除去処理による変更があった線分を検出して当該線
分のつながり情報を変更していくので、平面走査法を用
いたサイジング処理にかかる時間を短縮でき、描画用の
マスクパタンデ−タの作成時間を短縮することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態のマスクパタンデ−タ生成
方法を説明するための概略フロ−チャ−トである。

【図２】図１に示したマスクパタンデ−タ生成方法の一
例を説明する説明図であり、（Ａ）は入力パタンデ−タ
の例を示す図であり、（Ｂ）は線分ベクトル化およびつ
ながり情報付与の結果を示す図であり、（Ｃ）は重なり
除去処理および新しく生成された線分へのつながり情報
付与の結果を示す図である。

【図３】図１に示したマスクパタンデ−タ生成方法の一
例を説明する説明図であり、（Ａ）はサイジング処理の
結果を示す図であり、（Ｅ）は生成された描画用マスク
パタンデ−タを示す図である。

【図４】つながり情報を説明する説明図である。

【図５】つながり情報とサイジング処理で形成される線
分との関係を示す説明図である。

【図６】平面走査法を説明するための図であり、（Ａ）
は入力パタンデ−タの例を示す図であり、（Ｂ）は線分
ベクトル化の処理結果を示す図である。

【図７】従来の描画用マスクパタンデ−タを生成方法を
説明するための概略フロ−チャ−トである。

【図８】図７に示した描画用マスクパタンデ−タの生成
方法の一例を説明する説明図であり、（Ａ）は入力パタ
ンデ−タの例を示す図であり、（Ｂ）は線分ベクトル化
の処理結果を示す図であり、（Ｃ）は重なり除去処理の
結果を示す図である。

【図９】図７に示した描画用マスクパタンデ−タの生成
方法の一例を説明する説明図であり、（Ａ）は図形の再
構成の処理結果を示す図であり、（Ｂ）はサイジング処
理の結果を示す図であり、（Ｃ）は生成された描画用マ
スクパタンデ−タを示す図である。

【図１０】本発明の一実施形態に係るマスクパタンデ−
タ生成装置のブロック図である。

【符号の説明】

０１，０２，０３，０４，０５，０６，０７，０８…つ
ながり情報、１１，１６…記憶手段、１２，１８…つな
がり検出手段、１３…線分分割手段、１４，２０…重な
り除去手段、１５…線分付加手段、１７…線分抽出手
段、１９…サイジング処理手段、Ｌ１〜Ｌ８…走査線。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】描画用マスクパタンデ−タの生成に係わる
   所定の処理を順次行い、原マスクパタンデ−タから描画
   用マスクパタンデ−タを生成する方法であって、 前記原マスクパタンデ−タに係わる線分で示されたパタ
   ンデ−タから、当該原マスクパタンデ−タを構成する線
   分の中の所定方向の線分以外の線分を抽出し、前記抽出
   された各線分に、該線分の両端の線分のつながり方に対
   応するつながり情報を付与し、 前記抽出された各線分からなるパタンデ−タを、当該線
   分の端点を通過する前記所定方向に平行な複数の線で分
   割し、 前記平行な線で挟まれた前記分割された領域ごとに、当
   該領域に存在する線分に対して、パタンの重なりを形成
   する部分の線分を除去し、 当該除去により生成された新たな線分を検出して該線分
   に対し該線分の両端の線分のつながり方に対応するつな
   がり情報を付与し、 前の前記分割領域の線分を当該線分の前記つながり情報
   に応じてサイジング処理して当該処理により生成された
   線分からなるパタンデ−タを生成し、 前記線分の除去から前記パタンデ−タの生成までの処理
   を順次繰り返して行い、 前記生成されたパタンデ−タに基づいて描画用マスクパ
   タンデ−タを生成するマスクパタンデ−タ生成方法。
2. 【請求項２】前記つながり情報は、前記所定方向の線分
   以外の線分と該線分の両端の他の線分との角度に対応す
   る情報からなる請求項１記載のマスクパタンデ−タ生成
   方法。
3. 【請求項３】前記原マスクパタンデ−タにおいて前記所
   定方向の線分以外の線分と該線分の両端の他の線分とは
   直角をなす請求項１記載のマスクパタンデ−タ生成方
   法。
4. 【請求項４】サイジング処理により生成された線分に対
   して重なり除去処理を行い、パタンの重なりが除去され
   たパタンデ−タを生成する請求項１記載のマスクパタン
   デ−タ生成方法。
5. 【請求項５】入力された原マスクパタンデ−タに対して
   所定の処理を順次行い、描画用マスクパタンデ−タを生
   成するマスクパタンデ−タ生成装置であって、 入力された原マスクパタンデ−タに係わる線分で示され
   たパタンデ−タから、所定方向の線分以外の線分を抽出
   する線分抽出手段と、 前記抽出された各線分に、該線分の両端の線分のつなが
   り方に対応するつながり情報を付与するつながり検出手
   段と、 前記抽出された各線分からなるパタンデ−タを、当該線
   分の端点を通過する前記所定方向に平行な線分で分割す
   る線分分割手段と、 前記平行な線分で挟まれた前記分割領域ごとに、当該領
   域に存在する線分に対して、パタンの重なりを形成する
   部分の線分を除去する重なり除去手段と、 当該除去により生成された新たな線分を検出して該線分
   に対し該線分の両端の線分のつながり方に対応するつな
   がり情報を付与する手段と、 前の前記分割領域の線分を当該線分の前記つながり情報
   に応じてサイジング処理して当該処理により生成された
   線分からなるパタンデ−タを生成するサイジング処理手
   段とを有するマスクパタンデ−タ生成装置。
6. 【請求項６】前記つながり情報は、前記所定方向に平行
   な線分と該線分の両端の他の線分との角度に対応する情
   報からなる請求項５記載のマスクパタンデ−タ生成装
   置。
7. 【請求項７】前記原マスクパタンデ−タにおいて前記所
   定方向の線分以外の線分と該線分の両端の他の線分とは
   直角をなす請求項５記載のマスクパタンデ−タ生成装
   置。